JP2002069509A - 成形された銅製品の作製プロセス - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 銅含有物質から直接、成形された銅製品を作
製するプロセスの提供。 【解決手段】 （Ａ）銅含有物質を水性浸出液に接触さ
せて銅含有量の多い水性浸出液を形成する工程、（Ｂ）
水性浸出液を水不溶性抽出液に接触させて、銅イオンを
抽出液に移動させ、銅含有量の多い抽出液と銅の枯渇し
た水性浸出液を形成する工程、（Ｃ）銅含有量の多い抽
出液を浸出液から分離する工程、（Ｄ）銅含有量の多い
抽出液をストリッピング溶液と接触させて、銅イオンを
ストリッピング溶液に移動させ、銅含有量の多いストリ
ッピング溶液と銅の枯渇した抽出液を形成する工程、
（Ｅ）銅含有量の多いストリッピング溶液を抽出液から
分離する工程、（Ｆ）ストッピング溶液に電圧を印加し
てカソード上に銅粉末を析出させる工程、（Ｇ）銅粉末
をカソードから取り出す工程、（Ｈ）銅粉末を押し出
し、鍛造し、または成型して銅製品を形成する工程から
なる銅製品作製プロセス。
製するプロセスの提供。 【解決手段】 （Ａ）銅含有物質を水性浸出液に接触さ
せて銅含有量の多い水性浸出液を形成する工程、（Ｂ）
水性浸出液を水不溶性抽出液に接触させて、銅イオンを
抽出液に移動させ、銅含有量の多い抽出液と銅の枯渇し
た水性浸出液を形成する工程、（Ｃ）銅含有量の多い抽
出液を浸出液から分離する工程、（Ｄ）銅含有量の多い
抽出液をストリッピング溶液と接触させて、銅イオンを
ストリッピング溶液に移動させ、銅含有量の多いストリ
ッピング溶液と銅の枯渇した抽出液を形成する工程、
（Ｅ）銅含有量の多いストリッピング溶液を抽出液から
分離する工程、（Ｆ）ストッピング溶液に電圧を印加し
てカソード上に銅粉末を析出させる工程、（Ｇ）銅粉末
をカソードから取り出す工程、（Ｈ）銅粉末を押し出
し、鍛造し、または成型して銅製品を形成する工程から
なる銅製品作製プロセス。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】（技術分野）本発明は成形さ
れた銅製品の作製プロセスに関する。より詳細には、本
発明は銅鉱石または銅含有廃棄物のような不純な銅供給
源から直接、成形された銅製品を作製するプロセスに関
する。
れた銅製品の作製プロセスに関する。より詳細には、本
発明は銅鉱石または銅含有廃棄物のような不純な銅供給
源から直接、成形された銅製品を作製するプロセスに関
する。
【０００２】
【従来の技術】（発明の背景）溶媒抽出−電解採取（以
下、「ＳＸ−ＥＷ」という）によって鉱石および加工処
理液から銅貴金属（ｃｏｐｐｅｒ ｖａｌｕｅ）を回収
するプロセスは、周知である。簡潔に言えば、このプロ
セスは銅含有水性溶液を用いて実行され、この銅含有水
性溶液は、水性の浸出溶液に銅（一般には鉱石から）を
溶解することによるか、または加工処理排出液（ｐｒｏ
ｃｅｓｓ ｅｆｆｌｕｅｎｔ）のような銅含有溶液を用
いることにより得られる。銅貴金属に関して得られる溶
液は、銅貴金属に対して選択的親和力を有する水に不溶
なイオン交換組成物を含有する、水と混和しない有機溶
媒（例えば灯油）と混合される。このイオン交換組成物
は、優先的に銅貴金属を水性溶液から抽出する。この水
相および有機相は分離される。銅が枯渇した水性溶液
は、通常「ラフィネート」と言われる。ラフィネート
は、浸出液として（浸出プロセスにおいて）再生利用さ
れ得るか、または（加工処理排出液からの銅の回収のよ
うなプロセスにおいて）廃棄される。有機相（この相
は、イオン交換組成物および抽出された銅貴金属を含有
する）は、通常「充填有機液（ｌｏａｄｅｄ ｏｒｇａ
ｎｉｃ）」と言われる。所望の銅貴金属は、水性ストリ
ッピング溶液（ａｑｕｅｏｕｓ ｓｔｒｉｐ ｓｏｌｕ
ｔｉｏｎ）と混合することによって充填有機液から取り
出される。この水性ストリッピング溶液は、強酸（例え
ば、硫酸、リン酸、または過塩素酸）を含有し、そして
上記の銅含有水性溶液より低いｐＨを有する。この水性
ストリッピング溶液は所望の銅貴金属を充填有機液から
抽出する。有機相と水相とを分離すると、所望の銅貴金
属が水性ストリッピング溶液中に存在する。得られる銅
の含有量の多い水性ストリッピング溶液は、ときどき、
「電解質（ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｅ）」または「リッチ
電解質（ｒｉｃｈ ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｅ）」と言わ
れる。銅が枯渇した有機相は、通常、「空の有機物（ｂ
ａｒｒｅｎ ｏｒｇａｎｉｃ）」と言われる。この空の
有機物は再生利用され得る。銅は、電解質から「電解採
取」（以下、ときどき「ＥＷ」という）として知られて
いる技術によって精製された形態で回収される。電解採
取プロセスは、代表的には、銅を銅開始シートまたはス
テンレス鋼カソードマザーブランク（ｍｏｔｈｅｒ ｂ
ｌａｎｋｓ）上にメッキする工程を包含する。メッキサ
イクルは、通常約７日かかり、１００ポンドのカソード
を各々の側のマザーブランクから得る。このカソードは
各々の側のマザーブランクから機械的にはぎ取られる。
得られる銅生成物は、ときどき、「カソードの銅」と言
われる。
下、「ＳＸ−ＥＷ」という）によって鉱石および加工処
理液から銅貴金属（ｃｏｐｐｅｒ ｖａｌｕｅ）を回収
するプロセスは、周知である。簡潔に言えば、このプロ
セスは銅含有水性溶液を用いて実行され、この銅含有水
性溶液は、水性の浸出溶液に銅（一般には鉱石から）を
溶解することによるか、または加工処理排出液（ｐｒｏ
ｃｅｓｓ ｅｆｆｌｕｅｎｔ）のような銅含有溶液を用
いることにより得られる。銅貴金属に関して得られる溶
液は、銅貴金属に対して選択的親和力を有する水に不溶
なイオン交換組成物を含有する、水と混和しない有機溶
媒（例えば灯油）と混合される。このイオン交換組成物
は、優先的に銅貴金属を水性溶液から抽出する。この水
相および有機相は分離される。銅が枯渇した水性溶液
は、通常「ラフィネート」と言われる。ラフィネート
は、浸出液として（浸出プロセスにおいて）再生利用さ
れ得るか、または（加工処理排出液からの銅の回収のよ
うなプロセスにおいて）廃棄される。有機相（この相
は、イオン交換組成物および抽出された銅貴金属を含有
する）は、通常「充填有機液（ｌｏａｄｅｄ ｏｒｇａ
ｎｉｃ）」と言われる。所望の銅貴金属は、水性ストリ
ッピング溶液（ａｑｕｅｏｕｓ ｓｔｒｉｐ ｓｏｌｕ
ｔｉｏｎ）と混合することによって充填有機液から取り
出される。この水性ストリッピング溶液は、強酸（例え
ば、硫酸、リン酸、または過塩素酸）を含有し、そして
上記の銅含有水性溶液より低いｐＨを有する。この水性
ストリッピング溶液は所望の銅貴金属を充填有機液から
抽出する。有機相と水相とを分離すると、所望の銅貴金
属が水性ストリッピング溶液中に存在する。得られる銅
の含有量の多い水性ストリッピング溶液は、ときどき、
「電解質（ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｅ）」または「リッチ
電解質（ｒｉｃｈ ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｅ）」と言わ
れる。銅が枯渇した有機相は、通常、「空の有機物（ｂ
ａｒｒｅｎ ｏｒｇａｎｉｃ）」と言われる。この空の
有機物は再生利用され得る。銅は、電解質から「電解採
取」（以下、ときどき「ＥＷ」という）として知られて
いる技術によって精製された形態で回収される。電解採
取プロセスは、代表的には、銅を銅開始シートまたはス
テンレス鋼カソードマザーブランク（ｍｏｔｈｅｒ ｂ
ｌａｎｋｓ）上にメッキする工程を包含する。メッキサ
イクルは、通常約７日かかり、１００ポンドのカソード
を各々の側のマザーブランクから得る。このカソードは
各々の側のマザーブランクから機械的にはぎ取られる。
得られる銅生成物は、ときどき、「カソードの銅」と言
われる。
【０００３】電着による銅粉末の製造は、アノード、カ
ソード、銅イオンと硫酸イオンとを含有する電解質溶
液、および電源を備える電解質セルの使用を含む。アノ
ードとカソードとの間へ電圧の印加により、銅粉末の電
着がカソード表面上にて達成される。この粉末を、次い
で、時間間隔で取り除くかまたは連続的な様式で取り除
く。このプロセスは、銅供給原料（ｃｏｐｐｅｒ ｆｅ
ｅｄ ｓｔｏｃｋ）（これは、電解質溶液を形成するた
めに硫酸中に溶解される）を用いて開始される。銅粉末
が標準的な商業目的（例えば、摩擦材料、ベアリング、
合金化添加物（ａｌｌｏｙｉｎｇ ａｄｄｉｔｉｖ
ｅ）、粉末冶金など）に十分な銅粉末の純度となるよう
に比較的純粋な電解質を必要とする。銅粉末の電気分解
による生成により電解質から除去される銅は、代表的に
は、溶液中の銅イオン濃度を維持するために連続的に補
充される。電解質の純度およびその電解質から回収され
る銅の置換は、比較的純粋な銅可溶性アノードの使用に
より維持される。アノードに使用される銅は、前もって
電解手段によって精製され所望でない不純物が取り除か
れている。電気分解的に精製された銅は、代表的には、
粉末製造に適したアノード形状に再キャスティングされ
る。別の方法は、電気分解的に精製された銅ロッド（直
径約２分の１インチで、長さ１インチにカットされ、そ
して銅ショットと呼ばれる）を使用し、次いで、不溶性
のワイヤーメッシュアノードバスケットに配置すること
を包含する。
ソード、銅イオンと硫酸イオンとを含有する電解質溶
液、および電源を備える電解質セルの使用を含む。アノ
ードとカソードとの間へ電圧の印加により、銅粉末の電
着がカソード表面上にて達成される。この粉末を、次い
で、時間間隔で取り除くかまたは連続的な様式で取り除
く。このプロセスは、銅供給原料（ｃｏｐｐｅｒ ｆｅ
ｅｄ ｓｔｏｃｋ）（これは、電解質溶液を形成するた
めに硫酸中に溶解される）を用いて開始される。銅粉末
が標準的な商業目的（例えば、摩擦材料、ベアリング、
合金化添加物（ａｌｌｏｙｉｎｇ ａｄｄｉｔｉｖ
ｅ）、粉末冶金など）に十分な銅粉末の純度となるよう
に比較的純粋な電解質を必要とする。銅粉末の電気分解
による生成により電解質から除去される銅は、代表的に
は、溶液中の銅イオン濃度を維持するために連続的に補
充される。電解質の純度およびその電解質から回収され
る銅の置換は、比較的純粋な銅可溶性アノードの使用に
より維持される。アノードに使用される銅は、前もって
電解手段によって精製され所望でない不純物が取り除か
れている。電気分解的に精製された銅は、代表的には、
粉末製造に適したアノード形状に再キャスティングされ
る。別の方法は、電気分解的に精製された銅ロッド（直
径約２分の１インチで、長さ１インチにカットされ、そ
して銅ショットと呼ばれる）を使用し、次いで、不溶性
のワイヤーメッシュアノードバスケットに配置すること
を包含する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】先行技術の銅粉末作製
のための電着プロセスにおいて使用される電気分解的に
精製された銅供給原料は、上記で議論されたようなタイ
プのＳＸ−ＥＷ技術を用いてしばしば製造される。これ
らの銅供給原料はまた、伝統的な、精錬（ｓｍｅｌｔｉ
ｎｇ）および精製（ｒｅｆｉｎｉｎｇ）技術によって作
製される。銅粉末作製の電着プロセスの先行技術は、ま
ずダイジェスター中に銅供給原料を溶解して銅イオンを
形成することを包含し、このプロセスは、遅く、制御困
難であり、そしてダイジェスター中にインベントリー
（ｉｎｖｅｎｔｏｒｙ）される高価な純銅を多量に必要
とする。
のための電着プロセスにおいて使用される電気分解的に
精製された銅供給原料は、上記で議論されたようなタイ
プのＳＸ−ＥＷ技術を用いてしばしば製造される。これ
らの銅供給原料はまた、伝統的な、精錬（ｓｍｅｌｔｉ
ｎｇ）および精製（ｒｅｆｉｎｉｎｇ）技術によって作
製される。銅粉末作製の電着プロセスの先行技術は、ま
ずダイジェスター中に銅供給原料を溶解して銅イオンを
形成することを包含し、このプロセスは、遅く、制御困
難であり、そしてダイジェスター中にインベントリー
（ｉｎｖｅｎｔｏｒｙ）される高価な純銅を多量に必要
とする。
【０００５】本発明のプロセスの長所により、成形され
た銅製品が、先行技術と比較した場合に、簡素化され、
かつ費用を抑えられた方法で生産される。本発明のプロ
セスは、その製造にさらなる電解採取、引抜きなどの工
程を必要としない銅供給原料を使用し、この銅供給原料
は、先行技術において使用される電気分解的に精製され
た銅供給原料（例えば、銅ショット、銅ワイヤー、銅酸
化物、再生銅）を作製する場合に使用される。意外なこ
とに、本発明において、銅粉末を作製するために用いら
れる電解質溶液に対して行われる抽出工程からもたらさ
れる不純物は、銅製品の性能特性を低下させない。
た銅製品が、先行技術と比較した場合に、簡素化され、
かつ費用を抑えられた方法で生産される。本発明のプロ
セスは、その製造にさらなる電解採取、引抜きなどの工
程を必要としない銅供給原料を使用し、この銅供給原料
は、先行技術において使用される電気分解的に精製され
た銅供給原料（例えば、銅ショット、銅ワイヤー、銅酸
化物、再生銅）を作製する場合に使用される。意外なこ
とに、本発明において、銅粉末を作製するために用いら
れる電解質溶液に対して行われる抽出工程からもたらさ
れる不純物は、銅製品の性能特性を低下させない。
【０００６】米国特許第５，４５８，７４６号は、銅含
有物質からの銅金属粉末の作製プロセスを開示し、この
プロセスは、以下を包含する：（Ａ）上記銅含有物質を
少なくとも１つの水性浸出液の有効量と接触させて、銅
イオンを上記浸出液に溶解し、そして銅の含有量の多い
（ｃｏｐｐｅｒ−ｒｉｃｈ）水性浸出液を形成する工
程；（Ｂ）上記銅の含有量の多い水性浸出液を少なくと
も１種の水に不溶な抽出剤の有効量と接触させ、銅イオ
ンを上記銅の含有量の多い水性浸出液から上記抽出剤の
方に移動させて銅の含有量の多い抽出剤および銅の枯渇
した水性浸出液を形成する工程であって、上記抽出剤
が、（ｉ）炭化水素結合上の異なる炭素原子に結合し
た、少なくとも１つの−ＯＨ基および少なくとも１つの
＝ＮＯＨ基を有する炭化水素結合によって特徴づけられ
る、少なくとも１つのオキシム、（ｉｉ）少なくとも１
つのβジケトン、または（ｉｉｉ）少なくとも１つのイ
オン交換樹脂を含有する、工程；（Ｃ）上記銅の含有量
の多い抽出剤を上記銅の枯渇した水性浸出液から分離す
る工程；（Ｄ）上記銅の含有量の多い抽出剤を少なくと
も１種の水性のストリッピング溶液の有効量と接触さ
せ、銅イオンを上記抽出剤から上記ストリッピング溶液
に移動させて銅の含有量の多いストリッピング溶液およ
び銅の枯渇した抽出剤を形成する工程；（Ｅ）上記銅の
含有量の多いストリッピング溶液を上記銅の枯渇した抽
出剤から分離し、電解質溶液を形成する工程；（Ｆ）上
記電解質溶液を少なくとも１つのアノードと少なくとも
１つのカソードを備える電解質セルに進め、そして上記
アノードと上記カソードとの間に有効量の電圧を印加し
て、上記カソード上に銅粉末を析出させる工程；（Ｇ）
上記銅粉末を上記カソードから取り出す工程。
有物質からの銅金属粉末の作製プロセスを開示し、この
プロセスは、以下を包含する：（Ａ）上記銅含有物質を
少なくとも１つの水性浸出液の有効量と接触させて、銅
イオンを上記浸出液に溶解し、そして銅の含有量の多い
（ｃｏｐｐｅｒ−ｒｉｃｈ）水性浸出液を形成する工
程；（Ｂ）上記銅の含有量の多い水性浸出液を少なくと
も１種の水に不溶な抽出剤の有効量と接触させ、銅イオ
ンを上記銅の含有量の多い水性浸出液から上記抽出剤の
方に移動させて銅の含有量の多い抽出剤および銅の枯渇
した水性浸出液を形成する工程であって、上記抽出剤
が、（ｉ）炭化水素結合上の異なる炭素原子に結合し
た、少なくとも１つの−ＯＨ基および少なくとも１つの
＝ＮＯＨ基を有する炭化水素結合によって特徴づけられ
る、少なくとも１つのオキシム、（ｉｉ）少なくとも１
つのβジケトン、または（ｉｉｉ）少なくとも１つのイ
オン交換樹脂を含有する、工程；（Ｃ）上記銅の含有量
の多い抽出剤を上記銅の枯渇した水性浸出液から分離す
る工程；（Ｄ）上記銅の含有量の多い抽出剤を少なくと
も１種の水性のストリッピング溶液の有効量と接触さ
せ、銅イオンを上記抽出剤から上記ストリッピング溶液
に移動させて銅の含有量の多いストリッピング溶液およ
び銅の枯渇した抽出剤を形成する工程；（Ｅ）上記銅の
含有量の多いストリッピング溶液を上記銅の枯渇した抽
出剤から分離し、電解質溶液を形成する工程；（Ｆ）上
記電解質溶液を少なくとも１つのアノードと少なくとも
１つのカソードを備える電解質セルに進め、そして上記
アノードと上記カソードとの間に有効量の電圧を印加し
て、上記カソード上に銅粉末を析出させる工程；（Ｇ）
上記銅粉末を上記カソードから取り出す工程。
【０００７】
【課題を解決するための手段】（発明の要旨）本発明は
銅含有物質から直接、成形された銅製品を作製するプロ
セスに関し、以下を包含する：（Ａ）上記銅含有物質を
少なくとも１つの水性浸出液の有効量と接触させて、銅
イオンを上記浸出液に溶解し、そして銅の含有量の多い
水性浸出液を形成する工程；（Ｂ）上記銅の含有量の多
い水性浸出液を少なくとも１種の水に不溶な抽出剤の有
効量と接触させ、銅イオンを上記銅の含有量の多い水性
浸出液から上記抽出剤の方に移動させて銅の含有量の多
い抽出剤および銅の枯渇した水性浸出液を形成する工
程；（Ｃ）上記銅の含有量の多い抽出剤を上記銅の枯渇
した水性浸出液から分離する工程；（Ｄ）上記銅の含有
量の多い抽出剤を少なくとも１種の水性のストリッピン
グ溶液の有効量と接触させ、銅イオンを上記抽出剤から
上記ストリッピング溶液に移動させて銅の含有量の多い
ストリッピング溶液および銅の枯渇した抽出剤を形成す
る工程；（Ｅ）上記銅の含有量の多いストリッピング溶
液を上記銅の枯渇した抽出剤から分離する工程；（Ｆ）
上記銅の含有量の多いストリッピング溶液をアノードと
カソードとの間に流動させ、そして有効量の電圧を上記
アノードと上記カソードとの間に印加して、上記カソー
ド上に銅粉末を析出させる工程；（Ｇ）上記銅粉末を上
記カソードから取り出す工程；そして（Ｈ）上記銅粉末
を、押し出し、鍛造し、または成型し、上記成形された
銅製品を形成する工程。
銅含有物質から直接、成形された銅製品を作製するプロ
セスに関し、以下を包含する：（Ａ）上記銅含有物質を
少なくとも１つの水性浸出液の有効量と接触させて、銅
イオンを上記浸出液に溶解し、そして銅の含有量の多い
水性浸出液を形成する工程；（Ｂ）上記銅の含有量の多
い水性浸出液を少なくとも１種の水に不溶な抽出剤の有
効量と接触させ、銅イオンを上記銅の含有量の多い水性
浸出液から上記抽出剤の方に移動させて銅の含有量の多
い抽出剤および銅の枯渇した水性浸出液を形成する工
程；（Ｃ）上記銅の含有量の多い抽出剤を上記銅の枯渇
した水性浸出液から分離する工程；（Ｄ）上記銅の含有
量の多い抽出剤を少なくとも１種の水性のストリッピン
グ溶液の有効量と接触させ、銅イオンを上記抽出剤から
上記ストリッピング溶液に移動させて銅の含有量の多い
ストリッピング溶液および銅の枯渇した抽出剤を形成す
る工程；（Ｅ）上記銅の含有量の多いストリッピング溶
液を上記銅の枯渇した抽出剤から分離する工程；（Ｆ）
上記銅の含有量の多いストリッピング溶液をアノードと
カソードとの間に流動させ、そして有効量の電圧を上記
アノードと上記カソードとの間に印加して、上記カソー
ド上に銅粉末を析出させる工程；（Ｇ）上記銅粉末を上
記カソードから取り出す工程；そして（Ｈ）上記銅粉末
を、押し出し、鍛造し、または成型し、上記成形された
銅製品を形成する工程。
【０００８】本発明の顕著な利点は、銅製品が銅鉱石の
ような銅供給源から製造されることである。先行技術に
よって必要とされるような、カソードの銅（ｃａｔｈｏ
ｄｉｃ ｃｏｐｐｅｒ）をまず作製し、次いで、それを
融解し、キャスティングし、そして圧延することを必要
としない。
ような銅供給源から製造されることである。先行技術に
よって必要とされるような、カソードの銅（ｃａｔｈｏ
ｄｉｃ ｃｏｐｐｅｒ）をまず作製し、次いで、それを
融解し、キャスティングし、そして圧延することを必要
としない。
【０００９】（図面の簡単な説明）図１は、本発明の１
つの実施態様を示すフローシートであり、ここで、銅は
銅鉱石から抽出され、電着されて銅粉末を形成し、そし
てこの銅粉末が押し出されて、成形された銅製品を形成
する。
つの実施態様を示すフローシートであり、ここで、銅は
銅鉱石から抽出され、電着されて銅粉末を形成し、そし
てこの銅粉末が押し出されて、成形された銅製品を形成
する。
【００１０】図２〜２９、３３〜３６は、本発明に従っ
て作製された、伸ばされて、押し出された銅製品の断面
図を例示する。
て作製された、伸ばされて、押し出された銅製品の断面
図を例示する。
【００１１】図３０は、本発明に従って作製され得る連
結部材から作製されるパイプまたはチューブのアセンブ
リを例示する。
結部材から作製されるパイプまたはチューブのアセンブ
リを例示する。
【００１２】図３１および３２は、図３０に例示される
パイプまたは管状アセンブリのインターロック部材を作
製するのに用いられ得る押し出しダイを例示する。
パイプまたは管状アセンブリのインターロック部材を作
製するのに用いられ得る押し出しダイを例示する。
【００１３】
【発明の実施の形態】（好ましい実施態様の説明）銅含
有物質は、銅が抽出され得る任意の銅供給源であり得
る。これらの供給源は、銅鉱石、精錬煙じん、銅セメン
ト、銅濃縮物、銅精錬生産物、硫酸銅、および銅含有廃
棄物を包含する。用語「銅含有廃棄物」は、銅を含有す
る任意の固体又は液体の廃棄物材料（例えば、ごみ、ス
ラッジ、廃液など）を言う。これらの廃棄物材料は危険
な破棄物を包含する。用いられ得る特定の廃棄物の例に
は、廃塩化第二銅腐食液を処理する工程から得られる酸
化銅がある。銅ショット、銅ワイヤー、再生（ｒｅｃｙ
ｃｌｅｄ）銅などのような先行技術において用いられる
銅供給源も用いられ得るが、そのような先行技術の供給
源が用いられ得る場合は、本発明のプロセスを用いる経
済的な長所は低下する。
有物質は、銅が抽出され得る任意の銅供給源であり得
る。これらの供給源は、銅鉱石、精錬煙じん、銅セメン
ト、銅濃縮物、銅精錬生産物、硫酸銅、および銅含有廃
棄物を包含する。用語「銅含有廃棄物」は、銅を含有す
る任意の固体又は液体の廃棄物材料（例えば、ごみ、ス
ラッジ、廃液など）を言う。これらの廃棄物材料は危険
な破棄物を包含する。用いられ得る特定の廃棄物の例に
は、廃塩化第二銅腐食液を処理する工程から得られる酸
化銅がある。銅ショット、銅ワイヤー、再生（ｒｅｃｙ
ｃｌｅｄ）銅などのような先行技術において用いられる
銅供給源も用いられ得るが、そのような先行技術の供給
源が用いられ得る場合は、本発明のプロセスを用いる経
済的な長所は低下する。
【００１４】１つの実施態様においては、露天堀り鉱山
からの銅鉱石が、銅含有物質として用いられる。鉱石
は、堆積浸出傾斜路（ｄｕｍｐ）に運搬される。堆積浸
出傾斜路は、厚い高密度ポリエチレンライナーのような
ライナーを下地とした領域に典型的に造られ、浸出液が
周囲の分水界に侵出するロスを防ぐ。典型的な堆積浸出
傾斜路は、例えば、約１２５，０００平方フィートの表
面積を有し、そして約１１０，０００トンの鉱石を含
む。浸出が進行すると、新たな傾斜路が古い傾斜路の上
に作られてゆき、これらはだんだん高くなり、そして最
終的には、例えば約２５０フィートまたはそれ以上の高
さに達する。パイプおよび交互に傾くスプリンクラー
（ｗｏｂｂｌｅｒ ｓｐｒｉｎｋｌｅｒｓ）のネットワ
ークが新たに完成された傾斜路の表面におかれ、そして
希硫酸溶液が継続的に、例えば１００平方フィートの表
面積当たり毎分約０．８ガロンの速度で散布される。浸
出液は傾斜路を通って、下に滲み通り、銅貴金属を溶解
し、傾斜路の底から銅の含有量の多い水性浸出液として
流出し、収集池中へ排出し、そして本発明のプロセスを
用いる次の処置のために供給池（ｆｅｅｄ ｐｏｎｄ）
にポンプでくみ出される。
からの銅鉱石が、銅含有物質として用いられる。鉱石
は、堆積浸出傾斜路（ｄｕｍｐ）に運搬される。堆積浸
出傾斜路は、厚い高密度ポリエチレンライナーのような
ライナーを下地とした領域に典型的に造られ、浸出液が
周囲の分水界に侵出するロスを防ぐ。典型的な堆積浸出
傾斜路は、例えば、約１２５，０００平方フィートの表
面積を有し、そして約１１０，０００トンの鉱石を含
む。浸出が進行すると、新たな傾斜路が古い傾斜路の上
に作られてゆき、これらはだんだん高くなり、そして最
終的には、例えば約２５０フィートまたはそれ以上の高
さに達する。パイプおよび交互に傾くスプリンクラー
（ｗｏｂｂｌｅｒ ｓｐｒｉｎｋｌｅｒｓ）のネットワ
ークが新たに完成された傾斜路の表面におかれ、そして
希硫酸溶液が継続的に、例えば１００平方フィートの表
面積当たり毎分約０．８ガロンの速度で散布される。浸
出液は傾斜路を通って、下に滲み通り、銅貴金属を溶解
し、傾斜路の底から銅の含有量の多い水性浸出液として
流出し、収集池中へ排出し、そして本発明のプロセスを
用いる次の処置のために供給池（ｆｅｅｄ ｐｏｎｄ）
にポンプでくみ出される。
【００１５】いくつかの採掘作業とともに、インシチュ
浸出が銅貴金属を銅鉱石から抽出するために用いられ
る。このプロセスにより得られた銅の含有量の多い浸出
液は、本発明のプロセスにおいて銅含有物質として用い
られ得る。インシチュ浸出は、酸可溶酸化鉱石の埋蔵物
が露天堀り領域の下および地下鉱山の枯渇部分の上にあ
るとき、または堆積物があまりにも深く埋められたた
め、露天採石方法によっては経済的に開発することが出
来ないときに有用である。注入抗井（ｉｎｊｅｃｔｉｏ
ｎ ｗｅｌｌ）はこの部分に、例えば深さ約１０００フ
ィートの深さで穴を開けられる。この抗井はポリ塩化ビ
ニルのパイプで包まれ、その底の部分には溶液が鉱石に
入るように溝がつけられる。希硫酸の浸出液は、穴が開
けられた領域の透過性に依存した速度で、それぞれの抗
井に注入される。この溶液は鉱石領域を通って、下に滲
み通り、銅鉱石を溶解し、用意された収集場所に排出さ
れる。この収集場所は、例えば地下鉱山の運搬ひ押坑道
（ｈａｕｌａｇｅ ｄｒｉｆｔｓ）であり得る。生成さ
れた銅含有水性浸出液は、銅含有物質として本発明のプ
ロセスのための使用に利用可能な耐腐食ポンプシステム
によってポンプで表面に汲み出される。
浸出が銅貴金属を銅鉱石から抽出するために用いられ
る。このプロセスにより得られた銅の含有量の多い浸出
液は、本発明のプロセスにおいて銅含有物質として用い
られ得る。インシチュ浸出は、酸可溶酸化鉱石の埋蔵物
が露天堀り領域の下および地下鉱山の枯渇部分の上にあ
るとき、または堆積物があまりにも深く埋められたた
め、露天採石方法によっては経済的に開発することが出
来ないときに有用である。注入抗井（ｉｎｊｅｃｔｉｏ
ｎ ｗｅｌｌ）はこの部分に、例えば深さ約１０００フ
ィートの深さで穴を開けられる。この抗井はポリ塩化ビ
ニルのパイプで包まれ、その底の部分には溶液が鉱石に
入るように溝がつけられる。希硫酸の浸出液は、穴が開
けられた領域の透過性に依存した速度で、それぞれの抗
井に注入される。この溶液は鉱石領域を通って、下に滲
み通り、銅鉱石を溶解し、用意された収集場所に排出さ
れる。この収集場所は、例えば地下鉱山の運搬ひ押坑道
（ｈａｕｌａｇｅ ｄｒｉｆｔｓ）であり得る。生成さ
れた銅含有水性浸出液は、銅含有物質として本発明のプ
ロセスのための使用に利用可能な耐腐食ポンプシステム
によってポンプで表面に汲み出される。
【００１６】浸出傾斜路とインシチュ浸出との両方が用
いられる採掘作業においては、それぞれからの銅含有浸
出液（ときどき、プレグナント浸出液（ｐｒｅｇｎａｎ
ｔｌｅａｃｈ ｓｏｌｕｔｉｏｎ）という）が本発明の
プロセス中で組み合わされ、そして銅含有物質として使
用され得る。
いられる採掘作業においては、それぞれからの銅含有浸
出液（ときどき、プレグナント浸出液（ｐｒｅｇｎａｎ
ｔｌｅａｃｈ ｓｏｌｕｔｉｏｎ）という）が本発明の
プロセス中で組み合わされ、そして銅含有物質として使
用され得る。
【００１７】本発明のプロセスの（Ａ）で用いられる水
性浸出液は、好ましくは硫酸溶液、ハロゲン酸溶液（Ｈ
Ｃｌ、ＨＦ、ＨＢｒなど）またはアンモニア溶液であ
る。硫酸またはハロゲン酸溶液は、一般に１リットル当
たり約５グラム〜約５０グラム、そして１つの実施態様
では１リットル当たり約５グラム〜約４０グラム、そし
て１つの実施態様では１リットル当たり約１０グラム〜
約３０グラムの範囲の硫酸またはハロゲン酸の濃度を有
する。
性浸出液は、好ましくは硫酸溶液、ハロゲン酸溶液（Ｈ
Ｃｌ、ＨＦ、ＨＢｒなど）またはアンモニア溶液であ
る。硫酸またはハロゲン酸溶液は、一般に１リットル当
たり約５グラム〜約５０グラム、そして１つの実施態様
では１リットル当たり約５グラム〜約４０グラム、そし
て１つの実施態様では１リットル当たり約１０グラム〜
約３０グラムの範囲の硫酸またはハロゲン酸の濃度を有
する。
【００１８】アンモニア溶液は、一般に１リットル当た
り約２０グラム〜約１４０グラム、そして１つの実施態
様では１リットル当たり約３０グラム〜９０グラムの範
囲のアンモニア濃度を有する。この溶液のｐＨは、一般
に約７〜約１１、そして１つの実施態様では約８〜約９
の範囲である。
り約２０グラム〜約１４０グラム、そして１つの実施態
様では１リットル当たり約３０グラム〜９０グラムの範
囲のアンモニア濃度を有する。この溶液のｐＨは、一般
に約７〜約１１、そして１つの実施態様では約８〜約９
の範囲である。
【００１９】（Ａ）の間に形成する銅の含有量の多い水
性浸出液またはプレグナント浸出液は、一般に１リット
ル当たり約０．８グラム〜約５グラム、そして１つの実
施態様においては１リットル当たり約１グラム〜約３グ
ラムの範囲の銅イオンの濃度を有する。（Ａ）で用いら
れる浸出液が硫酸である場合、銅の含有量の多い水性浸
出液中の遊離硫酸の濃度は、一般に１リットル当たり約
５グラム〜約３０グラム、そして１つの実施態様におい
ては１リットル当たり約１０グラム〜約２０グラムであ
る。（Ａ）で用いられる浸出液がアンモニア溶液である
場合、銅の含有量の多い水性浸出液中の遊離アンモニア
濃度は、一般に１リットル当たり約１０グラム〜約１３
０グラム、そして１つの実施態様においては１リットル
当たり約３０グラム〜約９０グラムである。
性浸出液またはプレグナント浸出液は、一般に１リット
ル当たり約０．８グラム〜約５グラム、そして１つの実
施態様においては１リットル当たり約１グラム〜約３グ
ラムの範囲の銅イオンの濃度を有する。（Ａ）で用いら
れる浸出液が硫酸である場合、銅の含有量の多い水性浸
出液中の遊離硫酸の濃度は、一般に１リットル当たり約
５グラム〜約３０グラム、そして１つの実施態様におい
ては１リットル当たり約１０グラム〜約２０グラムであ
る。（Ａ）で用いられる浸出液がアンモニア溶液である
場合、銅の含有量の多い水性浸出液中の遊離アンモニア
濃度は、一般に１リットル当たり約１０グラム〜約１３
０グラム、そして１つの実施態様においては１リットル
当たり約３０グラム〜約９０グラムである。
【００２０】本発明のプロセスの（Ｂ）で用いられる水
に不溶な抽出剤は、水性媒体から銅イオンを抽出し得る
水に不溶な任意の抽出剤であり得る。１つの実施態様に
おいては、抽出剤は水と混和しない有機溶媒に溶解す
る。（用語「水と混和しない」および「水に不溶な」は
２５℃で１リットル当たり約１グラムのレベルを超えて
水に溶けない組成物を言う。）この溶媒は、抽出剤のた
めの、水と混和しない任意の溶媒であり得、灯油、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、燃料油、ディ
ーゼル燃料などが有用であり、そして灯油が好ましい。
有用な灯油の例としては、Ｐｈｉｌｌｉｐｓ Ｐｅｔｒ
ｏｌｅｕｍから入手可能であるＳＸ−７およびＳＸ−１
２が挙げられる。
に不溶な抽出剤は、水性媒体から銅イオンを抽出し得る
水に不溶な任意の抽出剤であり得る。１つの実施態様に
おいては、抽出剤は水と混和しない有機溶媒に溶解す
る。（用語「水と混和しない」および「水に不溶な」は
２５℃で１リットル当たり約１グラムのレベルを超えて
水に溶けない組成物を言う。）この溶媒は、抽出剤のた
めの、水と混和しない任意の溶媒であり得、灯油、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、燃料油、ディ
ーゼル燃料などが有用であり、そして灯油が好ましい。
有用な灯油の例としては、Ｐｈｉｌｌｉｐｓ Ｐｅｔｒ
ｏｌｅｕｍから入手可能であるＳＸ−７およびＳＸ−１
２が挙げられる。
【００２１】１つの実施態様においては、抽出剤は、炭
化水素結合の異なる炭素原子に結合した少なくとも２つ
の官能基を含有する有機化合物であり、その官能基の１
つは−ＯＨ であり、そしてもう１つの官能基は ＝Ｎ
ＯＨ である。これらの化合物はオキシムと称され得
る。
化水素結合の異なる炭素原子に結合した少なくとも２つ
の官能基を含有する有機化合物であり、その官能基の１
つは−ＯＨ であり、そしてもう１つの官能基は ＝Ｎ
ＯＨ である。これらの化合物はオキシムと称され得
る。
【００２２】１つの実施態様においては、抽出剤は以下
の式で表されるオキシムである。
の式で表されるオキシムである。
【００２３】
【化４】 ここで、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は、
独立して、水素またはヒドロカルビル基である。ヒドロ
カルビル基は、独立して、１個〜約１２個の炭素原子を
有し、そして１つの実施態様では１個〜約６個の炭素原
子を有する。１つの実施態様においては、Ｒ1およびＲ4
はそれぞれブチルであり；Ｒ2、Ｒ3およびＲ6はそれぞ
れ水素であり；そしてＲ5およびＲ7はそれぞれエチルで
ある。この構造を有する化合物は、Ｈｅｎｋｅｌ Ｃｏ
ｒｐｏｒａｔｉｏｎ から商品名ＬＩＸ ６３で入手可
能である。
独立して、水素またはヒドロカルビル基である。ヒドロ
カルビル基は、独立して、１個〜約１２個の炭素原子を
有し、そして１つの実施態様では１個〜約６個の炭素原
子を有する。１つの実施態様においては、Ｒ1およびＲ4
はそれぞれブチルであり；Ｒ2、Ｒ3およびＲ6はそれぞ
れ水素であり；そしてＲ5およびＲ7はそれぞれエチルで
ある。この構造を有する化合物は、Ｈｅｎｋｅｌ Ｃｏ
ｒｐｏｒａｔｉｏｎ から商品名ＬＩＸ ６３で入手可
能である。
【００２４】１つの実施態様においては、抽出剤は以下
の式で表されるオキシムである。
の式で表されるオキシムである。
【００２５】
【化５】 ここで、Ｒ1およびＲ2は、独立して、水素またはヒドロ
カルビル基である。有用な実施態様ではＲ1が約６個〜
約２０個の炭素原子、そして１つの実施態様では約９個
〜約１２個の炭素原子のアルキル基であり；そしてＲ2
が水素、１個〜約４個の炭素原子、そして１つの実施態
様では１個または２個の炭素原子のアルキル基であり、
またはＲ2がフェニルであるものが包含される。フェニ
ル基は置換されるかまたは置換されないが、後者が好ま
しい。以下の化合物は、上記で示した式に基づき、Ｈｅ
ｎｋｅｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製の以下で示される
商品名で入手可能であり、そして本発明のプロセスに有
用である： 商品名 Ｒ1 Ｒ2 ＬＩＸ ６５ ノニル フェニル ＬＩＸ ８４ ノニル メチル ＬＩＸ ８６０ ドデシル 水素 Ｈｅｎｋｅｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ から商業的に
入手可能な有用な他の物質には、以下のものがある：Ｌ
ＩＸ ６４Ｎ（ＬＩＸ ６５とＬＩＸ ６３との混合物
として知られている）；およびＬＩＸ ８６４ および
ＬＩＸ ９８４（ＬＩＸ ８６０とＬＩＸ ８４との
混合物として知られている）。
カルビル基である。有用な実施態様ではＲ1が約６個〜
約２０個の炭素原子、そして１つの実施態様では約９個
〜約１２個の炭素原子のアルキル基であり；そしてＲ2
が水素、１個〜約４個の炭素原子、そして１つの実施態
様では１個または２個の炭素原子のアルキル基であり、
またはＲ2がフェニルであるものが包含される。フェニ
ル基は置換されるかまたは置換されないが、後者が好ま
しい。以下の化合物は、上記で示した式に基づき、Ｈｅ
ｎｋｅｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製の以下で示される
商品名で入手可能であり、そして本発明のプロセスに有
用である： 商品名 Ｒ1 Ｒ2 ＬＩＸ ６５ ノニル フェニル ＬＩＸ ８４ ノニル メチル ＬＩＸ ８６０ ドデシル 水素 Ｈｅｎｋｅｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ から商業的に
入手可能な有用な他の物質には、以下のものがある：Ｌ
ＩＸ ６４Ｎ（ＬＩＸ ６５とＬＩＸ ６３との混合物
として知られている）；およびＬＩＸ ８６４ および
ＬＩＸ ９８４（ＬＩＸ ８６０とＬＩＸ ８４との
混合物として知られている）。
【００２６】１つの実施態様においては、抽出剤はβジ
ケトンである。この化合物は以下の式で表される。
ケトンである。この化合物は以下の式で表される。
【００２７】
【化６】 ここでＲ1およびＲ2は、独立して、アルキル基またはア
リール基である。アルキル基は、一般に１個〜約１０個
の炭素原子を含有する。アリール基は、一般にフェニル
である。Ｈｅｎｋｅｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入
手可能な上記の式に対応する商業的な抽出剤の例には
ＬＩＸ ５４がある。これらのβジケトンは、本発明の
プロセスの（Ａ）で用いられる浸出液がアンモニア溶液
である場合に、有用である。
リール基である。アルキル基は、一般に１個〜約１０個
の炭素原子を含有する。アリール基は、一般にフェニル
である。Ｈｅｎｋｅｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入
手可能な上記の式に対応する商業的な抽出剤の例には
ＬＩＸ ５４がある。これらのβジケトンは、本発明の
プロセスの（Ａ）で用いられる浸出液がアンモニア溶液
である場合に、有用である。
【００２８】有機溶液中の抽出剤の濃度は、一般に約２
重量％〜約４０重量％の範囲にある。１つの実施態様に
おいて、有機溶液は約５重量％〜約１０重量％、または
約６重量％〜約８重量％、または約７重量％の ＬＩＸ
９８４ を含有し、残りはＳＸ−７である。
重量％〜約４０重量％の範囲にある。１つの実施態様に
おいて、有機溶液は約５重量％〜約１０重量％、または
約６重量％〜約８重量％、または約７重量％の ＬＩＸ
９８４ を含有し、残りはＳＸ−７である。
【００２９】１つの実施態様において、抽出剤はイオン
交換樹脂である。これらの樹脂は典型的に小さな顆粒状
物質またはビーズ状物質であり、その物質は以下の２つ
の主要部分：構造部分として役に立つ樹脂状のマトリッ
クス、および官能部分として役に立つイオン活性基から
なる。官能基は、一般に銅イオンと反応する官能基から
選択される。このような官能基の例としては、−Ｓ
Ｏ3 -、−ＣＯＯ-、および以下の２つの官能基が挙げら
れる：
交換樹脂である。これらの樹脂は典型的に小さな顆粒状
物質またはビーズ状物質であり、その物質は以下の２つ
の主要部分：構造部分として役に立つ樹脂状のマトリッ
クス、および官能部分として役に立つイオン活性基から
なる。官能基は、一般に銅イオンと反応する官能基から
選択される。このような官能基の例としては、−Ｓ
Ｏ3 -、−ＣＯＯ-、および以下の２つの官能基が挙げら
れる：
【００３０】
【化７】 有用な樹脂マトリックスは、スチレンおよびジビニルベ
ンゼンのコポリマーを包含する。用いられ得る商業的に
入手可能な樹脂の例としては ＩＲＣ−７１８（スチレ
ンおよびジビニルベンゼンの第３級アミンで置換された
コポリマーとして知られているＲｏｈｍ ＆ Ｈａｓｓ
の製品）、ＩＲ−２００ （スチレンおよびジビニル
ベンゼンのスルホン化されたコポリマーとして知られて
いるＲｏｈｍ ＆ Ｈａａｓ の製品）、ＩＲ−１２０
（スチレンおよびジビニルベンゼンのスルホン化された
コポリマーとして知られているＲｏｈｍ ＆ Ｈａａｓ
の製品）、ＸＦＳ ４１９６（Ｎ−（２−ヒドロキシエ
チル）−ピコリルアミン）に結合しているマクロ多孔性
ポリスチレン／ジビニルベンゼンコポリマーとして知ら
れているＤｏｗの製品）、およびＸＦＳ ４３０８４
（Ｎ−（２−ヒドロキシプロピル）−ピコリルアミン）
に結合しているマクロ多孔性ポリスチレン／ジビニルベ
ンゼンコポリマーとして知られているＤｏｗの製品）が
挙げられる。これらの樹脂は、典型的に本発明のプロセ
スにおいて固定層または移動層として用いられる。本発
明のプロセスの（Ｂ）の間に、樹脂は（Ａ）からの銅の
含有量の多い水性浸出液と接触され、この接触は銅イオ
ンが浸出液から樹脂に移動するに十分である。次いで、
銅の含有量の多い樹脂は、（Ｄ）の間にストリッピング
され、（Ｂ）の間に用いられ得る銅ストリッピングされ
た樹脂または銅が枯渇した樹脂を提供する。
ンゼンのコポリマーを包含する。用いられ得る商業的に
入手可能な樹脂の例としては ＩＲＣ−７１８（スチレ
ンおよびジビニルベンゼンの第３級アミンで置換された
コポリマーとして知られているＲｏｈｍ ＆ Ｈａｓｓ
の製品）、ＩＲ−２００ （スチレンおよびジビニル
ベンゼンのスルホン化されたコポリマーとして知られて
いるＲｏｈｍ ＆ Ｈａａｓ の製品）、ＩＲ−１２０
（スチレンおよびジビニルベンゼンのスルホン化された
コポリマーとして知られているＲｏｈｍ ＆ Ｈａａｓ
の製品）、ＸＦＳ ４１９６（Ｎ−（２−ヒドロキシエ
チル）−ピコリルアミン）に結合しているマクロ多孔性
ポリスチレン／ジビニルベンゼンコポリマーとして知ら
れているＤｏｗの製品）、およびＸＦＳ ４３０８４
（Ｎ−（２−ヒドロキシプロピル）−ピコリルアミン）
に結合しているマクロ多孔性ポリスチレン／ジビニルベ
ンゼンコポリマーとして知られているＤｏｗの製品）が
挙げられる。これらの樹脂は、典型的に本発明のプロセ
スにおいて固定層または移動層として用いられる。本発
明のプロセスの（Ｂ）の間に、樹脂は（Ａ）からの銅の
含有量の多い水性浸出液と接触され、この接触は銅イオ
ンが浸出液から樹脂に移動するに十分である。次いで、
銅の含有量の多い樹脂は、（Ｄ）の間にストリッピング
され、（Ｂ）の間に用いられ得る銅ストリッピングされ
た樹脂または銅が枯渇した樹脂を提供する。
【００３１】本発明のプロセスの（Ｃ）の間に分離され
る銅の含有量の多い抽出剤は、典型的には、抽出剤１リ
ットル当たり約１グラム〜約６グラム、そして１つの実
施態様においては、抽出剤１リットル当たり約２ｇグラ
ム〜約４ｇの範囲の銅の濃度を有する。（Ｃ）の間に分
離される銅が枯渇した水性浸出液は、典型的には１リッ
トル当たり約０．０１グラム〜約０．８グラム、そして
１つの実施態様においては、１リットル当たり約０．０
４〜約０．２グラムの範囲の銅イオンの濃度を有する。
（Ａ）で用いられる浸出液が硫酸溶液である場合、
（Ｃ）の間に分離される銅が枯渇した水性浸出液におけ
る遊離硫酸濃度は、一般には１リットル当たり約５グラ
ム〜約５０グラムであり、そして１つの実施態様におい
ては１リットル当たり約５グラム〜約４０グラム、そし
て１つの実施態様においては１リットル当たり約１０グ
ラム〜約３０グラムである。（Ａ）で用いられる浸出液
がアンモニア溶液である場合、（Ｃ）の間に分離される
銅が枯渇した水性浸出液における遊離アンモニア濃度
は、一般に１リットル当たり約１０グラム〜約１３０グ
ラムであり、そして１つの実施態様においては、１リッ
トル当たり約３０グラム〜約９０グラムである。
る銅の含有量の多い抽出剤は、典型的には、抽出剤１リ
ットル当たり約１グラム〜約６グラム、そして１つの実
施態様においては、抽出剤１リットル当たり約２ｇグラ
ム〜約４ｇの範囲の銅の濃度を有する。（Ｃ）の間に分
離される銅が枯渇した水性浸出液は、典型的には１リッ
トル当たり約０．０１グラム〜約０．８グラム、そして
１つの実施態様においては、１リットル当たり約０．０
４〜約０．２グラムの範囲の銅イオンの濃度を有する。
（Ａ）で用いられる浸出液が硫酸溶液である場合、
（Ｃ）の間に分離される銅が枯渇した水性浸出液におけ
る遊離硫酸濃度は、一般には１リットル当たり約５グラ
ム〜約５０グラムであり、そして１つの実施態様におい
ては１リットル当たり約５グラム〜約４０グラム、そし
て１つの実施態様においては１リットル当たり約１０グ
ラム〜約３０グラムである。（Ａ）で用いられる浸出液
がアンモニア溶液である場合、（Ｃ）の間に分離される
銅が枯渇した水性浸出液における遊離アンモニア濃度
は、一般に１リットル当たり約１０グラム〜約１３０グ
ラムであり、そして１つの実施態様においては、１リッ
トル当たり約３０グラム〜約９０グラムである。
【００３２】１つの実施態様においては、本発明のプロ
セスの（Ｂ）および（Ｃ）工程の接触工程および分離工
程は、２段階で行われる。この実施態様においては、
（Ｂ−１）および（Ｂ−２）が接触工程であり、そして
（Ｃ−１）および（Ｃ−２）が分離工程である。従っ
て、この実施態様においては、本発明のプロセスは以下
の連続する（Ａ）、（Ｂ−１）、（Ｃ−１）、（Ｂ−
２）、（Ｃ−２）、（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｆ）、（Ｇ）お
よび（Ｈ）を包含し、これらの工程のいくつかのプロセ
スの流れ（ｐｒｏｃｅｓｓ ｓｔｒｅａｍ）は、プロセ
ス中の他の工程に再循環される。（Ｂ−１）は、（Ａ）
の間に形成される銅の含有量の多い水性浸出液を、（Ｃ
−２）からの少なくとも１種の水に不溶な銅含有抽出剤
の有効量に接触させて、銅イオンを上記銅の含有量の多
い水性浸出液から上記銅含有抽出剤に移動させて、銅の
含有量の多い抽出剤および第１銅枯渇水性浸出液を形成
する工程を包含する。（Ｃ−１）は、（Ｂ−１）の間に
形成される銅の含有量の多い抽出剤を、（Ｂ−１）の間
に形成される第１銅枯渇水性浸出液から分離する工程を
包含する。（Ｃ−１）の間に分離される銅の含有量の多
い抽出剤は、抽出剤１リットル当たり一般に約１グラム
〜約６グラムの範囲の銅濃度を有し、そして１つの実施
態様においては抽出剤１リットル当たり約２グラム〜約
４グラムである。（Ｃ−１）の間に分離される第１銅枯
渇水性浸出液は、一般に１リットル当たり約０．４グラ
ム〜約４グラム、そして１つの実施態様においては１リ
ットル当たり約０．５グラム〜約２．４グラムの範囲の
銅イオン濃度を有する。（Ａ）で用いられる浸出液が硫
酸溶液である場合、（Ｃ−１）の間に分離される第１銅
枯渇水性浸出液中の遊離硫酸の濃度は、一般に１リット
ル当たり約５グラム〜約５０グラムであり、そして１つ
の実施態様においては１リットル当たり約５グラム〜約
３０グラムであり、そして１つの実施態様においては１
リットル当たり約１０グラム〜約３０グラムである。
（Ａ）で用いられる浸出液がアンモニア溶液である場
合、（Ｃ−１）の間に分離される第１銅枯渇水性浸出液
中の遊離アンモニアの濃度は、一般に１リットル当たり
約１０グラム〜約１３０グラムであり、そして１つの実
施態様においては１リットル当たり約３０グラム〜約９
０グラムである。
セスの（Ｂ）および（Ｃ）工程の接触工程および分離工
程は、２段階で行われる。この実施態様においては、
（Ｂ−１）および（Ｂ−２）が接触工程であり、そして
（Ｃ−１）および（Ｃ−２）が分離工程である。従っ
て、この実施態様においては、本発明のプロセスは以下
の連続する（Ａ）、（Ｂ−１）、（Ｃ−１）、（Ｂ−
２）、（Ｃ−２）、（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｆ）、（Ｇ）お
よび（Ｈ）を包含し、これらの工程のいくつかのプロセ
スの流れ（ｐｒｏｃｅｓｓ ｓｔｒｅａｍ）は、プロセ
ス中の他の工程に再循環される。（Ｂ−１）は、（Ａ）
の間に形成される銅の含有量の多い水性浸出液を、（Ｃ
−２）からの少なくとも１種の水に不溶な銅含有抽出剤
の有効量に接触させて、銅イオンを上記銅の含有量の多
い水性浸出液から上記銅含有抽出剤に移動させて、銅の
含有量の多い抽出剤および第１銅枯渇水性浸出液を形成
する工程を包含する。（Ｃ−１）は、（Ｂ−１）の間に
形成される銅の含有量の多い抽出剤を、（Ｂ−１）の間
に形成される第１銅枯渇水性浸出液から分離する工程を
包含する。（Ｃ−１）の間に分離される銅の含有量の多
い抽出剤は、抽出剤１リットル当たり一般に約１グラム
〜約６グラムの範囲の銅濃度を有し、そして１つの実施
態様においては抽出剤１リットル当たり約２グラム〜約
４グラムである。（Ｃ−１）の間に分離される第１銅枯
渇水性浸出液は、一般に１リットル当たり約０．４グラ
ム〜約４グラム、そして１つの実施態様においては１リ
ットル当たり約０．５グラム〜約２．４グラムの範囲の
銅イオン濃度を有する。（Ａ）で用いられる浸出液が硫
酸溶液である場合、（Ｃ−１）の間に分離される第１銅
枯渇水性浸出液中の遊離硫酸の濃度は、一般に１リット
ル当たり約５グラム〜約５０グラムであり、そして１つ
の実施態様においては１リットル当たり約５グラム〜約
３０グラムであり、そして１つの実施態様においては１
リットル当たり約１０グラム〜約３０グラムである。
（Ａ）で用いられる浸出液がアンモニア溶液である場
合、（Ｃ−１）の間に分離される第１銅枯渇水性浸出液
中の遊離アンモニアの濃度は、一般に１リットル当たり
約１０グラム〜約１３０グラムであり、そして１つの実
施態様においては１リットル当たり約３０グラム〜約９
０グラムである。
【００３３】（Ｂ−２）は、（Ｃ−１）の間に分離する
第１銅枯渇水性浸出液を、（Ｅ）からの少なくとも１種
の銅枯渇抽出剤の有効量に接触させて、銅イオンを上記
第１銅枯渇水性浸出液から上記銅枯渇抽出剤に移動させ
て、銅含有抽出剤および第２銅枯渇水性浸出液を形成す
る工程を包含する。（Ｃ−２）は、（Ｂ−２）の間に形
成される銅含有抽出剤を、（Ｂ−２）の間に形成される
第２銅枯渇水性浸出液から分離する工程を包含する。
（Ｃ−２）の間に分離される銅含有抽出剤は、一般に抽
出剤１リットル当たり約０．４グラム〜約４グラム、そ
して１つの実施態様においては抽出剤１リットル当たり
約１グラム〜約２．４グラムの範囲の銅の濃度を有す
る。（Ｃ−２）の間に分離される第２銅枯渇水性浸出液
は、一般に１リットル当たり約０．０１グラム〜約０．
８グラム、そして１つの実施態様においては１リットル
当たり約０．０４グラム〜約０．２グラムの範囲の銅イ
オン濃度を有する。（Ａ）で用いられる浸出液が硫酸溶
液である場合、（Ｃ−２）の間に分離される第２銅枯渇
水性浸出液中の遊離硫酸の濃度は、一般に１リットル当
たり約５グラム〜約５０グラム、そして１つの実施態様
においては１リットル当たり約５グラム〜約４０グラ
ム、そして１つの実施態様においては１リットル当たり
約１０グラム〜約３０グラムである。（Ａ）で用いられ
る浸出液がアンモニア溶液である場合、（Ｃ−２）の間
に分離される第２銅枯渇水性浸出液中の遊離アンモニア
の濃度は、一般に１リットル当たり約１０グラム〜約１
３０グラム、そして１つの実施態様においては１リット
ル当たり約３０グラム〜約９０グラムである。
第１銅枯渇水性浸出液を、（Ｅ）からの少なくとも１種
の銅枯渇抽出剤の有効量に接触させて、銅イオンを上記
第１銅枯渇水性浸出液から上記銅枯渇抽出剤に移動させ
て、銅含有抽出剤および第２銅枯渇水性浸出液を形成す
る工程を包含する。（Ｃ−２）は、（Ｂ−２）の間に形
成される銅含有抽出剤を、（Ｂ−２）の間に形成される
第２銅枯渇水性浸出液から分離する工程を包含する。
（Ｃ−２）の間に分離される銅含有抽出剤は、一般に抽
出剤１リットル当たり約０．４グラム〜約４グラム、そ
して１つの実施態様においては抽出剤１リットル当たり
約１グラム〜約２．４グラムの範囲の銅の濃度を有す
る。（Ｃ−２）の間に分離される第２銅枯渇水性浸出液
は、一般に１リットル当たり約０．０１グラム〜約０．
８グラム、そして１つの実施態様においては１リットル
当たり約０．０４グラム〜約０．２グラムの範囲の銅イ
オン濃度を有する。（Ａ）で用いられる浸出液が硫酸溶
液である場合、（Ｃ−２）の間に分離される第２銅枯渇
水性浸出液中の遊離硫酸の濃度は、一般に１リットル当
たり約５グラム〜約５０グラム、そして１つの実施態様
においては１リットル当たり約５グラム〜約４０グラ
ム、そして１つの実施態様においては１リットル当たり
約１０グラム〜約３０グラムである。（Ａ）で用いられ
る浸出液がアンモニア溶液である場合、（Ｃ−２）の間
に分離される第２銅枯渇水性浸出液中の遊離アンモニア
の濃度は、一般に１リットル当たり約１０グラム〜約１
３０グラム、そして１つの実施態様においては１リット
ル当たり約３０グラム〜約９０グラムである。
【００３４】本発明のプロセスの（Ｄ）で用いられるス
トリッピング溶液は硫酸溶液であり、その硫酸溶液は、
一般に１リットル当たり約８０グラム〜約３００グラ
ム、そして１つの実施態様においては１リットル当たり
約１５０グラム〜約２５０グラムの範囲の遊離硫酸濃度
を有する。（Ｄ）の間に形成される銅の含有量の多いス
トリッピング溶液は、一般に１リットル当たり約１グラ
ム〜約６０グラム、そして１つの実施態様においては、
１リットル当たり約５グラム〜約１５グラムの範囲の銅
イオン濃度；および１リットル当たり約７０グラム〜約
２９０グラム、そして１つの実施態様では１リットル当
たり約１４０グラム〜約２４０グラムの範囲の遊離硫酸
濃度を有する。
トリッピング溶液は硫酸溶液であり、その硫酸溶液は、
一般に１リットル当たり約８０グラム〜約３００グラ
ム、そして１つの実施態様においては１リットル当たり
約１５０グラム〜約２５０グラムの範囲の遊離硫酸濃度
を有する。（Ｄ）の間に形成される銅の含有量の多いス
トリッピング溶液は、一般に１リットル当たり約１グラ
ム〜約６０グラム、そして１つの実施態様においては、
１リットル当たり約５グラム〜約１５グラムの範囲の銅
イオン濃度；および１リットル当たり約７０グラム〜約
２９０グラム、そして１つの実施態様では１リットル当
たり約１４０グラム〜約２４０グラムの範囲の遊離硫酸
濃度を有する。
【００３５】本発明のプロセスの電着工程（Ｆ）および
（Ｇ）は、（Ｅ）からの銅の含有量の多いストリッピン
グ溶液を電解質セルまたは電気鋳造セル（ｅｌｅｃｔｒ
ｏｆｏｒｍｉｎｇ ｃｅｌｌ）に進める工程およびセル
のカソード上に銅を電着する工程を包含する。電解質セ
ルまたは電気鋳造セル中で処理される銅の含有量の多い
ストリッピング溶液は、銅の含有量の多いストリッピン
グ溶液または電解質溶液のいずれかと称され得る。１つ
の実施態様においては、この電解質溶液は、セルに入れ
られる前に浄化（ｐｕｒｉｆｉｃａｔｉｏｎ）または濾
過プロセスに供される。セル内で用いられる電流は、直
流または直流バイアスを用いる交流であり得る。カソー
ドに析出する銅は、銅粉末の形態である。
（Ｇ）は、（Ｅ）からの銅の含有量の多いストリッピン
グ溶液を電解質セルまたは電気鋳造セル（ｅｌｅｃｔｒ
ｏｆｏｒｍｉｎｇ ｃｅｌｌ）に進める工程およびセル
のカソード上に銅を電着する工程を包含する。電解質セ
ルまたは電気鋳造セル中で処理される銅の含有量の多い
ストリッピング溶液は、銅の含有量の多いストリッピン
グ溶液または電解質溶液のいずれかと称され得る。１つ
の実施態様においては、この電解質溶液は、セルに入れ
られる前に浄化（ｐｕｒｉｆｉｃａｔｉｏｎ）または濾
過プロセスに供される。セル内で用いられる電流は、直
流または直流バイアスを用いる交流であり得る。カソー
ドに析出する銅は、銅粉末の形態である。
【００３６】電着工程（Ｆ）および（Ｇ）は、少なくと
も１つのアノードおよび少なくとも１つのカソードを有
する電解質セル中で行われる。カソードは、チタンまた
はステンレス鋼から作製され得る。アノードは、１つの
実施態様においては、寸法安定性な不溶性アノードであ
る。このようなアノードの例は、白金族金属または金属
酸化物でコーティングされたチタンアノードである。使
用し得る白金族金属または金属酸化物には、Ｐｔ、Ｉ
ｒ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、およびＯｓが含まれ、Ｐｔおよ
びＩｒが好ましい。これらのアノードは、電解質溶液を
汚染せず、そして１つの実施態様においては、それらの
使用は、高純度の銅粉末を提供するのに不可欠である。
電解質セルを通る電解質溶液の流動は、セルに入ってく
る電解質溶液と、セルから出ていく電解質溶液との間の
銅イオン濃度の所望の相違を一定に維持するのに十分で
ある。一般的に、この銅イオン濃度の相違は、１リット
ル当たり約１〜約１０グラムであり、そして１つの実施
態様において、１リットル当たり約１〜約３グラムであ
り、電解質セルに入ってくる溶液が、電解質セルから出
ていく溶液よりも高い銅イオン濃度を有する。好都合な
ことに、アノードとカソードとの間の流動は、自然の対
流により達成される。一般に電解質溶液は、１リットル
当たり約７０〜約３００グラムの範囲の遊離硫酸濃度を
有し、そして１つの実施態様においては１リットル当た
り約１４０〜約２５０グラムである。電解質セル中の電
解質溶液の温度は、一般的に、約２０℃〜約６５℃の範
囲であり、そして１つの実施態様においては３０℃〜約
４５℃である。銅イオン濃度は、一般的に１リットル当
たり約１〜約６０グラムの範囲であり、そして１つの実
施態様においては１リットル当たり約４〜約１５グラム
である。遊離の塩化物イオン濃度は、一般的には、約３
００ｐｐｍまでであり、そして１つの実施態様において
は、約１５０ｐｐｍまでであり、そして１つの実施態様
においては約１００ｐｐｍまでである。１つの実施態様
において、遊離の塩化物イオン濃度は、約２０ｐｐｍま
でであり、そして１つの実施態様においては、約１０ｐ
ｐｍまでであり、そして１つの実施態様においては、約
５ｐｐｍまでであり、そして１つの実施態様においては
約２ｐｐｍまでである。１つの実施態様において、遊離
の塩化物イオン濃度は、約１ｐｐｍ未満であり、そして
１つの実施態様においては、約０．５ｐｐｍ未満、また
は約０．２ｐｐｍ未満、または約０．１ｐｐｍ未満であ
り、そして１つの実施態様においてそれはゼロまたは実
質的にゼロである。不純度のレベルは、一般的には、１
リットル当たり約２０グラムに過ぎないレベルであり、
そして１つの実施態様においては、それは１リットル当
たり約１０グラムまでである。電流密度は一般的には、
平方フィートあたり約２０〜約３００アンペアの範囲で
あり、そして１つの実施態様においては、平方フィート
あたり約３０〜約２００アンペアである。
も１つのアノードおよび少なくとも１つのカソードを有
する電解質セル中で行われる。カソードは、チタンまた
はステンレス鋼から作製され得る。アノードは、１つの
実施態様においては、寸法安定性な不溶性アノードであ
る。このようなアノードの例は、白金族金属または金属
酸化物でコーティングされたチタンアノードである。使
用し得る白金族金属または金属酸化物には、Ｐｔ、Ｉ
ｒ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、およびＯｓが含まれ、Ｐｔおよ
びＩｒが好ましい。これらのアノードは、電解質溶液を
汚染せず、そして１つの実施態様においては、それらの
使用は、高純度の銅粉末を提供するのに不可欠である。
電解質セルを通る電解質溶液の流動は、セルに入ってく
る電解質溶液と、セルから出ていく電解質溶液との間の
銅イオン濃度の所望の相違を一定に維持するのに十分で
ある。一般的に、この銅イオン濃度の相違は、１リット
ル当たり約１〜約１０グラムであり、そして１つの実施
態様において、１リットル当たり約１〜約３グラムであ
り、電解質セルに入ってくる溶液が、電解質セルから出
ていく溶液よりも高い銅イオン濃度を有する。好都合な
ことに、アノードとカソードとの間の流動は、自然の対
流により達成される。一般に電解質溶液は、１リットル
当たり約７０〜約３００グラムの範囲の遊離硫酸濃度を
有し、そして１つの実施態様においては１リットル当た
り約１４０〜約２５０グラムである。電解質セル中の電
解質溶液の温度は、一般的に、約２０℃〜約６５℃の範
囲であり、そして１つの実施態様においては３０℃〜約
４５℃である。銅イオン濃度は、一般的に１リットル当
たり約１〜約６０グラムの範囲であり、そして１つの実
施態様においては１リットル当たり約４〜約１５グラム
である。遊離の塩化物イオン濃度は、一般的には、約３
００ｐｐｍまでであり、そして１つの実施態様において
は、約１５０ｐｐｍまでであり、そして１つの実施態様
においては約１００ｐｐｍまでである。１つの実施態様
において、遊離の塩化物イオン濃度は、約２０ｐｐｍま
でであり、そして１つの実施態様においては、約１０ｐ
ｐｍまでであり、そして１つの実施態様においては、約
５ｐｐｍまでであり、そして１つの実施態様においては
約２ｐｐｍまでである。１つの実施態様において、遊離
の塩化物イオン濃度は、約１ｐｐｍ未満であり、そして
１つの実施態様においては、約０．５ｐｐｍ未満、また
は約０．２ｐｐｍ未満、または約０．１ｐｐｍ未満であ
り、そして１つの実施態様においてそれはゼロまたは実
質的にゼロである。不純度のレベルは、一般的には、１
リットル当たり約２０グラムに過ぎないレベルであり、
そして１つの実施態様においては、それは１リットル当
たり約１０グラムまでである。電流密度は一般的には、
平方フィートあたり約２０〜約３００アンペアの範囲で
あり、そして１つの実施態様においては、平方フィート
あたり約３０〜約２００アンペアである。
【００３７】電着の間、銅金属粉末の性質を変化させる
ために、１つ以上の追加剤を、電解質溶液に添加し得
る。これらには、動物性にかわ（ａｎｉｍａｌ ｇｌｕ
ｅ）の１例であるコラーゲン由来のゼラチンが含まれ
る。１つの実施態様において、塩化物イオンは、粉末粒
子の樹状（ｄｅｎｄｒｉｃ）の性質を高め、そして微細
粉末の収量を高めるために添加され得る。硫酸ナトリウ
ムは、カソード電流密度を下げるために添加され得る。
硫酸ナトリウムの増加した量は、粉末の粒子サイズを低
下させ易い。スルホネートは、より粗い粒子サイズを提
供するために、電解質に添加され得る。そのようなスル
ホネートの例には、Ｏｒｚａｎ−Ａ（アンモニウムリグ
ノスルホネートとして同定されるＴｅｍｂｉｎｄの製
品）が含まれる。これらの添加剤は、代表的には、１リ
ットル当たり約２０グラムまでの濃度レベルで、より好
ましくは、１リットル当たり約１０グラムまでの濃度レ
ベルで、電解質溶液に添加される。
ために、１つ以上の追加剤を、電解質溶液に添加し得
る。これらには、動物性にかわ（ａｎｉｍａｌ ｇｌｕ
ｅ）の１例であるコラーゲン由来のゼラチンが含まれ
る。１つの実施態様において、塩化物イオンは、粉末粒
子の樹状（ｄｅｎｄｒｉｃ）の性質を高め、そして微細
粉末の収量を高めるために添加され得る。硫酸ナトリウ
ムは、カソード電流密度を下げるために添加され得る。
硫酸ナトリウムの増加した量は、粉末の粒子サイズを低
下させ易い。スルホネートは、より粗い粒子サイズを提
供するために、電解質に添加され得る。そのようなスル
ホネートの例には、Ｏｒｚａｎ−Ａ（アンモニウムリグ
ノスルホネートとして同定されるＴｅｍｂｉｎｄの製
品）が含まれる。これらの添加剤は、代表的には、１リ
ットル当たり約２０グラムまでの濃度レベルで、より好
ましくは、１リットル当たり約１０グラムまでの濃度レ
ベルで、電解質溶液に添加される。
【００３８】１つの実施態様において、電解質溶液は、
１種またはそれ以上の活性イオウ含有物質を含有する。
用語「活性イオウ含有物質」は、２価のイオウ原子の両
方の結合が１つの炭素原子に直接結合したイオウ原子
を、その炭素原子にまた直接結合した１つまたはそれ以
上の窒素原子とともに有することを一般に特徴とする物
質をいう。この群の化合物において、二重結合は、いく
つかの場合には、イオウまたは窒素原子と炭素原子との
間で存在し得るか、あるいは交互に入れ替わり得る。チ
オ尿素は有用な活性イオウ含有物質である。以下の原子
団（ｎｕｃｌｅｕｓ）
１種またはそれ以上の活性イオウ含有物質を含有する。
用語「活性イオウ含有物質」は、２価のイオウ原子の両
方の結合が１つの炭素原子に直接結合したイオウ原子
を、その炭素原子にまた直接結合した１つまたはそれ以
上の窒素原子とともに有することを一般に特徴とする物
質をいう。この群の化合物において、二重結合は、いく
つかの場合には、イオウまたは窒素原子と炭素原子との
間で存在し得るか、あるいは交互に入れ替わり得る。チ
オ尿素は有用な活性イオウ含有物質である。以下の原子
団（ｎｕｃｌｅｕｓ）
【００３９】
【化８】 を有するチオ尿素、およびＳ＝Ｃ＝Ｎ−基を有するイソ
チオシアネートが有用である。チオシナミン（アリルチ
オ尿素）およびチオセミカルバジドもまた有用である。
活性イオウ含有物質は、電解質溶液に可溶性であり、そ
して他の構成成分と相溶性であるべきである。電着の間
の電解質溶液中の活性イオウ含有物質濃度は、一般的に
は約２０ｐｐｍまでであり、そして１つの実施態様にお
いては、約１０ｐｐｍまでの範囲である。
チオシアネートが有用である。チオシナミン（アリルチ
オ尿素）およびチオセミカルバジドもまた有用である。
活性イオウ含有物質は、電解質溶液に可溶性であり、そ
して他の構成成分と相溶性であるべきである。電着の間
の電解質溶液中の活性イオウ含有物質濃度は、一般的に
は約２０ｐｐｍまでであり、そして１つの実施態様にお
いては、約１０ｐｐｍまでの範囲である。
【００４０】１つの実施態様において、電解質溶液は、
少なくとも１つのトリアゾールを含有する。このような
トリアゾールの添加は、より丸く、そしてコンパクトな
粉末粒子の形成の結果として得られる、銅粉末の樹状性
質を低下させる。これらの粒子は、従来の技術により作
製された銅粉末粒子と比較した場合、高密度（例えば、
約２ｇｍｓ／ｃｃより超過）および高流動速度を特徴と
する。有用なトリアゾールには、ベンゾトリアゾールお
よび置換ベンゾトリアゾールが含まれる。適切な化合物
の例は、ベンゾトリアゾール、アルキル置換ベンゾトリ
アゾール（例えば、トリルトリアゾール、エチルベンゾ
トリアゾール、ヘキシルベンゾトリアゾール、オクチル
ベンゾトリアゾールなど）、アリール置換ベンゾトリア
ゾール（例えば、フェニルベンゾトリアゾールなど）、
およびアルカリールもしくはアリールアルク置換ベンゾ
トリアゾール、ならびに置換ベンゾトリアゾール（ここ
で、置換基は、例えば、ヒドロキシ、メルカプト、アル
コキシ、ハロ（例えばクロロ）、ニトロ、カルボキシ、
またはカルボアルコキシであり得る。）である。アルキ
ルベンゾトリアゾールには、そのアルキル基が１〜約２
０個の炭素原子を有するものが含まれ、そして１つの実
施態様においては１〜約８個の炭素原子である。ベンゾ
トリアゾール、トリルトリアゾール、およびカルボキシ
置換ベンゾトリアゾールは有用であり、ベンゾトリアゾ
ールが特に有用である。これらのトリアゾールの電解質
溶液における濃度は、１つの実施態様において、約５０
０ｐｐｍまでであり、そして１つの実施態様において
は、約１〜約２５０ｐｐｍであり、そして１つの実施態
様においては、約１０〜約１５０ｐｐｍであり、そして
１つの実施態様においては、約２５〜約１００ｐｐｍで
ある。
少なくとも１つのトリアゾールを含有する。このような
トリアゾールの添加は、より丸く、そしてコンパクトな
粉末粒子の形成の結果として得られる、銅粉末の樹状性
質を低下させる。これらの粒子は、従来の技術により作
製された銅粉末粒子と比較した場合、高密度（例えば、
約２ｇｍｓ／ｃｃより超過）および高流動速度を特徴と
する。有用なトリアゾールには、ベンゾトリアゾールお
よび置換ベンゾトリアゾールが含まれる。適切な化合物
の例は、ベンゾトリアゾール、アルキル置換ベンゾトリ
アゾール（例えば、トリルトリアゾール、エチルベンゾ
トリアゾール、ヘキシルベンゾトリアゾール、オクチル
ベンゾトリアゾールなど）、アリール置換ベンゾトリア
ゾール（例えば、フェニルベンゾトリアゾールなど）、
およびアルカリールもしくはアリールアルク置換ベンゾ
トリアゾール、ならびに置換ベンゾトリアゾール（ここ
で、置換基は、例えば、ヒドロキシ、メルカプト、アル
コキシ、ハロ（例えばクロロ）、ニトロ、カルボキシ、
またはカルボアルコキシであり得る。）である。アルキ
ルベンゾトリアゾールには、そのアルキル基が１〜約２
０個の炭素原子を有するものが含まれ、そして１つの実
施態様においては１〜約８個の炭素原子である。ベンゾ
トリアゾール、トリルトリアゾール、およびカルボキシ
置換ベンゾトリアゾールは有用であり、ベンゾトリアゾ
ールが特に有用である。これらのトリアゾールの電解質
溶液における濃度は、１つの実施態様において、約５０
０ｐｐｍまでであり、そして１つの実施態様において
は、約１〜約２５０ｐｐｍであり、そして１つの実施態
様においては、約１０〜約１５０ｐｐｍであり、そして
１つの実施態様においては、約２５〜約１００ｐｐｍで
ある。
【００４１】電着工程（Ｆ）の間、付与電流密度（Ｉ）
の拡散限界電流密度（ＩL）に対する比率を、約０．８
またはそれより大きいレベルで維持することが好まし
く、１つの実施態様においては約０．９またはそれより
大きい。つまり、Ｉ／ＩLは、好ましくは約０．８また
はそれより大きく、そして１つの実施態様においては約
０．９またはそれより大きい。
の拡散限界電流密度（ＩL）に対する比率を、約０．８
またはそれより大きいレベルで維持することが好まし
く、１つの実施態様においては約０．９またはそれより
大きい。つまり、Ｉ／ＩLは、好ましくは約０．８また
はそれより大きく、そして１つの実施態様においては約
０．９またはそれより大きい。
【００４２】 １つの実施態様において、以下のパラメータ値が、電着銅粉末に有用である： パラメータ 値 Ｉ（Ａ／ｃｍ2） ０．０６０ ｎ（当量／ｍｏｌ） ２ Ｄ（ｃｍ2／ｓ） １．６×１０-5 Ｃ°（ｍｏｌｅ／ｃｍ3、Ｃｕ2+（ＣｕＳＯ4として） １．５７×１０-4 温度（℃） ３８ 遊離硫酸（ｇ／ｌ） １７５ 動粘度（ｃｍ2／ｓ） ０．０１２６ 流速（ｃｍ／ｓ） 自然対流 銅金属粉末は、カソードからブラシで払いのけるか、す
り落とすか、振動または当該分野で公知の他の機械的お
よび／または電気的技術によって取り出され得る。粉末
はカソード上で電流を反転することにより取り出され得
る。粒子サイズは、粉末除去の間の間隔の長さを制御す
ることによって制御され得、間隔が増すと粉末は粗くな
る。また、見掛け密度も、間隔の長さが伸びるにつれ増
す。
り落とすか、振動または当該分野で公知の他の機械的お
よび／または電気的技術によって取り出され得る。粉末
はカソード上で電流を反転することにより取り出され得
る。粒子サイズは、粉末除去の間の間隔の長さを制御す
ることによって制御され得、間隔が増すと粉末は粗くな
る。また、見掛け密度も、間隔の長さが伸びるにつれ増
す。
【００４３】１つの実施態様においては、一連の円盤形
状回転カソードが用いられ、そのカソードは電解質溶液
に部分的に浸される。このタイプのカソードは、例え
ば、米国特許第３，６１６，２７７号（これは、この様
な円盤形状カソードの開示について、本明細書に参考と
して援用される。）に開示される。銅粉末は、ディスク
形状カソードが電解質溶液を通りながら回転するとき
に、円盤形状カソード上に析出する。例えばチタンから
作製され得るカソード、および不溶性アノード（例え
ば、白金化チタン（ｐｌａｔｉｎｉｚｅｄ ｔｉｔａｎ
ｉｕｍ））はカソードとインタリーブ（ｉｎｔｅｒｌｅ
ａｖｅ）する配列で電解質セル中に配置される。粉末は
継続的にカソード上で析出し、そしてドクターブレード
によって継続的に除去される。ドクターブレードはプラ
スチックまたはステンレス鋼によって作製され得、そし
てカソードに近接してセルの電解質液面の上に備え付け
られる。
状回転カソードが用いられ、そのカソードは電解質溶液
に部分的に浸される。このタイプのカソードは、例え
ば、米国特許第３，６１６，２７７号（これは、この様
な円盤形状カソードの開示について、本明細書に参考と
して援用される。）に開示される。銅粉末は、ディスク
形状カソードが電解質溶液を通りながら回転するとき
に、円盤形状カソード上に析出する。例えばチタンから
作製され得るカソード、および不溶性アノード（例え
ば、白金化チタン（ｐｌａｔｉｎｉｚｅｄ ｔｉｔａｎ
ｉｕｍ））はカソードとインタリーブ（ｉｎｔｅｒｌｅ
ａｖｅ）する配列で電解質セル中に配置される。粉末は
継続的にカソード上で析出し、そしてドクターブレード
によって継続的に除去される。ドクターブレードはプラ
スチックまたはステンレス鋼によって作製され得、そし
てカソードに近接してセルの電解質液面の上に備え付け
られる。
【００４４】１つの実施態様において、本発明のプロセ
スの（Ｇ）の間に取り出される銅金属粉末は、十分に洗
浄され、粉末が酸化することを引き起こし得る電解質を
除去する。種々の方法が、粉末を洗浄するために用いら
れ得る。１つの方法は、粉末を遠心分離して電解質を除
去し、粉末を洗浄し、次いで粉末を脱水する工程を包含
する。
スの（Ｇ）の間に取り出される銅金属粉末は、十分に洗
浄され、粉末が酸化することを引き起こし得る電解質を
除去する。種々の方法が、粉末を洗浄するために用いら
れ得る。１つの方法は、粉末を遠心分離して電解質を除
去し、粉末を洗浄し、次いで粉末を脱水する工程を包含
する。
【００４５】１つの実施態様において、銅金属粉末は、
大きなタンクに移動され、そして水を加えてフィルター
中にポンプ注入されるスラリーを生成する。フィルター
中で粉末は脱水され、数回洗浄され、そして再び脱水さ
れる。このプロセスの際に、安定剤が酸化を減少させる
ために加えられ得る。このような安定剤の例としては、
ゼラチン（例えば、動物性にかわ）の水溶液が挙げられ
る。洗浄または次の粉末処理の間の酸化防止剤の添加も
また、粉末を酸化から保護する。このような酸化防止剤
の例としては、上記の、１つまたはそれより多くのトリ
アゾールが挙げられ、ベンゾトリアゾールが有用であ
る。
大きなタンクに移動され、そして水を加えてフィルター
中にポンプ注入されるスラリーを生成する。フィルター
中で粉末は脱水され、数回洗浄され、そして再び脱水さ
れる。このプロセスの際に、安定剤が酸化を減少させる
ために加えられ得る。このような安定剤の例としては、
ゼラチン（例えば、動物性にかわ）の水溶液が挙げられ
る。洗浄または次の粉末処理の間の酸化防止剤の添加も
また、粉末を酸化から保護する。このような酸化防止剤
の例としては、上記の、１つまたはそれより多くのトリ
アゾールが挙げられ、ベンゾトリアゾールが有用であ
る。
【００４６】洗浄および脱水の後、湿った粉末を熱処理
に供し得る。熱処理は、銅金属粉末の所定の特性（特に
粒子サイズおよび形、見掛け密度、ならびに圧粉強度）
を変える傾向がある。１つの実施態様においては、粉末
はメッシュベルト電気炉で熱処理される。粉末がベルト
を通って落ちることを防止するため、高湿潤強度紙の連
続シートがベルトに供給され、次いで粉末が紙に移動す
る。ローラーが粉末を圧縮し、熱伝達を向上させる。粉
末が炉に入ると、水が除去され、そして紙が燃える（し
かし、粉末がベルトから落ちることを防ぐのに十分なほ
どに粉末が焼結される前ではない）。炉の大気は発熱ガ
スユニットで生産され、その内部で天然ガスおよび空気
がブレンドされて、例えば、約１７％の水素、約１２％
のＣＯ、約４％のＣＯ2を含有し、窒素でバランスをと
る大気を提供する。このガスは冷却器を通じて炉に送ら
れる。冷却器では、ガスは、（例えば、約−２２℃〜約
−４０℃に）冷却され、そしてそのガスから水（ｗａｔ
ｅａｒ）が濃縮され、従って露点が低くなる。ガスは、
排出末端（ｄｉｓｃｈａｒｇｅ ｅｎｄ）から炉に入れ
られ、そしてガスは冷却されるので、粉末ケークの冷却
を助ける。この炉作業により、粉末が乾燥し、粒子形状
が変化し、酸化物を還元し、そして微粉末（ｆｉｎｅ
ｓ）を焼結する。排出温度は、粉末ケークの再酸化を防
止するに充分低い。炉温度を約２５０℃〜約９００℃、
そして１つの実施態様においては約３７０℃と約６５０
℃との間で変化させ、そして曝露時間を変化させること
によって、微粉末の含有量、見掛け密度、および寸法性
能が変化し得る。熱処理操作の完了の際に、得られた粉
末ケークは破砕され、そしてミル工程のために用意され
る。
に供し得る。熱処理は、銅金属粉末の所定の特性（特に
粒子サイズおよび形、見掛け密度、ならびに圧粉強度）
を変える傾向がある。１つの実施態様においては、粉末
はメッシュベルト電気炉で熱処理される。粉末がベルト
を通って落ちることを防止するため、高湿潤強度紙の連
続シートがベルトに供給され、次いで粉末が紙に移動す
る。ローラーが粉末を圧縮し、熱伝達を向上させる。粉
末が炉に入ると、水が除去され、そして紙が燃える（し
かし、粉末がベルトから落ちることを防ぐのに十分なほ
どに粉末が焼結される前ではない）。炉の大気は発熱ガ
スユニットで生産され、その内部で天然ガスおよび空気
がブレンドされて、例えば、約１７％の水素、約１２％
のＣＯ、約４％のＣＯ2を含有し、窒素でバランスをと
る大気を提供する。このガスは冷却器を通じて炉に送ら
れる。冷却器では、ガスは、（例えば、約−２２℃〜約
−４０℃に）冷却され、そしてそのガスから水（ｗａｔ
ｅａｒ）が濃縮され、従って露点が低くなる。ガスは、
排出末端（ｄｉｓｃｈａｒｇｅ ｅｎｄ）から炉に入れ
られ、そしてガスは冷却されるので、粉末ケークの冷却
を助ける。この炉作業により、粉末が乾燥し、粒子形状
が変化し、酸化物を還元し、そして微粉末（ｆｉｎｅ
ｓ）を焼結する。排出温度は、粉末ケークの再酸化を防
止するに充分低い。炉温度を約２５０℃〜約９００℃、
そして１つの実施態様においては約３７０℃と約６５０
℃との間で変化させ、そして曝露時間を変化させること
によって、微粉末の含有量、見掛け密度、および寸法性
能が変化し得る。熱処理操作の完了の際に、得られた粉
末ケークは破砕され、そしてミル工程のために用意され
る。
【００４７】ミル工程は、例えば、高速の水冷式ハンマ
ーミルで行われ得、このミルにおいて、ミル下での供給
速度、ミル速度、およびスクリーン開口を変化して、所
望の粉末特性が得られ得る。ミルを出る粉末は、スクリ
ーンに送り出され得、そこでそれは、粉末サイズフラク
ションに分離される。−１００メッシュの粉末は空気分
級機中で分級され得、そして微粉末は最終粉末生産物と
ブレンドされ得る。大きすぎるサイズの物質は、さらな
るミル工程のためにミルに戻され得る。あるいは、小さ
すぎるサイズまたは大きすぎるサイズの粒子のいずれか
または両方は、（Ｅ）の間に分離される第１電解質溶液
と一緒にされ得る。ミル操作および分級操作の際に生産
される銅金属粉末はドラムに蓄積され得、そのドラムに
シリカゲルまたは樟脳のような乾燥剤が、酸化を防止ま
たは減少させるために加えられ得る。
ーミルで行われ得、このミルにおいて、ミル下での供給
速度、ミル速度、およびスクリーン開口を変化して、所
望の粉末特性が得られ得る。ミルを出る粉末は、スクリ
ーンに送り出され得、そこでそれは、粉末サイズフラク
ションに分離される。−１００メッシュの粉末は空気分
級機中で分級され得、そして微粉末は最終粉末生産物と
ブレンドされ得る。大きすぎるサイズの物質は、さらな
るミル工程のためにミルに戻され得る。あるいは、小さ
すぎるサイズまたは大きすぎるサイズの粒子のいずれか
または両方は、（Ｅ）の間に分離される第１電解質溶液
と一緒にされ得る。ミル操作および分級操作の際に生産
される銅金属粉末はドラムに蓄積され得、そのドラムに
シリカゲルまたは樟脳のような乾燥剤が、酸化を防止ま
たは減少させるために加えられ得る。
【００４８】１つの実施態様において、洗浄および脱水
後の湿潤粉末は、約３７５℃未満の温度、還元雰囲気下
で熱処理される。そして１つの実施態様においては約３
２５℃未満であり、そして１つの実施態様においては約
１５０℃〜約３７５℃の範囲であり、そして１つの実施
態様においては約１７５℃〜約３２５℃の範囲である。
還元性雰囲気は、水素、水素および窒素の混合物、解離
したアンモニア、一酸化炭素、発熱性リフォームガス
（ｒｅｆｏｒｍ ｇａｓ）、吸熱性リフォームガスなど
であり得る。発熱性リフォームガスおよび吸熱性リフォ
ームガスは、特に有用である。これらの条件下で処理す
ることにより、焼結ケーク（ｓｉｎｔｅｒｃａｋｅ）の
形成は、減少しまたは除去され、そして通常必要とされ
る、引き続く焼結およびミルの工程が省略（ｅｌｉｍｉ
ｎａｔｅ）され得る。
後の湿潤粉末は、約３７５℃未満の温度、還元雰囲気下
で熱処理される。そして１つの実施態様においては約３
２５℃未満であり、そして１つの実施態様においては約
１５０℃〜約３７５℃の範囲であり、そして１つの実施
態様においては約１７５℃〜約３２５℃の範囲である。
還元性雰囲気は、水素、水素および窒素の混合物、解離
したアンモニア、一酸化炭素、発熱性リフォームガス
（ｒｅｆｏｒｍ ｇａｓ）、吸熱性リフォームガスなど
であり得る。発熱性リフォームガスおよび吸熱性リフォ
ームガスは、特に有用である。これらの条件下で処理す
ることにより、焼結ケーク（ｓｉｎｔｅｒｃａｋｅ）の
形成は、減少しまたは除去され、そして通常必要とされ
る、引き続く焼結およびミルの工程が省略（ｅｌｉｍｉ
ｎａｔｅ）され得る。
【００４９】１つの実施態様において、銅粉末は、アル
ミニウム、シリコン、ベリリウム、マグネシウム、トリ
ウム、ジルコニウムまたはイットリウム（アルミニウム
が好ましい）からなる群から選択される反応性元素の酸
化物と組み合わされて、分散強化（ｄｉｓｐｅｒｓｉｏ
ｎ−ｓｔｒｅｎｇｔｈｅｎｅｄ）銅が形成する。これ
は、分散強化銅の形成についての任意の公知技術を用い
て行われ得、反応性元素の酸化物の微粒子と銅粉末との
単純な機械的混合、高エネルギーミルを用いる機械的ア
ロイ化、および希釈固体−溶液アロイからの反応性元素
の選択的内部酸化を含む。分散強化銅は、一般的に、約
３重量％までの反応性元素を含有し、そして１つの実施
態様において約２重量％までであり、そして１つの実施
態様において約０．１〜約１．５重量％である。１つの
実施態様において、分散強化銅は、反応性元素の酸化物
（例えば、酸化アルミニウム）の粒子の微細で均一な分
散物を銅マトリクス中に含み、粒子は、約３０〜約１２
０オングストロームのサイズの範囲であり、粒子間のス
ペースは、約５００〜約１０００オングストロームの範
囲である。反応性元素酸化物粒子は、硬く、そして高温
において熱的に安定であり、そしてもとの粒子サイズを
維持し、そして粒子間スペースは、銅の融点に近い温度
において同様である。分散強化銅は、高強度と高電気的
伝導性および高熱的伝導性との特有の組み合わせを提供
する。これらの物質はまた、銅マトリクスの融点に近い
温度に長時間曝露された後にそれらの特性の大部分を維
持する能力を有し、それにより、銅の有用な温度範囲を
非常に拡大する。これらの性質はまた、高温結合プロセ
ス（例えば、はんだ付け（ｂｒａｚｉｎｇ））による、
強度低下のない、部品の製造を可能にする。これらはま
た、高い作業温度に関与する用途に使用され得る。
ミニウム、シリコン、ベリリウム、マグネシウム、トリ
ウム、ジルコニウムまたはイットリウム（アルミニウム
が好ましい）からなる群から選択される反応性元素の酸
化物と組み合わされて、分散強化（ｄｉｓｐｅｒｓｉｏ
ｎ−ｓｔｒｅｎｇｔｈｅｎｅｄ）銅が形成する。これ
は、分散強化銅の形成についての任意の公知技術を用い
て行われ得、反応性元素の酸化物の微粒子と銅粉末との
単純な機械的混合、高エネルギーミルを用いる機械的ア
ロイ化、および希釈固体−溶液アロイからの反応性元素
の選択的内部酸化を含む。分散強化銅は、一般的に、約
３重量％までの反応性元素を含有し、そして１つの実施
態様において約２重量％までであり、そして１つの実施
態様において約０．１〜約１．５重量％である。１つの
実施態様において、分散強化銅は、反応性元素の酸化物
（例えば、酸化アルミニウム）の粒子の微細で均一な分
散物を銅マトリクス中に含み、粒子は、約３０〜約１２
０オングストロームのサイズの範囲であり、粒子間のス
ペースは、約５００〜約１０００オングストロームの範
囲である。反応性元素酸化物粒子は、硬く、そして高温
において熱的に安定であり、そしてもとの粒子サイズを
維持し、そして粒子間スペースは、銅の融点に近い温度
において同様である。分散強化銅は、高強度と高電気的
伝導性および高熱的伝導性との特有の組み合わせを提供
する。これらの物質はまた、銅マトリクスの融点に近い
温度に長時間曝露された後にそれらの特性の大部分を維
持する能力を有し、それにより、銅の有用な温度範囲を
非常に拡大する。これらの性質はまた、高温結合プロセ
ス（例えば、はんだ付け（ｂｒａｚｉｎｇ））による、
強度低下のない、部品の製造を可能にする。これらはま
た、高い作業温度に関与する用途に使用され得る。
【００５０】本発明のプロセスにより生産される銅製品
（ａｒｔｉｃｌｅ）の特性は、操作の様々な性質に依存
し、そしてそれゆえに、多くの場合、特定のプロセスの
変数を変化させることにより制御され得る。例えば、純
度は、高くなり得、銅含量は、例えば、約９９．５重量
％、またはこのような高純度が必要とされる場合には、
約９９．９重量％を超え得る。この点に関して、本発明
のプロセスの利点は、工程（Ｆ）に用いられるストリッ
ピング溶液または電解質の純度を制御し得、そして上流
での接触工程から電解質中に進められる有機物質が、一
般的には、生産される銅製品の特性に悪影響を与えない
ことである。生産される銅製品の経済性および要求性能
（ｒｅｑｕｉｒｅｍｅｎｔ）が、以下のような低いレベ
ルの銅純度を許容するのであれば、低い純度の銅製品
（例えば、銅９５重量％の低さ、または銅９７重量％の
低さ、または銅９９重量％の低さ）を生産することもま
た可能である。
（ａｒｔｉｃｌｅ）の特性は、操作の様々な性質に依存
し、そしてそれゆえに、多くの場合、特定のプロセスの
変数を変化させることにより制御され得る。例えば、純
度は、高くなり得、銅含量は、例えば、約９９．５重量
％、またはこのような高純度が必要とされる場合には、
約９９．９重量％を超え得る。この点に関して、本発明
のプロセスの利点は、工程（Ｆ）に用いられるストリッ
ピング溶液または電解質の純度を制御し得、そして上流
での接触工程から電解質中に進められる有機物質が、一
般的には、生産される銅製品の特性に悪影響を与えない
ことである。生産される銅製品の経済性および要求性能
（ｒｅｑｕｉｒｅｍｅｎｔ）が、以下のような低いレベ
ルの銅純度を許容するのであれば、低い純度の銅製品
（例えば、銅９５重量％の低さ、または銅９７重量％の
低さ、または銅９９重量％の低さ）を生産することもま
た可能である。
【００５１】銅粉末の粒子サイズ分布は、成形銅製品の
作製についての要求性能に合うように選択され得、そし
て広範な範囲にわたって変化させ得る。例えば、−３２
５メッシュフラクションは、約５重量％から約９０重量
％まで変化させ得る。粉末の見かけ密度は、例えば、約
０．５〜約４ｇ／ｃｍ3の範囲であり得、そして１つの
実施態様においては、約１〜約３ｇ／ｃｍ3である。代
表的な流動速度は、５０グラムサンプルについて約１０
〜約７５秒の範囲であり、そして１つの実施態様におい
ては約２０〜約６５秒である。
作製についての要求性能に合うように選択され得、そし
て広範な範囲にわたって変化させ得る。例えば、−３２
５メッシュフラクションは、約５重量％から約９０重量
％まで変化させ得る。粉末の見かけ密度は、例えば、約
０．５〜約４ｇ／ｃｍ3の範囲であり得、そして１つの
実施態様においては、約１〜約３ｇ／ｃｍ3である。代
表的な流動速度は、５０グラムサンプルについて約１０
〜約７５秒の範囲であり、そして１つの実施態様におい
ては約２０〜約６５秒である。
【００５２】圧粉密度（ｇｒｅｅｎ ｄｅｎｓｉｔｙ）
は、圧縮力の関数である。例えば、圧粉密度は、圧縮力
を平方インチ当たり約２０トン（ｔｓｉ）から約４０ト
ンにまで上昇させるにつれて、７から約８ｇ／ｃｍ3ま
で、上昇させ得る。圧粉強度は、圧縮力とともに上昇す
る。例えば、圧縮力が約２０ｔｓｉから約４０ｔｓｉま
で上昇するにつれて、圧粉強度は、約２２００ｐｓｉ未
満から約３５００ｐｓｉまで上昇し得る。銅金属粉末の
粒子形状は、一般的には、カソード上に堆積したときは
樹状である。しかし、引き続く操作の間に、樹状は、丸
くなりやすい。
は、圧縮力の関数である。例えば、圧粉密度は、圧縮力
を平方インチ当たり約２０トン（ｔｓｉ）から約４０ト
ンにまで上昇させるにつれて、７から約８ｇ／ｃｍ3ま
で、上昇させ得る。圧粉強度は、圧縮力とともに上昇す
る。例えば、圧縮力が約２０ｔｓｉから約４０ｔｓｉま
で上昇するにつれて、圧粉強度は、約２２００ｐｓｉ未
満から約３５００ｐｓｉまで上昇し得る。銅金属粉末の
粒子形状は、一般的には、カソード上に堆積したときは
樹状である。しかし、引き続く操作の間に、樹状は、丸
くなりやすい。
【００５３】工程（Ｈ）の間、銅粉末は、ダイを通して
押し出され、鍛造または成型されて所望の形状の銅製品
を形成する。１つの実施態様において、銅粉末は、機械
化回転ドラムおよび成形供給スロット（ｓｈａｐｅｄ
ｆｅｅｄ ｓｌｏｔ）を用いて摩擦押し出し（ｆｒｉｃ
ｔｉｏｎ ｅｘｔｒｕｄｅ）されて、所望の断面形状お
よびサイズを有する長い製品を生成する。この実施態様
において、摩擦は、ドラムの中で発生して、粉末を固
め、そしてそれにより銅製品を形成する。１つの実施態
様において、製品の断面は、約６インチまでの直径また
は主な大きさを有し、そして１つの実施態様において、
約０．２から約３インチである。１つの実施態様におい
て、成形製品は、引き抜かれるかまたは圧延されてその
形状またはサイズを改変する。例えば、成形製品を、１
つまたは１連のタークヘッドミル（Ｔｕｒｋｓ ｈｅａ
ｄ ｍｉｌｌ）を用いて圧延し、所望の形状およびサイ
ズを提供し得る。成形製品は、縮小ダイ（ｒｅｄｕｃｔ
ｉｏｎ ｄｉｅ）を用いて引き抜き、所望の断面形状お
よびサイズを有する押し出し生成品を提供し得る。
押し出され、鍛造または成型されて所望の形状の銅製品
を形成する。１つの実施態様において、銅粉末は、機械
化回転ドラムおよび成形供給スロット（ｓｈａｐｅｄ
ｆｅｅｄ ｓｌｏｔ）を用いて摩擦押し出し（ｆｒｉｃ
ｔｉｏｎ ｅｘｔｒｕｄｅ）されて、所望の断面形状お
よびサイズを有する長い製品を生成する。この実施態様
において、摩擦は、ドラムの中で発生して、粉末を固
め、そしてそれにより銅製品を形成する。１つの実施態
様において、製品の断面は、約６インチまでの直径また
は主な大きさを有し、そして１つの実施態様において、
約０．２から約３インチである。１つの実施態様におい
て、成形製品は、引き抜かれるかまたは圧延されてその
形状またはサイズを改変する。例えば、成形製品を、１
つまたは１連のタークヘッドミル（Ｔｕｒｋｓ ｈｅａ
ｄ ｍｉｌｌ）を用いて圧延し、所望の形状およびサイ
ズを提供し得る。成形製品は、縮小ダイ（ｒｅｄｕｃｔ
ｉｏｎ ｄｉｅ）を用いて引き抜き、所望の断面形状お
よびサイズを有する押し出し生成品を提供し得る。
【００５４】一般的に、本発明のプロセスに従って生産
される銅製品は、任意の形状を有し得る。これらには、
図２〜図２９、図３３〜図３６（これらは、引き延ばし
て押し出された銅製品の断面図である）に例示される形
状が含まれる。銅製品は、構造的および／または化粧的
な用途を有し得る。任意の直径および壁厚みの銅チュー
ブおよび銅パイプ（例えば、継ぎ目なしパイプおよびチ
ューブ、ひれのあるチューブなど）を作製し得る。例え
ば、ベンド管（ｂｅｎｄ）、Ｌ字管（ｅｌｂｏｗ）、Ｔ
字管、径違い継ぎ手（ｒｅｄｕｃｅｒ）、ジョイント、
支持体（ｓｕｐｐｏｒｔ）などのようなパイプおよびチ
ューブ部品（ｆｉｔｔｉｎｇ）が作製され得る。ワッシ
ャー、バルブ部品、ラジエーターのひれ（ｆｉｎ）など
のような銅製品が、作製され得る。コネクター、棒など
のような、電気および電子部品ならびに部材が、作製さ
れ得る。引き続いてさらなる成形技術に供されて最終的
な所望の生産物を提供する中間的な成形製品が作製され
得る。
される銅製品は、任意の形状を有し得る。これらには、
図２〜図２９、図３３〜図３６（これらは、引き延ばし
て押し出された銅製品の断面図である）に例示される形
状が含まれる。銅製品は、構造的および／または化粧的
な用途を有し得る。任意の直径および壁厚みの銅チュー
ブおよび銅パイプ（例えば、継ぎ目なしパイプおよびチ
ューブ、ひれのあるチューブなど）を作製し得る。例え
ば、ベンド管（ｂｅｎｄ）、Ｌ字管（ｅｌｂｏｗ）、Ｔ
字管、径違い継ぎ手（ｒｅｄｕｃｅｒ）、ジョイント、
支持体（ｓｕｐｐｏｒｔ）などのようなパイプおよびチ
ューブ部品（ｆｉｔｔｉｎｇ）が作製され得る。ワッシ
ャー、バルブ部品、ラジエーターのひれ（ｆｉｎ）など
のような銅製品が、作製され得る。コネクター、棒など
のような、電気および電子部品ならびに部材が、作製さ
れ得る。引き続いてさらなる成形技術に供されて最終的
な所望の生産物を提供する中間的な成形製品が作製され
得る。
【００５５】作製され得る製品には、パイプおよびチュ
ーブ（図２、図３５および図３６）、ならびに丸いロッ
ドおよびシリンダー（１つ以上の穴（ｈｏｌｅ）、孔
（ｂｏｒｅ）、キャビティーをその内部にもしくは内部
を貫通して有するかもしくは有さない）（図１２および
図３４）が含まれる。これらはまた、半円（図２２）、
四角（図４および図６）、長方形（図３）、競争トラッ
ク（図５）、平面（図７）、Ｌ（図８）、Ｕ（図９、図
２６、図２７）、Ｔ（図１３）、Ｉ（図１４）、多角形
（図１０、図１１、図１９、図２０、図２１）、十字
（図１５、図１７、図１８、図２４および図３３）、星
（図１６）、リブのある平面（図２３）の断面形状を有
する、引き延ばされて押し出された製品が含まれる。成
形製品は、固体断面形状または内部を有し得、あるい
は、これらは１つ以上の穴、孔、キャビティーをその内
部にもしくは内部を貫通して有し得る（図２、図１２、
および図３３〜図３６）。これらの製品は、鋭いエッジ
（例えば、図４）または丸いエッジ（例えば、図６）を
有し得る。
ーブ（図２、図３５および図３６）、ならびに丸いロッ
ドおよびシリンダー（１つ以上の穴（ｈｏｌｅ）、孔
（ｂｏｒｅ）、キャビティーをその内部にもしくは内部
を貫通して有するかもしくは有さない）（図１２および
図３４）が含まれる。これらはまた、半円（図２２）、
四角（図４および図６）、長方形（図３）、競争トラッ
ク（図５）、平面（図７）、Ｌ（図８）、Ｕ（図９、図
２６、図２７）、Ｔ（図１３）、Ｉ（図１４）、多角形
（図１０、図１１、図１９、図２０、図２１）、十字
（図１５、図１７、図１８、図２４および図３３）、星
（図１６）、リブのある平面（図２３）の断面形状を有
する、引き延ばされて押し出された製品が含まれる。成
形製品は、固体断面形状または内部を有し得、あるい
は、これらは１つ以上の穴、孔、キャビティーをその内
部にもしくは内部を貫通して有し得る（図２、図１２、
および図３３〜図３６）。これらの製品は、鋭いエッジ
（例えば、図４）または丸いエッジ（例えば、図６）を
有し得る。
【００５６】１つの実施態様において、図３０に示され
るパイプまたはチューブ２００は、個々のインターロッ
クチューブまたはパイプ部材２０１のアセンブリからな
り、本発明のプロセスを用いて作製され得る。個々のイ
ンターロック部材２０１は、図３１および図３２に例示
されるダイを使用して押し出され得る。
るパイプまたはチューブ２００は、個々のインターロッ
クチューブまたはパイプ部材２０１のアセンブリからな
り、本発明のプロセスを用いて作製され得る。個々のイ
ンターロック部材２０１は、図３１および図３２に例示
されるダイを使用して押し出され得る。
【００５７】１つの実施態様において、銅粉末は分散強
化銅粉末の形態であり、そしてそれから作製される成形
銅製品には、固定された接触点の間を電気回路をつなぐ
かまたは切るために動く、電流を流すアームである、抵
抗溶接電極（ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ ｗｅｌｄｉｎｇ
ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）、白熱灯用導線、ヘリコプターモ
ーター用の整流子、リレーブレード（ｒｅｌａｙ ｂｌ
ａｄｅ）および接触支持体；連続キャスティング型、Ｈ
ａｚｅｌｅｔｔキャスティング機用の横ダムブロック
（ｓｉｄｅ ｄａｍ ｂｌｏｃｋ）、ガス金属アーク溶
接チップ（ｇａｓａｒｃ ｗｅｌｄｉｎｇ ｔｉｐ）、
継ぎ目溶接ホイール、高電流溶接ケーブル、マイクロ波
チューブ部材、電気コネクターなどが含まれる。
化銅粉末の形態であり、そしてそれから作製される成形
銅製品には、固定された接触点の間を電気回路をつなぐ
かまたは切るために動く、電流を流すアームである、抵
抗溶接電極（ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ ｗｅｌｄｉｎｇ
ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）、白熱灯用導線、ヘリコプターモ
ーター用の整流子、リレーブレード（ｒｅｌａｙ ｂｌ
ａｄｅ）および接触支持体；連続キャスティング型、Ｈ
ａｚｅｌｅｔｔキャスティング機用の横ダムブロック
（ｓｉｄｅ ｄａｍ ｂｌｏｃｋ）、ガス金属アーク溶
接チップ（ｇａｓａｒｃ ｗｅｌｄｉｎｇ ｔｉｐ）、
継ぎ目溶接ホイール、高電流溶接ケーブル、マイクロ波
チューブ部材、電気コネクターなどが含まれる。
【００５８】１つの実施態様において、生産される成形
製品は、公知の化学的、電解研磨的、または機械的技術
を用いて清掃される。化学的清掃は、硝酸または熱硫酸
（例えば、約２５℃〜７０℃）のエッチングバスまたは
酸洗いバスに製品を通すことにより達成される。電解研
磨は、電流および硫酸を用いて達成され得る。機械的清
掃は、ブラシなどを用いて、バリおよび類似の粗い部分
を製品の表面から取り除くために行われる。１つの実施
態様において、製品は、腐食性のソーダ溶液を用いて脱
グリースされ、洗浄され、すすがれ、熱硫酸（例えば、
約３５℃）を用いて酸洗いされ、硫酸を用いて電解研磨
され、すすがれ、そして乾燥される。
製品は、公知の化学的、電解研磨的、または機械的技術
を用いて清掃される。化学的清掃は、硝酸または熱硫酸
（例えば、約２５℃〜７０℃）のエッチングバスまたは
酸洗いバスに製品を通すことにより達成される。電解研
磨は、電流および硫酸を用いて達成され得る。機械的清
掃は、ブラシなどを用いて、バリおよび類似の粗い部分
を製品の表面から取り除くために行われる。１つの実施
態様において、製品は、腐食性のソーダ溶液を用いて脱
グリースされ、洗浄され、すすがれ、熱硫酸（例えば、
約３５℃）を用いて酸洗いされ、硫酸を用いて電解研磨
され、すすがれ、そして乾燥される。
【００５９】ここで図１を参照すると、銅は、浸出傾斜
路１０から抽出され、そして本発明のプロセスに従って
処理されて、押し出された銅製品１２を生成する。この
実施態様において、本プロセスは、沈降機１４、１５、
および１６、収集池１７、混合機１８、２０および２
２、インターリーブ（ｉｎｔｅｒｌｅａｖｅ）されるカ
ソード１２６および不溶性アノード１２８を含む電解質
セル１２４、循環ベルト１３０および１４６、フィルタ
ー１３２、すすぎおよび脱水ユニット１３４、貯蔵ホッ
パー１３６、粉末散布堰（ｓｐｒｅａｄｉｎｇ ｗｅｉ
ｒ）１４５、炉１４８、冷却チャンバー１５０、焼結ケ
ーク粉砕機（ｂｒｅａｋｅｒ）１５２、および押出し機
１５４の使用を含む。この実施態様において、本発明の
プロセスの（Ａ）工程は、浸出傾斜路１０で行われる。
工程（Ｂ）および（Ｃ）は、混合機１８および２０なら
びに沈降機１４および１５を用いて２段階で行われる。
工程（Ｄ）および（Ｅ）は、混合機２２および沈降機１
６を用いて行われる。工程（Ｆ）および（Ｇ）は電解質
セル１２４およびベルト１３０を用いて行われる。工程
（Ｈ）は押し出し機１５４を用いて行われる。
路１０から抽出され、そして本発明のプロセスに従って
処理されて、押し出された銅製品１２を生成する。この
実施態様において、本プロセスは、沈降機１４、１５、
および１６、収集池１７、混合機１８、２０および２
２、インターリーブ（ｉｎｔｅｒｌｅａｖｅ）されるカ
ソード１２６および不溶性アノード１２８を含む電解質
セル１２４、循環ベルト１３０および１４６、フィルタ
ー１３２、すすぎおよび脱水ユニット１３４、貯蔵ホッ
パー１３６、粉末散布堰（ｓｐｒｅａｄｉｎｇ ｗｅｉ
ｒ）１４５、炉１４８、冷却チャンバー１５０、焼結ケ
ーク粉砕機（ｂｒｅａｋｅｒ）１５２、および押出し機
１５４の使用を含む。この実施態様において、本発明の
プロセスの（Ａ）工程は、浸出傾斜路１０で行われる。
工程（Ｂ）および（Ｃ）は、混合機１８および２０なら
びに沈降機１４および１５を用いて２段階で行われる。
工程（Ｄ）および（Ｅ）は、混合機２２および沈降機１
６を用いて行われる。工程（Ｆ）および（Ｇ）は電解質
セル１２４およびベルト１３０を用いて行われる。工程
（Ｈ）は押し出し機１５４を用いて行われる。
【００６０】ライン４０からの水性浸出液が、浸出傾斜
路１０の表面上に散布される。浸出液は、一般に１リッ
トル当たり約５グラム〜約５０グラム、そして１つの実
施態様においては１リットル当たり約５グラム〜約４０
グラム、そして１つの実施態様においては１リットル当
たり約１０グラム〜約３０グラムの範囲の硫酸濃度を有
する硫酸溶液である。浸出液は傾斜路を通って、下に浸
出させ、鉱石中の銅を溶解し、銅の含有量の多い水性浸
出液（ときどき、プレグナント浸出液という）として傾
斜路スペース１１を通って流れ、ライン１３を通り、収
集池１７に流れ、そしてそこからライン４１を通り、混
合機２０へポンプで汲み上げられる。混合機２０にポン
プで汲み上げられる銅の含有量の多い水性浸出液は、一
般に１リットル当たり約０．８グラム〜約５グラム、そ
して１つの実施態様においては１リットル当たり約１グ
ラム〜約３グラムの範囲の濃度の銅イオン；および一般
に１リットル当たり約５グラム〜約３０グラム、そして
１つの実施態様においては１リットル当たり約１０グラ
ム〜約２０グラムの範囲の濃度の遊離硫酸を有する。混
合機２０で、銅の含有量の多い水性浸出液は、沈降機１
５の堰７８からライン７９、８０および４２を通り、混
合機２０にポンプで汲み上げられる銅含有有機溶液と混
合される。混合機２０に加えられる銅含有有機溶液中の
銅濃度は、一般に、有機溶液中の抽出剤１リットル当た
り約０．５グラム〜約４グラム、そして１つの実施態様
においては、有機溶液中の抽出剤１リットル当たり約１
グラム〜約２．４グラムである。混合機２０で混合する
間、有機相および水相が形成し、そして混合される。水
相から有機相へ銅イオンが移動する。混合液は、混合機
２０からライン４３を通り、沈降機１４にポンプで汲み
上げられる。沈降機１４で、水相および有機相は、上層
を形成する有機相および下層を形成する水相とに分離す
る。堰４８で有機相は集められ、そしてライン４９、５
０および５１を通り、混合機２２にポンプで汲み上げら
れる。この有機相は、銅の含有量の多い有機溶液である
（充填有機液と言われ得る）。この銅の含有量の多い有
機溶液は、一般に、有機溶液中の抽出剤１リットル当た
り約１グラム〜約６グラム、そして１つの実施態様にお
いては有機溶液中の抽出剤１リットル当たり約２グラム
〜約４グラムの範囲の銅濃度を有する。
路１０の表面上に散布される。浸出液は、一般に１リッ
トル当たり約５グラム〜約５０グラム、そして１つの実
施態様においては１リットル当たり約５グラム〜約４０
グラム、そして１つの実施態様においては１リットル当
たり約１０グラム〜約３０グラムの範囲の硫酸濃度を有
する硫酸溶液である。浸出液は傾斜路を通って、下に浸
出させ、鉱石中の銅を溶解し、銅の含有量の多い水性浸
出液（ときどき、プレグナント浸出液という）として傾
斜路スペース１１を通って流れ、ライン１３を通り、収
集池１７に流れ、そしてそこからライン４１を通り、混
合機２０へポンプで汲み上げられる。混合機２０にポン
プで汲み上げられる銅の含有量の多い水性浸出液は、一
般に１リットル当たり約０．８グラム〜約５グラム、そ
して１つの実施態様においては１リットル当たり約１グ
ラム〜約３グラムの範囲の濃度の銅イオン；および一般
に１リットル当たり約５グラム〜約３０グラム、そして
１つの実施態様においては１リットル当たり約１０グラ
ム〜約２０グラムの範囲の濃度の遊離硫酸を有する。混
合機２０で、銅の含有量の多い水性浸出液は、沈降機１
５の堰７８からライン７９、８０および４２を通り、混
合機２０にポンプで汲み上げられる銅含有有機溶液と混
合される。混合機２０に加えられる銅含有有機溶液中の
銅濃度は、一般に、有機溶液中の抽出剤１リットル当た
り約０．５グラム〜約４グラム、そして１つの実施態様
においては、有機溶液中の抽出剤１リットル当たり約１
グラム〜約２．４グラムである。混合機２０で混合する
間、有機相および水相が形成し、そして混合される。水
相から有機相へ銅イオンが移動する。混合液は、混合機
２０からライン４３を通り、沈降機１４にポンプで汲み
上げられる。沈降機１４で、水相および有機相は、上層
を形成する有機相および下層を形成する水相とに分離す
る。堰４８で有機相は集められ、そしてライン４９、５
０および５１を通り、混合機２２にポンプで汲み上げら
れる。この有機相は、銅の含有量の多い有機溶液である
（充填有機液と言われ得る）。この銅の含有量の多い有
機溶液は、一般に、有機溶液中の抽出剤１リットル当た
り約１グラム〜約６グラム、そして１つの実施態様にお
いては有機溶液中の抽出剤１リットル当たり約２グラム
〜約４グラムの範囲の銅濃度を有する。
【００６１】銅の含有量の多い有機溶液は、銅が枯渇し
たストリッピング溶液と混合機２２中で混合される。銅
枯渇ストリッピング溶液（薄い電解液と言われ得る）
は、電解質セル１２４中で生成され、そしてライン１６
０、１６２、１６４、１６６、５８および６０を通り、
混合機２２にポンプで汲み上げられる。この銅枯渇スト
リッピング溶液は、一般に１リットル当たり約８０グラ
ム〜約３００グラム、そして１つの実施態様において１
リットル当たり約１５０グラム〜約２００グラムの範囲
の遊離硫酸濃度；および一般に１リットル当たり約１グ
ラム〜約５０グラム、そして１つの実施態様においては
１リットル当たり約４グラム〜約１２グラムの範囲の銅
イオン濃度を有する。新しいストリッピング溶液組成
（ｍａｋｅ−ｕｐ）がライン６２を通って、ライン６０
に加えられ得る。銅の含有量の多い有機溶液および銅が
枯渇したストリッピング溶液は、混合機２２で混合さ
れ、その結果として、水相と混合した有機相が形成す
る。銅イオンは水相から有機相に移動する。混合物は混
合機２２からライン６３を通り、沈降機１６にポンプで
汲み上げられる。沈降機１６で、有機相は水相から分離
され、有機相は堰６４で集められる。この有機相は、銅
が枯渇した有機溶液（ときどき、空の有機液と言われ得
る）である。この銅が枯渇した有機溶液は、一般に有機
溶液中の抽出剤１リットル当たり約０．５グラム〜約２
グラム、そして１つの実施態様においては有機溶液中の
抽出剤１リットル当たり約０．９グラム〜約１．５グラ
ムの範囲の銅濃度を有する。銅が枯渇した有機溶液は、
沈降機１６からライン６５、６６、６８および７０を通
り、混合機１８にポンプで汲み上げられる。新しい有機
溶液組成がライン７２を通って、ライン７０に加えられ
得る。
たストリッピング溶液と混合機２２中で混合される。銅
枯渇ストリッピング溶液（薄い電解液と言われ得る）
は、電解質セル１２４中で生成され、そしてライン１６
０、１６２、１６４、１６６、５８および６０を通り、
混合機２２にポンプで汲み上げられる。この銅枯渇スト
リッピング溶液は、一般に１リットル当たり約８０グラ
ム〜約３００グラム、そして１つの実施態様において１
リットル当たり約１５０グラム〜約２００グラムの範囲
の遊離硫酸濃度；および一般に１リットル当たり約１グ
ラム〜約５０グラム、そして１つの実施態様においては
１リットル当たり約４グラム〜約１２グラムの範囲の銅
イオン濃度を有する。新しいストリッピング溶液組成
（ｍａｋｅ−ｕｐ）がライン６２を通って、ライン６０
に加えられ得る。銅の含有量の多い有機溶液および銅が
枯渇したストリッピング溶液は、混合機２２で混合さ
れ、その結果として、水相と混合した有機相が形成す
る。銅イオンは水相から有機相に移動する。混合物は混
合機２２からライン６３を通り、沈降機１６にポンプで
汲み上げられる。沈降機１６で、有機相は水相から分離
され、有機相は堰６４で集められる。この有機相は、銅
が枯渇した有機溶液（ときどき、空の有機液と言われ得
る）である。この銅が枯渇した有機溶液は、一般に有機
溶液中の抽出剤１リットル当たり約０．５グラム〜約２
グラム、そして１つの実施態様においては有機溶液中の
抽出剤１リットル当たり約０．９グラム〜約１．５グラ
ムの範囲の銅濃度を有する。銅が枯渇した有機溶液は、
沈降機１６からライン６５、６６、６８および７０を通
り、混合機１８にポンプで汲み上げられる。新しい有機
溶液組成がライン７２を通って、ライン７０に加えられ
得る。
【００６２】銅含有水性浸出液は、沈降機１４からライ
ン７３、７４、７５および７６を通って、混合機１８に
ポンプで汲み上げられる。この銅含有水性浸出液は、一
般に１リットル当たり約０．４グラム〜約４グラム、そ
して１つの実施態様においては１リットル当たり約０．
５グラム〜約２．４グラムの範囲の銅イオン濃度；およ
び一般に１リットル当たり約５グラム〜約５０グラム、
そして１つの実施態様においては１リットル当たり約５
グラム〜約３０グラム、そして１つの実施態様において
は１リットル当たり約１０グラム〜約２０グラムの範囲
の遊離硫酸濃度を有する。混合機１８において、有機相
と水相が形成され、混合し、そして銅イオンが水相から
有機相に移動する。混合液はライン７７を通り、沈降機
１５にポンプで汲み上げられる。沈降機１５において、
有機相は水相から分離し、有機相は堰７８で集められ
る。この有機相は、銅含有有機溶液であり、沈降機１５
からライン７９、８０および４２を通り、混合機２０に
ポンプで汲み上げられる。この銅含有有機溶液は、一般
に有機溶液中の抽出剤１リットル当たり約０．５グラム
〜約４グラム、そして１つの実施態様においては有機溶
液中の抽出剤１リットル当たり約１グラム〜約２．４グ
ラムの範囲の銅濃度を有する。沈降機１５における水相
は、銅が枯渇した水性浸出溶液であり、これは、ライン
８１および８２を通ってライン４０にポンプで汲み上げ
られ、そこで浸出傾斜路１０上に散布される。新しい浸
出溶液組成が、ライン８３を通ってライン８２に加えら
れ得る。
ン７３、７４、７５および７６を通って、混合機１８に
ポンプで汲み上げられる。この銅含有水性浸出液は、一
般に１リットル当たり約０．４グラム〜約４グラム、そ
して１つの実施態様においては１リットル当たり約０．
５グラム〜約２．４グラムの範囲の銅イオン濃度；およ
び一般に１リットル当たり約５グラム〜約５０グラム、
そして１つの実施態様においては１リットル当たり約５
グラム〜約３０グラム、そして１つの実施態様において
は１リットル当たり約１０グラム〜約２０グラムの範囲
の遊離硫酸濃度を有する。混合機１８において、有機相
と水相が形成され、混合し、そして銅イオンが水相から
有機相に移動する。混合液はライン７７を通り、沈降機
１５にポンプで汲み上げられる。沈降機１５において、
有機相は水相から分離し、有機相は堰７８で集められ
る。この有機相は、銅含有有機溶液であり、沈降機１５
からライン７９、８０および４２を通り、混合機２０に
ポンプで汲み上げられる。この銅含有有機溶液は、一般
に有機溶液中の抽出剤１リットル当たり約０．５グラム
〜約４グラム、そして１つの実施態様においては有機溶
液中の抽出剤１リットル当たり約１グラム〜約２．４グ
ラムの範囲の銅濃度を有する。沈降機１５における水相
は、銅が枯渇した水性浸出溶液であり、これは、ライン
８１および８２を通ってライン４０にポンプで汲み上げ
られ、そこで浸出傾斜路１０上に散布される。新しい浸
出溶液組成が、ライン８３を通ってライン８２に加えら
れ得る。
【００６３】沈降機１６中で分離した水相は、銅の含有
量の多いストリッピング溶液である。これは沈降機１６
からライン８５および８６を通り、フィルター１３２に
ポンプで汲み上げられ、そしてフィルター１３２からラ
イン８７および８８を通って電解質セル１２４にポンプ
で汲み上げられる。この銅の含有量の多いストリッピン
グ溶液は、一般に１リットル当たり約１グラム〜約６０
グラム、そして１つの実施態様において１リットル当た
り約５グラム〜約１５グラムの範囲の銅イオン濃度；お
よび１リットル当たり約７０グラム〜約２９０グラム、
そして１つの実施態様においては１リットル当たり約１
４０グラム〜約２４０グラムの範囲の遊離硫酸濃度を有
する。電解質セル１２４に入る銅の含有量の多いストリ
ッピング溶液もまた、電解質溶液１２５と言われ得る。
量の多いストリッピング溶液である。これは沈降機１６
からライン８５および８６を通り、フィルター１３２に
ポンプで汲み上げられ、そしてフィルター１３２からラ
イン８７および８８を通って電解質セル１２４にポンプ
で汲み上げられる。この銅の含有量の多いストリッピン
グ溶液は、一般に１リットル当たり約１グラム〜約６０
グラム、そして１つの実施態様において１リットル当た
り約５グラム〜約１５グラムの範囲の銅イオン濃度；お
よび１リットル当たり約７０グラム〜約２９０グラム、
そして１つの実施態様においては１リットル当たり約１
４０グラム〜約２４０グラムの範囲の遊離硫酸濃度を有
する。電解質セル１２４に入る銅の含有量の多いストリ
ッピング溶液もまた、電解質溶液１２５と言われ得る。
【００６４】電解質溶液１２５は、一般に１リットル当
たり約１グラム〜約６０グラム、そして１つの実施態様
において１リットル当たり約４グラム〜約１５グラムの
範囲の銅イオン濃度；および一般に１リットル当たり約
７０グラム〜約３００グラム、そして１つの実施態様に
おいて１リットル当たり約１４０グラム〜約２５０グラ
ムの範囲の遊離硫酸濃度を有する。電解質溶液１２５
は、自然対流により、インターリーブされたカソード１
２６およびアノード１２８の間を流動する。カソード１
２６およびアノード１２８の間に電圧が引加された場
合、銅金属粉末の電着がカソードで生じる。電着した銅
粉末１２９は、機械的スクレーパー（図示されていな
い）を用いてカソード１２６から除去され、そして循環
ベルト１３０に沿って、すすぎおよび脱水ユニット１３
４まで運ばれる。
たり約１グラム〜約６０グラム、そして１つの実施態様
において１リットル当たり約４グラム〜約１５グラムの
範囲の銅イオン濃度；および一般に１リットル当たり約
７０グラム〜約３００グラム、そして１つの実施態様に
おいて１リットル当たり約１４０グラム〜約２５０グラ
ムの範囲の遊離硫酸濃度を有する。電解質溶液１２５
は、自然対流により、インターリーブされたカソード１
２６およびアノード１２８の間を流動する。カソード１
２６およびアノード１２８の間に電圧が引加された場
合、銅金属粉末の電着がカソードで生じる。電着した銅
粉末１２９は、機械的スクレーパー（図示されていな
い）を用いてカソード１２６から除去され、そして循環
ベルト１３０に沿って、すすぎおよび脱水ユニット１３
４まで運ばれる。
【００６５】電解質溶液１２５は、電解質セル１２４で
銅が枯渇した電解質溶液に転化され、そしてセル１２４
からライン１６０を通って排出される。ライン１６０中
の、銅が枯渇した電解質溶液は、一般に１リットル当た
り約１グラム〜約５０グラム、そして１つの実施態様に
おいて１リットル当たり約４グラム〜約１２グラムの範
囲の銅イオン濃度；および一般に１リットル当たり約８
０グラム〜約３００グラム、そして１つの実施態様にお
いては１リットル当たり約１５０グラム〜約２５０グラ
ムの範囲の遊離硫酸濃度を有する。この銅が枯渇した電
解質は、以下のいずれかが行われる：（１）ライン１６
０、１７０、１７１、および８８を通りセル１２４に戻
るように再循環されるか；または（２）ライン１６０、
１６２、１６４、１６６、５８および６０を通り、混合
機２２に、銅が枯渇したストリッピング溶液としてポン
プで汲み上げられる。
銅が枯渇した電解質溶液に転化され、そしてセル１２４
からライン１６０を通って排出される。ライン１６０中
の、銅が枯渇した電解質溶液は、一般に１リットル当た
り約１グラム〜約５０グラム、そして１つの実施態様に
おいて１リットル当たり約４グラム〜約１２グラムの範
囲の銅イオン濃度；および一般に１リットル当たり約８
０グラム〜約３００グラム、そして１つの実施態様にお
いては１リットル当たり約１５０グラム〜約２５０グラ
ムの範囲の遊離硫酸濃度を有する。この銅が枯渇した電
解質は、以下のいずれかが行われる：（１）ライン１６
０、１７０、１７１、および８８を通りセル１２４に戻
るように再循環されるか；または（２）ライン１６０、
１６２、１６４、１６６、５８および６０を通り、混合
機２２に、銅が枯渇したストリッピング溶液としてポン
プで汲み上げられる。
【００６６】銅金属粉末１２９は、電解質セル１２４か
ら、循環ベルト１３０に沿って、すすぎおよび脱水ユニ
ット１３４まで運ばれる。粉末１２９は、ユニット１３
４中ですすがれ、そして乾燥される。すすぎおよび脱水
ユニット１３４は、例えば、粉末に水をスプレーするた
めの、オーバーヘッドスプレーノズルを備えた真空ベル
トフィルターであり得る。粉末１２９は、ユニット１２
９から、循環ベルト１３０に沿ってシュート１３５およ
び貯蔵ホッパー１３６まで運ばれる。粉末１２９は、貯
蔵ホッパー１３６から、粉末散布堰１４５を通って循環
ベルト１４６まで運ばれる。粉末１２９は、循環ベルト
１４６に散布され、炉１４８および冷却チャンバー１５
０を通って進められ、ここでそれを乾燥しそして焼結し
て焼結ケークを形成する。この乾燥および焼結工程の間
に、すすぎおよび脱水ユニット１３４中で選び取られる
酸化物は、還元されるかまたは除去される。この焼結ケ
ークは冷却チャンバー１５０から循環ベルト１４６を通
り、焼結ケーク粉砕機１５２に運ばれ、ついで押出機１
５４に進む。粉砕された焼結ケークは、押出機１５４で
押し出されて、所望の形状の銅製品を形成する。
ら、循環ベルト１３０に沿って、すすぎおよび脱水ユニ
ット１３４まで運ばれる。粉末１２９は、ユニット１３
４中ですすがれ、そして乾燥される。すすぎおよび脱水
ユニット１３４は、例えば、粉末に水をスプレーするた
めの、オーバーヘッドスプレーノズルを備えた真空ベル
トフィルターであり得る。粉末１２９は、ユニット１２
９から、循環ベルト１３０に沿ってシュート１３５およ
び貯蔵ホッパー１３６まで運ばれる。粉末１２９は、貯
蔵ホッパー１３６から、粉末散布堰１４５を通って循環
ベルト１４６まで運ばれる。粉末１２９は、循環ベルト
１４６に散布され、炉１４８および冷却チャンバー１５
０を通って進められ、ここでそれを乾燥しそして焼結し
て焼結ケークを形成する。この乾燥および焼結工程の間
に、すすぎおよび脱水ユニット１３４中で選び取られる
酸化物は、還元されるかまたは除去される。この焼結ケ
ークは冷却チャンバー１５０から循環ベルト１４６を通
り、焼結ケーク粉砕機１５２に運ばれ、ついで押出機１
５４に進む。粉砕された焼結ケークは、押出機１５４で
押し出されて、所望の形状の銅製品を形成する。
【００６７】図１に示される実施態様は、混合機１８お
よび２０ならびに沈降機１４および１５を用いる２段階
の溶液抽出工程を用いているが、さらなる抽出段階が本
発明の本質を逸脱することなくプロセスに加えられ得る
ことが理解される。従って、例えば、図１は、詳細に２
段階の抽出工程を開示し、そして前出の論議は１段階お
よび２段階の抽出に言及しているが、本発明のプロセス
は、３段階、４段階、５段階、６段階などの抽出段階を
用いても行い得る。同様に、図１で示される実施態様
は、混合機２２および沈降機１６を使用する１段階のス
トリッピング工程を用いているが、さらなるストリッピ
ング段階が本発明の本質を逸脱することなくプロセスに
加えられ得ることが理解される。従って、例えば、本発
明のプロセスは、２段階、３段階、４段階、５段階、６
段階などのストリッピング工程を用いても行い得る。
よび２０ならびに沈降機１４および１５を用いる２段階
の溶液抽出工程を用いているが、さらなる抽出段階が本
発明の本質を逸脱することなくプロセスに加えられ得る
ことが理解される。従って、例えば、図１は、詳細に２
段階の抽出工程を開示し、そして前出の論議は１段階お
よび２段階の抽出に言及しているが、本発明のプロセス
は、３段階、４段階、５段階、６段階などの抽出段階を
用いても行い得る。同様に、図１で示される実施態様
は、混合機２２および沈降機１６を使用する１段階のス
トリッピング工程を用いているが、さらなるストリッピ
ング段階が本発明の本質を逸脱することなくプロセスに
加えられ得ることが理解される。従って、例えば、本発
明のプロセスは、２段階、３段階、４段階、５段階、６
段階などのストリッピング工程を用いても行い得る。
【００６８】以下の実施例は本発明の例示の目的で提供
される。他に示さない限り、以下の実施例においてなら
びに明細書および請求の範囲を通して、全ての部および
パーセントは重量基準であり、全ての温度は摂氏であ
り、そして全ての圧力は大気圧である。
される。他に示さない限り、以下の実施例においてなら
びに明細書および請求の範囲を通して、全ての部および
パーセントは重量基準であり、全ての温度は摂氏であ
り、そして全ての圧力は大気圧である。
【００６９】
【実施例】（実施例１）銅チューブを図１に示されるプ
ロセスを用いて調製する。浸出傾斜路１０上にライン４
０から散布される水性浸出液は、１リットル当たり２０
グラムの遊離硫酸濃度を有する硫酸水溶液である。混合
機２０にライン４１を通ってポンプで汲み上げられる銅
の含有量の多い水性浸出溶液は、１リットル当たり１．
８グラムの銅イオン濃度、および１リットル当たり１２
グラムの遊離硫酸濃度を有する。有機溶液は、ＳＸ−７
中の７重量％のＬＩＸ ９８４溶液である。混合機２０
に沈降機１５から加えられる銅含有有機溶液中の銅の濃
度は、有機溶液中のＬＩＸ９８４の１リットル当たり
１．９５グラムの銅濃度を有する。混合機２２に沈降機
１４からポンプで汲み上げられる銅の含有量の多い有機
溶液は、有機溶液中のＬＩＸ ９８４ １リットル当た
り３グラムの銅濃度を有する。混合機２２にライン６０
から加えられる銅が枯渇したストリッピング溶液は、１
リットル当たり１７０グラムの遊離硫酸濃度および１リ
ットル当たり４０グラムの銅イオン濃度を有する。沈降
機１６から混合機１８にポンプで汲み上げられる銅が枯
渇した有機溶液は、有機溶液中のＬＩＸ ９８４ １リ
ットル当たり１．２５グラムの銅濃度を有する。沈降機
１４から混合機１８にポンプで汲み上げられる銅含有水
性浸出液は１リットル当たり０．８グラムの銅イオン濃
度および１リットル当たり１２グラムの遊離硫酸濃度を
有する。沈降機１５からライン８１を通り、ポンプで汲
み上げられる銅が枯渇した水性溶液は、１リットル当た
り０．１５グラムの銅濃度および１リットル当たり１２
グラムの遊離硫酸濃度を有する。電解質セルで使用する
ために沈降機１６から取り出される銅の含有量の多いス
トリッピング溶液は、水および硫酸で希釈され、１リッ
トル当たり８グラムの銅イオン濃度および１リットル当
たり１４５グラムの遊離硫酸濃度を提供する。電解質セ
ル１２４中の電流密度は、平方フィートあたり１００ア
ンペアであり、そして温度は５０℃である。不溶性アノ
ードは、チタン製であり、そしてイリジウムでコートさ
れ、そしてカソードはステンレス鋼製である。電解質セ
ル内で１２０分のサイクルの間、電着を行う。サイクル
の終了時に、カソードをステンレス鋼スクラレイパーを
用いてこすり取る。銅金属粉末をステンレス鋼容器中で
集める。粉末を脱イオン水を用いてすすぎ、次いで水を
デカントする。このすすぎ手順をさらに４回繰り返す。
４００℃で９０分間、水素雰囲気下で粉末を乾燥し、そ
して脱酸素させる。ダイを通して粉末を押し出し、円形
の断面、３／８インチの外径、および１／１６インチの
壁厚みを有する銅チューブを形成する。
ロセスを用いて調製する。浸出傾斜路１０上にライン４
０から散布される水性浸出液は、１リットル当たり２０
グラムの遊離硫酸濃度を有する硫酸水溶液である。混合
機２０にライン４１を通ってポンプで汲み上げられる銅
の含有量の多い水性浸出溶液は、１リットル当たり１．
８グラムの銅イオン濃度、および１リットル当たり１２
グラムの遊離硫酸濃度を有する。有機溶液は、ＳＸ−７
中の７重量％のＬＩＸ ９８４溶液である。混合機２０
に沈降機１５から加えられる銅含有有機溶液中の銅の濃
度は、有機溶液中のＬＩＸ９８４の１リットル当たり
１．９５グラムの銅濃度を有する。混合機２２に沈降機
１４からポンプで汲み上げられる銅の含有量の多い有機
溶液は、有機溶液中のＬＩＸ ９８４ １リットル当た
り３グラムの銅濃度を有する。混合機２２にライン６０
から加えられる銅が枯渇したストリッピング溶液は、１
リットル当たり１７０グラムの遊離硫酸濃度および１リ
ットル当たり４０グラムの銅イオン濃度を有する。沈降
機１６から混合機１８にポンプで汲み上げられる銅が枯
渇した有機溶液は、有機溶液中のＬＩＸ ９８４ １リ
ットル当たり１．２５グラムの銅濃度を有する。沈降機
１４から混合機１８にポンプで汲み上げられる銅含有水
性浸出液は１リットル当たり０．８グラムの銅イオン濃
度および１リットル当たり１２グラムの遊離硫酸濃度を
有する。沈降機１５からライン８１を通り、ポンプで汲
み上げられる銅が枯渇した水性溶液は、１リットル当た
り０．１５グラムの銅濃度および１リットル当たり１２
グラムの遊離硫酸濃度を有する。電解質セルで使用する
ために沈降機１６から取り出される銅の含有量の多いス
トリッピング溶液は、水および硫酸で希釈され、１リッ
トル当たり８グラムの銅イオン濃度および１リットル当
たり１４５グラムの遊離硫酸濃度を提供する。電解質セ
ル１２４中の電流密度は、平方フィートあたり１００ア
ンペアであり、そして温度は５０℃である。不溶性アノ
ードは、チタン製であり、そしてイリジウムでコートさ
れ、そしてカソードはステンレス鋼製である。電解質セ
ル内で１２０分のサイクルの間、電着を行う。サイクル
の終了時に、カソードをステンレス鋼スクラレイパーを
用いてこすり取る。銅金属粉末をステンレス鋼容器中で
集める。粉末を脱イオン水を用いてすすぎ、次いで水を
デカントする。このすすぎ手順をさらに４回繰り返す。
４００℃で９０分間、水素雰囲気下で粉末を乾燥し、そ
して脱酸素させる。ダイを通して粉末を押し出し、円形
の断面、３／８インチの外径、および１／１６インチの
壁厚みを有する銅チューブを形成する。
【００７０】本発明はその好ましい実施態様と関連して
説明されているが、その種々の改変は、本明細書を読む
ことにより当業者にとって自明となることが理解される
べきである。それゆえ、本明細書で開示される発明は、
添付の請求の範囲内にあるそのような改変を含むことが
理解される。
説明されているが、その種々の改変は、本明細書を読む
ことにより当業者にとって自明となることが理解される
べきである。それゆえ、本明細書で開示される発明は、
添付の請求の範囲内にあるそのような改変を含むことが
理解される。
【００７１】
【発明の効果】本発明の顕著な利点は、銅製品が銅鉱石
のような銅供給源から製造されることである。先行技術
によって必要とされるような、カソードの銅（ｃａｔｈ
ｏｄｉｃ ｃｏｐｐｅｒ）をまず作製し、次いで、それ
を融解し、キャスティングし、そして圧延することを必
要としない。
のような銅供給源から製造されることである。先行技術
によって必要とされるような、カソードの銅（ｃａｔｈ
ｏｄｉｃ ｃｏｐｐｅｒ）をまず作製し、次いで、それ
を融解し、キャスティングし、そして圧延することを必
要としない。
【００７２】なお、本発明の好ましい実施態様によれ
ば、以下のプロセスが提供される。
ば、以下のプロセスが提供される。
【００７３】（１） 銅含有物質から直接、成形された
銅製品を作製するプロセスであって、以下を包含する、
プロセス： （Ａ）該銅含有物質を少なくとも１種の水性浸出液の有
効量と接触させて、銅イオンを該浸出液中に溶解させ、
そして銅の含有量の多い水性浸出液を形成する工程； （Ｂ）該銅の含有量の多い水性浸出液を少なくとも１種
の水に不溶である抽出剤の有効量と接触させて、銅イオ
ンを該銅の含有量の多い水性浸出液から該抽出剤に移動
させ、銅の含有量の多い抽出剤および銅の枯渇した水性
浸出液を形成する工程； （Ｃ）該銅の含有量の多い抽出剤を該銅の枯渇した水性
浸出液から分離する工程； （Ｄ）該銅の含有量の多い抽出剤を少なくとも１種の水
性のストリッピング溶液の有効量と接触させて、銅イオ
ンを該抽出剤から該ストリッピング溶液に移動させ、銅
の含有量の多いストリッピング溶液および銅の枯渇した
抽出剤を形成する工程； （Ｅ）該銅の含有量の多いストリッピング溶液を、該銅
の枯渇した抽出剤から分離する工程； （Ｆ）該銅の含有量の多いストリッピング溶液をアノー
ドとカソードとの間に流動させ、そして有効量の電圧を
該アノードと該カソードとの間に印加して、該カソード
上に銅粉末を析出させる工程； （Ｇ）該銅粉末を該カソードから取り出す工程；および （Ｈ）該銅粉末を、押し出し、鍛造し、または成型し、
該成形された銅製品を形成する工程。
銅製品を作製するプロセスであって、以下を包含する、
プロセス： （Ａ）該銅含有物質を少なくとも１種の水性浸出液の有
効量と接触させて、銅イオンを該浸出液中に溶解させ、
そして銅の含有量の多い水性浸出液を形成する工程； （Ｂ）該銅の含有量の多い水性浸出液を少なくとも１種
の水に不溶である抽出剤の有効量と接触させて、銅イオ
ンを該銅の含有量の多い水性浸出液から該抽出剤に移動
させ、銅の含有量の多い抽出剤および銅の枯渇した水性
浸出液を形成する工程； （Ｃ）該銅の含有量の多い抽出剤を該銅の枯渇した水性
浸出液から分離する工程； （Ｄ）該銅の含有量の多い抽出剤を少なくとも１種の水
性のストリッピング溶液の有効量と接触させて、銅イオ
ンを該抽出剤から該ストリッピング溶液に移動させ、銅
の含有量の多いストリッピング溶液および銅の枯渇した
抽出剤を形成する工程； （Ｅ）該銅の含有量の多いストリッピング溶液を、該銅
の枯渇した抽出剤から分離する工程； （Ｆ）該銅の含有量の多いストリッピング溶液をアノー
ドとカソードとの間に流動させ、そして有効量の電圧を
該アノードと該カソードとの間に印加して、該カソード
上に銅粉末を析出させる工程； （Ｇ）該銅粉末を該カソードから取り出す工程；および （Ｈ）該銅粉末を、押し出し、鍛造し、または成型し、
該成形された銅製品を形成する工程。
【００７４】（２） 工程（Ｈ）からの前記成形された
銅製品が引抜かれるかまたは圧延されて、その形状また
はサイズを改変させる、上記項１に記載のプロセス。
銅製品が引抜かれるかまたは圧延されて、その形状また
はサイズを改変させる、上記項１に記載のプロセス。
【００７５】（３） 前記銅含有物質が、銅鉱石、銅濃
縮物、銅精錬生産物、精錬煙じん、銅セメント、硫酸銅
または銅含有廃棄物である、上記項１に記載のプロセ
ス。
縮物、銅精錬生産物、精錬煙じん、銅セメント、硫酸銅
または銅含有廃棄物である、上記項１に記載のプロセ
ス。
【００７６】（４） 前記水性浸出液が、硫酸、ハロゲ
ン酸またはアンモニアを含有する、上記項１に記載のプ
ロセス。
ン酸またはアンモニアを含有する、上記項１に記載のプ
ロセス。
【００７７】（５） 工程（Ｂ）における前記抽出剤
が、灯油、ベンゼン、ナフタレン、燃料オイルおよびデ
ィーゼル燃料からなる群より選択される有機溶媒中に溶
解される、上記項１に記載のプロセス。
が、灯油、ベンゼン、ナフタレン、燃料オイルおよびデ
ィーゼル燃料からなる群より選択される有機溶媒中に溶
解される、上記項１に記載のプロセス。
【００７８】（６） 工程（Ｂ）における前記抽出剤が
以下の式によって表される少なくとも１つの化合物を含
有する、上記項１に記載のプロセス：
以下の式によって表される少なくとも１つの化合物を含
有する、上記項１に記載のプロセス：
【００７９】
【化９】 ここで、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は独
立して、水素またはヒドロカルビル基である。
立して、水素またはヒドロカルビル基である。
【００８０】（７） 工程（Ｂ）における前記抽出剤が
以下の式によって表される少なくとも１つの化合物を含
有する、上記項１に記載のプロセス：
以下の式によって表される少なくとも１つの化合物を含
有する、上記項１に記載のプロセス：
【００８１】
【化１０】 ここで、Ｒ1およびＲ2は独立して、水素またはヒドロカ
ルビル基である。
ルビル基である。
【００８２】（８） 工程（Ｂ）における前記抽出剤が
以下の式によって表される少なくとも１つの化合物を含
有する、上記項１に記載のプロセス：
以下の式によって表される少なくとも１つの化合物を含
有する、上記項１に記載のプロセス：
【００８３】
【化１１】 ここで、Ｒ1およびＲ2は独立して、アルキル基またはア
リール基である。
リール基である。
【００８４】（９） 前記（Ｂ）における前記抽出剤が
少なくとも１種のイオン交換樹脂を含有する、上記項１
に記載のプロセス。
少なくとも１種のイオン交換樹脂を含有する、上記項１
に記載のプロセス。
【００８５】（１０） 前記ストリッピング溶液が硫酸
を含有する、上記項１に記載のプロセス。
を含有する、上記項１に記載のプロセス。
【００８６】（１１） 工程（Ｆ）の間、前記銅の含有
量の多いストリッピング溶液が、１リットル当たり約１
グラム〜約６０グラムの範囲の銅イオン濃度と、１リッ
トル当たり約７０グラム〜約３００グラムの範囲の遊離
硫酸濃度とを有する、上記項１に記載のプロセス。
量の多いストリッピング溶液が、１リットル当たり約１
グラム〜約６０グラムの範囲の銅イオン濃度と、１リッ
トル当たり約７０グラム〜約３００グラムの範囲の遊離
硫酸濃度とを有する、上記項１に記載のプロセス。
【００８７】（１２） 工程（Ｆ）における前記ストリ
ッピング溶液が、少なくとも１種のトリアゾールの存在
によって特徴づけられる、上記項１に記載のプロセス。
ッピング溶液が、少なくとも１種のトリアゾールの存在
によって特徴づけられる、上記項１に記載のプロセス。
【００８８】（１３） 工程（Ｆ）における前記アノー
ドが、寸法安定な不溶性アノードである、上記項１に記
載のプロセス。
ドが、寸法安定な不溶性アノードである、上記項１に記
載のプロセス。
【００８９】（１４） 工程（Ｆ）における前記ストリ
ッピング溶液中の遊離塩化物イオンの濃度が約２０ｐｐ
ｍまでである、上記項１に記載のプロセス。
ッピング溶液中の遊離塩化物イオンの濃度が約２０ｐｐ
ｍまでである、上記項１に記載のプロセス。
【００９０】（１５） 工程（Ｆ）の間、前記ストリッ
ピング溶液中の遊離塩化物イオン濃度が約１ｐｐｍ未満
である、上記項１に記載のプロセス。
ピング溶液中の遊離塩化物イオン濃度が約１ｐｐｍ未満
である、上記項１に記載のプロセス。
【００９１】（１６） 工程（Ｈ）の前に、前記銅粉末
が、アルミニウム、シリコン、ベリリウム、マグネシウ
ム、トリウム、ジルコニウムおよびイットリウムからな
る群より選択される反応性元素の酸化物と組み合わさ
れ、分散強化銅を形成する、上記項１に記載のプロセ
ス。
が、アルミニウム、シリコン、ベリリウム、マグネシウ
ム、トリウム、ジルコニウムおよびイットリウムからな
る群より選択される反応性元素の酸化物と組み合わさ
れ、分散強化銅を形成する、上記項１に記載のプロセ
ス。
【００９２】（１７） 前記成形製品が、チューブまた
はパイプの形態である、上記項１に記載のプロセス。
はパイプの形態である、上記項１に記載のプロセス。
【００９３】（１８） 前記成形製品が、丸、平面、正
方形、長方形、十字形、多角形、Ｌ、Ｈ，Ｉ、Ｕまたは
Ｔの断面を有する、上記項１に記載のプロセス。
方形、長方形、十字形、多角形、Ｌ、Ｈ，Ｉ、Ｕまたは
Ｔの断面を有する、上記項１に記載のプロセス。
【００９４】（１９） 前記成形製品が、その中に、ま
たはそれを通る、１つ以上の孔を有する、上記項１に記
載のプロセス。
たはそれを通る、１つ以上の孔を有する、上記項１に記
載のプロセス。
【００９５】（２０） 銅含有物質から直接、成形され
た銅製品を作製するプロセスであって、以下を包含す
る、プロセス： （Ａ）該銅含有物質を少なくとも１種の水性浸出液の有
効量と接触させて、銅イオンを該浸出液中に溶解させ、
そして銅の含有量の多い水性浸出液を形成する工程； （Ｂ−１）工程（Ａ）からの該銅の含有量の多い水性浸
出液を、工程（Ｃ−２）からの少なくとも１種の水に不
溶である銅含有抽出剤の有効量と接触させて、銅イオン
を該銅の含有量の多い水性浸出液から該銅含有抽出剤に
移動させ、銅の含有量の多い抽出剤および第１の銅の枯
渇した水性浸出液を形成する工程； （Ｃ−１）該銅の含有量の多い抽出剤を該第１の銅の枯
渇した水性浸出液から分離し、該銅の含有量の多い抽出
剤を工程（Ｄ）に進める工程； （Ｂ−２）工程（Ｃ−１）からの該第１の銅の枯渇した
水性浸出液を、工程（Ｅ）からの少なくとも１種の銅の
枯渇した抽出剤の有効量と接触させて、銅イオンを該第
１の銅の枯渇した水性浸出液から該銅の枯渇した抽出剤
に移動させ、銅含有抽出剤および第２の銅の枯渇した水
性浸出液を形成する工程； （Ｃ−２）該銅含有抽出剤を該第２の銅の枯渇した水性
浸出液から分離し、該銅含有抽出剤を工程（Ｂ−１）に
再循環させる工程； （Ｄ）工程（Ｃ−１）からの該銅の含有量の多い抽出剤
を少なくとも１種の水性のストリッピング溶液の有効量
と接触させて、銅イオンを該銅の含有量の多い抽出剤か
ら該ストリッピング溶液に移動させ、第１電解質溶液お
よび銅の枯渇した抽出剤を形成する工程； （Ｅ）該第１電解質溶液を該銅の枯渇した抽出剤から分
離し、該銅の枯渇した抽出剤を工程（Ｂ−２）に再循環
させる工程； （Ｆ）該第１電解質溶液を少なくとも１つのアノードと
少なくとも１つの回転式カソードを備える電解質セルに
進め、そして有効量の電圧を該アノードと該カソードと
の間に印加して、該カソード上に銅粉末を析出させる工
程； （Ｇ）該銅粉末を該カソードから取り出す工程；および （Ｈ）該銅粉末を、押し出し、鍛造し、または成型し、
該成形された銅製品を形成する工程。
た銅製品を作製するプロセスであって、以下を包含す
る、プロセス： （Ａ）該銅含有物質を少なくとも１種の水性浸出液の有
効量と接触させて、銅イオンを該浸出液中に溶解させ、
そして銅の含有量の多い水性浸出液を形成する工程； （Ｂ−１）工程（Ａ）からの該銅の含有量の多い水性浸
出液を、工程（Ｃ−２）からの少なくとも１種の水に不
溶である銅含有抽出剤の有効量と接触させて、銅イオン
を該銅の含有量の多い水性浸出液から該銅含有抽出剤に
移動させ、銅の含有量の多い抽出剤および第１の銅の枯
渇した水性浸出液を形成する工程； （Ｃ−１）該銅の含有量の多い抽出剤を該第１の銅の枯
渇した水性浸出液から分離し、該銅の含有量の多い抽出
剤を工程（Ｄ）に進める工程； （Ｂ−２）工程（Ｃ−１）からの該第１の銅の枯渇した
水性浸出液を、工程（Ｅ）からの少なくとも１種の銅の
枯渇した抽出剤の有効量と接触させて、銅イオンを該第
１の銅の枯渇した水性浸出液から該銅の枯渇した抽出剤
に移動させ、銅含有抽出剤および第２の銅の枯渇した水
性浸出液を形成する工程； （Ｃ−２）該銅含有抽出剤を該第２の銅の枯渇した水性
浸出液から分離し、該銅含有抽出剤を工程（Ｂ−１）に
再循環させる工程； （Ｄ）工程（Ｃ−１）からの該銅の含有量の多い抽出剤
を少なくとも１種の水性のストリッピング溶液の有効量
と接触させて、銅イオンを該銅の含有量の多い抽出剤か
ら該ストリッピング溶液に移動させ、第１電解質溶液お
よび銅の枯渇した抽出剤を形成する工程； （Ｅ）該第１電解質溶液を該銅の枯渇した抽出剤から分
離し、該銅の枯渇した抽出剤を工程（Ｂ−２）に再循環
させる工程； （Ｆ）該第１電解質溶液を少なくとも１つのアノードと
少なくとも１つの回転式カソードを備える電解質セルに
進め、そして有効量の電圧を該アノードと該カソードと
の間に印加して、該カソード上に銅粉末を析出させる工
程； （Ｇ）該銅粉末を該カソードから取り出す工程；および （Ｈ）該銅粉末を、押し出し、鍛造し、または成型し、
該成形された銅製品を形成する工程。
【図１】 図１は、本発明の１つの実施態様を示すフロ
ーシートであり、ここで、銅は銅鉱石から抽出され、電
着されて銅粉末を形成し、そしてこの銅粉末が押し出さ
れて、成形された銅製品を形成する。
ーシートであり、ここで、銅は銅鉱石から抽出され、電
着されて銅粉末を形成し、そしてこの銅粉末が押し出さ
れて、成形された銅製品を形成する。
【図２】 本発明に従って作製された、伸ばされて、押
し出された銅製品の断面図を例示する。
し出された銅製品の断面図を例示する。
【図３】 本発明に従って作製された、伸ばされて、押
し出された銅製品の断面図を例示する。
し出された銅製品の断面図を例示する。
【図４】 本発明に従って作製された、伸ばされて、押
し出された銅製品の断面図を例示する。
し出された銅製品の断面図を例示する。
【図５】 本発明に従って作製された、伸ばされて、押
し出された銅製品の断面図を例示する。
し出された銅製品の断面図を例示する。
【図６】 本発明に従って作製された、伸ばされて、押
し出された銅製品の断面図を例示する。
し出された銅製品の断面図を例示する。
【図７】 本発明に従って作製された、伸ばされて、押
し出された銅製品の断面図を例示する。
し出された銅製品の断面図を例示する。
【図８】 本発明に従って作製された、伸ばされて、押
し出された銅製品の断面図を例示する。
し出された銅製品の断面図を例示する。
【図９】 本発明に従って作製された、伸ばされて、押
し出された銅製品の断面図を例示する。
し出された銅製品の断面図を例示する。
【図１０】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図１１】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図１２】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図１３】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図１４】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図１５】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図１６】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図１７】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図１８】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図１９】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図２０】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図２１】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図２２】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図２３】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図２４】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図２５】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図２６】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図２７】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図２８】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図２９】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図３０】 本発明に従って作製され得る連結部材から
作製されるパイプまたはチューブのアセンブリを例示す
る。
作製されるパイプまたはチューブのアセンブリを例示す
る。
【図３１】 図３０に例示されるパイプまたは管状アセ
ンブリのインターロック部材を作製するのに用いられ得
る押し出しダイを例示する。
ンブリのインターロック部材を作製するのに用いられ得
る押し出しダイを例示する。
【図３２】 図３０に例示されるパイプまたは管状アセ
ンブリのインターロック部材を作製するのに用いられ得
る押し出しダイを例示する。
ンブリのインターロック部材を作製するのに用いられ得
る押し出しダイを例示する。
【図３３】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図３４】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図３５】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
【図３６】 本発明に従って作製された、伸ばされて、
押し出された銅製品の断面図を例示する。
押し出された銅製品の断面図を例示する。
１０ 浸出傾斜路 １４ 沈降機 １５ 沈降機 １６ 沈降機 １８ 混合機 ２０ 混合機 ２２ 混合機 ４０ ライン ４１ ライン ６０ ライン ８１ ライン １２４ 電解質セル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ２２Ｂ 3/04 Ｃ２２Ｂ 7/00 Ｈ 3/20 7/02 Ｂ 3/26 7/04 Ｂ 3/42 15/14 7/00 Ｃ２２Ｃ 1/05 Ｃ 7/02 Ｃ２５Ｃ 1/12 7/04 Ｃ２２Ｂ 15/08 15/00 15/12 15/14 3/00 Ｈ Ｃ２２Ｃ 1/05 Ａ Ｃ２５Ｃ 1/12 Ｊ Ｍ (72)発明者 ロバート ジェイ． フェドール アメリカ合衆国 オハイオ 44145， ウ エストレイク， ロイヤル フォレスト ドライブ 27766 (72)発明者 シャロン ケイ． ヤング アメリカ合衆国 アリゾナ 85704， ツ ーソン， ウエスト サン ルーカス ド ライブ 1438 (72)発明者 スーザン エス． エノス アメリカ合衆国 アリゾナ 85742， ツ ーソン， ウエスト バタフライ レーン 3752 (72)発明者 ウェンディー エム． ゴート アメリカ合衆国 アリゾナ 85292， ウ ィンケルマン， ドゥドリービル ロード 3502 (72)発明者 ロジャー エヌ． ライト アメリカ合衆国 ニューヨーク 12148, レックスフォード， マリア コート 12 (72)発明者 スティーブン ジェイ． コウト アメリカ合衆国 アリゾナ 85224， チ ャンドラー， エヌ． ロス アルトス 1622 Ｆターム(参考） 4K001 AA09 BA06 BA10 BA13 BA14 BA16 BA17 BA19 BA21 BA24 DB03 DB21 DB30 DB34 DB36 4K017 AA03 BA05 EJ01 FB11 4K018 AA04 AB01 AC01 BA02 BA11 CA11 CA31 DA11 EA31 HA02 HA03 HA04 HA10 4K058 AA21 BA21 BB03 CA04 CA09 CA11
Claims (20)
- 【請求項１】 銅含有物質から直接、成形された銅製品
を作製するプロセスであって、以下を包含する、プロセ
ス： （Ａ）該銅含有物質を少なくとも１種の水性浸出液の有
効量と接触させて、銅イオンを該浸出液中に溶解させ、
そして銅の含有量の多い水性浸出液を形成する工程； （Ｂ）該銅の含有量の多い水性浸出液を少なくとも１種
の水不溶性抽出剤の有効量と接触させて、銅イオンを該
銅の含有量の多い水性浸出液から該抽出剤に移動させ、
銅の含有量の多い抽出剤および銅の枯渇した水性浸出液
を形成する工程； （Ｃ）該銅の含有量の多い抽出剤を該銅の枯渇した水性
浸出液から分離する工程； （Ｄ）該銅の含有量の多い抽出剤を少なくとも１種の水
性のストリッピング溶液の有効量と接触させて、銅イオ
ンを該抽出剤から該ストリッピング溶液に移動させ、銅
の含有量の多いストリッピング溶液および銅の枯渇した
抽出剤を形成する工程； （Ｅ）該銅の含有量の多いストリッピング溶液を、該銅
の枯渇した抽出剤から分離する工程； （Ｆ）該銅の含有量の多いストリッピング溶液をアノー
ドとカソードとの間に流動させ、そして有効量の電圧を
該アノードと該カソードとの間に印加して、該カソード
上に銅粉末を析出させる工程； （Ｇ）該銅粉末を該カソードから取り出す工程；および （Ｈ）該銅粉末を、押し出し、鍛造し、または成型し、
該成形された銅製品を形成する工程。 - 【請求項２】 工程（Ｈ）からの前記成形された銅製品
が引抜かれるかまたは圧延されて、その形状またはサイ
ズを改変させる、請求項１に記載のプロセス。 - 【請求項３】 前記銅含有物質が、銅鉱石、銅濃縮物、
銅精錬生産物、精錬煙じん、銅セメント、硫酸銅または
銅含有廃棄物である、請求項１に記載のプロセス。 - 【請求項４】 前記水性浸出液が、硫酸、ハロゲン酸ま
たはアンモニアを含有する、請求項１に記載のプロセ
ス。 - 【請求項５】 工程（Ｂ）における前記抽出剤が、灯
油、ベンゼン、ナフタレン、燃料オイルおよびディーゼ
ル燃料からなる群より選択される有機溶媒中に溶解され
る、請求項１に記載のプロセス。 - 【請求項６】 工程（Ｂ）における前記抽出剤が以下の
式によって表される少なくとも１つの化合物を含有す
る、請求項１に記載のプロセス： 【化１】 ここで、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は独
立して、水素またはヒドロカルビル基である。 - 【請求項７】 工程（Ｂ）における前記抽出剤が以下の
式によって表される少なくとも１つの化合物を含有す
る、請求項１に記載のプロセス： 【化２】 ここで、Ｒ1およびＲ2は独立して、水素またはヒドロカ
ルビル基である。 - 【請求項８】 工程（Ｂ）における前記抽出剤が以下の
式によって表される少なくとも１つの化合物を含有す
る、請求項１に記載のプロセス： 【化３】 ここで、Ｒ1およびＲ2は独立して、アルキル基またはア
リール基である。 - 【請求項９】 前記（Ｂ）における前記抽出剤が少なく
とも１種のイオン交換樹脂を含有する、請求項１に記載
のプロセス。 - 【請求項１０】 前記ストリッピング溶液が硫酸を含有
する、請求項１に記載のプロセス。 - 【請求項１１】 工程（Ｆ）の間、前記銅の含有量の多
いストリッピング溶液が、１リットル当たり１グラム〜
６０グラムの範囲の銅イオン濃度と、１リットル当たり
７０グラム〜３００グラムの範囲の遊離硫酸濃度とを有
する、請求項１に記載のプロセス。 - 【請求項１２】 工程（Ｆ）における前記ストリッピン
グ溶液が、少なくとも１種のトリアゾールの存在によっ
て特徴づけられる、請求項１に記載のプロセス。 - 【請求項１３】 工程（Ｆ）における前記アノードが、
寸法安定な不溶性アノードである、請求項１に記載のプ
ロセス。 - 【請求項１４】 工程（Ｆ）における前記ストリッピン
グ溶液中の遊離塩化物イオンの濃度が２０ｐｐｍまでで
ある、請求項１に記載のプロセス。 - 【請求項１５】 工程（Ｆ）の間、前記ストリッピング
溶液中の遊離塩化物イオン濃度が１ｐｐｍ未満である、
請求項１に記載のプロセス。 - 【請求項１６】 工程（Ｈ）の前に、前記銅粉末が、ア
ルミニウム、シリコン、ベリリウム、マグネシウム、ト
リウム、ジルコニウムおよびイットリウムからなる群よ
り選択される反応性元素の酸化物と組み合わされ、分散
強化銅を形成する、請求項１に記載のプロセス。 - 【請求項１７】 前記成形製品が、チューブまたはパイ
プの形態である、請求項１に記載のプロセス。 - 【請求項１８】 前記成形製品が、丸、平面、正方形、
長方形、十字形、多角形、Ｌ、Ｈ，Ｉ、ＵまたはＴの断
面を有する、請求項１に記載のプロセス。 - 【請求項１９】 前記成形製品が、その中に、またはそ
れを通る、１つ以上の孔を有する、請求項１に記載のプ
ロセス。 - 【請求項２０】 銅含有物質から直接、成形された銅製
品を作製するプロセスであって、以下を包含する、プロ
セス： （Ａ）該銅含有物質を少なくとも１種の水性浸出液の有
効量と接触させて、銅イオンを該浸出液中に溶解させ、
そして銅の含有量の多い水性浸出液を形成する工程； （Ｂ−１）工程（Ａ）からの該銅の含有量の多い水性浸
出液を、工程（Ｃ−２）からの少なくとも１種の水不溶
性銅含有抽出剤の有効量と接触させて、銅イオンを該銅
の含有量の多い水性浸出液から該銅含有抽出剤に移動さ
せ、銅の含有量の多い抽出剤および第１の銅の枯渇した
水性浸出液を形成する工程； （Ｃ−１）該銅の含有量の多い抽出剤を該第１の銅の枯
渇した水性浸出液から分離し、該銅の含有量の多い抽出
剤を工程（Ｄ）に進める工程； （Ｂ−２）工程（Ｃ−１）からの該第１の銅の枯渇した
水性浸出液を、工程（Ｅ）からの少なくとも１種の銅の
枯渇した抽出剤の有効量と接触させて、銅イオンを該第
１の銅の枯渇した水性浸出液から該銅の枯渇した抽出剤
に移動させ、銅含有抽出剤および第２の銅の枯渇した水
性浸出液を形成する工程； （Ｃ−２）該銅含有抽出剤を該第２の銅の枯渇した水性
浸出液から分離し、該銅含有抽出剤を工程（Ｂ−１）に
再循環させる工程； （Ｄ）工程（Ｃ−１）からの該銅の含有量の多い抽出剤
を少なくとも１種の水性のストリッピング溶液の有効量
と接触させて、銅イオンを該銅の含有量の多い抽出剤か
ら該ストリッピング溶液に移動させ、第１電解質溶液お
よび銅の枯渇した抽出剤を形成する工程； （Ｅ）該第１電解質溶液を該銅の枯渇した抽出剤から分
離し、該銅の枯渇した抽出剤を工程（Ｂ−２）に再循環
させる工程； （Ｆ）該第１電解質溶液を少なくとも１つのアノードと
少なくとも１つの回転式カソードを備える電解質セルに
進め、そして有効量の電圧を該アノードと該カソードと
の間に印加して、該カソード上に銅粉末を析出させる工
程； （Ｇ）該銅粉末を該カソードから取り出す工程；および （Ｈ）該銅粉末を、押し出し、鍛造し、または成型し、
該成形された銅製品を形成する工程。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/634,432 US5820653A (en) | 1993-04-19 | 1996-04-18 | Process for making shaped copper articles |
| US08/634,432 | 1996-04-18 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9537061A Division JPH10510592A (ja) | 1996-04-18 | 1996-11-12 | 成形された銅製品の作製プロセス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002069509A true JP2002069509A (ja) | 2002-03-08 |
Family
ID=24543768
Family Applications (2)
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