SE514649C2 - Förfarande för framställning av formade kopparartiklar - Google Patents

Description

a1ß_s49 l r; lfi¥3;? 2 mängda organiska fasen. De organiska och vattenhaltiga faserna separeras, och de önskade kopparvärdena finns närvarande i den vattenhaltiga strippningslösningen. Den resulterande kopparrika vattenhaltiga strippningslösningen benämns ibland "elektrolyt" eller “rik elektrolyt". Den kopparutarmade organiska fasen be- nämns vanligen "ofyndig organisk fas". Den ofyndiga organiska Koppar utvinns i renad form från elek- trolyten genom en teknik känd (elektrolytisk metallutvinning)(i det följande ibland benämnd "EW“). Elektroutvinningsprocessen innebär i typiska fall pläte- ring av kopparen på kopparstartplåtar eller katodmoderplåtar av rostfritt stål. Pläteringscykeln tar vanligen ca. sju dygn för erhållande av en 45,4 kg (100 pound)-katod från vardera sidan av moderplåten. Katoderna skalas mekaniskt av från vardera si- Den resulterade .kopparprodukten benämns fasen kan recirkuleras. som "elektroutvinning" dan av' moderplåten. ibland "katodisk koppar".

Framställningen av kopparpulver genom elektrolytisk utfällning innebär användning av elektrolytisk cell innehållande en anod, en elektrolytlösning innehållande kopparjoner och sulfatjoner, och en strömkälla. mellan anoden och katoden åstadkoms utfällning av kopparpulver på katodytan. Pulvret avlägsnas sedan vid bestämda intervaller eller kontinuerligt. Förfarandet börjar med kopparutgångsmate- rialet som löses i svavelsyra för bildning av en elektrolytlös- ning. Relativt rena elektrolyter erfordras för att kopparpulv- ret skall vara av tillräcklig renhet för normala kommersiella ändamål såsom friktionsmaterial, lager, legeringstillsatsmedel, pulvermetallurgi, etc. Koppar som avlägsnats från elektrolyten genom elektrolytisk framställning av kopparpulver påfylls i ty- piska fall kontinuerligt för upprätthållande av koncentrationen av kopparjoner i lösningen. Elektrolytens renhet och ersätt- ningen av koppar som avlägsnas från elektrolyten upprätthålls medelst användning av relativt rena lösliga kopparanoder. Den koppar som används i anoderna har tidigare renats på elektroly- tisk väg för avlägsnande av oönskade föroreningar. Den elek- trolytiskt renade kopparen omgjuts i typiska fall till en anod- en katod, Genom anbringande av spänning . . . . N " ' f - frn. , (_ . 4 , *f j t- <» . a .'._“““ e. , _ l ^ 0:- e. 1 f ' f' f wzeem Ke mfl 3 form lämplig för pulverframställning. En alternativ metod inne- bär användning av elektrolytiskt renade kopparstavar, ca. 1,3 em (aa. 1/2 iaen) 1 diameter kapade till längder om ea. 2,5 em (ca. 1 inch) och kallas kopparskott (shot), som sedan placeras i en anodkorg av olösligt tràdnät.

De elektrolytiskt renade kopparutgångsmaterial som användes vid processer med elektrolytisk utfällning enligt den tidigare tek- niken för framställning av kopparpulver framställs ofta med an- vändning av SX-EW-tekniker av den ovan diskuterade typen. De tillverkas även med användning av traditionella smält- och raf- fineringstekniker. Processerna i den tidigare tekniken för elektrolytisk utfällning för framställning av kopparpulver, som innebär att man först löser kopparutgângsmaterialet i en kckare (digester) för bildning av kopparjoner, är långsamma, svåra att reglera, och erfordrar att stora kvantiteter av dyrbar ren kop- par finns inrymda i kokaren.

Med hjälp av förfarandet enligt föreliggande uppfinning fram- ställs formade kopparartiklar på ett förenklat och mindre kost- samt sätt jämfört med den tidigare tekniken. Förfarandet enligt uppfinningen utnyttjar en kopparkälla som vid sin framställning ej erfordrar de ytterligare stegen elektroutvinning, dragning (drawing), etc., som används vid framställning av de elektroly- tiskt renade kopparutgångsmaterialen (t.ex. kopparskott, koppartràd, kopparoxid, återvunnen koppar, etc.) som används vid den tidigare tekniken. Föroreningar som burits med från de extraktionssteg som används vid förfarandet enligt uppfinningen till elektrolytlösningen som används för framställning av kop- parpulvret försämrar överraskande ej kopparartiklarnas prestan- daegenskaper.

US-patentet 5 458 746 beskriver ett förfarande för framställ- ning av kopparmetallpulver utgående från kopparhaltigt materi- al, omfattande: (A) kontakt av nämnda kopparhaltiga material med en effektiv mängd av minst en vattenhaltig lakningslösning för upplösning av kopparjoner i nämnda lakningslösning och 514 649 4 bildning av en kopparrik vattenhaltig lakningslösning; (B) kon- takt av kopparrika vattenhaltiga lakningslösning med en effek- tiv mängd av minst ett vattenolösligt extraheringsmedel för överföring av nämnda kopparjoner från nämnda kopparrika vatten- haltiga lakningslösning till nämnda extraheringsmedel för bild- ning av ett kopparrikt extraheringsmedel och en kopparutarmad vattenhaltig lakningslösning, varvid nämnda extraheringsmedel omfattar (i) minst en oxim kännetecknad av en kolvätelänk med minst en -OH-grupp och minst en =NOH-grupp bunden till olika kolatomer på nämnda kolvätelänk, (ii) minst en betadiketon, el- ler (iii) minst ett jonbytarharts; (C) separering av nämnda kopparrika extraheringsmedel från nämnda kopparutarmade vatten- haltiga lakningslösning; (D) kontakt av nämnda kopparrika ex- traheringsmedel med en effektiv mängd av minst en vattenhaltig strippningslösning för överföring av knpparjoner från nämnda extraheringsmedel till nämnda strippningslösning för bildning av en kopparrik strippningslösning och ett kopparutarmat extra- heringsmedel; (E) separering av nämnda kopparrika strippnings- lösning från nämnda kopparutarmade extraheringsmedel för bild- ning av en elektrolytlösning; (F) framledning av nämnda elek- trolytlösning till en elektrolytisk cell försedd med minst en anod och minst en katod, och anbringande av en lämplig spänning över nämnda anod och nämnda katod för utfällning av kopparme- tallpulver på nämnda katod; och (G) avlägsnande av kopparme- tallpulver från nämnda katod.

Föreliggande uppfinning avser ett förfarande för framställning av en formad kopparartikel direkt utgående från ett kopparhal- tigt material, omfattande att man: (A) bringar nämnda koppar- haltiga material i kontakt med en effektiv mängd av minst en vattenhaltig lakningslösning för lösning av kopparjoner i nämn- da lakningslösning och bildning av en kopparrik vattenhaltig lakningslösning; (B) bringar' nämnda. kopparrika 'vattenhaltiga lakningslösning i kontakt med en effektiv mängd av minst ett vattenolösligt extraheringsmedel för överföring av kopparjoner från nämnda kopparrika vattenhaltiga lakningslösning till nämn- da extraheringsmedel för bildning av ett kopparrikt extrahe- Q; _~« » N ,.. _ . 1. ß f m __ V _ f. _ _, ,, _ r! ._ , .-«. ., , _(< , , « ; » _ - (_ . t , ~ -- .f f. <1 ringsmedel och en kopparutarmad vattenhaltig lakningslösning; (C) separerar nämnda kopparrika extraheringsmedel från nämnda kopparutarmade vattenhaltiga lakningslösning; (D) bringar nämn- da kopparrika extraheringsmedel i kontakt med en effektiv mängd av minst en vattenhaltig strippningslösning för överföring av kopparjoner fràn nämnda extraheringsmedel till nämnda stripp- ningslösning för bildning av en kopparrik strippningslösning och ett kopparutarmat extraheringsmedel; (E) separerar nämnda kopparrika strippningslösning från nämnda kopparutarmade extra- heringsmedel; (F) bringar nämnda kopparrika strippningslösning att strömma mellan en anod och en katod, samt anbringar en ef- fektiv spänning över nämnda anod och nämnda katod för avsätt- ning av kopparpulver pä nämnda katod; (G) avlägsnar nämnda kop- parpulver från nämnda katod; och (H) extruderar, smider eller formar i. form nämnda kopparpulver för att framställa nämnda formade kopparartikel.

En väsentlig fördel med föreliggande uppfinning är att koppar- artiklar framställs utgående från en kopparkälla såsom koppar- malm. Det är ej nödvändigt att först framställa katodisk koppar och därefter smälta, gjuta och valsa den sàsom erfordas vid den tidigare tekniken.

Figur 1 är ett flödesschema som visar en utföringsform av upp- finningen, varvid koppar extraheras från kopparmalm, utfälls elektrolytiskt för bildning av kopparpulver, och kopparpulvret extruderas för framställning av en formad kopparartikel.

Figurerna 2-29, 33-36 visar tvärsnitt av avlånga extruderade kopparartiklar framställda i enlighet med uppfinningen.

Figur 30 visar en rör- eller ledningssammansättning framställd av individuella i varandra låsbara komponenter som kan fram- ställas i enlighet med uppfinningen. j- _ . u. , _ . 6 Figurerna 31 och 32 visar extruderingsmunstycken som kan använ- das för framställning av de i varandra låsbara komponenterna av den rör- eller ledningssammansättning som visas i figur 30.

Det kopparhaltiga materialet kan vara vilken kopparkälla som helst från vilken koppar kan extraheras. Dessa källor innefat- tar kopparmalm, flygaska från smältugnar, kopparcement, koppar- koncentrat, kopparsmältugnsprodukter, kopparsulfat, och koppar- innehållande avfall. Uttrycket "kopparinnehållande avfall" av- ser allt fast eller flytande avfallsmaterial (t.ex. avskräde, slam, avloppsvattenströmmar etc.) som innehåller koppar. Dessa avfallsmaterial innefattar riskavfall. Specifika exempel på av- fall som kan användas är kopparoxider som erhållits från be- handling av uttjänta kopparkloridetsmedel. Likaledes kan kop- parkällor som används vid den tidigare tekniken såsom koppar- skott, koppartråd, återvunnen koppar etc. användas, men de eko- nomiska fördelarna med användning av förfarandet enligt uppfin- ningen minskar när sådana källor för den tidigare tekniken an- vänds.

I en utföringsform används kopparmalm från ett dagbrott som det kopparhaltiga materialet. Malmen uppfordras till en höglak- ningstipp som i typiska fall är byggd på ett område under vil- ket ett underlag lagts, såsom ett tjockt underlag av högdensi- tetspolyeten, för att förhindra förlust av lakningsvätskor in i det omgivande avrinningsomràdet. En typisk höglakningstipp har en ytarea på exempelvis ca. ll 600 m2 (ca. 125 000 kvadratfot) och innehåller ungefär 110 000 ton malm. Allteftersom lakningen fortskrider och nya tippar byggs ovanpå de gamla tipparna, blir de allt högre och når slutligen höjder på exempelvis ca. 76 m (ca. 250 fot) eller mer. Ett nätverk av rör och wobbler- sprinklers placeras på ytan på en nyligen färdig tipp och en svag lösning av svavelsyra sprutas kontinuerligt vid en hastig- het på exempelvis ca. 0,33 l/min./m2 (ca. 0,8 gallon/min./100 kvadratfot) ytarea. Lakningslösningen perkolerar ner genom tip- pen, löser upp koppar i malmen, strömmar från tippbasen som en kopparrik vattenhaltig lakningslösning, avleds till en uppsam- 4 . 'y V. t' f p . . _: s ,~ ~ D f . * ' --« | _ , Y 1 L l 514 649 v -~* '°fl° f' 4' f~nC9eQ l . 7 lingsdamm, och pumpas till en matningsdamm för efterföljande behandling med användning av förfarandet enligt uppfinningen.

I fraga om vissa gruvhanteringsförfaranden används in situ- lakning för extrahering av kopparvärden från kopparmalm. Den kopparrika lakningslösning som erhållits medelst denna process kan användas vid förfarandet enligt uppfinningen som kopparhal- tigt material. In situ-lakning är lämpligt när reserverna av syralöslig oxid-malm ligger under ett dagbrottsomràde och över den utarmade delen av en gruva under mark eller när en fyndig- het är belägen för djupt för att kunna utnyttjas ekonomiskt med hjälp av dagbrottsmetoder. Injektionsbrunnar borras in i denna zon vid ett djup på exempelvis ca. 305 m (ca. 1 000 fot). Brun- narna infattas med polyvinylkloridrör, vars bottendel är slit- sad så att lösningen får tillträde till malmen. En lakningslös- ning av svag svavelsyra insprutas i varje brunn med en hastig- het beroende på permeabiliteten för den zon in i vilken den borrats. Lösningen perkolerar ned genom malmzonen, löser kop- parmineralerna, och har sitt avlopp till ett förberett uppsam- lingsområde. Uppsamlingsområdet kan exempelvis vara transpor- torter i den underjordiska gruvan. Den kopparhaltiga vattenhal- tiga lakningslösning som bildas pumpas till ytan med hjälp av ett korrosionsbeständigt pumpsystem där den finns tillgänglig för användning som kopparhaltigt material för förfarandet en- ligt uppfinningen.

Vid gruvdriftsförfaranden varvid både lakningstippar och in si- tu-lakning används kan den kopparhaltiga lakningslösningen (ibland benämnd pregnant lakningslösning) från var och en kom- bineras och användas som kopparhaltigt material vid förfarandet enligt uppfinningen.

Den vattenhaltiga lakningslösning som används vid (A) i förfa- randet enligt uppfinningen är företrädesvis en svavelsyra- lösning, halogenidsyralösning (HC1, HF, HBr, etc.) eller en am- moniaklösning. Svavel- eller halogenidsyralösningen har vanli- gen en svavel- eller halogenidsyrakoncentration inom interval- w = .- « . (_. . , _, _ \ (_ o z y -UÅ - _ . n O _ . ', f “ ° ' ß' oçe . _ . ( ~ 1 C W C utom” z r 8 let ca. 5 till ca. 50 g/1, och i en utföringsform ca. 5 till ca. 40 g/l, och i en annan utföringsform ca. 10 till ca. 30 g/ Ammoniaklösningen har vanligen en anunoniakkoncentration inom intervallet ca. 20 till ca. 140 g/1, och i en utföringsform ca. till ca. 90 g/l. pH i denna lösning ligger vanligen inom in- tervallet från ca. 7 till ca. 11, och i en utföringsform ca. 8 till ca. 9. V Den kopparrika vattenhaltiga lakningslösning eller pregnanta lakningslösning som bildats under (A) har allmänt en kopparjon- koncentration inom intervallet från ca. 0,8 till ca. 5 g/1, och i en utföringsform ca. 1 till ca. 3 g/l. När lakningslösningen som används i (A) är en svavelsyralösning är koncentrationen av fri svavelsyra i den kopparrika vattenhaltiga lakningslösningen vanligen från ca. 5 till ca. 30 g/l, och i en utföringsform ca. till ca. 20 g/l. När den lakningslösning som används (A) är en ammoniaklösning är koncentrationen av fri ammoniak i den kopparrika vattenhaltiga lakningslösningen vanligen från ca. 10 till ca. 130 g/l, och i en utföringsform ca. 30 till ca. 90 g/ 1.

Det vattenolösliga extraheringsmedel som används vid (B) i för- farandet enligt uppfinningen kan vara vilket vattenolösligt ex- traheringsmedel som helst med förmåga att extrahera kopparjoner fràn ett vattenhaltigt medium. I en utföringsform löses extra- heringsmedlet i ett med vatten ej blandbart organiskt lösnings- medel. (Uttrycken "med vatten ej blandbar" och "vattenolöslig" avser kompositioner som ej är lösliga i vatten över en nivå på ca. 1 g per liter vid 25°C.) Lösningsmedlet kan vara vilket som helst med vatten ej blandbart lösningsmedel för extraherings- medlet, varvid fotogen, bensen, toluen, brän- nolja, dieselolja och liknande är lämpliga, och varvid fotogen föredrages. Exempel pà lämpliga fotogenmaterial är SX-7 och SX- l2 som är tillgängliga från Phillips Petroleum. xylen, naftalen, 514_e49 9 I en utföringsform är extraheringsmedlet en organisk förening innehållande minst två funktionella grupper bundna till olika kolatomer i en kolvätelänk, varav den ena funktionella gruppen är -OH och den andra av nämnda funktionella grupper är =NOH.

Dessa föreningar kan benämnas oximer.

I en utföringsform är extraheringsmedlet en oxim som motsvaras av formeln Lon 1? non Rß - 1 -| RI-c-c-c- c-R-f I åv lås Rs vari R1, R2, R3, R4, R5, R5 och R7 oberoende är väte eller hyd- rokarbylgrupper. Hydrokarbylgrupperna kan oberoende ha 1 till ca. 12 kolatomer, och i en utföringsform l till ca. 6 kolato- mer. I en utföringsform är R1 och R4 var och en butyl; R2, R3 och R5 är var och en väte; och R5 och R7 är var och en etyl.

Föreningar med denna struktur är tillgängliga fràn Henkel Cor- poration under handelsbeteckningen LIX 63.

I en utföringsform motsvaras extraheringsmedlet av formeln NOH c-w f :» 2: " ' ,. 0 . f ,~<,»«< i ...» ß . 0 . _ , (\ nu f, I e v ° uooeco vari R1 och R2 oberoende är väte eller hydrokarbylgrupper.

Lämpliga utföringsformer innefattar de vari Rl är en alkylgrupp med ca. 6 till ca. 20 kolatomer, och i en utföringsform ca. 9 till ca. 12 kolatomer; och R2 är väte, en alkylgrupp med 1 till ca. 4 kolatomer, och i en utföringsform 1 eller 2 kolatomer, eller Rz är fenyl. Fenylgruppen kan vara substituerad eller osubstituerad varvid det senare föredrages. De följande före- ningarna, som är baserade på den ovan nämnda formeln finns tillgängliga från Henkel Corporation under handels- beteckningarna som anges nedan och är lämpliga i samband med förfarandet enligt uppfinningen: Handelsbeteckning 31 32 LIX 65 nonyl fenyl LIX 84 nonyl metyl LIX 860 dodekyl väte Andra kommersiellt tillgängliga material tillgängliga från Hen- kel Corporation som är lämpliga innefattar: LIX 64N (identifierad som en blandning av LIX 65 och LIX 63); och LIX 864 och LIX 984 (identifierade som blandningar av LIX 860 och LIX 84).

I en utföringsform är extraheringsmedlet en betadiketon. Dessa föreningar kan återges med formeln ° O.

H | RI- c -cHf c -RY 514_e49 11 vari R1 och R2 oberoende är alkylgrupper eller arylgrupper. Al- kylgrupperna innehåller allmänt 1 till ca. 10 kolatomer. Aryl- grupperna är vanligen fenyl. Ett exempel på ett kommersiellt extraheringsmedel som är tillgängligt från Henkel Corporation motsvarande ovan nämnda formel är LIX 54. Dessa betadiketoner är lämpliga när den vid (A) använda lakningslösningen vid för- farandet enligt uppfinningen är en ammoniaklösning.

Koncentrationen av extraheringsmedlet i den organiska lösningen ligger vanligen inom intervallet från ca. 2 vikt-% till ca. 40 vikt-%. I en utföringsform innehåller den organiska lösningen från ca. 5 vikt-% till ca. 10 vikt-%, eller ca. 6 vikt-% till ca. 8 vikt-%, eller ca. 7 vikt-% LIX 984, varvid resten är SX- 7.

I en utföringsform är extraheringsmedlet ett jonbytarharts.

Dessa hartser är i typiska fall små granulära eller pärlliknan- de material bestående av två principiella delar: en hartsmatris som fungerar som en strukturell del och en jonaktiv grupp som fungerar som den funktionella delen. Den funktionella gruppen väljs allmänt bland de funktionella grupper som är reaktiva med avseende på kopparjoner. Exempel på sådana funktionella grupper innefattar -S03", -C00", // P \ I cH,Nc,H.oH N' och ,/ I Û cH,NcH,cHoHcH, N' “- ' f' » f.. , f a' °- < Å il. = - « .f “ff ° - 0 M r ( M i* L-Urgoo c 12 Lämpliga hartsmatriser inkluderar sampolymererna av styren och divinylbensen. Exempel på kommersiellt tillgängliga hartser som kan användas innefattar IRC-718 (en produkt från Rohm & Haas identifierad som en sampolymer av styren och divinylbensen sub- stituerad med tertiär amin), IR-200 (en produkt från Rohm & Ha- as identifierad som en sulfonerad sampolymer av styren och divinylbensen), IR-120 (en produkt från Rohm & Haas, identifie- rad som en sulfonerad sampolymer av styren och divinylbensen), XFS 4196 (en produkt från Dow, identifierad som en makroporös polystyren/divinylbensensampolymer, till vilken fogats N-(2- hydroxietyl)-pikolylamin), och XFS 43084 (en produkt fràn Dow, makroporös polystyren/divinylbensen- N-(2-hydroxipropyl)-pikolyl- identifierad som en sampolymer, till vilken fogats amin). Dessa hartser används i typiska fall vid förfarandet en- ligt uppfinningen som fixerade bäddar eller rörliga bäddar. Un- der (B) vid förfarandet enligt uppfinningen bringas hartset i kontakt med den kopparrika vattenhaltiga lakningslösningen från (A), vilken kontakt är tillräcklig för att överföra kopparjoner från lakningslösningen till hartset. Det kopparrika hartset strippas sedan under (D) för erhållande av ett kopparstrippat eller kopparutarmat harts som kan användas under (B).

Det kopparrika extraheringsmedel som separeras under (C) vid förfarandet enligt uppfinningen har i typiska fall en koncent- ration av koppar inom intervallet från ca. 1 till ca. 6 g/l ex- traheringsmedel, och i en utföringsform ca. 2 till ca. 4 g/l extraheringsmedel. Den kopparutarmade vattenhaltiga laknings- lösning som separeras under (C) har i typiska fall en koppar- jonkoncentration inom intervallet från ca. 0,01 till ca. 0,8 g/l, och i en utföringsform ca. 0,04 till ca. 0,2 g/l. När den lakningslösning som används vid (A) är en svavelsyralösning ligger koncentrationen fri svavelsyra i den kopparutarmade vat- tenhaltiga lakningslösning som separeras under (C) vanligen mellan ca. 5 till ca. 50 g/l, och i en utföringsform ca. 5 till ca. 40 g/l, och i en annan utföringsform ca. 10 till ca. 30 g/ 1. När den vid (A) använda lakningslösningen är en ammoniaklös- ning är koncentrationen av fri ammoniak i den kopparutarmade ' ' K f, - _ f f ï, I- ef e cr p' f ° . , . 14 614 «*« “fz °~ ~=ë " r f K K, *i (_ cgm, nu, Q I c 13 vattenhaltiga lakningslösning som separeras under (C) vanligen mellan ca. 10 till ca. 130 g/l, och i en utföringsform ca. 30 till ca. 90 g/1.

I en utföringsform utförs kontakt- och separeringsstegen (B) och (C) i förfarandet enligt uppfinningen i två steg. I denna utföringsform är (B-l) och (B-2) kontaktsteg och (C-1) och (C- 2) är separeringssteg. I denna utföringsform inbegriper således förfarandet enligt uppfinningen den följande sekvensen (A), (B- l), (C-l). (B-2), (C-2). (D), (E), (F), (G) 0011 (H), varvid procesströmmar från flera av dessa steg recirkuleras till andra steg i processen. (B-1) innebär kontakt av den kopparrika vat- tenhaltiga lakningslösning som bildas under (A) med en effektiv mängd av minst ett kopparhaltigt vattenolösligt extraheringsme- del från (C-2) för överföring av kopparjoner från nämnda kop- parrika vattenhaltiga lakningslösning till nämnda kopparhaltiga extraheringsmedel för bildning av ett kopparrikt extraherings- medel och en första kopparutarmad vattenhaltig lakningslösning.

(C-1) innebär separering av det kopparrika extraheringsmedel som bildas under (B-1) från den första kopparutarmade vatten- haltiga lakningslösningen som bildas under (B-1). Det kopparri- ka extraheringsmedel som separeras under (C-1) har allmänt en koncentration av koppar inom intervallet från ca. 1 till ca. 6 g/l extraheringsmedel, och i en utföringsform ca. 2 till ca. 4 g/l extraheringsmedel. Den första kopparutarmade vattenhaltiga lakningslösningen som separeras under (C-1) har allmänt en kop- parjonkoncentration i intervallet från ca. 0,4 till ca. 4 g/l, och i en utföringsform ca. 0,5 till ca. 2,4 g/ l. När den lak- ningslösning som används vid (A) är en svavelsyralösning är koncentrationen av fri svavelsyra i den första kopparutarmade vattenhaltiga lakningslösningen som separeras under (C-l) van- ligen från ca. 5 till ca. 50 g/l, och i en utföringsform ca. 5 till ca. 30 g/1, och i en annan utföringsform ca. 10 till ca. g/l. När den lakningslösning som används vid (A) är en ammo- niaklösning är koncentrationen av fri auuuoniak i den första kopparutarmade vattenhaltiga lakningslösningen som separeras 514 4549 i mÛgÄffi. 14 under (C-1) vanligen fràn ca. 10 till 130 g/l, och i en utfö- ringsform ca. 30 till ca. 90 g/1.

(B-2) innebär kontakt av den första kopparutarmade vattenhalti- ga lakningslösningen som separeras under (C-1) med en effektiv mängd av minst ett kopparutarmat extraheringsmedel från (E) för överföring av kopparjoner från. nämnda första kopparutarmade vattenhaltiga lakningslösning till nämnda kopparutarmade extra- heringsmedel för bildning av ett kopparhaltigt extraheringsme- del och en andra kopparutarmad vattenhaltig lakningslösning.

(C-2) innebär separering av det kopparhaltiga extraheringsmedel som bildats under (B-2) från den andra kopparutarmade vatten- haltiga lakningslösningen som bildas under (B-2). Det koppar- haltiga extraheringsmedel som separeras under (C-2) har vanli- 0,4 till ca. 4 g/1 extraheringsmedel, och i en utföringsform ca. 1 till ca. vattenhaltiga lakningslösningen som separeras under (C-2) har allmänt en kopparjonkoncentration inom intervallet från ca. 0,01 till ca. 0,8 g/l, och i en utföringsform ca. 0,04 till ca. 0,2 g/l. När den vid (A) använda lakningslösningen är en sva- gen en koncentration av koppar inom intervallet från ca. 2,4 g/l extraheringsmedel. Den andra kopparutarmade velsyralösning är koncentrationen av fri svavelsyra i den andra kopparutarmade vattenhaltiga lakningslösningen som separeras under (C-2) vanligen från ca. 5 till ca. 50 g/l, och i en utfö- ringsform ca. 5 till ca. 40 g/l, och i en annan utföringsform ca. 10 till ca. 30 g/1. När den lakningslösning som används vid (A) är en ammoniaklösning är koncentrationen av fri ammoniak i den. andra kopparutarmade 'vattenhaltiga lakningslösningen som separeras under (C-2) vanligen från ca. 10 till ca. liter, och i en utföringsform ca. 30 till ca. 90 g/l. 130 g per Den vid (D) använda strippningslösningen vid förfarandet enligt uppfinningen är en svavelsyralösning som har en fri svavelsyra- koncentration som vanligen ligger inom intervallet från ca. 80 till ca. 300 g/l, och i en utföringsform ca. 150 till ca. 250 g/l. Den kopparrika strippningslösning som bildas under (D) har en kopparjonkoncentration som vanligen ligger inom intervallet H. :fl « . ». n - ,, U (l - . f- . . _ . .. e, 0 r . ¿ _ _- . . . 1 . . f, o c _ CA «- U : . _ n v a . 0 o. . ~ - v- f- - f~ z, . <~ <- 4 ' ' * r :o o n-c u « n från ca. 1 till ca. 60 g/l, och i en utföringsform ca. 5 till ca. 15 g/l; och en koncentration av fri svavelsyra inom inter- vallet från ca. 70 till ca. 290 g/l, och i en utföringsform ca. 140 till ca. 240 g/l.

De elektrolytiska utfällningsstegen (F) och (G) vid förfarandet enligt uppfinningen innebär frammatning av den kopparrika strippningslösningen från (E) till en elektrolytisk cell eller elektroformningscell och elektrolytisk utfällning av koppar pà katoden i cellen. Den i den elektrolytiska cellen eller elek- troformningscellen behandlade kopparrika strippningslösningen kan benämnas antingen en kopparrik strippningslösning eller en elektrolytlösning. I en utföringsform utsätts denna elektrolyt- lösning för ett renings- eller filtreringsförfarande innan den kommer in i cellen. Den elektriska ström som används i cellen kan vara likström eller växelström med en likströmsförspänning.

Den koppar som avsätts på katoden föreligger i form av koppar- pulver.

De elektrolytiska utfällningsstegen (F) och (G) utförs i en elektrolytisk cell försedd med minst en anod och minst en ka- tod. Katoden kan vara gjord av titan eller rostfritt stål. Ano- den är i en utföringsform en dimensionsstabil olöslig anod. Ett exempel på en sådan anod är en titananod belagd med en metall eller metalloxid ur pflatinafamiljen. De platinafamiljmetaller och -metalloxider som kan användas innefattar Pt, Ir, Ru, Rh, Pd och Os, varvid Pt och Ir föredrages. Dessa anoder förorenar ej elektrolytlösningen och i en utföringsform är deras använd- ning nödvändig för erhållande av kopparpulver med hög renhet.

Flödet av elektrolytlösningen genom den elektrolytiska cellen är tillräckligt för att upprätthålla en konstant önskad skill- nad i kopparjonkoncentration mellan den elektrolytlösning som kommer in i cellen och den elektrolytlösning som lämnar cellen.

Vanligen är denna skillnad i kopparjonkoncentration från ca. 1 till ca. 10 g/l, och i en utföringsform ca. l till ca. 3 g/l, varvid den lösning som komer in i den elektrolytiska cellen har en högre koncentration av kopparjoner än den lösning som 514 0649 i i o ooo 16 lämnar cellen. Flödet mellan anoden och katoden åstadkommes med fördel medelst naturlig konvektion. Elektrolytlösningen har vanligen en koncentration av fri svavelsyra inom intervallet från ca. 70 till ca. 300 g/l, och i en utföringsform ca. 140 till ca. 250 g/l. Temperaturen i elektrolytlösningen i den elektrolytiska celler ligger allmänt inom intervallet från ca.

°C till ca. 65°C, och i en utföringsform 30°C till ca. 45°C.

Kopparjonkoncentrationen ligger allmänt inom intervallet frán ca. 1 till ca. 60 g/l, och i en utföringsform från ca. 4 till ca. 15 g/l. Koncentrationen av fri kloridjon är allmänt upp till ca. 300 ppm, och i en utföringsform upp till ca. 150 ppm, och i en annan utföringsform upp till ca. 100 ppm. I en utfö- ringsform är den fria kloridjonkoncentrationen upp till ca. 20 ppm, och i en utföringsform upp till ca. 10 ppm, och i en annan utföringsform upp till ca. 5 ppm, och i ytterligare en utfö- ringsform upp till ca. 2 ppm. I en utföringsform är den fria kloridjonkoncentrationen mindre än ca. 1 ppm, och i en utfö- ringsform mindre än ca. 0,5 ppm, eller mindre än ca. 0,2 ppm, eller mindre än ca. 0,1 ppm, och i ytterligare en utföringsform är den noll eller väsentligen noll. Föroreningsnivån ligger vanligen vid en nivå pà ej mer än ca. 20 g/l, och i en utfö- ringsform är den upp till ca. 10 g/l. Strömtätheten ligger all- mänt inom intervallet från ca. 215-3230 A/mz (ca. 20 till ca. 300 ampere/kvadratfot), och i en utföringsform ca. 323-2150 A/mz (ca. 30 till ca. 200 ampere/kvadratfot).

Under elektrolytisk utfällning kan till elektrolytlösningen ett eller flera tillsatsmedel sättas för att förändra kopparmetall- pulveregenskaperna. Dessa innefattar gelatinmaterial härledda från kollagen, pà vilka ett exempel är djurlim. I en utförings- form kan kloridjoner tillsättas för ökning av dentritiska ka- raktären hos pulverpartiklarna och för ökning av utbytet av fint pulver. Natriumsulfat kan tillsättas för reducering av ka- todströmtätheten. Ökade mängder av natriumsulfat tenderar att reducera pulvrets partikelstorlek. Sulfonater kan sättas till elektrolyten för erhållande av en grövre partikelstorlek. Exem- - »« » . < M , ' » ~ -: p f. c~ «, t . ' ' ~ -- f' v < _ < f - - c o o e- _ ¿ < / ._ . , c , . ' * ' 0 ((f 0000 17 pel på sådana sulfonater innefattar Orzan-A (en produkt från Tembind, identifierad som ammoniumlignosulfonat). Dessa till- satsmedel sätts i typiska fall till elektrolytlösningarna vid koncentrationer upp till ca. 20 g/l, ännu hellre upp till ca. g/1.

I en utföringsform innehåller elektrolytlösningen en eller flera aktivt svavel-innehållande material. Uttrycket “aktivt svavel-innehållande material" avser material såsom karaktärise- ras allmänt som innehållande en tvåvärd svavelatom, vars båda bindningar är direkt förbundna med en kolatom tillsammans med en eller flera kväveatomer som likaledes är direkt bundna till kolatomen. I denna grupp av föreningar kan dubbelbindningen i vissa fall föreligga eller alternera mellan svavel- eller kvä- veatomen och kolatomen. Tiokarbamid är ett lämpligt aktivt sva- vel-innehållande material. Tiokarbamiderna med kärnan och isotiocyanaterna med gruppen S=C=N- år lämpliga. Tiosinamin (allyltiokarbamid) och tfiosemikarbazid är även lämpliga. Det aktivt svavel-innehållande materialet bör vara lösligt i elek- trolytlösningen och vara kompatibelt med de andra beståndsde- larna. Koncentrationen av det aktivt svavel-innehållande mate- rialet i elektrolytlösningen under elektrolytisk utfällning är vanligen upp till ca. 20 ppm, och 1 en utföringsform i inter- vallet upp till ca. 10 ppm.

I en utföringsform innehåller elektrolytlösningen minst en tri- azol. Tillsättningen av sådana triazoler reducerar den dentri- tiska beskaffenheten hos det kopparpulver som bildas vilket re- sulterar i bildningen av mer rundande och kompakta pulverpar- tiklar. Dessa partiklar kännetecknas av högre densiteter (t.ex. ~ ~~~ fl - «- <\ l z: .rm * <« ~ f. c . .1 ~ <~ - - o v o « c<< ~- i. < r h. f. 0 . o e. < ¿ ' <'« - r> < a r . _ ~ f fl 18 överstigande ca. 2 g/cm3) och högre flöden (flow rates) jämfört med kopparpulverpartiklar framställda medelst konventionella tekniker. De triazoler som är lämpliga inkluderar bensotriazol och substituerade bensotriazoler. Exempel på lämpliga förening- ar är bensotriazol, alkylsubstituerad bensotriazol (t.ex. tolyltriazol, etylbensotriazol, hexylbensotriazol, oktylbenso- triazoler, etc.) arylsubstituerad bensotriazol (t.ex. fenylben- sotriazoler, etc.), och alkaryl- eller arylalk-substituerad bensotriazol, och substituerade bensotriazoler, vari substitu- enterna kan vara exempelvis hydroxi, merkapto, alkoxi, halogen (t.ex. klor), nitro, karboxi eller karbalkoxi. Alkylbensotri- azolerna inkluderar de i vilka alkylgruppen innehåller l till ca. 20 kolatomer, och i en utföringsform l till ca. 8 kolato- mer. Bensotriazol, tolyltriazol, och karboxisubstituerad benso- triazol är lämpliga, varvid bensotriazol är särskilt lämplig.

Koncentrationen av dessa triazoler i elektrolytlösningen är i en utföringsform upp till ca. 500 ppm, och i en annan utfö- ringsform från ca. 1 till ca. 250 ppm, och i en tredje utfö- ringsform från ca. 10 till ca. 150 ppm, och i ytterligare en utföringsform från ca. 25 till ca. 100 ppm.

Under det elektrolytiska utfällningssteget (F) föredrages det att man upprätthåller förhållandet mellan pålagd strömtäthet (I) till diffusionsbegränsad strömtäthet (IL) vid en nivà på ca. 0,8 eller högre, och i en utföringsform ca. 0,9 eller hög- re. I/IL är alltså företrädesvis ca. 0,8 eller mer, och i en utföringsform ca. 0,9 eller mer.

I en utföringsform är de följande parametervärdena lämpliga vid_ elektrolytisk utfällning av kopparpulver: Parameter Värde I (A/cmz) 0,060 n(eq/mol) “ 2 n(cm2/S) 1,6 x 10-5 ' \ ' «_ r e ff r *- - ß <- o o < .. , _ t, _ o ( -U 1 t _. q o _ Q , _ « f. f K . , _ - _ ' I ß' c. zu o 19 c' çmol/cmåcu” (som cuso4)) 1,57 x 1o'4 Temperatur (°C) 38 Fri svavelsyra (g/l) 175 Kinematisk viskositet (cmz/s) 0,0126 Flödeshastighet (cm/s) naturlig konvektion Kopparmetallpulvret kan avlägsnas fràn katoden genom borstning, skrapning, vibration eller andra mekaniska och/eller elektriska tekniker kända inom tekniken. Pulver kan avlägsnas genom rever- sering av strömmen på katoden. Partikelstorleken kan regleras genom reglering av längden på intervallen mellan pulveravlägs- nande, varvid pulvret blir grövre allteftersom intervallet ökas. Skrymdensiteten ökar likaledes allteftersom intervallets längd ökas.

I en utföringsform används en serie av skivformade roterande katoder som är partiellt nedsänkta i elektrolytlösningen. Kato- der av denna typ har exempelvis beskrivits i US-patentet 3 616 277, vars innehåll införlivas häri genom hänvisning för dess beskrivning av sådana skivformade katoder. Kopparpulver utfälls på de skivformade katoderna allteftersom de roterar ge- nom elektrolytlösningen. Katoderna, som exempelvis kan vara gjorda av titan, och olösliga anoder (t.ex. platinerat titan) är placerade i interfolierat arrangemang med katoderna i den elektrolytiska cellen. Pulver utfälls kontinuerligt på katoder- na och avlägsnas kontinuerligt medelst avskrapare, som kan vara gjorda av plast eller rostfritt stål och är monterade angrän- sande till katoderna ovanför cellens elektrolytnivå.

I en utföringsform tvättas kopparmetallpulver som avlägsnas un- der (G) vid förfarandet enligt uppfinningen tillräckligt för avlägsnande av elektrolyt som kan förorsaka oxidering av pulv- ret. Olika metoder kan användas för tvättning av pulvret. En metod innebär centrifugering av pulvret för avlägsnande av elektrolyten, tvättning av pulvret och därefter avvattning av pulvret. | < « ; .r -. - . « - ,. . h 11 - v < o u r = ~ - - <- . o K » . < . . . a 4 . f.. - ' r r v c . p ; . I * ' * 1 w o <<< oz-oo I en utföringsform överförs kopparmetallpulvret till en stor tank och vatten tillsätts för bildning av en uppslamning som pumpas in till ett filter. I filtret avvattnas pulvret, tvättas och avvattnas åter. Under detta förfarande kan Exempel flera gånger, stabilisatorer tillsättas för minskning av oxidation. på sådana stabilisatorer innefattar vattenhaltiga lösningar av gelatin (t.ex. djurlim). Tillsättningen av antioxidanter under tvättning eller efterföljande pulverbehandling skyddar även pulvret mot oxidation. Exempel på dessa antioxidanter innefat- tar en eller flera av de ovan diskuterade triazolerna, varvid bensotriazol är lämplig.

Efter tvättning och avvattning kan det våta pulvret utsättas för värmebehandlingar som tenderar att förändra vissa egenska- per hos kopparmetallpulvret, i synnerhet partikelstorlek och form, skrymdensitet, och râhållfasthet. I en utföringsform vär- mebehandlas pulvret på ett nätband i en elugn. För att förhind- ra pulvret att falla genom bandet matas en kontinuerlig bana av papper med hög våtstyrka fram till bandet och därefter överförs En vals sammanpressar pulvret för att Alltefter det kommer in i. ugnen pulvret till pappret. förbättra värmeöverföringen. drivs vatten av och pappret brinner - men ej förrän pulvret har sintrat tillräckligt för att hindra det från att falla genom bandet. Ugnsatmosfären bildas i exoterma gasenheter i vilka na- turgas och luft blandas för erhållande av en atmosfär innehål- lande exempelvis ca. 17% väte, ca. 12% CO, ca. 4% C02, varvid resten är kväve. Gasen drivs fram genom en kylare till ugnen. I kylaren kyls gasen (t.ex. till ca. -22°C till ca. -40°C), och vatten från gasen kondenseras, varigenom daggpunkten sänkes.

Gasen kommer in i ugnen från urladdningsänden och hjälper, ef- tersom den är avkyld, till att kyla pulverkakan. Ugnsförfaran- det torkar pulvret, förändrar partikelformen, reducerar oxider- na, och sintrar finpartiklarna (fines). Urladdningstemperaturen är tillräckligt låg för att förhindra återoxidation av pul- verkakan. Genom att variera ugnstemperaturen mellan ca. 250°C « i f . . . ' 'f- -r -' o z" :to ; « (za .- u . o i - -. 1 \ . _. c ° . « f. f. _. _ ,° °ç _ I * K f r .c .f 21 till ca. 900°C, och i en utföringsform ca. 370°C och ca. 650°C samt alternering av tiden för exponering, kan förändring i fin- partikelhalten, skrymdensitet och dimensionsegenskaper åstad- kommas. Efter fullbordæn av värmebehandlingsförfarandet bryts den resulterande pulverkakan sönder och är färdig för malning.

Malning kan utföras exempelvis i en vattenkyld höghastighets- hammarkvarn, varvid inmatningshastiget, kvarnhastighet, och siktöppningar under kvarnen kan varieras för erhållande av de önskade pulveregenskaperna. Det pulver som lämnar kvarnen kan matas fram till siktar där det separeras i partikelstorleks- fraktioner. 100 mesh-pulvret kan klasseras i en vindsikt och finpartiklarna kan iblandas med den slutliga pulverprodukten.

Material av för stor storlek kan återföras till kvarnen för yt- terligare malning. Alternativt kan endera av eller både under- partiklar och överpartiklar kombineras med den första elek- trolytlösningen. som separeras under (E). Kopparmetallpulvren som bildats under malnings- och. klasseringsförfarandena kan lagras i fat till vilka ett torkmedel såsom silikagel eller kamfer kan sättas för att förhindra eller reducera oxidation.

I en utföringsform värmebehandlas det våta pulvret efter tvätt- ning och avvattning i en reducerande atmosfär vid en temperatur under ca. 375°C, och i en annan utföringsform under ca. 325°C, och i en tredje utföringsform inom intervallet från ca. l50°C till ca. 375°C, och i-ytterligare en utföringsform i interval- let från ca. l75°C till ca. 325°C. Den reducerande atmosfären kan vara väte, en blandning av väte och kväve, dissocierad am- moniak, kolmonoxid, exoterm reformgas, endoterm reformgas, och liknande. Exoterm reformgas och endoterm reformgas är särskilt lämpliga. Genom att arbeta under dessa betingelser reduceras eller elimineras bildningen av sinterkakor, och de efterföljan- de stegen med sintring och malning som vanligen erfordras kan elimineras. f f f : co ~ 1 . , z , ' <1 x. n v < «< » ._ .4 ,, , o f, - < _ . f, s 0 o e< .-, . ,, 2 . - * r f- u (Hr q f 22 I en utföringsform kombineras kopparpulvret med en oxid av ett reaktivt grundämne valt bland gruppen bestående av aluminium, kisel, beryllium, magnesium, torium, zirkonium eller yttrium, varvid aluminium föredrages, för bildning av dispersionshärdad koppar. Detta kan utföras med användning av vilken som helst av de kända teknikerna för framställning av dispersionshärdas kop- par, inkluderande enkel mekanisk blandning av kopparpulvret med partiklar av oxiden av det reaktiva grundämnet, mekanisk lege- ring med användning av högenergimalning, och selektiv inre oxi- dation av det reaktiva grundämnet för bildning av en legering av utspädd fast lösning. Den dispersionshärdade kopparen inne- håller vanligen upp till ca. 3 vikt-% av det reaktiva grundäm- net, och i en utföringsform upp till ca. 2 vikt-%, och i,en an- nan utföringsform från ca. 0,1 till 1,5 vikt-%. I en utförings- form omfattar den dispersionshärdade kopparen en fin, likformig dispersion av oxidpartiklar av det reaktiva grundämnet (t.ex. aluminiumoxid) i en kopparmatris, varvid partiklarna i storlek sträcker sig från ca. 30 till ca. 120 Å, varvid avståndet mel- lan partiklarna sträcker sig från ca. 500 till ca. 1 000 Å. Ox- idpartiklarna av det reaktiva grundämnet är hårda och termiskt stabila vid höga temperaturer och bibehåller sin ursprungliga partikelstorlek och inbördes avstånd mellan partiklarna även vid temperaturer som närmar sig smältpunkten för koppar. Den dispersionshärdade kopparen erbjuder en unik kombination av hög hållfasthet och höga elektriska och termiska konduktiviteter.

Dessa material har även förmågan att bibehålla de flesta av dessa egenskaper efter långvarig exponering för temperaturer som närmar sig smältpunkten för kopparmatrisen, varigenom det användbara temperaturintervallet för koppar betydligt utvidgas.

Dessa egenskaper möjliggör även tillverkning av delar genom högtemperatursammanfogningsprocesser, såsom hårdlödning, utan att hållfasthet går förlorad. De kan även användas i tillämp- ningar som innebär höga drifttemperaturer.

Egenskaperna hos kopparpartiklarna framställda medelst förfa- randet enligt uppfinningen beror på olika driftsbetingelser och kan därför ofta regleras genom förändring av vissa processvari- ; g ~ « e: ; :e f I . _ , . , _, e I L . _ . n c f, t - c e ø z _ I ; e . r . c L - , - * H n rt. c oc 23 abler. Exempelvis kan renheten vara hög, med kopparhalter som kan överstiga exempelvis ca. 99,5 vikt-% eller ca. 99,9 vikt-%, om sådana höga renhetsnivåer erfordras. I detta avseende är en fördel med förfarandet enligt uppfinningen att renhetsgraden för strippningslösningen eller elektrolyten som används i steg (F) kan regleras, och att de organiska material som förs över in i elektrolyten från de uppströms belägna kontaktstegen i re- gel ej har en negativ inverkan på egenskaperna hos de kopparar- tiklar som framställs. Det är även möjligt att framställa kop- parartiklar med lägre renhetsnivàer, exempelvis så låga som 95 vikt-% koppar, eller så låga som 97 vikt-% koppar, eller så lå- ga som 99 vikt-% koppar, om ekonomin och kraven på den fram- ställda kopparartikeln tillåter sådana lägre nivåer av koppar- renhet.

Partikelstorleksfördelningen för* kopparpulvret kan -väljas så att den uppfyller kraven för framställning av de formade koppa- rartiklarna och kan varieras över ett stort intervall. Exempel- vis kan -325 mesh-fraktionen varieras från ca. 5 vikt-% till ca. 90 vikt-%. Skrymdensiteter hos pulvret kan ligga inom in- tervallet från exempelvis ca. 0,5 till ca. 4 g/cm3, och i en utföringsform ca. 1 till ca. 3 g/cm3. Typiska flödeshastigheter sträcker sig från ca. 10 till ca. 75 sekunder för ett 50 gram- prov, och i en utföringsform ca. 20 till ca. 65 sekunder.

Pressdensitet är en funktion av sammanpressningstrycket. Exem- pelvis kan pressdensiteten stiga från 7 till ca. 8 g/cm3 när presstrycket ökas från ca. 3,1-6,2 ton/cmz (ca. 20 till ca. 40 ton/kvadratinch (tsi)). Presshållfastheten ökar med presstryck- et. Presshàllfastheten kan exempelvis stiga från mindre än ca. 2 200 psi upp till ca. 3 500 psi när presstrycket ökas från ca. 3,1-6,2 ton/cmz (ca. 20 till 40 tsi). Kopparmetallpulvrets partikelform är vanligen dendritisk när det avsatts på katoden.

Under efterföljande förfaranden tenderar emellertid dendriterna att bli rundade. 24 Under steg (H) extruderas kopparpulvret genom ett munstycke, smids eller formas i form för bildning av den önskat formade kopparartikeln. I en utföringsform friktionsextruderas koppar- pulvret med användning av en maskinbearbetad roterande trumma och en formad inmatningsslits för bildning av en avlång artikel med en önskad tvärsnittsform och storlek. I denna utföringsform bildas friktion i trumman som bringar pulvret att kompakteras varigenom kopparartikeln formas. I en utföringsform har arti- kelns tvärsnitt en diameter eller ytterdimension på upp till ca. 15 cm (ca. 6 inch), och i en utföringsform ca. 0,5 till 7,6 cm (ca. 0,2 till ca. 3 inch). I en utföringsform dras eller valsas artikeln för modifiering av dess form eller storlek. Den formade artikeln kan exempelvis valsas med användning av en el- ler en serie av "Turks head mille" för erhållande av den önska- de formen och storleken. Den formade artikeln kan dras med an- vändning av reduktionsmunstycken för erhållande av extruderade produkter med önskade tvärsnittsformer och storlekar.

Allmänt kan kopparartiklarna framställda i enlighet med förfa- randet enligt uppfinningen ha vilken form som helst. Dessa in- kluderar de former som visas i figurerna 2-29, 33-36 som är tvärsnitt av avlänga extruderade kopparartiklar. Koppar- artiklarna lüni ha strukturella och/eller dekorativa tillämp- ningar. Kopparledningar och kopparrör (t.ex. sömlösa rör och ledningar, kamflänsrör, etc.) med 'vilken diameter och 'vägg- tjocklek som helst kan framställas. Rör- och ledningsdelar sä- som rörkrökar, vinkelkopplingar, T-stycken, reducerstycken, skarvstycken, stöd, och liknande kan framställas. Koppar- artiklar såsom brickor, ventildelar, kylflänsar, och liknande kan framställas. Elektriska och elektroniska delar och kompo- nenter såsom kontakter, ledare, och liknande kan framställas.

Intermediära formade artiklar som senare utsätts för 'vidare formningstekniker för erhållande av den slutliga önskade pro- dukten kan framställas.

De artiklar som kan framställas inbegriper rör och ledningar (figur 2, 35 och 36), samt cirkulära stavar och cylindrar med :<1 «-. 514 549 eller utan ett eller flera hål, urtag (bores) eller kaviteter i eller genom deras inre (figurerna 12 och 34). De innefattar även avlånga extruderade artiklar med tvärsnitt med formen av halvcirklar (figur 22), fyrkanter (figurerna 4 och 6), rektang- lar (figur 3), tävlingsbanor plattprofiler (figur 7), L-profiler (figur 8), U-profiler (figurerna 9, 26, 27), T- profiler (figur 13), 14), polygoner (figurerna 10, ll, 19, 20, 21), kors (figurerna 15, 17, 18, 24 och 33), stjärnor (figur 16), ribbade plattprofiler (figur 23).

De formade artiklarna kan ha solida tvärsnitt eller inre, eller de kan ha ett eller flera hål, urtag eller kaviteter i eller genom dem (t.ex. figurerna 2, 12, och 33-36). figur 4) eller rundade kanter (figur 5), I-profiler (figur Dessa artiklar kan ha skarpa kanter (t.ex. (t.ex. figur 6).

I en utföringsform kan det rör eller den ledning 200 som visas i figur 30, som består av en sammansättning av individuellt i varandra låsbara lednings- eller rörkomponenter 201, framstäl- las med användning av förfarandet enligt uppfinningen. viduella i. varandra låsbara komponenterna 201 kan extruderas De indi- med användning av de munstycken som visas i figurerna 31 och 32.

I en utföringsform föreligger kopparpulvret i formen av ett dispersionshärdat kopparpulver, och de formade kopparartiklarna framställda därav innefattar motståndssvetselektroder, anslut- ningstrådar för glödlampor, kommutatorer för helikoptermotorer, reläblad och kontaktstöd som är strömbärande armar som rör sig mellan fixerade kontaktpunkter för att sluta eller bryta en elektriskt krets, formar för kontinuerlig gjutning, sidostycken (side dam blocks)för Hazelett-gjutmaskiner, svetsmunstycken för svetsning med skyddsgas, sömsvetsrullar, svetskablar för stark- ström, komponenter till mikrovågsrör, elektriska kontakter, liknande. och I en utföringsform rengörs de formade artiklar som framställts med användning av kemiska, mekaniska tekniker eller elpole- 514 649 26 ringstekniker. Kemisk rengöring kan åstadkommas genom att låta artikeln passera genom ett ets- eller betbad med salpetersyra eller varm (t.ex. ca. 25°C till 70°C) svavelsyra. Elpolering kan åstadkommas med användning av en elektrisk ström och sva- velsyra. Mekanisk rengöring kan åstadkommas med användning av borstar och liknande för avlägsning av grader och liknande upp- ruggade delar från artikelns yta. I en utföringsform avfettas artikeln med användning av en kaustiksodalösning, tvättas, sköljs, betas med användning av varm (t.ex. ca. 35°C) svavelsy- ra, elpoleras med användning av svavelsyra, sköljs och torkas.

Med hänvisning till figur 1 extraheras koppar från lakningstipp och behandlas i enlighet med förfarandet enligt uppfinningen för framställning av den extruderade kopparartikeln 12. I denna utföringsform omfattar förfarandet användning av sedimente- ringstankar 14, 15 och 16, uppsamlingsdamm 17, blandare 18, 20 och 22, elektrolytiska cellen 124 som innefattar interfolierade katoder 126 och olösliga anoder 128, transportband 130 och 146, filter 132, sköljnings- och avvattningsenhet 134, lagringstratt 136, pulverspridningsränna (weir) 145, avkylningskam- mare 150, sinterkaksönderdelare 152, utföringsform utförs steg (A) i förfarandet enligt föreliggande uppfinning vid lakningstippen 10. Steg (B) och (C) utförs i två steg med användning av blandare 18 och 20 och sedimenterings- tankar 14 och 15. Steg (D) och (E) utförs med användning av blandare 22 och sedimenteringstank 16. Steg (F) och (G) utförs med användning av den elektrolytiska cellen 124 och transport- band 130. Steg (H) utförs med användning av extrudern 154. ugn 148, och extruder 154. I denna Vattenhaltig lakningslösning från ledning 40 sprutas på ytan av lakningstippen, 10. Lakningslösningen. är en svavelsyralösning med en svavelsyrakoncentration vanligen inom intervallet från ca. 5 till ca. 50, 5 till ca. 40 g/1, och i en annan utföringsform ca. 10 till ca. 30 g/l. Lak- och i en utföringsform ca. ningslösningen perkolerar ned genom tippen, löser kopparen i malmen, strömmar genom tipputrymmet 11 som en kopparrik vatten- haltig lakningslösning (ibland kallad pregnant lakningslös- e cer..< n. :_ . « u “'~ - :n < . f ¿ <- ce . . , ' ^ 1 c (e.- « f f. . _ " * . _ i v 27 ning), strömmar genom ledning 13 in till uppsamlingsdammen 17 och pumpas därifrån genom ledning 41 till blandare 20. Den kop- parrika vattenhaltiga lakningslösning som pumpas in i blandaren har allmänt en kopparjonkoncentration inom intervallet från ca. 0,8 till ca. 5 g/l, och i en utföringsform ca. 1 till ca. 3 g/l; och en koncentration av fri svavelsyra som vanligen ligger inom intervallet från ca. 5 till ca. 30 g/l, och i en utfö- ringsform ca. 10 till ca. 20 g/l. I blandaren 20 blandas den kopparrika vattenhaltiga lakningslösningen med en kopparhaltig organisk lösning som pumpas in i blandaren 20 från ränna (weir) _78 i sedimenteringstanken 15 genom ledningarna 79, 80 och 42.

Koncentrationen av koppar i den kopparhaltiga organiska lösning som tillförs blandaren 20 är vanligen från ca. 0,5 till ca. 4 g/l extraheringsmedel i den organiska lösningen, och i en utfö- ringsform ca. 1 till ca. 2,4 g/l extraheringsmedel i den orga- niska lösningen. Under blandningen i blandaren 20 tfildas och sammanblandas en organisk fas och en vattenhaltig fas. Koppar- joner överförs från den vattenhaltiga fasen till den organiska fasen. Blandningen pumpas från blandare 20 genom ledning 43 till sedimenteringstank 14. I sedimenteringstank 14 separeras den vattenhaltiga fasen och den organiska fasen varvid den or- ganiska fasen bildar det övre skiktet och den vattenhaltiga fa- sen bildar det nedre skiktet. Den organiska fasen uppsamlas i rännan 48 och pumpas genom ledningarna 49, 50 och 51 till blan- dare 22. Denna organiska fas är en kopparrik organisk lösning (som kan benämnas som en bemängd organisk fas). Denna kopparri- ka organiska lösning har vanligen en kopparkoncentration inom intervallet från ca. 1 till ca. 6 g/l extraheringsmedel i den organiska lösningen, och i en utföringsform ca. 2 till ca. 4 g/ l extraheringsmedel i den organiska lösningen.

Den kopparrika lösningen blandas i blandare v22 med en kop- parutarmad strippningslösning. Den kopparutarmade strippnings- lösningen (som kan benämnas mager (lean) elektrolyt) bildas i den elektrolytiska cellen 124 och pumpas genom ledningarna 160, 162, 164, 166, 58 och 60 till blandare 22. Denna kopparutarmade strippningslösning har en fri svavelsyrakoncentration som van- ¿_.___. fw.. , H _ _ _. .v . ._ \ y . I... _ . , U' - zz- o r _ : << « « “I _ , 1 ._ m _ m.. 28 ligen ligger i intervallet från ca. 80 till ca. 300 g/l, och i en utföringsform ca. 150 till ca. 250 g/l; och en kopparjonkon- centration vanligen inom intervallet från ca. 1. till ca. 50 g/l, och i en utföringsfornn ca. 4 till ca. 12 g/l. Färsk strippningslösningstillsats kan tillsättas till ledning 60 ge- nom ledning 62. Den kopparrika organiska lösningen och kop- parutarmade strippningslösningen blandas i blandare 22, varvid resultatet är bildningen av en organisk fas blandad med en vat- tenhaltig fas. Kopparjoner överförs från den vattenhaltiga fa- sen till den organiska fasen. Blandningen pumpas från blandare 22 genom ledning 63 till sedimenteringstank 16. I sedimente- ringstank 16 separeras den organiska fasen från den vattenhal- tiga fasen varvid den organiska fasen uppsamlas i. ränna 64.

Denna organiska fas är en kopparutarmad organisk lösning (som ibland kallas ofyndig organisk lösning). Denna kopparutarmade organiska lösning har en kopparkoncentration som vanligen lig- ger inom intervallet från ca. 0,5 till ca. 2 g/l extraherings- medel i den organiska lösningen, och i en utföringsform ca. 0,9 till ca. 1,5 g/l extraheringsmedel i den organiska lösningen.

Den kopparutarmade organiska lösningen pumpas från sedimente- ringstanken 16 genom ledningarna 65, 66, 68 och 70 till blanda- re 18. Färsk organisk lösningstillsats kan tillsättas till led- ningen 70 via ledning 72.

Kopparinnehàllande vattenhaltig lakningslösning pumpas från se- dimenteringstank 14 genom ledningar 73, 74, 75 och 76 till blandare 18. Denna kopparinnehållande vattenhaltiga laknings- lösning har vanligen en kopparjonkoncentration inom intervallet från ca. 0,4 till ca. 4 g/l, och i en utföringsform ca. 0,5 till ca. 2,4 g/l; och en fri svavelsyrakoncentration som vanli- gen ligger inom intervallet från ca. 5 till ca. 50 g/l, och i en utföringsform ca. 5 till ca. 30 g/l, och i en annan utfö- ringsform ca. 10 till ca. 20 g/l. I blandare 18 bildas och sam- manblandas en organisk fas och en vattenhaltig fas, och koppar- joner överförs från den vattenhaltiga fasen till den organiska fasen. Blandningen pumpas via ledning 77 till sedimenterings- tank 15. I sedimenteringstank 15 separeras den organiska fasen o 514 wa <- o , t a M.. . f' < _ ° 29 från den vattenhaltiga fasen, varvid den organiska fasen upp- samlas i ränna 78. Denna organiska fas, som är en kopparinne- hållande organisk lösning, pumpas från sedimenteringstank 15 via ledningarna 79, 80 och 42 till blandare 20. Denna kopparin- nehàllande organiska lösning har en. kopparkoncentration som 0,5 till ca. 4 g/l och i en utfö- vanligen ligger inom intervallet från ca. extraheringsmedel i den organiska lösningen, ringsform ca. 1 till ca. 2,4 g/l extraheringsmedel i den orga- niska lösningen. Den vattenhaltiga fasen i sedimenteringstanken_ är en kopparutarmad vattenhaltig lakningslösning som pumpas genom ledningarna 81 och 82 till ledning 40, varvid den sprutas över lakningstippen 10. Färsk lakningslösningstillsats kan sät- tas till ledningen 82 via ledning 83.

Den vattenhaltiga fas som separerar ut i sedimenteringstanken 16 är en kopparrik strippningslösning. Den pumpas från sedimen- teringstanken 16 via ledningarna 85 och 86 till filter 132 och från filtret 132 via ledningarna 87 och 88 till elektrolytiska cellen 124. Denna kopparrika strippningslösning har en koppar- jonkoncentration som vanligen ligger inom intervallet från ca. 1 till ca. 60 g/l, och i en utföringsform ca. 5 till ca. 15 g/ 1; och en fri svavelsyrakoncentration som vanligen ligger inom intervallet från ca. 70 till ca. 290 g/l, och i en utförings- form ca. 140 till ca. 240 g/l. Den kopparrika strippningslös- ning som kommer in i den elektrolytiska cellen 124 kan benämnas elektrolytlösning 125.

Elektrolytlösningen 125 har en kopparjonkoncentration som van- 1 till 60 g/l, och i en och en fri svavelsyrakon- ligen ligger inom intervallet från ca. utföringsform ca. 4 till ca. 15 g/l; centration som vanligen ligger inom intervallet från ca. 70 till ca. 300, och i en utföringsform ca. 140 till ca. 250 g/l.

Elektrolytlösningen 125 strömmar med hjälp av naturlig konvek- tion mellan interfolierade katoder 126 och anoder 128. När spänning anbringas mellan anoderna 128 och katoderna 126 sker elektrolytisk utfällning av kopparmetallpulver på katoderna.

Det elektrolytiskt utfällda kopparpulvret 129 avlägsnas från c non* f ' * : v- L' c \ : f, . _ . . <. - 1 e . fl .(0 < . 1 0,, O - L . Q 0 , _ . , ' 1 K c ft « katoderna 126 med användning av en mekanisk skrapare (ej visad i ritningen) och transporteras längsmed transportbandet 130 till sköljnings- och avvattningsenheten 134.

Elektrolytlösningen 125 omvandlas till en kopparutarmad elek- trolytlösning i den elektrolytiska cellen 124 och avlägsnas från cellen 124 genom ledningen 160. Den kopparutarmade elek- trolytlösningen i ledning 160 har en kopparjonkoncentration som vanligen ligger inom intervallet från ca. 1 till ca. 50 g/l, och i en utföringsform ca. 4 till ca. 12 g/1; och en fri sva- velsyrakoncentration som vanligen ligger inom intervallet från ca. 80 till ca. 300, och i en utföringsform ca. 150 till 250 g/1. Denna kopparutarmade elektrolyt underkastas antingen: (1) recirkulering genom ledningarna 160, 170, 171 och 88 äter till cellen 124; eller (2) pumpning genom ledningarna 160, 162, 164, 166, 58 och 60 till blandare 22 som kopparutarmad strippnings- lösning.

Kopparmetallpulver 129 transporteras från den elektrolytiska cellen 124 till sköljnings- och avvattningsenheten 134 längsmed transportbandet 130. Pulvret 129 sköljs och avvattnas i enhet 134. Sköljnings- och avvattningsenheten 134 kan exempelvis vara ett vakuumbandfilter försett: med. överliggande spridningsmun- stycken för besprutning av pulvret med vatten. Pulvret 129 transporteras från enhet 134 längsmed transportband 130 till nedkastet 135 och in i lagringstratten 136. Pulvret 129 trans- porteras från lagringstratten 136 genom pulverspridningsrännan 145 till transportbandet 146. Pulvret 129 sprids på transport- bandet 146 och förs fram genom ugnen 148 och avkylningskammaren 150 där det torkas och sintras för bildning av en sinterkaka.

Under detta torknings- och sintringssteg reduceras eller elimi- neras oxider som fångas upp i sköljnings- och avvattningsenhe- ten 134. längsmed transportbandet 146 till sinterkaksönderdelaren 152 och förs sedan fram till extrudern 154. Den sönderdelade sin- terkakan extruderas i extruder 154 för framställning av den på önskat sätt formade kopparartikeln.

Sinterkakan transporteras från avkylningskammare 150 oooo ~ s 514 649 31 Även om den utföringsform som är avbildad i figur l utnyttjar tvåstegs-lösningsmedelsextraktionssteg med användning av blan- dare 18 och 20 och sedimenteringstankar 14 och 15, är det un- derförstått att ytterligare extraktionssteg kan fogas till pro- cessen utan avvikelse från uppfinningen. Under det att figur 1 specifikt beskriver ett tvåstegsextraktionssteg, och den före- gående diskussionen avser enstegs- och tvåstegsextraktioner, kan förfarandet enligt uppfinningen således exempelvis utföras med användning av ett trestegs-, fyrstegs-, femstegs-, sexstegs-, etc. extraktionssteg. På samma sätt är det, ehuru de utföringsformer som är avbildade i figur 1 utnyttjar ett en- stegsstrippningssteg med användning av blandare 22 och sedimen- teringstank 16, underförstått att ytterligare strippningssteg kan fogas till processen utan avvikelse från uppfinningen. För- farandet enligt uppfinningen kan således exempelvis utföras med användning av ett tvàstegs-, trestegs-, fyrstegs-, femstegs-, sexstegs-, etc., strippningssteg.

Det följande exemplet tillhandahålles för åskådliggörande av uppfinningen. Om ej annat uppges är i det följande exemplet så- väl som i hela beskrivningen i patentkraven alla delar och pro- centtal angivna i vikt, alla temperaturer i grader Celsius, och alla tryck är atmosfäriska.

Exempel 1 Kopparrör framställs med användning av förfarandet som åskåd- liggörs i figur l. Den vattenhaltiga lakningslösning som spru- tas på lakningstippen 10 från ledning 40 är en vattenhaltig svavelsyralösning med en fri svavelsyrakoncentration på 20 g/ l. Den kopparrika vattenhaltiga lakningslösning som pumpas till blandare 20 via ledning 41 har en kopparjonkoncentration på 1,8 g/1 och en fri svavelsyrakoncentration på 12 g/l. Den organiska lösningen är en lösning av 7 vikt-% LIX 984 i SX-7. Koncentra- tionen av koppar i den kopparhaltiga organiska lösning som sätts till blandare 20 från sedimenteringstanken 15 har en kop- ”f- f f..- ( ; i: f « M - t; .- 4 ~\'^ v u. , 4 > > °° “' c . ' ' ( (f x . 32 parkoncentration på 1,95 g/l LIX 984 i den organiska lösningen.

Den kopparrika organiska lösning som pumpas till blandare 22 från sedimenteringstank 14 har en kopparkoncentration på 3 g/l LIX 984 i den organiska lösningen. Den kopparutarmade stripp- ningslösning som tillförs blandare 22 via ledning 60 har en fri svavelsyrakoncentration på 170 g/l och en kopparjonkoncentra- tion på 40 g/l. Den kopparutarmade organiska lösning som pumpas från sedimenteringstank 16 till blandare 18 har en kopparkon- centration på 1,25 g/l LIX 984 i den organiska lösningen. Den kopparinnehàllande vattenhaltiga lakningslösning som pumpas från sedimenteringstank 14 till blandare 18 har en kopparjon- koncentration på 0,8 g/l och en fri svavelsyrakoncentration på 12 g/l. Den kopparutarmade vattenhaltiga lösning som pumpas från sedimenteringstank 15 via ledning 81 har en kopparkoncent- ration på 0,15 g/l och en fri svavelsyrakoncentration på 12 g/l. Den kopparrika strippningslösning som tas från sedimente- ringstank 16 för användning i den elektrolytiska cellen späds med vatten och svavelsyra för erhållande av en kopparjonkon- centration på 8 g/l och fri svavelsyrakoncentration på 145 g/ 1. Strömtätheten i den elektrolytiska cellen 124 är 1080 A/m2 (100 ampere per kvadratfot), och temperaturen är 50°C. De olös- liga anoderna är gjorda av titan och belagda med iridium, och katoderna är gjorda av rostfritt stål. Elektrolytisk utfällning åstadkoms i den elektrolytiska cellen under en cykel på 120 mi- nuter. Vid slutet av cykeln skrapas katoden med användning av en skrapa av rostfritt stål. Kopparmetallpulvret uppsamlas i en behållare av rostfritt stål. Pulvret sköljs med användning av avjoniserat vatten och därefter dekanteras vattnet. Detta sköljningsförfarande upprepas fyra ytterligare gånger. Pulvret torkas och desoxideras vid 400°C i 90 minuter under en väteat- mosfär. Pulvret extruderas genom ett munstycke för formning av ett kopparrör med ett runt tvärsnitt, en ytterdiameter på ca. 0,95 cm (ca. 3/8 inch), och väggtjocklek pá ca. 0,16 cm (ca. 1/16 inch). =" ' r ;< f .J V 'vf "i ' ° 33 Fastän uppfinningen har förklarats med hänvisning till dess fö- redragna utföringsformer är det underförstått att olika modifi- kationer därav kommer att vara 'uppenbara för fackmännen inom tekniken vid läsning av beskrivningen. Således är det underför- stått att den häri beskrivna uppfinningen är avsedd att täcka sådana modifikationer som faller inom omfattningen enligt de bifogade patentkraven.

Claims (20)

514649 34 PATENTKRAV

1. Förfarande för framställning av en formad kopparartikel direkt från ett kopparhaltigt material, k ä n n e t e c k- n a t av att det omfattar stegen att man: (A) bringar nämnda kopparhaltiga material i kontakt med en ef~ fektiv mängd av minst en vattenhaltig lakningslösning för lös- ning av kopparjoner i nämnda lakningslösning och bildning av en kopparrik vattenhaltig lakningslösning; (B) bringar nämnda kopparrika vattenhaltiga lakningslösning i kontakt med en effektiv mängd av minst ett vattenolösligt ex- traheringsmedel för överföring av kopparjoner från nämnda kop- parrika vattenhaltiga lakningslösning till nämnda extraherings- medel för bildning av ett kopparrikt extraheringsmedel och en kopparutarmad vattenhaltig lakningslösning; (C) separerar nämnda kopparrika extraheringsmedel från nämnda kopparutarmade vattenhaltiga lakningslösning; (D) bringar nämnda kopparrika extraheringsmedel i kontakt med en effektiv mängd av minst en vattenhaltig strippningslösning för överföring av kopparjoner frän nämnda extraheringsmedel till nämnda strippningslösning för' bildning av en kopparrik strippningslösning och ett kopparutarmat extraheringsmedel; (E) separerar nämnda kopparrika strippningslösning frän nämnda kopparutarmade extraheringsmedel; (F) bringar nämnda kopparrika strippningslösning att strömma mellan en anod och en katod, samt anbringar en effektiv spän- ning över nämnda anod och nämnda katod för avsättning av kop- parpulver pä nämnda katod; (G) avlägsnar nämnda kopparpulver fràn nämnda katod; och f . - - . . . .. ('25 UI IJ I: : : q -rw i Q i f! 2,8' 35 (H) extruderar, smider eller formar i form nämnda kopparpulver för att framställa nämnda formade kopparartikel.

2. Förfarande enligt patentkrav 1, k ä n n e t e c k n a t av att nämnda formade artikel från (H) drages eller valsas för modifiering av dess form eller storlek.

3. Förfarande enligt patentkrav 1 eller 2, k ä n n e- t e c k n a t av att nämnda kopparhaltiga material är koppar- malm, kopparkoncentrat, kopparsmältugnsprodukter, flygaska från smältugn, kopparcement, kopparsulfat eller kopparinnehållande avfall.

4. Förfarande enligt något av föregående patentkrav, k ä n- n e t e c k n a t av att nämnda vattenhaltiga lakningslösning omfattar svavelsyra, halogenidsyra eller ammoniak.

5. Förfarande enligt något av föregående patentkrav, k ä n- n e t e c k n a t av att nämnda extraheringsmedel vid (B) lö- ses i ett organiskt lösningsmedel valt bland gruppen bestående av fotogen, bensen, naftalen, brännolja och dieselolja.

6. Förfarande enligt något av föregående patentkrav, k ä n- n e t e c k n a t av att nämnda extraheringsmedel vid (B) om- fattar minst en förening som motsvaras av formeln \ oH 112 rIIoH :lv I I l RI- c-c-c-c-w I I å” R° RS vari R1, R2, R3, R4, R5, R5 och R7 oberoende är väte eller hyd- rokarbylgrupper. i _ ' ~ ' <~ __: f: _ ._ ., ( ,_ t g « v . < 1 . ( . ' ' ¿\ - .gm x _ ' *' I «. -. « c . . r: ml L: 36

7. Förfarande enligt något av patentkraven 1 - 5, k å n- n e t e c k n a t av att nämnda extraheringsmedel vid (B) om- fattar minst en förening motsvarad av formeln ^ oH [LRZ vari R1 och R2 oberoende är väte eller hydrokarbylgrupper.

8. Förfarande enligt något av patentkraven 1 - 5, k ä n- n e t e c k n a t av att nämnda extraheringsmedel vid (B) om- fattar minst en förening motsvarad av formeln O O u H 1:1- c - CHZ-c _12* vari Rl och R2 oberoende är alkylgrupper eller arylgrupper.

9. Förfarande enligt något av patentkraven 1 - 5, k å n- n e t e c k n a t av att nämnda extraheringsmedel vid (B) om- fattar minst ett jonbytarharts.

10. Förfarande enligt något av föregående patentkrav, k ä n- 11 e t e c lc n a t av att nämnda strippningslösning omfattar svavelsyra. _514 649 iäæ1ä 1«% ..:._ ..«%. ¶1 37

11. Förfarande enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n a t av att nämnda kopparrika strippnings- lösning under (F) har en kopparjonkoncentration inom interval- let från ca. 1 till ca. 60 g/1 och en fri svavelsyrakoncentra- tion i intervallet från ca. 70 till ca. 300 g/1.

12. Förfarande enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n a t av att nämnda strippningslösning vid steg (F) utmärkes av närvaron av minst en triazol.

13. Förfarande enligt något av föregående patentkrav, k ä n- n e t e c k n a t av att nämnda anod i steg (F) är en dimen- sionsstabil olöslig anod.

14. Förfarande enligt något av föregående patentkrav, k ä n- n e t e c k n a t av att koncentrationen av fria kloridjoner i nämnda strippningslösning i steg (F) är upp till ca. 20 ppm.

15. Förfarande enligt något av patentkraven 1 - 13, k ä n- n e t e c k n a t av att koncentrationen av fria kloridjoner i nämnda strippningslösning under (F) är mindre än ca. 1 ppm.

16. Förfarande enligt något av föregående patentkrav, k à n- n e t e c k n a t av att nämnda kopparpulver före steg (H) kombineras med oxiden av ett reaktivt grundämne valt bland gruppen bestående av aluminium, kisel, beryllium, magnesium, torium, zirkonium och yttrium för framställning av dispersions- härdad koppar.

17. Förfarande enligt något av föregående patentkrav, k ä n- n e t e c k n a t av att nämnda artikel föreligger i form av en ledning eller ett rör.

18. Förfarande enligt något av patentkraven 1 - 16, k ä n- 514,s49 , fVë äpßå 38 n e t e c k n a t av att nämnda artikel har ett tvärsnitt i fonn av en cirkel, platt form, fyrkant, rektangel, kors, po- lygon, L, H, I, U eller T.

19. Förfarande enligt något av patentkraven l - 16, k ä n- n e t e c k n a t av att nämnda artikel har en eller flera häl i eller genom sig.

20. Förfarande för framställning av en formad kopparartikel direkt frán ett kopparhaltigt material, k ä n n e t e c k n a t aV att man! (A) bringar nämnda kopparhaltiga material i kontakt med en effektiv' mängd av' minst en 'vattenhaltig lakningslösning för lösning av kopparjoner i nämnda lakningslösning och bildning av en kopparrik vattenhaltig lakningslösning; (B-1) bringar nämnda kopparrika vattenhaltiga lakningslösning fràn (A) i kontakt med en effektiv mängd av minst ett koppar- haltigt vattenolösligt extraheringsmedel från (C-2) för överfö- ring av kopparjoner från nämnda kopparrika vattenhaltiga lak- ningslösning till nämnda kopparhaltiga extraheringsmedel så att ett kopparrikt extraheringsmedel och en första kopparutarmad vattenhaltig lakningslösning bildas; (C-1) separerar nämnda kopparrika extraheringsmedel från nämn- da första kopparutarmade vattenhaltiga lakningslösning, leder fram nämnda kopparrika extraheringsmedel till (D); (B-2) bringar nämnda första kopparutarmade vattenhaltiga lak- ningslösning från (C-1) i kontakt med en, effektiv' mängd av minst ett kopparutarmat extraheringsmedel fràn (E) för överfö- ring av kopparjoner fràn nämnda första kopparutarmade vatten- haltiga lakningslösning till nämnda kopparutarmade extrahe- 514ïe49 39 ringsmedel så att ett kopparhaltigt extraheringsmedel och en andra kopparutarmad vattenhaltig lakningslösning bildas; (C-2) separerar nämnda kopparhaltiga extraheringsmedel från nämnda kopparutarmade vattenhaltiga lakningslösning, recirkule- rar nämnda kopparhaltiga extraheringsmedel till (B-1); (D) bringar nämnda kopparrika extraheringsmedel från (C-1) i kontakt med en effektiv mängd av minst en vattenhaltig stripp- ningslösning för överföring av kopparjoner från nämnda koparri- ka extraheringsmedel till nämnda strippningslösning för bild- ning av en första elektrolytlösning och ett kopparutarmat ex- traheringsmedel; (E) separerar nämnda första elektrolytlösning från nämnda kopparutarmade extraheringsmedel, recirkulerar nämnda kop~ parutarmade extraheringsmedel till (B-2); (F) leder fram nämnda första elektrolytlösning till en elek- trolytisk cell försedd med minst en anod och minst en roterande katod, och anbringar en effektiv spänning över nämnda anod och nämnda katod för utfällning av kopparpulver pà nämnda katod; (G) avlägsnar nämnda kopparpulver från nämnda katod; och (H) extruderar, smider eller formar i form nämnda kopparpulver för att framställa nämnda formade artikel.