SA518392144B1 - عملية تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي وطريقة لاستخدامها - Google Patents

عملية تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي وطريقة لاستخدامها Download PDF

Info

Publication number
SA518392144B1
SA518392144B1 SA518392144A SA518392144A SA518392144B1 SA 518392144 B1 SA518392144 B1 SA 518392144B1 SA 518392144 A SA518392144 A SA 518392144A SA 518392144 A SA518392144 A SA 518392144A SA 518392144 B1 SA518392144 B1 SA 518392144B1
Authority
SA
Saudi Arabia
Prior art keywords
stream
feed solution
chamber
feed
module
Prior art date
Application number
SA518392144A
Other languages
English (en)
Inventor
اليوت باكير
جارى كارميجنانى
كويانج وى
جون ويبلى
Original Assignee
تريفى سيستميز إنك
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=59500465&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=SA518392144(B1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by تريفى سيستميز إنك filed Critical تريفى سيستميز إنك
Publication of SA518392144B1 publication Critical patent/SA518392144B1/ar

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D61/00Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/02Reverse osmosis; Hyperfiltration ; Nanofiltration
    • B01D61/025Reverse osmosis; Hyperfiltration
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D61/00Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/02Reverse osmosis; Hyperfiltration ; Nanofiltration
    • B01D61/12Controlling or regulating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D61/00Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/002Forward osmosis or direct osmosis
    • B01D61/0021Forward osmosis or direct osmosis comprising multiple forward osmosis steps
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D61/00Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/002Forward osmosis or direct osmosis
    • B01D61/0022Apparatus therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D61/00Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/002Forward osmosis or direct osmosis
    • B01D61/0024Controlling or regulating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D61/00Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/02Reverse osmosis; Hyperfiltration ; Nanofiltration
    • B01D61/025Reverse osmosis; Hyperfiltration
    • B01D61/026Reverse osmosis; Hyperfiltration comprising multiple reverse osmosis steps
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D61/00Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/58Multistep processes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/44Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
    • C02F1/441Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by reverse osmosis
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/44Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
    • C02F1/445Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by forward osmosis
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F9/00Multistage treatment of water, waste water or sewage
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2311/00Details relating to membrane separation process operations and control
    • B01D2311/14Pressure control
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2311/00Details relating to membrane separation process operations and control
    • B01D2311/25Recirculation, recycling or bypass, e.g. recirculation of concentrate into the feed
    • B01D2311/251Recirculation of permeate
    • B01D2311/2513Recirculation of permeate to concentrate side
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2311/00Details relating to membrane separation process operations and control
    • B01D2311/25Recirculation, recycling or bypass, e.g. recirculation of concentrate into the feed
    • B01D2311/252Recirculation of concentrate
    • B01D2311/2521Recirculation of concentrate to permeate side
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2311/00Details relating to membrane separation process operations and control
    • B01D2311/25Recirculation, recycling or bypass, e.g. recirculation of concentrate into the feed
    • B01D2311/252Recirculation of concentrate
    • B01D2311/2523Recirculation of concentrate to feed side
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2311/00Details relating to membrane separation process operations and control
    • B01D2311/25Recirculation, recycling or bypass, e.g. recirculation of concentrate into the feed
    • B01D2311/253Bypassing of feed
    • B01D2311/2531Bypassing of feed to permeate side
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2317/00Membrane module arrangements within a plant or an apparatus
    • B01D2317/02Elements in series
    • B01D2317/022Reject series
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D61/00Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/02Reverse osmosis; Hyperfiltration ; Nanofiltration
    • B01D61/027Nanofiltration
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D61/00Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/14Ultrafiltration; Microfiltration
    • B01D61/145Ultrafiltration
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/38Treatment of water, waste water, or sewage by centrifugal separation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/44Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
    • C02F1/442Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by nanofiltration
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/44Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
    • C02F1/444Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by ultrafiltration or microfiltration
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/08Seawater, e.g. for desalination
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2209/00Controlling or monitoring parameters in water treatment
    • C02F2209/03Pressure
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2301/00General aspects of water treatment
    • C02F2301/08Multistage treatments, e.g. repetition of the same process step under different conditions
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02ATECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
    • Y02A20/00Water conservation; Efficient water supply; Efficient water use
    • Y02A20/124Water desalination
    • Y02A20/131Reverse-osmosis

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Abstract

يتعلق الاختراع الحالي بوسائل، طرق، وأنظمة لإنتاج تيار تغذية مركز concentrated feed stream وتيار تغذية مخفف diluted feed stream باستخدام تيار مادة مذابة solute stream يتم توفيره إلى الجانب منخفض الضغط من الغشاء شبه المنفذ semi-permeable membrane أثناء عملية تناضح عكسي reverse osmosis process. تتضمن العملية توفير غشاء شبه منفذ له جانب أول وجانب ثانٍ وإدخال تيار محلول تغذية feed solution stream أول على الجانب الأول للغشاء وتيار محلول تغذية ثانٍ على الجانب الثاني، حيث يكون الضغط التناضحي لتيار محلول التغذية الأول أكبر من أو يساوي الضغط التناضحي osmotic pressure لتيار محلول التغذية الثاني. تتضمن العملية كذلك بذل ضغط هيدروستاتيكي hydrostatic pressure على الجانب الأول للغشاء بحيث يمر المذيب من الجانب الأول إلى الجانب الثاني مما يؤدي إلى إنتاج تيار محلول تغذية أول مركز وتيار محلول تغذية ثانٍ مخفف. يتم توفير وسائل وأنظمة لإجراء العمليات. شكل1

Description

عملية تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي وطريقة لاستخدامها ‎Osmotic Pressure Assisted Reverse Osmosis Process‏ ‎and Method of Using the Same‏ خلفية الاختراع تسمح أغشية ‎membranes‏ معينة بمرور جزيثئات المذيب ‎solvent molecules‏ من خلالها وليس جزيئات المادة المذابة ‎molecules‏ 50101. تتم الإشارة إلى تلك الأغشية بكونها شبه منفذة. يمكن استخدام الأغشية شبه المنفذة ‎Semipermeable membranes‏ في تقنيات التحلية وتنقية الماء . إن التناضح الأمامي ‎Forward osmosis‏ معروف في المجال وكان موضوع الدراسات الحديثة بسبب احتمال حدوث نقص في الماء العذب في المستقبل ووجود زيادة مناظرة في الطلب على تقنيات 0 التحلية وتثقية الماء الاقتصادية. يمكن تثقية ماء البحرء الماء الضارب إلى الملوحة أو الماء الملوث من خلال سحب الماء (المذيب) عبر غشاء شبه منفذ ‎csemipermeable membrane‏ والذي يطرد الأملاح وغيرها من الملوثات (المواد المذابة ‎(solutes‏ عمليات التناضح الأمامي ‎forward‏ ‎cosmosis processes‏ يتم سحب الماء عبر الغشاء شبه المنفذ باستخدام محلول سحب ‎draw solution‏ له ضغط تناضحي أعلى من تيار التغذية ‎feed‏ لا تنقي عملية التناضح الأمامي الماء. فيحرك 5 التناضح الأمامي ببساطة الماء من مجموعة مواد مذابة إلى مجموعة أخرى من المواد المذابة. تم أيضًا استخدام عملية التناضح العكسي في تقنيات تنقية الماء. ‎og‏ وجه التحديد؛ تم استخدام التناضح العكسي لتحلية ماء ‎add)‏ الماء الضارب إلى الملوحة أو الماء الملوث من خلال تحلية الماء لجعله صالحًا للشرب أو ماء يمكن استخدامه صناعيًا. في التناضح الأمامي؛ يتدفق المذيب من محلول مخفف ‎dilute solution‏ عبر غشاء شبه ‎Mie‏ إلى محلول أكثر تركيزًا. من خلال تسليط 0 ضغط يساوي الضغط التناضحي على المحلول الأكثر تركيزاء يمكن إيقاف العملية التناضحية ‎process‏ 0801011. من خلال تسليط ضغط أكبرء يمكن عكس العملية التناضحية. في هذه الحالة؛ يتدفق المذيب من المحلول المركز ‎concentrated solution‏ (مثل ‎ele‏ البحر) عبر الغشاء شبه المنفذ إلى المحلول الأكثر تخفيقًا. يمكن أن تجعل متطلبات الضغط الهيدروستاتيكي ‎hydrostatic pressure‏ الخاصة بالتناضح العكسي عملية التناضح العكسي مكلفة من حيث الطاقة. بالإضافة إلى ذلك؛ فإن 5 عمليات التبخير والبلورة المشاركة في أنظمة ليس بها أي تصريف للسائل ‎zero liquid discharge‏ ‎((ZLD) systems‏ المستخدمة لتركيز المواد المذابة بشكل يفوق تلك الخاصة بالتناضح العكسي
‎(RO) reverse osmosis‏ التقليدية؛ هي عمليات مكلفة أيضًا ‎٠‏ وبالتالي؛ يفضل توفير ‎dala‏ طرق
‏وتقنيات قادرة على تقليل تكاليف الطاقة أو زيادة فعالية أنظمة التناضح العكسي ‎reverse 0Smosis‏
‎systems‏ وغيرها من أنظمة تنقية الماء الأخرى.
‏يتعلق الطلب الأمريكي رقم [ب92060 بشكل عام بأنظمة وطرق معالجة السوائل» وخاصة طريقة
‏5 تنقية السوائل باستخدام سلسلة من وحدات التناضح العكسي ‎reverse osmosis units‏ التي يتم فيها
‏تقليل فرق الضغط عبر أغشية وحدات التناضح العكسي.
‏ويتعلق الطلب الأمريكي رقم 201513669911 بطرق وجهاز لمعالجة محلول. وتكون الطرق
‏والمعدات قابلة للتنفيذ لتوفير مذيب نقي (أي محلول مخفف ‎(dilute solution‏ و/أو لتوفير تركيبات
‏مركزة (مادة مذابة ‎(solute‏ في أمثلة معينة؛ تم وصف عمليات وأنظمة التناضح العكسي المتتالية. 0 تشتمل بعض الأمثلة المحتملة للاستخدام على: إعادة تركيز محلول ملحي ¢ أو مادة مجففة ‎«desiccant‏
‏أو إزالة السوائل؛ المياه المالحة؛ المياه ‎ALE‏ الملوحة؛ المياه الجوفية أو مياه البحرء وإزالة المعادن
‎demineralization‏ و / أو تحلية المياه؛ وتركيز العصير؛ تركيز محلول السكر والتنقية أو التركيز
‏الصيدلاني؛ ومعالجة النفايات السائلة أو مياه الصرف الصحي؛ واستعادة المواد الأخرى المختارة
‏(القيمة) من المحلول. وقد تم وصف ‎Bang‏ أو ‎Bang‏ نمطية للتناضح العكسي فريدة من نوعهاء وتم تصميمها لكل من مدخل الضغط المرتفع الجانبي ومدخل جانبي للضغط المنخفض لمادة التغذية وتم
‏وصف تدفق المخرج.
‏الوصف العام للاختراع
‏يتعلق الإختراع الحالي بتنقية؛ إزالة التلوث من؛ أو تحلية ماء ‎ad)‏ الماء الضارب إلى الملوحة؛
‏ماء الصرفء الماء الصناعيء الماء المنتج و/أو الماء الملوث باستخدام عملية تناضح عكسي ‎reverse osmosis process 0‏ بمساعدة الضغط التناضحي ‎osmotic pressure‏ كما يتعلق الإختراع
‏الحالي بتكوين محاليل ‎ala‏ تغذية مركزة ‎concentrated feedstock solutions‏ باستخدام عملية تناضح
‏عكسي بمساعدة الضغط التناضحي وإنتاج ماء نقي في صورة منتج ثانوي.
‏شرح مختصر. للرسومات
‏يتم وصف تجسيدات الطلب الحالي؛ على سبيل المثال ‎cad‏ بالإشارة إلى الأشكال الملحقة؛ حيث: 5 الشكل 1 عبارة عن مخطط لنظام تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي ‎osmotic pressure‏
‎(OsARO) assisted reverse osmosis‏ أحادي المرحلة؛ ‎dg‏ لتجسيد توضيحي للكشف الحالي؛ الشكل 2 عبارة عن مخطط لنظام تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي متعدد المراحل؛ وفقًا لتجسيد توضيحي للكشف الحالي؛ الشكل 3ا-ه ‎le‏ عن سلسلة مخططات تقارن نظام تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي بأنظمة التناضح العكسي؛ التناضح الأمامي ‎forward osmosis‏ (20)؛ التناضح متأخر الضغط ‎(PRO) pressure retarded osmosis‏ والتناضح الأمامي بمساعدة الضغط ‎pressure assisted‏ ‎«(PAFO) forward osmosis‏ وفتًا لتجسيد توضيحي للكشف الحالي؛ الشكل 4 عبارة عن وسيلة عرض رسومية لتغير التركيز بالنسبة للضغط المنخفض المسلط لمحلول تغذية ‎feed solution‏ باستخدام نظام تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي أحادي المرحلة؛ ‎iy 0‏ لتجسيد توضيحي للكشف الحالي؛ الشكل 5 عبارة عن وسيلة عرض رسومية لتغير التركيز بالنسبة للضغط المرتفع المسلط لمحلول تغذية باستخدام نظام تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي أحادي المرحلة؛ ‎Gy‏ لتجسيد توضيحي للكشف الحالي؛ الشكل 6 عبارة عن مخطط لنظام التناضح الأمامي-التناضح العكسي-تناضح عكسي بمساعدة 5 الضغط التناضحي؛ وفقًا لتجسيد توضيحي للكشف الحالي؛ الشكل 7 عبارة عن مخطط لنظام تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي-التناضح العكسي؛ ‎Udy‏ لتجسيد توضيحي للكشف الحالي؛ الشكل 8 عبارة عن مخطط لنظام التناضح الأمامي-التناضح العكسي-تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي؛ وفقًا لتجسيد توضيحي للكشف الحالي؛ 0 الشكل 9 عبارة عن مخطط لنظام التناضح الأمامي-التناضح ‎wall‏ تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي بديل آخرء وفقًا لتجسيد توضيحي للكشف الحالي. الشكل 10آ عبارة عن مخطط لنظام التناضح العكسي يتم فيه توصيل 73.2 بالوزن من تيار التغذية ‎cla‏ البحر إلى غشاء بواسطة مضخة مرتفعة الضغط ‎thigh pressure pump‏ الشكل 10ب عبارة عن مخطط لنفس نظام التناضح العكسي المصور في الشكل 110 ولكن بإضافة 5 مرحلة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي أمام المضخة مرتفعة الضغط؛ مما يؤدي إلى زيادة فعالية النظام؛ ‎Uy‏ لتجسيد توضيحي للكشف الحالي؛
الشكل 11 عبارة عن مخطط لنظام التناضح العكسي-تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي الذي له ضغط تشغيل ‎operating pressure‏ منخفض بسبب استخدام تيار تغذية ‎ele‏ بحر مخفف ‎dilute seawater feed‏ والذي تم تخفيفه بمرحلتي تناضح عكسي بمساعدة الضغط التتاضحي ؛ ‎Gay‏ ‏لتجسيد توضيحي للكشف الحالي؛ يجب إدراك أن الجوانب العديدة لا تقتصر على الترتيبات والأدوات المعروضة في الرسومات.
الوصف التفصيلي: سيتم إدراك أنه لغرض التبسيط والإيضاح» إن أمكن؛ تم تكرار الأرقام المرجعية بين الأشكال المختلفة للإشارة إلى عناصر مناظرة أو متماثلة. بالإضافة إلى ذلك؛ تم عرض العديد من التفاصيل المحددة لتوفير فهم شامل للتجسيدات الموصوفة هنا. ومع ذلك؛ سيدرك أصحاب المهارة العادية في المجال
0 أنه يمكن تنفيذ التجسيدات الموصوفة هنا دون هذه التفاصيل المحددة. في حالات أخرى؛ لم يتم وصف طرق» إجراءات ومكونات بالتفصيل لإظهار السمة الذات الصلة التي يتم وصفها. وكذلك؛ لا يجب اعتبار الوصف ‎[Se‏ لمجال التجسيدات الموصوفة هنا. ولا يجب تطبيق مقياس الرسم على الواقع وقد تمت المبالغة في عرض نسب أجزاء معينة لإيضاح تفاصيل وسمات الإختراع الحالي بصورة أفضل.
سيتم ‎OY‏ عرض عدة تعريفات مستخدمة طوال هذا الإختراع. يشير المصطلح "05880" إلى التناضح العكسي بمساعدة التناضح ويمكن الإشارة إليه ‎Waal‏ باسم التناضح العكسي بالمعالجة التحضيرية بالتناضح أ لأمامي ‎(FO-PRO) forward osmosis pre-treatment reverse osmosis‏ أو غشاء استخلاص تناضحي بالتناضح الأمامي ‎forward osmosis osmotic recovery membrane‏ (20-0814). يتم تعريف المصطلح ‎"(fice‏ بكونه متصلاً؛ سواء بشكل مباشر أو غير مباشر عبر
مكونات متداخلة ‎cintervening components‏ ولا يقتصر بالضرورة على الوصلات الفعلية ‎physical‏ ‏98م يتم تعريف المصطلح ‎"Baile (ike‏ بكونه متصلاً إما بشكل مباشر أو غير مباشر عبر المكونات المتداخلة؛ ولا تقتصر الوصلات بالضرورة على الوصلات الفعلية؛ ولكنها وصلات تستوعب تقل المحاليل؛ المشتتات ‎(dispersions‏ الخلائط» أو موائع أخرى بين المكونات الموصوفة. يمكن تحقيق الوصلات بحيث يتم توصيل الأجسام بشكل دائم أو توصيلها بشكل عكسي. وبتم
5 استخدام المصطلحات ‎Cle dad’‏ "يتضمن" وابه" بالتبادل ‏ في هذا الإختراع. ويقصد
بالمصطلحات ‎Jandy‏ على" ‎"Gant!‏ و"به" أن تتضمن؛ ولكن لا تقتصر بالضرورة ‎(lo‏ الأشياء
الموصوفة.
على النحو المستخدم ‎bs‏ تشير المصطلحات 'ينقي"؛ ‎Cad‏ أو ‎aad‏ في صورها المتعددة؛ إلى
واحدة أو أكثر من العمليات التي تنتج الماء الذي به زيادة تدريجية على الأقل في النقاء و/أو انخفاض تدريجي في تركيز المادة المذابة أو تركيز المادة الملوثة. ‎Yo dally‏ تشير المصطلحات
‎Cad ad‏ أو ‎Cd‏ بالضرورة إلى إنتاج ماء له نقاء محدد أو تركيز مادة مذابة محدد؛
‏بالأحرى؛ يتم استخدام المصطلحات للإشارة إلى إنتاج الماء الذي به زيادة تدريجية في النقاء و/أو
‏انخفاض تدريجي في تركيز المادة المذابة أو تركيز المادة الملوثة؛ ناتج من الطرق والتقنيات التي تم
‏الكشف عنها حاليًا.
‏0 على النحو المستخدم هناء يشير المصطلح 'تيار”» في صوره المتعددة؛ بما في ذلك استخدامه في المصطلح 'تيار ‎Capes‏ إلى محلول ‎(Sa‏ أن يتدفق إلى أو يتم استقباله في جزءِ أو مكون من جهاز أو نظام وارد في الإختراع الحالي؛ ولا يقتصر على المحاليل التي يتم إدخالها في جهاز أو نظام؛ أو ‎eda‏ منه؛ في ظل تدفق مستمرء ولكن بالأحرى؛ قد يتضمن أيضًا محاليل تم استقبالها في جهاز أو نظام لفترة من الزمن» كتلك التي يمكن استخدامها في سلسلة من العمليات الدفعية ‎.batch processes‏
‎Gy 5‏ لجانب واحد على الأقل للكشف الحالي؛ يتم توفير جهاز. قد يتضمن الجهاز مصدر محلول تغذية أول ومصدر محلول تغذية ثانيًا. قد يتضمن الجهاز أيضًا غشاءً شبه منفذ يتضمن جانبًا أول مهياً لاستقبال تيار محلول تغذية أول من مصدر محلول التغذية الأول ‎Lge Wl tala‏ لاستقبال تيار محلول تغذية ‎GB‏ من مصدر محلول التغذية الثاني. يمكن أن يشتمل تيار محلول التغذية ‎feed‏ ‎solution stream‏ الأول على تركيز ‎sale‏ مذابة أول وضغط تناضحي أول بينما قد يشتمل تيار
‏0 محلول التغذية الثاني على تركيز مادة مذابة ثان وضغط تناضحي ثان. يكون الضغط التناضحي الأول أكبر من أو يساوي الضغط التناضحي الثاني. تتم تهيئة مصدر محلول التغذية الأول لتوفير ضغط هيدروستاتيكي إلى الجانب الأول من الغشاء شبه المنفذ بهدف إنتاج تيار محلول تغذية أول مركز وتيار محلول تغذية ثانٍ مخفف بواسطة المذيب المار» في صورة محلول ناتج نفاذية ‎permeate‏ ‏008داه؛ من تيار محلول التغذية الأول إلى تيار محلول التغذية الثاني عبر الغشاء شبه المنفذ.
‎Gy 5‏ لجانب واحد على الأقل للكشف الحالي؛ يتم توفير عملية لتركيز مادة مذابة في محلول يشتمل على مذيب ومادة مذابة. تتضمن العملية توفير غشاء شبه منفذ له جانب أول وجانب ثان. تتضمن
العملية كذلك إدخال تيار محلول تغذية أول على الجانب الأول من الغشاء شبه المنفذ وإدخال تيار محلول تغذية ثانٍ على الجانب الثاني من الغشاء شبه المنفذ. يمكن أن يشتمل تيار محلول التغذية الأول على تركيز مادة مذابة أول وضغط تناضحي أول بينما قد يشتمل تيار محلول التغذية الثاني على تركيز مادة مذابة ثانٍ وضغط تناضحي ‎ol‏ يكون الضغط التناضحي الأول أكبر من أو يساوي الضغط التناضحي الثاني. تتضمن العملية كذلك بذل ضغط هيدروستاتيكي على الجانب الأول من الغشاء شبه المنفذ بحيث يمر المذيب؛ في صورة محلول ناتج نفاذية؛ من الجانب الأول للغشاء شبه المنفذ إلى الجانب الثاني للغشاء شبه المنفذ مما يؤدي إلى إنتاج تيار محلول تغذية أول مركز وتيار محلول تغذية ‎ob‏ مخفف. يوضح الشكل 1 ‎Gy 100 Flea‏ لتجسيد توضيحي للكشف ‎Jal‏ مثلما هو مصور في الشكل 1؛ 0 يتضمن الجهاز 100 وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطية واحدة 150 لتركيز محلول تغذية أول 141 ‎Lan‏ يتم تخفيف محلول تغذية ‎of‏ 142 باستخدام غشاء شبه منفذ 115. تتضمن ‎Saag‏ تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية حجرة أولى 131 وحجرة ثانية 2 أمام الحجرة الأولى 131. يتم وضع غشاء شبه منفذ 115 عند السطح البيني الموجود بين الحجرة الأولى 131 والحجرة الثانية 132. يشتمل الغشاء شبه المنفذ 115 على جانب أول 121 في 5 اتصال مائعي ‎fluidic communication‏ مع الحجرة الأولى 131 ‎Ob Gulag‏ 2 في اتصال مائعي مع الحجرة الثانية 132. أثناء التشغيل؛ تتم تهيئة وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية 150 لاستقبال تيار محلول تغذية أول 141 به تركيز مادة مذابة ‎C1‏ وضغط تناضحي (1©)». يتم إدخال تيار محلول التغذية الأول 141 في حجرة أولى 131 والجانب الأول 121 لغشاء شبه منفذ 115 بينما يتم إخضاعه إلى ضغط هيدروليكي ‎-P1 hydraulic pressure‏ في بعض الحالات على الأقل؛ يدخل تيار محلول التغذية الأول 141 إلى الحجرة الأولى 131 عبر ‎Mie‏ دخول :016200 ‎Jie‏ منفذ الدخول 181 الموضح في الشكل 1. تتم تهيئة وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية 150 أيضًا لاستقبال تيار محلول تغذية ‎ob‏ 142 في الحجرة الثانية 132 وعلى الجانب الثاني 122 لغشاء شبه منفذ 115. يشتمل 5 تيار محلول التغذية الثاني 142؛ على تركيز مادة مذابة 2© وضغط تناضحي ‎(C2)‏ أصغر من أو يساوي الضغط التناضحي (61)» لتيار محلول التغذية الأول 141 الذي تمت التغذية به على الجانب
الأول المقابل 121 للغشاء شبه المنفذ 115. تتم التغذية بتيار محلول التغذية الثاني 142 في الحجرة الثانية 132 وعلى الجانب الثاني 122 للغشاء شبه المنفذ 115 عند ضغط هيدروليكي 72 أقل من الضغط الهيدروليكي ‎PL‏ لتيار محلول التغذية الأول 141. في بعض الحالات؛ يكون تركيز المادة المذابة 1© لتيار محلول التغذية الأول 141 أكبر من تركيز المادة المذابة 2© لتيار محلول التغذية الثاني 142. في حالات ‎egal‏ يمكن أن تكون تركيزات المادة المذابة ‎C25 C1‏ متماثلة. في بعض الحالات على الأقل؛ يدخل تيار محلول التغذية الثاني 142 إلى الحجرة الثانية 132 عبر ‎Mie‏
دخول؛ مثل منفذ الدخول 182 الموضح في الشكل 1. نتيجة لتوازن معدلات الضغط الهيدروليكي ومعدلات الضغط التناضحي؛ يمر مذيب»؛ في صورة ناتج نفاذية 112 من الحجرة الأولى 131 إلى الحجرة الثانية 132 عبر غشاء شبه منفذ 115( مما يؤدي
0 إلى تركيز تيار محلول التغذية الأول 141 ‎(Clin > Clow)‏ لتكوين تيار محلول تغذية أول مركز 1 بينما يتم تخفيف تيار محلول التغذية الثاني 142 (2©_داخل > 2©_خارج) لتكوين تيار محلول تغذية ‎OB‏ مخفف 172. وفقًا للتقنية التي تم الكشف عنها حاليًا؛ يتم تشغيل عملية التناضح العكسي ‎Gia‏ بواسطة الضغط التناضحي الذي يتم توفيره بواسطة تيار محلول التغذية الثاني 142( مما يؤدي إلى عملية تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي الفعالة من حيث الطاقة.
5 وفنا لجانب واحد على الأقل للكشف الحالي» يمكن إقران الحجرة الأولى 131 لوحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية 150 ‎Gaile‏ بمصدر محلول تغذية أول 161 ‎Lge‏ لتدفق تيار محلول التغذية الأول 141 إلى الحجرة الأولى 131 وعلى الجانب الأول 121 لغشاء شبه ‎Mie‏ ‏5. يمكن أن يكون مصدر محلول التغذية الأول 161 عبارة عن مضخة مرتفعة الضغط؛ مثلما هو مصور في الشكل 1 أو قد يكون» في بعض الحالات على الأقل» الحجرة الأولى أو الثانية من
0 وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطية أخرى ‎٠‏ في بعض الحالات على ‎WJ‏ ‏يمكن أن يكون مصدر محلول التغذية الأول 1 عبارة عن مكون تناضح عكسي ‎reverse osmosis‏ ‎component‏ أو مكون تناضح أمامي ‎.forward osmosis component‏ وبالمثل» في بعض الحالات على الأقل» يمكن إقران الحجرة الثانية 132 لوحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية 150 ‎Gaile‏ بمصدر محلول تغذية ثانيًا 162 مهياً لتدفق تيار
5 محلول التغذية الثاني 142 إلى الحجرة الثانية 132 وعلى الجانب الثاني 122 لغشاء شبه منفذ 5. يمكن أن يكون مصدر محلول التغذية الثاني 162 عبارة عن مضخة مرتفعة الضغط؛ مثلما
هو مصور في الشكل 1؛ أو يمكن أن يكون» في بعض الحالات على الأقل» الحجرة الأولى أو الثانية من وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطية أخرى؛ مكون تناضح عكسي؛ أو مكون تناضح أمامي. ‎Gd‏ لجانب واحد على الأقل للكشف الحالي؛ يمكن أن يكون الضغط التناضحي لتيار محلول التغذية الثاني 142 أكبر من الضغط التناضحي لناتج النفاذية 112. في بعض الحالات على الأقل؛ يمكن تهيئة مصدر محلول التغذية الأول 161 ومصدر محلول التغذية الثاني 162 لإنتاج فارق ضغط ‎differential‏ :1890م بين الضغط الهيدروستاتيكي لتيار محلول التغذية الأول 141 وتيار محلول التغذية الثاني 142 يكفي للتسبب في مرور المذيب من الجانب الأول 121 للغشاء شبه المنفذ 115 إلى الجانب الثاني 122 للغشاء شبه المنفذ 115 في صورة ناتج نفاذية 112. في بعض الحالات؛ ‎(Sa 0‏ تهيئة مصدر محلول التغذية الأول 161 ومصدر محلول التغذية الثاني 162 لتنويع فارق الضغط كدالة على الضغط التناضحي لتيار محلول التغذية الثاني 142. ‎Uy‏ لجانب واحد على الأقل للكشف الحالي؛ يمكن أن يخرج تيار محلول التغذية الأول المركز 171 من الحجرة الأولى 131 لوحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية 150 عند منفذ خروج ‎Jie coutlet port‏ منفذ الخروج 191 المصور في الشكل 1. وبالمثل؛ يمكن أن يخرج تيار 5 محلول التغذية الثاني المخفف 172 من الحجرة الثانية 132 لوحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية 150 عند ‎Mie‏ خروج؛ مثل منفذ الخروج 192 المصور في الشكل 1. بينما يتم تصوير وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية 150 المصورة في الشكل 1 بكونها ‎Jad‏ على ‎Mie‏ دخول ومنفذ خروج واحد لكل حجرة من الحجرات؛ فتقع الحجرات الأولى أو الاثنية التي بها العديد منافذ الدخول و/أو الخروج ضمن مجال وفحوى الإختراع الحالي. 0 وفيا لجانب واحد على الأقل للكشف الحالي؛ يمكن التغذية بتيار محلول التغذية الأول المركز 171 و/أو تيار محلول التغذية الثاني المخفف 172 إلى وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطية أخرى أو إلى مكون تناضح عكسي أو مكون تناضح أمامي. في بعض الحالات على الأقل؛ يمكن تهيئة مصدر محلول التغذية الأول 161 لإعادة تدوير تيار محلول التغذية الأول المركز 171؛ أو جزءِ منه؛ إلى الجانب الأول 121 للغشاء شبه المنفذ 115. في بعض الحالات؛ يمكن تهيئة 5 مصدر محلول التغذية الثاني 162 لتوفير جزءِ على الأقل من تيار محلول التغذية الأول المركز 1 إلى الجانب الثاني 122 للغشاء شبه المنفذ 115.
‎Ud‏ لجانب واحد على الأقل للكشف الحالي؛ يمكن أن يكون تيار محلول التغذية الأول 141 محلولاً ‎-contaminated solution Gola‏ في بعض الحالات؛ يمكن تقسيم المحلول الملوث إلى جزأين على ‎oS)‏ مع تكوين جزء واحد لتيار محلول التغذية الأول 141 وتكوين الجزء الآخر لتيار محلول التغذية الثاني 142. في تلك الحالات؛ تتم تهيئة ‎JS‏ من مصدر محلول التغذية الأول 161 ومصدر محلول التغذية الثاني 162 لتوفير أجزاء من نفس المحلول الملوث إلى الجانب الأول 121 والجانب الثاني 122 للغشاء شبه المنفذ 115؛ على التوالي. يمكن أن يشتمل تيار محلول التغذية الأول 141 وتيار محلول التغذية الثاني 142 على نفس التركيبة الكيميائية ‎chemical composition‏ أو على تركيبة كيميائية مختلفة؛ ويمكن أن يكونان عند نفس درجة الحرارة أو درجة حرارة مختلفة. يمكن أن يتضمن تيارات محلول التغذية ‎feed solution streams‏ 0 الأول والثاني العديد من مكونات المحلول المختلفة؛ ويمكن أن تساهم بعض مكونات المحلول في الضغط التناضحي؛ بينما قد لا تساهم المكونات الأخرى. ويمكن استخدام أي محلول ينتج ضغطًا تناضحيًا في الجهازء الأنظمة؛ والطرق التي تم الكشف عنها حاليًا. في بعض الحالات على الأقل؛ يمكن أن يكون المذيب الخاص ‎gl‏ من تيار محلول التغذية الأول أو الثاني عبارة عن ماء؛ ملح غير عضوي ‎cinorganic salt‏ مذيب عضوي قطبي ‎polar organic‏ ‎solvent 5‏ مثل ميثانول ‎methanol‏ أو إيثانول ‎cethanol‏ أو أي مذيب مناسب آخر. في بعض الحالات؛ يمكن استخدام تيارات محلول التغذية التي بها مواد مذابة من ملح غير عضوي مثل؛ على سبيل المثال» كلوريد الصوديوم ‎(NaCl) sodium chloride‏ كلوريد البوتاسيوم ‎potassium chloride‏ ‎(KCl)‏ كلوريد المجنسيوم ‎magnesium chloride‏ (دا0ع21)»؛ كريونات المجنسيوم ‎magnesium‏ ‎«(MgCOs) carbonate‏ سلفات المجنسيوم ‎magnesium sulfate‏ (ب50ع11)؛ كلوريد الكالسيوم ‎¢(CaCla) calcium chloride 0‏ سلفات الكالسيوم ‎¢(CaSOs) calcium sulfate‏ كريونات الكالسيوم ‎(CaCOs) calcium carbonate‏ ؛ أسيتات البوتاسيوم ‎(KAc) potassium acetate‏ أو كالسيوم مجنسيوم أسيتات ‎.(CaMgAc) calcium magnesium acetate‏ في حالات أخرى ‎٠‏ يمكن استخدام تيارات محلول التغذية التي بها مواد مذابة من ملح غير عضوي وتشتمل على أنواع أيونية مثل» على سبيل المثال؛ الفلزات الانتقالية ‎«transition metals‏ مركبات اللانثانيد ‎lanthanides‏ ومركبات 5 الأكتينيد ‎actinides‏ في حالات أخرى ‎(Lad‏ يمكن استخدام تيارات محلول التغذية التي بها مواد مذابة من ملح غير عضوي تشتمل على أنواع ‎Jie‏ على سبيل المثال مركبات السيانيد ‎ccyanides‏
مركبات النيترات ‎enitrates‏ مركبات النيتريت ‎enitrites‏ مركبات السلفات ‎csulfates‏ مركبات السلفيت ‎sulfites‏ مركبات السلفونات ‎(sulfonates‏ مركبات الهيدروكسيد ‎hydroxides‏ مركبات الفوسفات ‎<phosphates‏ مركبات الفوسفيت 0108011169 مركبات الهاليد ‎chalides‏ مركبات الأسيتات ‎cacetates‏ ‏مركبات الزرنيخيد ‎carsenides‏ مركبات الأمين ‎camines‏ مركبات الكريوكسيلات ‎«carboxylates‏ ‏5 ومركبات النيترو 01005 في بعض الحالات؛ عندما يكون الماء هو المذيب؛ يمكن استخدام مواد مذابة من مركب عضوي ‎organic compound solutes‏ لها ذويانية جيدة في الماء ‎(Jie‏ على سبيل المتال» الكحولات» دايوكسان ع(0ة»010» أسيتون 66:00(6م»؛ تترا هيدرو فيوران ‎tetrahydrofuran‏ ‎(THF)‏ داي ميثيل فورماميد ‎dimethyl formamide‏ (0117)؛ وداي ميثيل سلفوكسيد ‎dimethyl‏ ‎sulfoxide‏ (01450). في بعض الحالات؛ يمكن استخدام مواد مذابة من مركب عضوي لها ذوبانية 0 في الماء مثل المركبات الأروماتية ‎Jie aromatics‏ تولوين ‎toluene‏ وبنزين 5602806» مركبات ألكان ‎alkanes‏ أو مركبات ألكن ‎alkenes‏ خطية ‎(ic‏ هكسان ‎hexane‏ أو أوكتان ‎coctane‏ مذيبات معالجة بالكلور ‎chlorinated solvents‏ مثل كلوريد الميثيلين ‎methylene chloride‏ (دل01:0)؛ مركبات سلفونات عضوية ‎organic sulfonates‏ وحمض عضوي ‎organic acid‏ في صورة مواد مذابة في تيارات محلول التغذية. في بعض الحالات؛ ‎(Kay‏ استخدام مواد مذابة من البوليمر ‎«polymer solutes‏ ‎oJ 15‏ ولكن لا تقتصر على؛ سكرء؛ أكسيد الإيثيلين ‎«(EO) ethylene oxide‏ أكسيد البروبيلين ‎propylene oxide‏ (0ط)؛ مركبات بولي إيثيلين جليكول ‎(PEG) polyethylene glycols‏ حمض ‎Js‏ (أكريليك) ‎epoly(acrylic acid)‏ كحول بولي ‎poly(vinyl alcohol) (Ji)‏ أكسيد بولي ‎cpoly(ethylene oxide) (pli)‏ حمض بولي (قينيل) ‎poly(vinyl acid)‏ بولي (ستيرين سلفونات) ‎poly (styrenesulfonate)‏ مركبات بولي إلكتروليت أساسها بولي (أكريل أميد) ‎poly(acrylamide)-‏ ‎cbased polyelectrolytes 0‏ بولي (داي أليل ‎gh‏ ميثيل أمونيوم كلوريد) ‎poly(diallyldimethylammonium chloride)‏ بولي (أليل أمين هيدروكلوريد) ‎poly(allylamine‏ ‎chydrochloride)‏ بولي (قينيل بيروليدون) ‎«poly(vinylpyrrolidone)‏ بولي (10-أيزو بروبيل ‎dust‏ ‏أميد) (©10ه0170-800:00718671م» مركبات بولي (ألكيل أكريلات) ‎«poly(alkylacrylates)‏ ‏أحماض بولي ألكيل أكريليك ‎«polyalkylacrylic acids‏ بولي (2- أوكسازولين) ‎poly(2-oxazoline)‏ ‏25 وبولي إيثيلين إيمين ‎epolyethylenimine‏ وبوليمرات مشتركة ‎copolymers‏ أو بوليمرات مشتركة كتلية
‎block copolymers‏ منهاء أو أية توليفة منها.
يمكن تسليط الضغط الهيدروليكي ‎PT‏ لتيار محلول التغذية الأول عند أي ضغط محدد مسبقًا يتراوح من 344.74 إلى 3447379 كيلو باسكال؛ على نحو بديل من 689.48 إلى 20684.27 كيلو باسكال» على نحو بديل من 1378.95 إلى 10342.14 كيلو باسكال؛ أو على نحوٍ بديل من 1723.69 إلى 34473.79 كيلو باسكال. يمكن تسليط الضغط الهيدروليكي 52 لتيار محلول التغذية الثاني عند ضغط محدد مسبقًا يتراوح من 0 إلى 344738 كيلو باسكال؛ على نحو بديل من 13.79 إلى 5 كيلو باسكال؛ على نحو بديل من 34.47 إلى 689.48 كيلو باسكال؛ على نحوٍ بديل من
5 إلى 344.74 كيلو باسكال؛ أو على نحو بديل من 96.53 إلى 206.84 كيلو باسكال. يتعلق الضغط التناضحي (©)» لتيارات محلول التغذية المستخدمة في ‎Bang‏ تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية بنوع الغشاء شبه المنفذ المستخدم. يمكن أن يكون الغشاء شبه المنفذ
0 الذي يتم تنفيذه في وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية غشاءً من أي نوع ‎Jie‏ على سبيل ‎Jud‏ أغشية الترشيح الدقيق ‎emicrofiltration‏ الترشيح الفائق ‎cultrafiltration‏ ‏الترشيح بحجم النانو 080051858800 التناضح الأمامي أو التناضح العكسي؛ والتي يمكن تحضيرها من سليولوز تراي أسيتات ‎(CTA) cellulose triacetate‏ بولي بنزيميدازول ‎polybenzimidazole‏ ‏([01)؛ غشاء مركب رفيع الطبقة ‎(TEC) thin film composite‏ أو أي كيمياء أخرى قد يستخدمها
5 أصحاب المهارة في المجال. يمكن أن تتخذ الأغشية شبه المنفذة أية هيئة هندسية مناسبة ‎edie‏ على سبيل المثال رقاقة مسطحة ‎flat sheet‏ أو مجموعة من الرقاقات المتراصة أو الطبقية؛ أو مجموعة من الأثابيب ذات حجم ‎nanotubes gall‏ الألياف بحجم النانو ‎.nanofibers‏ علاوةً على ‎«ly‏ ‏يمكن تشغيل الغشاء شبه المنفذ في آية هيئة مثل الهيئة غير النافذة؛ التدفق المعترض؛ متوافقة ‎ll‏ عكسية ‎lil‏ أو نصف القطرية.
0 يوضح الشكل 2 ‎Bg 200 Blea‏ لتجسيد توضيحي للكشف الحالي. مثلما هو مصور في الشكل 2 يتضمن الجهاز 200 عدة وحدات تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطية 253-250 مقترنة ‎Gaile‏ ببعضها البعض في سلسلة من خطوات أو مراحل الفصل المتعاقبة؛ حيث يتم تركيز تيار محلول التغذية الأول المبدئي 241 بشكل تدريجي حتى تركيزات مرتفعة. تتضمن كل وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطية 253-250 حجرة أولى 234-231 حجرة ثانية
5 239-236 وغشاء شبه منفذ 218-215 موضوع عند السطح البيني الموجود بين الحجرة الأولى 234-231 والحجرة الثانية 239-236. ويشتمل كل غشاء شبه منفذ 218-215 على جانب أول
224-1 في اتصال مائعي مع الحجرة الأولى 234-231 وجانب ثانٍ 229-226 في اتصال مائعي مع الحجرة الثانية 239-236. أثناء التشغيل؛ تتم تهيئة وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية الأولى 250 لاستقبال تيار محلول تغذية أول مبدئي 241. يتم إدخال تيار محلول التغذية الأول المبدئي 241 في الحجرة الأولى 231 للوحدة النمطية الأولى 250 وكذلك الجانب الأول 221 للغشاء شبه المنفذ 5 أثناء خضوعها لضغط هيدروليكي. مثلما هو مصور في الشكل 2 يدخل تيار محلول التغذية الأول المبدئي 241 إلى الحجرة الأولى 231 عبر منفذ دخول 281 من مصدر محلول تغذية أول 1. تتم تهيئة الوحدة النمطية الأولى 250 ‎Wad‏ لاستقبال تيار محلول تغذية ‎GB‏ 246؛ من مصدر محلول تغذية ثانٍ 262 إلى الحجرة الثانية 236 وعلى الجانب الثاني 226 لغشاء شبه منفذ 215. 0 يكون مصدر محلول التغذية الأول 261 ومصدر محلول التغذية الثاني 262 عبارة عن مضخة مرتفعة الضغط أو يمكن أن يكون مكون تناضح عكسي أو مكون تناضح أمامي. على سبيل المثال فقط» يصور الشكل 2 أن تركيز المادة المذابة الخاصة بتيار محلول التغذية الأول المبدئي 241 يكون بشكل مبدئي 65 جم/لتر من كلوريد الصوديوم؛ بحيث يتطابق مع تركيز المادة المذابة في تيار محلول التغذية الثاني 246. يمكن أن يبلغ تركيز المادة المذابة الخاص بتيارات 5 محلول التغذية بأية قيمة طالما أن الضغط التناضحي لتيار محلول التغذية الثاني 246 أصغر من أو يساوي الضغط التناضحي لتيار محلول التغذية الأول المبدئي 241 ويكون تركيز المادة المذابة الخاص بتيار محلول التغذية الثاني 246 كافيًا للمساعدة في عملية التناضح العكسي من خلال تقليل الضغط الهيدروستاتيكي اللازم لإنتاج ناتج نفاذية. في بعض الحالات على الأقل؛ يكون استخدام تيار محلول التغذية الثاني الذي به تركيز مادة مذابة مساوٍ تقريبًا لتركيز المادة المذابة الخاص بتيار 0 - محلول التغذية الأول؛ مثلما هو مصور في الشكل 2 ‎Brae‏ نظرًا لأن تيار محلول التغذية الثاني يوفر ضغطًا تناضحيًا كبيرًا يمكن من خلاله تسهيل عملية التناضح العكسي. أثناء التشغيل؛ يتم بذل ضغط هيدروليكي بواسطة تيار محلول التغذية الأول ‎Saal‏ 241 على الجانب الأول 221 للغشاء شبه المنفذ 215 بحيث يمر المذيب من الجانب الأول 221 للغشاء شبه المنفذ 215 إلى الجانب الثاني 226 للغشاء شبه المنفذ 215 مما يؤدي إلى إنتاج تيار محلول تغذية 5 أول مركز 242 في الحجرة الأولى للوحدة النمطية الأولى 250 ومحلول تغذية ‎GB‏ مخفف 271 في الحجرة الثانية 236. يوضح التجسيد التوضيحي المعروض في الشكل 2 أنه يتم تركيز تيار محلول
التغذية الأول المبدئي 41 الذي به تركيز مادة مذابة يبلغ 65 جم/لتر من كلوريد الصوديوم حتى جمإلتر من كلوريد الصوديوم أثناء تشغيل الوحدة النمطية الأولى 250؛ أو مرحلة أولى»؛ من الجهاز 200. مثلما هو مصور في الشكل 2؛ تتم التغذية بمحلول التغذية الأول المركز في الحجرة الأولى 232 من وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية الثانية 251 في صورة 5 تيار محلول تغذية ثالث 242؛ حيث يتم تركيز تيار محلول التغذية الثالث حتى 145 جم/لتر من كلوريد الصوديوم بسبب نفس العملية الموصوفة بالنسبة للوحدة النمطية الأولى 250. تتم بعد ذلك التغذية بتيار محلول التغذية الثالث المركز في الحجرة الأولى 233 من وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية الثالثة 252؛ في صورة تيار محلول تغذية خامس 243 حيث يتم تركيز تيار محلول التغذية الخامس 243 حتى 185جم/لتر من كلوريد الصوديوم. يتم بعد ذلك التغذية بتيار 0 محلول التغذية الخامس المركز إلى الحجرة الأولى 234 من وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التتناضحي النمطية الرابعة 253 في صورة تيار محلول تغذية سابع 244؛ حيث يتم تركيز تيار محلول التغذية السابع حتى التركيز المستهدف البالغ 225 جم/لتر عند منفذ الخروج 294. في كل وحدة نمطية 253-250 يتم إدخال تيار محلول تغذية مختلف 249-246؛ بكلٍ منها تركيز محدد 2© في الحجرة الثانية المعنية 239-236 لتوفير قوة تشغيل ضغط تناضحي للمساعدة في تركيز 5 تيارات محلول التغذية في الحجرات الأولى المعنية 234-231. في بعض الحالات على الأقل؛ يمكن التغذية بتيارات محلول التغذية 249-247 إلى الحجرات الثانية 239-237 من الوحدات النمطية 253-251 من مصادر محلول التغذية 265-263. في بعض الحالات؛ يمكن أن تكون مصادر محلول التغذية 265-263 عبارة عن مضخات منخفضة الضغط أو مرتفعة الضغط. في حالات أخرى؛ يمكن أن تتضمن تيارات محلول التغذية 249-247 جزءًا على 0 الأقل من تيارات التغذية المركزة ‎concentrated feed streams‏ 244-242 الخاصة بالوحدة النمطية السابقة. في تلك الحالات؛ يمكن أن تكون مصادر محلول التغذية 265-263 عبارة عن الحجرات الأولى 233-231 الخاصة بالوحدة النمطية السابقة 252-250. على سبيل ‎Jal‏ يمكن أن يشتمل تيار محلول التغذية الرابع 247 على جزءِ على الأقل من تيار محلول تغذية أول مركز 242 من الحجرة الأولى 231 للوحدة النمطية الأولى 250. ‎By 5‏ لجانب واحد على الأقل للكشف الحالي؛ يمكن التغذية بتيارات محلول التغذية المخففة 271- 4 إلى وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطية أخرى أو إلى مكون تناضح
عكسي؛ مثلما هو موصوف بالنسبة للتجسيدات التوضيحية الإضافية الواردة أدناه. على سبيل المثال؛ يمكن التغذية بتيار محلول التغذية المخفف 272 من الحجرة الثانية 237 للوحدة النمطية الثانية 251 إلى الحجرة الثانية 236 للوحدة النمطية الأولى 250 لتكوين؛ ‎Gia‏ على الأقل؛ تيار محلول التغذية الثاني 246.
مثلما هو مصور في الشكل 2 تشتمل الحجرات الأولى 234-231 لوحدات تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية 253-250 على منافذ دخول ‎inlet ports‏ 284-281 توفر مسار دخول ‎entry path‏ لتيارات محلول التغذية في الحجرات الأولى 234-231. بالإضافة إلى ذلك؛ تشتمل الحجرات الأولى 234-231 على منافذ خروج ‎outlet ports‏ 294-291 توفر مسار خروج ‎exit path‏ لتيار محلول التغذية المركز للخروج من الحجرات الأولى 234-231 ودخول مرحلة أو وحدة نمطية
0 الاحقة. وبالمثل» تتضمن الحجرات الثانية 239-236 منافذ دخول 289-286 ومنافذ خروج 296- 9 للسماح بدخول وخروج تيارات محلول التغذية إلى ومن الحجرات الثانية 239-236. في بعض الحالات؛ يمكن تهيئة وحدات تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية لكي تشتمل على عدة مداخل وعدة مخارج لكل تيار من تيارات محلول التغذية المعنية. علاوةً على ذلك؛ يمكن استخدام وحدات تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية في عمليات مستمرة؛ دفعية؛ أو شبه
5 دفعية. في كل عملية في كل وحدة نمطية؛ يمكن أن تمر تيارات محلول التغذية عبر الغشاء مرة واحدة؛ أو عدة مرات بواسطة ‎sale]‏ الاستخدام وإعادة التدوير. بالإضافة إلى ذلك؛ يمكن الحفاظ على ثبات الضغط الهيدروليكي المسلط على تيارات محلول التغذية أو يمكن تنويعها أثناء خطوات العملية المعنية. وفقًا لجانب واحد على الأقل للكشف الحالي؛ يمكن استخدام الجهاز 200 المصور في الشكل 2؛
0 لإجراء عملية لتركيز مادة مذابة؛ مثل مادة ملوثة؛ في محلول يشتمل على مذيب ومادة مذابة. تتضمن العملية توفير وحدة نمطية أولى 250 مقترنة ‎Gaile‏ بمصدر محلول تغذية أول 261 ومصدر محلول تغذية ‎Gl‏ 262. قد تتضمن الوحدة النمطية الأولى 250 حجرة أولى 231 وحجرة ثانية 236. وقد تتضمن الوحدة النمطية الأولى 250 ‎Load‏ غشاءً شبه منفذ 215 موضوعًا عند السطح البيني الموجود بين الحجرة الأولى 231 والحجرة الثانية 236. قد يشتمل الغشاء شبه المنفذ 215 على جانب أول
5 221 في اتصال مائعي مع الحجرة الأولى 231 وجانب ثانٍ 226 في اتصال مائعي مع الحجرة الثانية 236. تتضمن العملية كذلك ‎Jay)‏ من مصدر محلول التغذية الأول 261 تيار محلول
تغذية أول 241 إلى الحجرة الأولى 231 وعلى الجانب الأول 221 من الغشاء شبه المنفذ 215. تتضمن العملية كذلك إدخال» من مصدر محلول التغذية الثاني 262 تيار محلول تغذية ثانٍ 246 إلى الحجرة الثانية 236 وعلى الجانب الثاني 226 من الغشاء شبه المنفذ 215. يكون الضغط التناضحي لتيار محلول التغذية الأول 241 أكبر من الضغط التناضحي لتيار محلول التغذية الثاني 246. تتضمن العملية كذلك بذل ضغط هيدروستاتيكي على الجانب الأول 221 للغشاء شبه المنفذ 5 بحيث يمر المذيب من الجانب الأول 221 إلى الجانب الثاني 226 للغشاء شبه المنفذ 215 مما يؤدي إلى إنتاج تيار محلول تغذية مركز 242 في الحجرة الأولى 231 وتيار محلول تغذية ثانٍ مخفف 271 في الحجرة الثانية 236. في بعض الحالات على الأقل؛ قد تتضمن العملية كذلك اختيار الضغط التناضحي لتيار محلول 0 التغذية الثاني 246 بهدف تقليل الضغط الهيدروستاتيكي المطلوب لجعل المذيب يمر من الجانب الأول 221 إلى الجانب الثاني 226 للغشاء شبه المنفذ 215 مما يؤدي إلى إنتاج تيار محلول تغذية مركز 242 وتيار محلول تغذية ‎GB‏ مخفف 271. في حالات ‎coal‏ يمكن أن يكون الضغط التتاضحي لتيار محلول التغذية الثاني 246 ‎thine‏ تناضحيًا محدد مسبقًا منتقى لتقليل الضغط الهيدروستاتيكي اللازم لجعل المذيب يمر من الجانب الأول 221 إلى الجانب الثاني 226 للغشاء 5 شبه المنفذ 215. في بعض الحالات؛ يمكن اختيار الضغط التناضحي لتيار محلول التغذية الثاني 6 بحيث يكون ‎ST‏ من الضغط التناضحي لمحلول ناتج النفاذية بهدف تقليل الضغط الهيدروستاتيكي المطلوب لجعل المذيب يمر من الجانب الأول 221 إلى الجانب الثاني 226 للغشاء شبه المنفذ 215 وفقًا لجانب واحد على الأقل للكشف الحالي؛ قد تتضمن العملية كذلك إعادة تدوير تيار محلول 0 التغذية الأول المركز 242؛ أو ‎gia‏ منه؛ إلى الجانب الأول 221 للغشاء شبه المنفذ 215. قد تتضمن العملية كذلك ‎sale)‏ تدوير جزءِ على الأقل من تيار محلول التغذية الأول المركز 242 إلى الجانب الثاني 226 للغشاء شبه المنفذ 215. في بعض الحالات على الأقل؛ تتضمن العملية كذلك توفير وحدة نمطية ثانية 251 مقترنة ‎Gaile‏ ‏بالوحدة النمطية الأولى 250 ومصدر محلول تغذية رابع 263. تتضمن الوحدة النمطية الثانية 251 ‎sas 5‏ أولى 232 وحجرة ثانية 237. تتضمن الوحدة النمطية الثانية 251 كذلك غشاءً شبه ‎Mie‏ ‏6 موضوعًا عند السطح البيني الموجود بين الحجرة الأولى 232 والحجرة الثانية 237. يتضمن
الغشاء شبه المنفذ 216 ‎Gila‏ أول 222 في اتصال مائعي مع الحجرة الأولى 232 وجانبًا ثانيًا 227 في اتصال مائعي مع الحجرة الثانية 237. تتضمن العملية كذلك إدخال» من الحجرة الأولى 231 للوحدة النمطية الأولى 250؛ تيار محلول تغذية ثالث 242 إلى الحجرة الأولى 232 للوحدة النمطية الثانية 251. وقد يتضمن تيار محلول التغذية الثالث 242 جزءًا على الأقل من تيار محلول التغذية الأول المركز. تتضمن العملية كذلك ‎(Jaa)‏ من مصدر محلول التغذية الرابع 263 تيار محلول تغذية رابع 247 إلى الحجرة الثانية 237 للوحدة النمطية الثانية 251 وعلى الجانب الثاني 227 للغشاء شبه المنفذ 216. ويكون الضغط التناضحي لتيار محلول التغذية الثالث 242 أكبر من أو يساوي الضغط التناضحي لتيار محلول التغذية الرابع 247. تتضمن العملية كذلك بذل ضغط هيدروستاتيكي على الجانب الأول 222 للغشاء شبه المنفذ 216 للوحدة النمطية الثانية 251 بحيث 0 يمر المذيب من الجانب الأول 222 للغشاء شبه المنفذ 216 إلى الجانب الثاني 227 للغشاء شبه المنفذ 216 مما يؤدي إلى إنتاج تيار محلول تغذية ثالث مركز 243 في الحجرة الأولى 232 للوحدة النمطية الثانية 251 وتيار محلول تغذية رابع مخفف 272 في الحجرة الثانية 237 للوحدة النمطية الثانية 251. يكون مصدر التغذية الرابع 263 عبارة عن مضخة مرتفعة الضغط أو قد يكون الحجرة الأولى 231 5 لللوحدة النمطية الأولى 250. في تلك الحالات؛ يمكن أن يتضمن تيار محلول التغذية الرابع 247 جزءًا على الأقل من تيار محلول التغذية المركز 242 من الحجرة الأولى 231 للوحدة النمطية الأولى 250 بالإضافة إلى توفير عمليات لتركيز محلول؛ يوفر الإختراع الحالي أيضًا عمليات لتنقية مذيب من محلول مادة مذابة ‎solution‏ 501016. على سبيل المثال؛ يمكن الجمع بين وحدات تناضح عكسي 0 - بمساعدة الضغط التناضحي النمطية المصورة في الشكلين 1 و2؛ والموصوفة أعلاه؛ ومكون تناضح عكسي ومكون تناضح أمامي لإنتاج منتج مذيب منقى ‎Jie purified solvent product‏ ناتج نفاذية مائي ‎(Ka water permeate‏ أكثر تحديدًا؛ قد تتضمن عملية تنقية مذيب توفير مكون تناضح أمامي مقترن ‎Gaile‏ بمكون تناضح عكسي ووحدة نمطية. قد تتضمن الوحدة النمطية حجرة أولى مقترنة ‎Gaile‏ بمكون التناضح العكسي ومكون التناضح الأمامي؛ وكذلك حجرة ثانية مقترنة ‎Gaile‏ ‏25 بمكون التناضح العكسي. قد تتضمن الوحدة النمطية ‎Lal‏ غشاءً شبه ‎die‏ موضوعًا عند السطح البيني الموجود بين الحجرة الأولى والحجرة الثانية. قد يتضمن الغشاء شبه المنفذ جانبًا أول في
اتصال مائعي مع الحجرة الأولى وجانبًا ثانيًا في اتصال مائعي مع الحجرة الثانية. تتضمن العملية كذلك إدخال محلول تغذية بالتناضح الأمامي ملوث في المكون التناضح الأمامي. يتضمن محلول التغذية بالتناضح الأمامي الملوث مذيبًا ملوثًا بواحدة أو أكثر من المواد المذابة. تتضمن العملية كذلك جعل المكون التناضح الأمامي يقوم بإنتاج تيار محلول تغذية بالتناضح الأمامي مركز ومحلول سحب مخفف من تيار محلول التغذية بالتناضح الأمامي الملوث. قد تتضمن العملية كذلك إدخال محلول السحب المخفف إلى المكون التناضح العكسي لتكوين جزءِ على الأقل من تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي. يمكن أن تتضمن العملية ‎Wall‏ جعل مكون التناضح العكسي يقوم بإنتاج محلول ناتج نفاذية وتيار محلول تغذية بالتناضح العكسي مركز من تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي. يتضمن محلول ناتج النفاذية مذيب منقى ‎purified solvent‏ مستخلص وفقًا 0 لاللعملية. قد تتضمن العملية كذلك إدخال - من مكون التناضح العكسي - تيار محلول تغذية أول إلى الحجرة الأولى للوحدة النمطية وعلى الجانب الأول للغشاء شبه المنفذ. يتضمن تيار محلول التغذية الأول جزءًا على الأقل من تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي المركز. قد تتضمن العملية أيضًا إدخال - من مكون التناضح العكسي - تيار محلول تغذية ثانٍ إلى الحجرة الثانية للوحدة النمطية ‎ley‏ ‏5 الجانب الثاني للغشاء شبه المنفذ. كما يتضمن محلول التغذية الثاني جزءًا على الأقل من تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي المركز. يمكن أن يكون الضغط التناضحي لتيار محلول التغذية الأول مساويًا تقريبًا الضغط التناضحي لتيار محلول التغذية الثاني. على نحوٍ بديل؛ يمكن أن يكون الضغط التتناضحي لتيار محلول التغذية الأول أكبر من الضغط التناضحي لتيار محلول التغذية الثاني. قد تتضمن العملية كذلك بذل ضغط هيدروستاتيكي على الجانب الأول من الغشاء شبه المنفذ بحيث 0 .يمر المذيب من الجانب الأول للغشاء شبه المنفذ إلى الجانب الثاني للغشاء شبه المنفذ مما يؤدي إلى إنتاج تيار محلول تغذية أول مركز في الحجرة الأولى وتيار محلول تغذية ثانٍ مخفف في الحجرة الثانية. قد تتضمن العملية أيضًا إدخال من الحجرة الثانية للوحدة النمطية ‎gia‏ على الأقل من تيار محلول التغذية الثاني المخفف في مكون التناضح العكسي لكي يتم استخدامه في صورة جزءِ على ‎EY‏ من تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي. قد تتضمن العملية كذلك إدخال من الحجرة الأولى 5 للوحدة النمطية جزءِ على الأقل من تيار محلول التغذية الأول المركز في مكون التناضح الأمامي لتكوين جزءِ على الأقل من محلول السحب.
توضح الأشكال 3أ-ه الاختلافات بين جهاز وتقنية تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي الذي تم الكشف ‎aie‏ حاليًا والتقنيات التقليدية لعمليات التناضح العكسي؛ التناضح الأمامي؛ التناضح متأخر الضغط؛ والتناضح الأمامي بمساعدة الضغط. تختلف العملية تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي عن عمليات التناضح العكسي؛ التناضح الأمامي؛ التناضح متأخر الضغط؛ والتناضح الأمامي بمساعدة الضغط المستخدمة في المجال. مثلما هو موضح في الأشكال 3أ-ه؛ تستخدم كل
عملية من هذه العمليات غشاءً شبه منفذ لفصل واحدة أو أكثر من المواد المذابة عن محلول. يمكن تقسيم العمليات التقليدية المشار إليها أعلاه إلى فئتين ‎Why‏ لاتجاه تدفق ناتج النفاذية ‎permeate‏ ‎flow‏ التناضح الأمامي؛ التناضح متأخر الضغط والتناضح الأمامي بمساعدة الضغط؛ يتدفق ناتج النفاذية من جانب الخليط منخفض الضغط التناضحي ‎(1(C2))‏ إلى جانب الخليط مرتفع الضغط
0 التناضحي ‎(7(C1)‏ للغشاء شبه المنفذ. بوجهٍ عام؛ في نظام التناضح الأمامي؛ يكون الضغط الهيدروليكي المسلط على كلا جانبي الغشاء متساويًا. في نظام التناضح متأخر الضغط يتم إدخال تيار التغذية 1 عند ضغط هيدروليكي ‎Pl‏ وضغط تناضحي ‎mC)‏ يكون أعلى من الضغط الهيدروليكي ‎(P2‏ ضغط تناضحي (7)62 لتيار التغذية 2 لكي يؤدي إلى تدفق ناتج النفاذية من تيار التغذية 2 إلى تيار التغذية 1. في نظام التناضح الأمامي بمساعدة الضغط؛ يكون الضغط
5 الهيدروليكي 02 لتيار التغذية 2 أعلى من الضغط الهيدروليكي 01 لتيار التغذية 1. بينما يكون الضغط التناضحي (61)» لتيار التغذية 1 أعلى من الضغط التناضحي (62)» لتيار التغذية 2 لكي يؤدي إلى تدفق ناتج النفاذية من تيار التغذية 2 إلى تيار التغذية 1. يمكن حساب درجة النفاذية في صورة تدفق ناتج النفاذية ‎WJ‏ يتم تعريف تدفق ناتج النفاذية بكونه الحجم المتدفق عبر الغشاء لكل وحدة مساحة لكل وحدة زمن.
تكون التناضح العكسي التقليدية وتناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي مختلفة عن التناضح الأمامي؛ التناضح متأخر الضغط والتناضح الأمامي بمساعدة الضغط. في عملية التناضح العكسي؛ يتدفق ناتج النفاذية من تيار التغذية 1؛ الذي له ضغط هيدروليكي ‎PT‏ أعلى إلى تيار التغذية 2 الذي له ضغط هيدروليكي منخفض 02. في التناضح العكسي؛ لا يشتمل تيار التغذية 2 بشكل مبدئي على أي محلول (في معظم الحالات مذيب نقي مثل الماء) وبالتالي؛ لا يشتمل على أي تركيز مبدئي
لمادة مذابة 2© أو ضغط تناضحي مناظر (02)». في تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي؛ يتدفق ناتج النفاذية من تيار التغذية 1؛ الذي له ضغط تناضحي (0©1)» ‎eel‏ إلى تيار التغذية 2
الذي له ضغط تناضحي ‎7(C2)‏ منخفض. في بعض الحالات؛ في تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي؛ تكون تركيزات 1© و62 الخاصة بتيارات التغذية 1 و2 على التوالي؛ متماظة. يتدفق ناتج النفاذية من جانب تيار التغذية 1 إلى جانب تيار التغذية 2 للغشاء شبه المنفذ فقط بسبب الضغط الهيدروليكي المسلط 71 لتيار التغذية 1 الأعلى من الضغط الهيدروليكي المسلط 72 لتيار التغذية 2. يتمثل الفارق بين التناضح العكسي التقليدي وتناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي في أصل تيار التغذية بخليط منخفض الضغط التناضحي ‎(C2)‏ في عملية التناضح العكسي؛ لا يتم إدخال تيار التغذية 2 عبر الغشاء؛ يوجد ناتج النفاذية المتدفق من تيار التغذية 1 فقط على جانب تيار التغذية 2 من الغشاء. على النقيض من ذلك؛ في تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي؛ يتم 0 إدخال تيار تغذية ثانٍ به تركيز 2© في المرحلة بشكل مستقل؛ مثلما هو موضح في الأشكال 3-1. يقلل تيار التغذية الثاني؛ من الفارق في الضغط التناضحي عبر الغشاء شبه المنفذ ومن ثم يقل الضغط الهيدروستاتيكي المطلوبة لجعل المذيب يتدفق عبر الغشاء شبه المنفذء مما يؤدي إلى إنتاج محلول تغذية مركز ومحلول تغذية مخفف. من المقارنات الواردة أعلاه؛ قد يتضح أن تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي التي تم الكشف 5 عنها ‎Wa‏ تختلف عن العمليات المعروفة مسبقًا. باستخدام أجهزة وتقنيات تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي التي تم الكشف عنها ‎Ulla‏ يمكن الحصول على محاليل تيار تغذية مركزة ‎concentrated feed solutions‏ 1 و/أو محاليل تيار التغذية المخففة ‎diluted feed solutions‏ 2 بشكل مستقل ‎saad‏ استخدامات. الأمثلة 0 توضح الأمثلة التالية العديد من الاستخدامات وتأثيرات استخدام وحدات تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية على تركيز مواد مذابة في محلول و/أو لتنقية مذيب. في هذه الأمثلة؛ تم استخدام غشاء ماء ضارب إلى الملوحة من ألياف مجوفة ‎hollow fiber‏ متوفر في الأسواق وله مساحة سطح تبلغ 50 مترة. يسمح هذا الغشاء بأقصى ضغط تشغيل هيدروليكي يبلغ 3102.64 كيلو باسكال. تم استخدام محاليل كلوريد الصوديوم المائي في صورة تيارات التغذية 1 و2 في الأمثلة 5 3-1. كانت وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية في هيئة نصف قطرية بمجموعتي مداخل ومخارج؛ مع وضع مدخل ومخرج على كل جانب للغشاء شبه المنفذ على التوالي
لتيار التغذية 1 وتيار التغذية 2. المثال 1: ضبط فارق التركيز لتيارات التغذية منخفضة الملوحة ‎low salinity feeds‏ تم إدخال 57 جم/لتر من محلول كلوريد الصوديوم (0.98 مولار)؛ في نفس الوقتء في صورة تيار التغذية 1 وتيار التغذية 2 على الجوانب المتقابلة للغشاء شبه المنفذ. كان التركيز البالغ 57 جم/لتر من محلول كلوريد الصوديوم ‎Se‏ بوجهٍ عام لتركيز البراين ‎brine‏ الذي تم إنتاجه بواسطة عملية التحلية ‎desalination process‏ بالتناضح العكسي التقليدية. تم تسليط 34.47 1378.95 كيلو باسكال من الضغط الهيدروليكي على جانب تيار التغذية 1؛ بينما تم الحفاظ على الضغط الهيدروليكي المسلط على تيار التغذية 2 عند أو أقل من 34.47 كيلو باسكال. عند ضبط معدلات تدفق التغذية ‎feed flow rates‏ (جرام من محلول لكل دقيقة) لتيار التغذية 1 وتيار التغذية 2 يمكن تغيير فارق 0 تركيز المخرج ‎outlet concentration difference‏ بين تيار التغذية 1 و2؛ وتدفق ناتج النفاذية ‎lady‏ ‏لذلك؛ كما هو معروض بصورة ملخصة في الجدول 1.
الجدول 1. ضبط فارق تركيز المخرج في حالة 57 جم/لتر من تيارات التغذية رقم التجربة | تدفق ‏ تيار | تدفق .تيار | 46 المخرج | تدفق ‎Jw‏ ‏التغذية 1 عند | التغذية 2 عند | ‎(C1-C2)‏ لتر لكل متر ‎Foe] he] sa]‏ جم/دقيقة جم/دقيقة الساعة ‎iw‏ ‎oS on‏ المثال 2: ضبط فارق التركيز لتيارات التغذية مرتفعة الملوحة ‎high salinity feeds‏ تم إدخال 180 جم/لتر من المحلول الماثئي ‎aqueous solution‏ كلوريد الصوديوم )3.08 مولار) في
وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية في صورة تيار التغذية 1 وتيار التغذية 2
على التوالي. تم الحفاظ على متوسط الضغط الهيدروليكي لتيار التغذية 2 عند أقل من 137.89كيلو
باسكال بينما تراوح الضغط الهيدروليكي على تيار التغذية 689.47 بين 2757.9 كيلو باسكال و400
كيلو باسكال. تم تلخيص فارق التركيز بين 1© و62 عند منافذ خروج وحدة تناضح عكسي بمساعدة
الضغط التناضحي النمطية في الجدول 2 و الشكل 4. الجدول 2. ضبط فارق تركيز المخرج في حالة 180جم/لتر من تيارات التغذية الضغط عند جانب تيار | ‎AC= C1-C2‏ عند
‎kg‏ للبيانات المعروضة في الجدول 2؛ عند تسليط 6894.76 كيلو باسكال من الضغط على جانب
‏تيار التغذية ‎«C1‏ من المتوقع أن ‎Bilan‏ فارق تركيز نظري قدره 14 جم/لتر مع تركيز تيار التغذية ‎١ 0‏ عند المخرج والبالغ 3.20 مولار وتركيز تيار التغذية 2 عند المخرج البالغ 2.96 مولار.
‎1 ‏ضبط تركيز تيار التغذية‎ :3 Jbl
‏عندما يكون تيار التغذية المركز 1 محل اهتمام» يمكن أن تختلف المتغيرات التشغيلية ‎operational‏
‎sag) parameters‏ تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية؛ ‎Jie‏ معدلات الضغط
‏الهيدروليكي المسلطة لتيار التغذية 1 وتيار التغذية 2 تركيز تيار التغذية 2؛ ونسبة معدل التدفق 5 الخاصة بتيارات التغذية 1 25 لتحقيق التركيزات المستهدفة لتيار التغذية 1 عند المخرج. في المثال
‏3. كانت تركيزات ‎JS‏ من تيار التغذية 1 وتيار التغذية 2 عند المدخل من محاليل كلوريد الصوديوم
‏على النحو التالي 53.8 جم/لتر (0.921 مولار). تراوح الضغط الهيدروليكي المسلط على تيار
‏التغذية 1 من 2068.43 إلى 2757.9 كيلو ‎(JIS‏ بينما تم الحفاظ على تيار التغذية 2 تحت ضغط
‏أقل من 101.35 كيلو باسكال. ‎We‏ بتركيز تيار التغذية ‎«C25 C1‏ يمكن أن يتراوح الضغط 0 الهيدروليكي لتيار التغذية 1 ومعدلات سرعة التدفق المستعرض ‎cross flow velocities‏ لتيار التغذية
‏1 و لإنتاج تركيز مستهدف لتيار التغذية 1 عند المخرج. تم عرض النتائج في الجدول 3. مثلما
هو موضح في الجدول 3؛ تتطابق تركيزات تيار التغذية 1 المستهدفة عند المخرج مع النتائج التي تم الحصول عليها تجريبيًا. الجدول 3. التحكم في تركيز تيار التغذية 1 عند المخرج. الضغط المسلط؛ | 1© المحسوب عند | 1© المختبر عند | تدفق الماء؛ كيلو باسكال ‎cA‏ جمإلتر ‎Al]‏ جمإلتر | لتر لكل ‎Se‏ ‏(لمولار]) (لمولار]) ‎Sa‏ ‏الساعة ‏5 يمكن استخدام وحدات تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية التي تم الكشف عنها حاليًا في أنظمة متعلقة باستخدامات ليس بها أي تصريف للسائل. تتسم تلك الأنظمة بالقدرة على تركيز محاليل محتوية على ملح ‎salt containing solutions‏ حتى تركيزات ‎of‏ من تلك الخاصة بأنظمة التناضح العكسي التقليدية. كما يمكن أن تتسم الأنظمة التي تتضمن وحدات تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي التي تم الكشف عنها بالقدرة على تركيز محلول يحتوي على ملح ‎salt‏ ‎containing solution 10‏ حتى يقترب من التشبع. ونتيجة لذلك؛ يمكن تركيز المحلول المحتوي على الملح المركز ‎concentrated salt‏ بواسطة عملية تبخير أو بلورة في استخدامات ليس بها أي تصريف للسائل. توضح الأمثلة 6-4 أدناه أداء وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية مرتفعة الضغط لتحقيق استخلاص وتحلية ماء البحر فائق الارتفاع دون زيادة في إدخال الطاقة. في هذه الأمثلة؛ تم استخدام غشاء من نوع التناضح العكسي لماء البحر الذي له مساحة سطح تبلغ 75 ‎ie 5‏ يسمح هذا الغشاء بأقصى ضغط تشغيل هيدروليكي يبلغ 8273.71 كيلو باسكال. المثال 4: أداء وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطية واحدة مرتفعة الضغط تنوع تيار التغذية 1 وتيار التغذية 2 اللذين لهما نفس التركيزات من محاليل كلوريد الصوديوم عند المدخل من 58 جم/لتر إلى 150 جم/لتر. تنوع الضغط الهيدروليكي المسلط على تيار التغذية 1
من 5171.07 إلى 5515.81 كيلو باسكال؛ بينما تم الحفاظ على تيار التغذية 2 تحت ضغط (<275.79 كيلو باسكال). علمًا بتركيز تيار التغذية ‎«C25 C1‏ والضغط الهيدروليكي لتيار التغذية 1؛ يمكن أن تتنوع معدلات سرعة التدفق العرضي لتيار التغذية 1 و2 لإنتاج فارق تركيز مستهدف بين تيار التغذية 1 وتيار التغذية 2 عند المخارج. تم عرض نتائج تدفق الماء في الجدول 4 والشكل 5. الجدول 4. فارق التركيز عند المخارج ونتائج تدفق الماء لتناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي مرتفعة الضغط تيار التغذية عند | 1© عند المخرج؛ | 2© عند المخرج | تدفق_ الماء؛ المدخل ‎CI‏ | جم/لتر جم/لتر لتر لكل متر
EEN ‏جم/لتر‎ C2 الساعة oe 20000 86| 0 9 ‎os 450-00 1090| 0-86‏ المثال 5: نظام التناضح الأمامي-التناضح العكسي-تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي ‏0 لتحلية واستخلاص ماء البحر فائق الارتفاع (الشكل 6) في هذا المثال؛ تم تركيز ماء البحر عند 30.000 ‎gia‏ في المليون من كلوريد الصوديوم حتى 0 جزءٍ في المليون باستخدام النظام 600 المصور في الشكل 6. يصور الشكل 6 نظام التناضح الأمامي-التناضح العكسي-تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي الذي تتم فيه التغذية بتيار محلول التغذية بماء البحر التناضح الأمامي 605 إلى مكون التناضح الأمامي 610 الذي 5 يستخدم؛ على سبيل ‎Jal‏ 150.000 جزءٍ في المليون من محلول كلوريد الصوديوم في صورة تيار محلول السحب 607. تم تركيز نواتج النفاذية المائية ‎Water permeates‏ عبر الغشاء التناضح الأمامي 615 من جانب ماء البحر إلى جانب محلول ‎canal)‏ وإجمالي المواد الصلبة المذابة ‎total‏ ‎(TDS) dissolved solids‏ لتيار محلول التغذية بماء البحر التناضح الأمامي 605 حتى 140.000 جزءٍ في المليون بينما تم تخفيف تيار محلول السحب ‎draw solution stream‏ 607 حتى 40.000
جزء في المليون. ‎fila‏ هذا مع استخلاص بنسبة 778.6 من التناضح الأمامي؛ وهو أكبر بكثير من الاستخلاص بنسبة 750 للتناضح العكسي النمطي لماء البحر. يتم بعد ذلك نقل 40.000 جزء في المليون من تيار محلول السحب المخفف 609 من مكون التناضح الأمامي 610 إلى مكون تناضح عكسي 620 لتكوين ‎ohn‏ على الأقل من تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي 612؛ على سبيل المثال؛ عند 6894.75 كيلو باسكال لإنتاج ناتج نفاذية ‎ude‏ منقى ‎purified solvent permeate‏ 5 (أي ماء منزوع الأيونات) ولتركيز تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي 612 حتى 90.000 جزء في المليون؛ مما يؤدي إلى تكوين تيار محلول تغذية بالتناضح العكسي مركز 627. يتم بعد ذلك تقسيم 90.000 جزء في المليون من تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي المركز 627 وإدخاله في ‎JS‏ من الحجرة الأولى 652 والحجرة الثانية 654 من وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط 0 التناضحي النمطية 650؛ وتشغيله؛ على سبيل المثال» عند 6894.75 كيلو باسكال. تستقبل وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية 650 جزءًا ‎Jl‏ من تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي المركز 627 في الحجرة الأولى 652 لتكوين تيار محلول تغذية أول 653 وتستقبل جزءًا ‎Gl‏ من تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي المركز 627 في الحجرة الثانية 654 لتكوين تيار محلول تغذية ثانٍ 655. في الحجرة الأولى 652؛ يتم تركيز تيار محلول التغذية الأول 653 حتى 5 150.000 جزءِ في المليون لتكوين تيار محلول تغذية مركز 657 والذي يمكن نقله إلى المكون التناضح الأمامي 610 لإنتاج 150.000 جزءِ في المليون من محلول السحب 607. في الحجرة الثانية 654؛ يتم تخفيف تيار محلول التغذية الثاني 655 حتى 60.000 ‎ga‏ في المليون لتكوين تيار محلول تغذية ثانٍ مخفف 656. يتم بعد ذلك إرسال 60.000 جزءٍ في المليون من تيار محلول تغذية ثانٍ مخفف 656 إلى المكون التناضح العكسي 620 لإنتاج منتج مذيب منقى إضافي 625. 0 المثال 6: يحسن نظام تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي-التناضح العكسي استخلاص
وحدة التناضح العكسي لتحلية ماء البحر من براين تم تصريفه في هذا المثال» تم تركيز 60.000 جزءِ في المليون من براين من وحدة التناضح العكسي لماء البحر حتى 140.000 ‎ja‏ في المليون باستخدام نظام تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي 2- التتناضح عكسي؛ مثلما هو موضح في الشكل 7. مثلما هو موضح في الشكل 7 يتضمن نظام 5 تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي 2- التناضح عكسي 700 نظام ‎dallas‏ تحضيرية ‎pre-‏ ‎treatment system‏ 750 755 مستخدم أمام كل وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التتاضحي
نمطية. يتضمن النظام 700 وحدة ترشيح ‎filtration module‏ الترشيح الفائق ‎(UF) ultrafiltration‏ نمطية 705« وسيلة فصل سائل عن صلب ‎Jie «710 solid-liquid separation device‏ خزان نثر ‎«seeding tank Lgl‏ خزان تدويمي ‎vortex tank‏ أو وسيلة فرازة مخروطية مائية معدلة ‎modified‏ ‎chydro cyclone device‏ والترشيح بحجم النانو ‎(NF) nanofiltration‏ تم ترشيح البراين بواسطة غشاء الترشيح الفائق 705 أولاً» وترسيبه في خزان نثر أنوية أو خزان تدويمي 710 مع تصريف الراسب الطيني ‎sludge‏ ثم تتم إزالة الصلابة بواسطة غشاء الترشيح بحجم النانو. يتم بعد ذلك تقسيم البراين المعالج مسبقًا والتغذية به إلى وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية الأولى 720( وتشغيلها؛ على سبيل المثال؛ عند 6894.75 كيلو باسكال. يتم تركيز تيار التغذية في إحدى حجرات وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية 720 حتى 90.000 جزء 0 في المليون من المحلول» بينما يتم تخفيف تيار التغذية في الحجرة الأخرى من وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية 720 حتى 20.000 جزءٍ في المليون. يتم إرسال 20.000 جز في المليون من تيار المحلول إلى مكون التناضح العكسي 725 لإنتاج منتج ماء منقى إضافي 730 بينما تتم التغذية ببراين التناضح العكسي الناتج عند 60.000 جزءٍ في المليون وإعادته إلى نظام المعالجة التحضيرية الأول 750. تتم معالجة 90.000 ‎gia‏ في المليون من المحلول الناتج 5 بواسطة وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية الأولى 720 بواسطة نظام معالجة تحضيرية ثانٍ 755 وتقسيمه والتغذية به إلى وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطية ثانية 740. تنتج إحدى حجرات ‎Sang‏ تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية الثانية 740 140.000 جزءٍ في المليون من براين التصريف ‎brine‏ 0195018:86» بينما يتم تخفيف تيار التغذية في الحجرة الثانية حتى 45.000 جزء في المليون. يتم أيضًا إرسال 45.000 جزءِ في 0 المليون من تيار تغذية إلى مكون التناضح العكسي 725 لإنتاج ماء إضافي. بما أنه تتم إعادة تدوير ‎JS‏ من 20.000 جزء في المليون و45.000 £32 في المليون من التيارات المخففة ‎diluted streams‏ من وحدات تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية 720 740 داخلهاء فيتماتل 00 جزءٍ في المليون الذي تم تصريفه مع الاستخلاص بنسبة 728.6 لوحدة التناضح العكسي
لماء البحر الموجودة (إذا تم حسابها من ماء البحر عند 30.000 جزءٍ في المليون). 5 بالإضافة إلى أنظمة المعالجة التحضيرية 750( 755( الموصوفة أعلاه؛ قد تكون هناك ‎dala‏ ‏لإجراء المعالجة التحضيرية لتيار التغذية الداخل؛ مثل ‎ele‏ البحرء الماء الضارب إلى الملوحة؛ ماء
الصرف؛ الماء الصناعي و/أو الماء المنتج؛ لمنع تكوين القشورء التلوث العضوي و/أو التلوث الحيوي. ونتيجة ‎(lI‏ بشكل منفصل أو في توليفة؛ يمكن استخدام كل أنظمة المعالجة التحضيرية التالية في صورة معالجة تحضيرية للأجهزة والتقنيات التي تم الكشف عنها حاليًا: الترشيح متعدد الأوساط ‎multimedia filtration‏ التخثر والترشيح بالنقل ‎filtration coagulation‏ 811886» الإضافة الكيميائية؛ الطرد المركزي؛ الترشيح الدقيق ‎(MF) microfiltration‏ الترشيح الفائق؛ الترشيح بحجم ‎«gill‏ نثر الأنوية الكيميائية ‎muds) chemical seeding‏ الفائق/نثر الأنوية؛ الترشيح بحجم النانو/نثر الأنوية؛ امتزاز الكريون المنشط ‎activated carbon‏ بالترشيح الفائق/نثر الأنوية/الترشيح بحجم النانو» الترشيح الفائق/نثر الأنوية- الفرازة المائية ‎ud jill/Seeding-hydrocyclone‏ بحجم النانوء التبادل الأيوني؛ نزع الأيونات بالسعة ‎«(CDI) capacitance deionization‏ نزع الأيونات 0 الكهريائي ‎«(EDI) electro deionization‏ عملية أكسدة متقدمة ‎Advanced Oxidation Process‏ ‎«(AOP)‏ وأية توليفة منها. يوضح المثالان 8-7 أدناه أنظمة التناضح الأمامي-التناضح العكسي تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي المستخدمة لتجديد محاليل سحب ‎draw solutions‏ التناضح الأمامي في استخدامات ليس بها أي تصريف للسائل. 5 المثال 7: نظام التناضح الأمامي-التناضح العكسي-تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي لتحلية ماء البحر بأنظمة ليس بها أي تصريف للسائل في مثال أنظمة ليس بها أي تصريف للسائل لماء البحرء تمت إضافة العديد من وحدات تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية إلى المثال 4 السابق على التوالي. مثلما هو مصور في الشكل 8؛ يتضمن النظام 800 عدة وحدات تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطية أو ماحل تسمح باستخدام مكون التناضح الأمامي 805 مع محلول سحب أقوى. في هذا المثال؛ يتم تركيز ماء البحر من 30.000 جزء في المليون إلى 240.000 جزءٍ في المليون؛ والذي يتماثل مع استخلاص بنسبة 787.5. يمكن أن يستخدم مكون التناضح الأمامي 805؛ على سبيل المثال؛ ‎23a 280.000‏ في المليون من محلول سحب كلوريد المجنسيوم. يتم تركيز محلول السحب المخفف الخارج من مكون التناضح الأمامي 805 عند 40.000 جزء في المليون حتى 80.000 ‎oa‏ في 5 المليون بواسطة مكون التناضح العكسي 810؛ على سبيل المثال؛ عند 6894.75 كيلو باسكال. يمر هذا المحلول البالغ 80.000 جزء في المليون بعد ذلك بالتعاقب عبر خمس وحدات تناضح
عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطية 815» 820( 825؛ 830( 835؛ أو مراحل؛ ‎JS‏ منهاء على سبيل المثال؛ عند 6894.75 كيلو باسكال لتجديد 280.000 جزء في المليون من محلول السحب. تركز كل مرحلة من تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي محلول السحب بحوالي 0 جزء في المليون حتى تجديد التناضح الأمامي 280.000 جزءٍ في المليون من محلول السحب. ينتج مكون التناضح العكسي 810 منتج ماء منقى 840 (أي ماء منزوع الأيونات)؛ مثلما تم وصفه من قبل و80.000 جزءٍ في المليون من المحلول للاستخدام اللاحق في ‎sang‏ تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية الأولى 815. للمساعدة في زيادة تدفق الماء في عملية التناضح الأمامي؛ يمكن تشغيل تيار التغذية بماء البحر (و/أو السحب) في نمط إعادة ‎gil‏ حيث يتم استخدام مضخة ‎sale}‏ تدوير ‎recycling pump‏ لدفع محلول مخرج ‎outlet solution‏ التناضح 0 الأمامي للعودة إلى مدخل غشاء التناضح الأمامي بأعلى سرعة ممكنة للمساعدة في تقليل استقطاب التركيز ‎concentration polarization‏ ولا ‎Law‏ في ‎Jb‏ ظروف تركيز مرتفع. يمكن استخدام أنظمة المعالجة التحضيرية المماثلة لأنظمة المعالجة التحضيرية 750( 755 الموضحة في الشكل 7 في مقدمة أغشية التناضح الأمامي للقضاء على التلوث عند التركيز المرتفع. المثال 8: نظام التناضح الأمامي-التناضح ‎malin Soll‏ عكسي بمساعدة الضغط التناضحي 5 لعملية ليس بها أي تصريف للسائل المنتج في حقل النفط يستخدم المثال 8 نظامًا مماثلاً لذلك الموصوف في المثال 7 والموضح في الشكل 8 المناظر. مثلما هو موضح في الشكل 9 بما أن تركيز محلول التغذية أعلى؛ عند 140.000 جزء في المليون؛ يخرج محلول السحب المخفف من مكون التناضح الأمامي 905 عند تركيز أعلى» حوالي 160.000 ‎oda‏ في المليون. ويتم بعد ذلك ‎Jl)‏ محلول السحب المخفف مباشرة إلى وحدة تناضح عكسي 0 بمساعدة الضغط التناضحي النمطية الثالثة 930 البالغة 160.000 ‎gia‏ في المليون؛ مثلما هو موضح في الشكل 9. يتم بعد ذلك تركيز أحد التيارات حتى 280.000 ‎cia‏ في المليون وإعادة استخدامه في صورة محلول السحب لمكون التناضح الأمامي 905؛ بينما يتم تخفيف التيار الآخر بالتعاقب حتى 40.000 جزء في المليون وإدخاله في مكون التناضح العكسي 910. ينتج مكون التناضح العكسي 910 منتج ماء منقى 960 (أي؛ ماء منزوع الأيونات)؛ مثلما تم وصفه من قبل 5 ومحلول قدره 80.000 جزء في المليون للاستخدام اللاحق في وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية الأولى 915.
المثال 9: إضافة وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطية لتحسين الاستخلاص في نظام تناضح عكسي تقليدي يوضح الشكلان 110 و10ب مقارنة استخلاص في نظام تناضح عكسي تقليدي باستخدام ويدون وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطية. يوضح الشكل 10 الاستخلاص لنظام تناضح عكسي تقليدي 1000 مستخدم لتحلية ماء البحر. مثلما هو مصور في الشكل 110؛ يتم توصيل 73.2 بالوزن من تيار التغذية بماء البحر إلى مكون التناضح العكسي 1005 بواسطة مضخة مرتفعة الضغط 1010( لإنتاج تيار مركز بنسبة 76 بالوزن؛ والمناظر لاستخلاص بنسبة 7. على النقيض من ذلك؛ مثلما يتضح بالنظام 1025 في الشكل 10ب؛ عند إضافة وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطية 1050 أمام المضخة مرتفعة الضغط 1020؛ ‎(Sa 0‏ استخدام الجانب منخفض الضغط (الحجرة الثانية) من وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية 1050 لتيار التغذية بماء البحر بينما يمكن تغذية الجانب مرتفع الضغط (الحجرة الأولى) بالبراين من مكون التناضح العكسي 1030 في ظل ضغط مرتفع. في هذه الهيئة؛ حتى في ظل نفس معدلات ضغط تشغيل ‎operating pressures‏ التناضح العكسي وتركيزات التغذية ‎slay‏ ‎«jal‏ تتسبب إضافة وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطية 1050 في توفير 5 براين التناضح العكسي لناتج نفاذية إضافي لعبور الغشاء في وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التتاضحي نمطية 1050 إلى تيار التغذية بماء البحر. يتم تركيز البراين بدرجة أكبر وفي نفس الوقت يتم تقليل تركيز تيار التغذية إلى خطوة التناضح العكسي. نتيجة لذلك؛ يتم الحصول على مزيدٍ من ناتج النفاذية بواسطة نفس مكون التناضح العكسي؛ وتتم زيادة الاستخلاص. مثلما هو موضح في الشكلين 110 و10ب؛ نتيجة لإضافة وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطية؛ يمكن 0 تيل تركيز تيار التغذية من 73.2 بالوزن إلى 72.5 بالوزن ويمكن تركيز براين التناضح العكسي من 74.5 بالوزن إلى 78 بالوزن. وبالتالي يصبح الاستخلاص 760 مما يشير إلى إمكانية تحقيق استخلاص إضافي بنسبة 713 في نفس نظام التناضح العكسي دون استهلاك إضافي لطاقة المعالجة التحضيرية لتيار التغذية. المثال 10: يتم تقليل ضغط التشغيل ‎Operating pressure‏ في نظام تحلية ‎ele‏ البحر بالتناضح 5 العكسي باستخدام تيار تغذية مخفف من وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطية يوضح الشكل 11 ‎Glas‏ 1100 قادرًا على استخلاص 747 في تحلية ماء البحر عند 300 كيلو
باسكال فقط من ضغط تشغيل التناضح العكسي بسبب استخدام وحدتي تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطيتين. مثلما هو مصور في الشكل 11؛ يمكن تخفيف 73.2 بالوزن من تيار تغذية بماء البحر حتى 71.6 بالوزن بواسطة وحدة التناضح العكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية الأولى 1110 بينما تركز نفس الوحدة النمطية 1110 تيار ماء البحر من 73.2 بالوزن إلى 76 بالوزن في ظل ضغط يبلغ 2068.42 كيلو باسكال فقط. يمكن تخفيف التيار المخفف البالغ 6 بالوزن بواسطة وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطية ثانية 1115 حتى 8 بالوزن والتغذية به في مكون التناضح العكسي 1120. يمكن ضبط التيار المركز من وحدة التناضح العكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطية الثانية على 73.2 بالوزن والتغذية به ‎Bye‏ ‏أخرى إلى خزان التغذية ‎feed tank‏ بماء البحر الأصلي 1130. يمكن ‎Wiad‏ ضبط براين التناضح 0 العكسي على 71.6 بالوزن والتغذية به مرة أخرى إلى خزان التفتيت ‎break tank‏ المتوسط بنسبة 6 بالوزن 1140. عندما ينتج النظام 1100 76 بالوزن من البراين والماء منزوع الأيونات كتيارات مخرج ‎coutlet streams‏ يوفر هذا النظام 1100 استخلاصًا بنسبة 747 في ظل ضغط قدره 2068.42 كيلو باسكال. يحتاج نفس الاستخلاص في نظام التناضح العكسي التقليدي في ‎salad)‏ إلى ضغط قدره 5515.8 كيلو باسكال. بالإضافة إلى ذلك؛ يمكن استخدام مبادل ضغط ‎pressure exchanger‏ 5 الاستبدال المضخات مرتفعة الضغط ‎high pressure pumps‏ 1160» 1165 لتوفير طاقة أكثر. لا يقتصر هذا المثال على مرحلتي أو وحدتي التناضح العكسي بمساعدة الضغط التناضحي النمطيتين. يقع أي عدد من مراحل تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي ضمن مجال وفحوى الإختراع الحالي. إن التجسيدات الموضحة والموصوفة أعلاه هي أمثلة فقط. وبالتالي؛ لم يتم عرض العديد من تلك 0 التفاصيل أو وصفها. على الرغم من عرض العديد من خصائص ومميزات التقنية الحالية في الوصف السابق؛ مع تفاصيل بنية ووظيفة الإختراع الحالي؛ فإن الكشف توضيحي فقط؛ ويمكن إدخال تغييرات في التفاصيل؛ ولا سيما في شكل وحجم وترتيب الأجزاء ضمن مبادئ الإختراع الحالي بنفس المدى المشار إليه بالمعنى العام الشامل للمصطلحات المستخدمة في عناصر الحماية الملحقة. وبالتالي؛ سيتم إدراك أنه يمكن تعديل التجسيدات الموصوفة أعلاه ضمن مجال عناصر الحماية الملحقة. 5 تتضمن بيانات الإختراع: البيان 1: جهاز يشتمل على: مصدر محلول تغذية أول؛ مصدر محلول تغذية ثان؛ وغشاء شبه منفذ
يشتمل على جانب أول مهياً لاستقبال تيار محلول تغذية ‎Jl‏ من مصدر محلول التغذية الأول وجانب ثانٍ ‎Lee‏ لاستقبال تيار محلول تغذية ثانٍ من مصدر محلول التغذية الثاني؛ ويكون تيار محلول التغذية الأول بتركيز مادة مذابة أول وضغط تناضحي أول»؛ ويكون تيار محلول التغذية الثاني بتركيز مادة مذابة ‎GB‏ وضغط تناضحي ‎(GB‏ حيث يكون الضغط التناضحي الأول أكبر من أو يساوي الضغط التناضحي الثاني؛ وحيث تتم تهيئة مصدر محلول التغذية الأول لتوفير ضغط هيدروستاتيكي إلى الجانب الأول من الغشاء شبه المنفذ بهدف إنتاج تيار محلول تغذية أول مركز وتيار محلول تغذية ‎Gb‏ مخفف بواسطة المذيب المار؛ في صورة محلول ناتج نفاذية؛ من تيار محلول التغذية
الأول إلى تيار محلول التغذية الثاني عبر الغشاء شبه المنفذ. البيان 2: جهاز ‎By‏ للبيان 1؛ حيث تتم ‎dug‏ مصدر محلول التغذية الثاني ‎pial‏ ضغط
0 ميدروستاتيكي إلى الجانب الثاني للغشاء شبه المنفذء وحيث يكون الضغط الهيدروستاتيكي الذي يتم توفيره إلى الجانب الثاني للغشاء شبه المنفذ أقل من الضغط الهيدروستاتيكي الذي يتم توفيره إلى الجانب الأول للغشاء شبه المنفذ بواسطة مصدر محلول التغذية الأول. البيان 3: جهاز ‎By‏ للبيان 1؛ حيث يتراوح الضغط الهيدروستاتيكي من ‎Jos‏ 344.74 كيلو باسكال إلى حوالي 34473.79 كيلو باسكال.
5 البيان 4: جهاز وفقًا للبيان 2 حيث يتراوح الضغط الهيدروستاتيكي الذي يتم توفيره إلى الجانب الأول للغشاء شبه المنفذ من حوالي 344.74 كيلو باسكال إلى حوالي 34473.78 كيلو باسكال ويتراوح الضغط الهيدروستاتيكي الذي يتم توفيره إلى الجانب الثاني للغشاء شبه المنفذ من حوالي 0 كيلو باسكال إلى حوالي 3447.38 كيلو باسكال. البيان 5: جهاز ‎Gg‏ للبيان 1؛ حيث تتم تهيئة مصدر محلول التغذية الأول للتغذية بتيار المحلول
0 الأول إلى الجانب الأول للغشاء شبه المنفذ عند ضغط هيدروستاتيكي أول وتتم تهيئة مصدر محلول التغذية الثاني للتغذية بتيار المحلول الثاني إلى الجانب الثاني للغشاء شبه ‎Ml‏ عند ضغط هيدروستاتيكي ‎(Ob‏ حيث يكون الضغط الهيدروستاتيكي الأول أكبر من الضغط الهيدروستاتيكي الثاني . البيان 6: جهاز ‎Ug‏ للبيان 5؛ حيث يتراوح الضغط الهيدروستاتيكي الأول من حوالي 344.73 كيلو
5 باسكال إلى حوالي 34473.79 كيلو باسكال وبتراوح الضغط الهيدروستاتيكي الثاني من حوالي 0 كيلو باسكال إلى حوالي 3447.37 كيلو باسكال.
البيان 7: جهاز ‎Ug‏ لأي من البيانات السابقة 6-1؛ حيث يكون تركيز المادة المذابة الأول أكبر من أو يساوي تركيز المادة المذابة الثاني. البيان 8: جهاز ‎Gg‏ لأي من البيانات السابقة 6-1؛ حيث يكون تركيز المادة المذابة الأول مساويًا تقريبًا لتركيز المادة المذابة الثاني. البيان 9: جهاز ‎Wy‏ لأي من البيانات السابقة 8-1؛ حيث يكون تركيز المادة المذابة الثاني أكبر من ‎gia 500 isa‏ في المليون. البيان 10: جهاز وفقًا لأي من البيانات السابقة 9-1؛ حيث يشتمل تيار محلول التغذية الثاني على معدل تدفق يتراوح بين حوالي 200 جرام من المادة المذابة في الدقيقة وحوالي 2000 جرام من المادة المذابة في الدقيقة. 0 البيان 11: جهاز وففقًا لأي من البيانات السابقة 10-1 حيث تتراوح النسبة من الضغط التناضحي الأول إلى الضغط التناضحي الثاني من حوالي 1 إلى حوالي 5. البيان 12: جهاز ‎By‏ لأي من البيانات السابقة 1-1 حيث يكون الضغط التناضحي الأول مساويًا تقريبًا للضغط التناضحي الثاني. البيان 13: جهاز وفقًا لأي من البيانات السابقة 12-1 حيث يكون الضغط التناضحي الثاني ‎GS‏ ‎Jit 5‏ الضغط الهيدروستاتيكي المطلوب لإنتاج تيار محلول تغذية أول مركز وتيار محلول تغذية ثانٍ مخفف بواسطة المذيب المار من تيار محلول التغذية الأول إلى تيار محلول التغذية الثاني عبر الغشاء شبه المنفذ. البيان 14: جهاز وفقًا لأي من البيانات السابقة 13-1 حيث يشتمل تيار محلول التغذية الأول على ‎sabe‏ مذابة أولى ومذيب أول وبشتمل تيار محلول التغذية الثاني على مادة مذابة ثانية ومذيب ثان؛ 0 وبتم اختيار المذيب الثاني على الأقل من المجموعة التي تتألف من الماء؛ ميثانول؛ إيثانول» ‎aly‏ ‏توليفة منها. البيان 15: جهاز ‎By‏ للبيان 14؛ حيث يكون المذيب الثاني على الأقل عبارة عن الماء. البيان 16: جهاز ‎Bay‏ للبيان 15( حيث يتم اختيار المادة المذابة الثانية من المجموعة التي تتألف من كحولات؛ دايوكسان؛ أسيتون» تترا هيدرو فيوران» داي ميثيل فورماميد؛ وداي ميثيل سلفوكسيد. 5 البيان 17: جهاز ‎Gy‏ للبيان 14؛ حيث يتم اختيار المادة المذابة الثانية من المجموعة التي تتألف من كلوريد الصوديوم؛ كلوريد البوتاسيوم؛ كلوريد المجنسيوم؛ كريونات المجنسيوم؛ سلفات المجنسيوم؛
كلوريد الكالسيوم»؛ سلفات الكالسيوم؛ كربونات الكالسيوم؛ أسيتات البوتاسيوم؛ وكالسيوم مجنسيوم
أسيتات.
البيان 18: جهاز ‎Gig‏ للبيان 14؛ حيث يتم اختيار المادة المذابة الثانية من سكرء أكسيد الإيثيلين»
أكسيد البروبيلين» مركبات بولي إيثيلين جليكول» حمض بولي (أكربليك)؛ كحول بولي ‎(Jad)‏ أكسيد بولي (يثيلين)» حمض بولي (قينيل)؛ بولي (ستيرين سلفونات)؛ مركبات بولي إلكتروليت أساسها
بولي (أكريل أميد)؛ بولي (داي أليل ‎(gla‏ ميثيل أمونيوم كلوريد)؛ بولي (أليل أمين هيدروكلوريد)؛
بولي ‎dad)‏ بيروليدون)؛ بولي (10-أيزو بروبيل أكريل أميد)؛ مركبات بولي (ألكيل أكريلات)؛
أحماض بولي ألكيل أكريليك» بولي (2- أوكسازولين) وبولي إيثيلين إيمين؛ بوليمرات مشتركة أو
بوليمرات مشتركة كتلية منهاء وأية توليفة منها.
0 البيان 19: جهاز وفقًا لأي من البيانات السابقة 18-1؛ حيث يتم اختيار مصدر محلول التغذية الأول من المجموعة التي تتألف من مضخة مرتفعة الضغط؛ نظام تناضح عكسي؛ نظام تناضح أمامي؛ وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطية؛ وأية توليفة منها. البيان 20: جهاز وفقًا لأي من البيانات السابقة 19-1( حيث يتم اختيار مصدر محلول التغذية الثاني من المجموعة التي تتألف من مضخة؛ نظام تناضح عكسي؛ وحدة تناضح عكسي بمساعدة
5 الضغط التناضحي نمطية؛ وأية توليفة منها. البيان 21: جهاز ‎Gy‏ لأي من البيانات السابقة 20-1 حيث يكون تيار محلول التغذية الثاني عبارة عن تيار مادة مذابة مستمر التدفق ‎.constant flow solute stream‏ البيان 22: جهاز ‎Gy‏ لأي من البيانات السابقة 21-1؛ حيث يشتمل محلول ناتج النفاذية على ضغط تناضحي ثالث؛ حيث يكون الضغط التناضحي الثاني أكبر من الضغط التناضحي الثالث.
0 البيان 23: جهاز وفقًا لأي من البيانات السابقة 22-1؛ حيث تتم تهيئة مصدر محلول التغذية الأول ومصدر محلول التغذية الثاني لإنتاج فارق ضغط بين الضغط الهيدروستاتيكي الأول والضغط الهيدروستاتيكي الثاني يكفي للتسبب في مرور المذيب من الجانب الأول إلى الجانب الثاني للغشاء شبه ‎dial‏ حيث تتم تهيئة مصدر محلول التغذية الأول ومصدر محلول التغذية الثاني أيضًا لتنويع فارق الضغط كدالة على الضغط التناضحي الثاني.
5 البيان 24: جهاز وفقًا لأي من البيانات السابقة 23-1 حيث يشتمل تيار محلول التغذية الأول على محلول ملوث؛ يشتمل تيار محلول التغذية الثاني على جزءِ على الأقل من المحلول الملوث.
البيان 25: جهاز وفقًا لأي من البيانات السابقة 4-1 حيث تتم تهيئة ‎JS‏ من مصدر محلول التغذية الأول ومصدر محلول التغذية الثاني لتوفير أجزاء من نفس المحلول الملوث إلى واحدٍ معن من الجانبين الأول والثاني للغشاء شبه المنفذ. البيان 26: جهاز ‎Wy‏ لأي من البيانات السابقة 25-1 حيث تتم تهيئة مصدر محلول التغذية الأول أيضًا لإعادة تدوير تيار محلول التغذية الأول المركز؛ أو ‎gia‏ منه؛ إلى الجانب الأول للغشاء شبه المنفذ. البيان 27: جهاز ‎By‏ لأي من البيانات السابقة 26-1؛ حيث تتم تهيئة مصدر محلول التغذية الثاني لتوفير جزءِ على الأقل من تيار محلول التغذية الأول المركز إلى الجانب الثاني للغشاء شبه المنفذ. البيان 28: جهاز يشتمل على: مصدر محلول تغذية أول؛ مصدر محلول تغذية ثانٍ؛ ووحدة نمطية 0 واحدة على الأقل مقترنة ‎Gaile‏ بمصدر محلول التغذية الأول ومصدر محلول التغذية الثاني تشتمل الوحدة النمطية الواحدة على الأقل على: حجرة أولى وحجرة ثانية؛ غشاء شبه ‎Mic‏ موضوع عند السطح البيني الموجود بين الحجرة الأولى والحجرة الثانية؛. حيث يكون للغشاء شبه المنفذ جانب أول في اتصال مائعي مع الحجرة الأولى وجانب ثانٍ في اتصال مائعي مع الحجرة الثانية؛ حيث تتم تهيئة الحجرة الأولى لاستقبال تيار محلول تغذية أول من مصدر محلول التغذية الأول وتتم تهيئة 5 الحجرة الثانية لاستقبال تيار محلول تغذية ثانٍ من مصدر محلول التغذية الثاني؛ ويكون تيار محلول التغذية الأول بتركيز مادة مذابة أول وضغط تناضحي أول؛ ويكون تيار المحلول الثاني بتركيز مادة مذابة ثان وضغط تناضحي ثان؛ حيث يكون الضغط التناضحي الأول أكبر من أو يساوي الضغط التناضحي الثاني؛ وحيث تتم تهيئة مصدر محلول التغذية الأول لتوفير ضغط هيدروستاتيكي إلى الحجرة الأولى بهدف إنتاج تيار محلول تغذية أول مركز وتيار محلول تغذية ‎GB‏ مخفف بواسطة 0 المذيب المار من الحجرة الأولى إلى الحجرة الثانية عبر الغشاء شبه المنفذ. البيان 29: جهاز ‎By‏ للبيان 28 حيث يشتمل كذلك على مكون تناضح أمامي ومكون تناضح عكسي؛ ويكون كل مكون مقترنًا مائعيًا بالوحدة النمطية الواحدة على الأقل. البيان 30: جهاز وفقًا للبيان 28 أو البيان 29 حيث تشتمل الحجرة الأولى على منفذ دخول أول ‎Lea‏ لاستقبال تيار محلول التغذية الأول من مصدر محلول التغذية الأول وتشتمل الحجرة الثانية 5 على منفذ دخول ثانٍ مهياً لاستقبال تيار محلول التغذية الثاني من مصدر محلول التغذية الثاني. البيان 31: جهاز ‎Wy‏ لأي من البيانات 30-28؛ حيث يشتمل مصدر محلول التغذية الأول على
مكون تناضح عكسي؛ حيث ينتج مكون التناضح العكسي محلول ناتج نفاذية وتيار محلول تغذية
بالتناضح العكسي مركز من تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي؛ حيث يشتمل تيار محلول التغذية
الأول على جزءِ على الأقل من تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي المركز.
البيان 32: جهاز وفقًا لأي من البيان 31؛ حيث يشتمل مصدر محلول التغذية الثاني على مكون
التناضح العكسي؛ حيث يشتمل تيار المحلول الثاني على ‎gga‏ على الأقل من تيار محلول التغذية
بالتناضح العكسي المركز.
البيان 33: جهاز ‎Bs‏ لأي من البيانات السابقة 32-29( حيث تتم تهيئة الحجرة الثانية لنقل جزء
على الأقل من تيار محلول التغذية الثاني المخفف إلى مكون التناضح العكسي؛ حيث تتم تهيئة
مكون التناضح العكسي لاستقبال الجزء على الأقل من تيار محلول التغذية الثاني المخفف من الحجرة 0 الثانية؛ حيث يشتمل تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي ‎Wis‏ على الأقل على تيار محلول التغذية
الثاني المخفف.
البيان 34: جهاز وفقًا للبيان 28 حيث يشتمل كذلك على مكون تناضح أمامي مقترن ‎nile‏ بمكون
التناضح العكسي والوحدة النمطية الواحدة على الأقل؛ ويكون مكون التناضح الأمامي ‎Lge‏ لإنتاج
محلول سحب مخفف ومحلول تغذية مركز من محلول السحب وتيار محلول تغذية بالتناضح الأمامي؛ 5 حيث تتم تهيئة الحجرة الأولى للوحدة النمطية الواحدة على الأقل لنقل تيار محلول التغذية الأول
المركز المنتج إلى مكون التناضح الأمامي؛ حيث تتم تهيئة مكون التناضح الأمامي لاستقبال تيار
محلول التغذية الأول المركز من الحجرة الأولى للوحدة النمطية الواحدة على الأقل واستخدام ‎gia‏
على الأقل من تيار محلول التغذية الأول المركز في صورة محلول السحب.
البيان 35: جهاز ‎Gy‏ للبيان 34؛ حيث تتم تهيئة مكون التناضح الأمامي لنقل تيار محلول السحب 0 المخفف إلى مكون التناضح العكسي؛ حيث تتم تهيئة مكون التناضح العكسي لاستقبال تيار محلول
السحب المخفف من مكون التناضح الأمامي واستخدام ‎ga‏ على الأقل من تيار محلول السحب
المخفف في صورة تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي.
البيان 36: جهاز ‎Ey‏ لأي من البيانات السابقة 35-28؛ حيث تتم تهيئة مصدر محلول التغذية
الثاني لتوفيرر ضغط هيدروستاتيكي إلى الجانب الثاني للغشاء شبه ‎dung dial‏ يكون الضغط 5 الهيدروستاتيكي الذي يتم توفيره إلى الجانب الثاني للغشاء شبه المنفذ أقل من الضغط الهيدروستاتيكي
الذي يتم توفيره إلى الجانب الأول للغشاء شبه المنفذ بواسطة مصدر محلول التغذية الأول.
البيان 37: جهاز وفقًا لأي من البيانات السابقة 35-28( حيث يتراوح الضغط الهيدروستاتيكي من ‎Jigs‏ 344.73 كيلو باسكال إلى حوالي 34473.78 كيلو باسكال. البيان 38: جهاز ‎Gy‏ للبيان 36 حيث يتراوح الضغط الهيدروستاتيكي الذي يتم توفيره إلى الجانب الأول للغشاء شبه المنفذ من حوالي 344.73 كيلو باسكال إلى ‎Jon‏ 34473.78 كيلو باسكال وتتراوح الضغط الهيدروستاتيكي الذي يتم توفيره إلى الجانب الثاني للغشاء شبه المنفذ من حوالي 0 كيلو باسكال إلى حوالي 3447.38 كيلو باسكال. البيان 39: جهاز ‎Ey‏ لأي من البيانات السابقة 35-28؛ حيث تتم تهيئة مصدر محلول التغذية الأول للتغذية بتيار المحلول الأول إلى الجانب الأول للغشاء شبه المنفذ عند ضغط هيدروستاتيكي أول وتتم تهيئة مصدر محلول التغذية الثاني للتغذية بتيار المحلول الثاني إلى الجانب الثاني للغشاء 0 شبه المنفذ عند ضغط هيدروستاتيكي ثانٍ؛ حيث يكون الضغط الهيدروستاتيكي الأول أكبر من الضغط الهيدروستاتيكي الثاني. البيان 40: جهاز وفقًا للبيان 39 حيث يتراوح الضغط الهيدروستاتيكي الأول من حوالي 344.73 كيلو باسكال إلى حوالي 34473.78 كيلو باسكال ويتراوح الضغط الهيدروستاتيكي الثاني من حوالي 0 كيلو باسكال إلى حوالي 3447.38 كيلو باسكال. 5 البيان 41: جهاز ‎Ug‏ لأي من البيانات السابقة 40-28؛ حيث يكون تركيز المادة المذابة الأول أكبر من أو يساوي تركيز المادة المذابة الثاني. البيان 42: جهاز ‎Wy‏ لأي من البيانات السابقة 40-28؛ حيث يكون تركيز المادة المذابة الأول مساويًا تقريبًا لتركيز المادة المذابة الثاني. البيان 43: جهاز وفقًا لأي من البيانات السابقة 42-28 حيث يكون تركيز المادة المذابة الثاني 0 أكبر من حوالي 500 جزء في المليون. البيان 44: جهاز وفقًا لأي من البيانات السابقة 43-28؛ حيث يشتمل تيار محلول التغذية الثاني على معدل تدفق يتراوح بين حوالي 200 جرام من المادة المذابة في الدقيقة وحوالي 2000 جرام من المادة المذابة في الدقيقة. البيان 45: جهاز وفقًا لأي من البيانات السابقة 44-28؛ حيث تتراوح النسبة من الضغط التناضحي 5 الأول إلى الضغط التناضحي الثاني من حوالي 1 إلى حوالي 5. البيان 46: جهاز ‎GY By‏ من البيانات السابقة 45-28( حيث يكون الضغط التناضحي الأول
مساويًا تقريبًا للضغط التناضحي الثاني. البيان 47: جهاز وفقًا لأي من البيانات السابقة 46-28؛ حيث يكون الضغط التناضحي الثاني ‎GAS‏ ‏لتقليل الضغط الهيدروستاتيكي المطلوب لإنتاج تيار محلول تغذية أول مركز وتيار محلول تغذية ثانٍ مخفف بواسطة المذيب المار من تيار محلول التغذية الأول إلى تيار محلول التغذية الثاني عبر الغشاء شبه المنفذ. البيان 48: جهاز وفقًا لأي من البيانات السابقة 47-28 حيث يشتمل تيار محلول التغذية الأول على ‎sale‏ مذابة أولى ومذيب أول ويشتمل تيار محلول التغذية الثاني على مادة مذابة ثانية ومذيب ثان؛ ويتم اختيار المذيب الثاني على الأقل من المجموعة التي ‎callin‏ من الماء؛ ميثانول؛ إيثانول؛ وأية توليفة منها. 0 البيان 49: جهاز ‎Bs‏ للبيان 48 حيث يكون المذيب الثاني على الأقل عبارة عن الماء. البيان 50: جهاز ‎Bay‏ للبيان 49؛ حيث يتم اختيار المادة المذابة الثانية من المجموعة التي تتألف من كحولات؛ دايوكسان؛ أسيتون» تترا هيدرو فيوران» داي ميثيل فورماميد؛ وداي ميثيل سلفوكسيد. البيان 51: جهاز ‎Bay‏ للبيان 48؛ حيث يتم اختيار المادة المذابة الثانية من المجموعة التي تتألف من كلوريد الصوديوم؛ كلوريد البوتاسيوم؛ كلوريد المجنسيوم؛ كريونات المجنسيوم؛ سلفات المجنسيوم؛ 5 كلوريد الكالسيوم»؛ سلفات الكالسيوم؛ كربونات الكالسيوم؛ أسيتات البوتاسيوم» وكالسيوم مجنسيوم أسيتات. البيان 52: جهاز وفقًا للبيان 48؛ حيث يتم اختيار المادة المذابة الثانية من سكرء أكسيد الإيثيلين» أكسيد ‎Cling ll‏ مركبات بولي إيثيلين جليكول» حمض بولي (أكريليك)؛ كحول بولي (قينيل) أكسيد بولي (إيثيلين)» حمض بولي (قينيل)؛ بولي (ستيرين سلفونات)؛ مركبات بولي إلكتروليت أساسها 0 بولي (أكريل أميد)؛ بولي (داي أليل داي ميثيل أمونيوم كلوريد)؛ بولي (أليل أمين هيدروكلوريد)؛ ‎dad) Js‏ بيروليدون)؛ بولي (10-أيزو بروبيل أكريل أميد)؛ مركبات بولي (ألكيل أكريلات)؛ أحماض بولي ألكيل أكريليك» بولي (2- أوكسازولين) وبولي إيثيلين إيمين؛ بوليمرات مشتركة أو بوليمرات مشتركة كتلية منهاء وأية توليفة منها. البيان 53: جهاز وفقًا لأي من البيانات السابقة 52-28؛ ‎Cus‏ يتم اختيار مصدر محلول التغذية 5 الأول من المجموعة التي تتألف من مضخة مرتفعة الضغط؛ نظام تناضح عكسي؛ نظام تناضح أمامي؛ وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطية»؛ ‎Aly‏ توليفة منها.
البيان 54: جهاز وفقًا لأي من البيانات السابقة 53-28؛ ‎Cus‏ يتم اختيار مصدر محلول التغذية الثاني من المجموعة التي تتألف من مضخة؛ نظام تناضح عكسي؛ وحدة تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي نمطية» وأية توليفة منها. البيان 55: جهاز وفقًا لأي من البيانات السابقة 54-28؛ حيث يكون تيار محلول التغذية الثاني عبارة عن تيار مادة مذابة مستمر التدفق. البيان 56: عملية لتركيز مادة مذابة في محلول ملوث يشتمل على مذيب ومادة مذابة؛ حيث تشتمل العملية على: توفير غشاء شبه منفذ له جانب أول وجانب ثانٍ؛ إدخال تيار محلول تغذية أول على الجانب الأول من الغشاء شبه المنفذء ويكون تيار محلول التغذية الأول بتركيز ‎sale‏ مذابة أول وضغط تناضحي أول؛ إدخال تيار محلول تغذية ثانٍ على الجانب الثاني من الغشاء ‎dina) apd‏ يكون تيار 0 محلول التغذية الثاني بتركيز مادة مذابة ثان وضغط تناضحي ‎(Ol‏ حيث يكون الضغط التناضحي الأول أكبر من أو يساوي الضغط التناضحي الثاني؛ بذل ضغط هيدروستاتيكي على الجانب الأول من الغشاء شبه المنفذ بحيث يمر المذيب من الجانب الأول للغشاء شبه المنفذ إلى الجانب الثاني للغشاء شبه المنفذ مما يؤدي إلى إنتاج تيار محلول تغذية أول مركز وتيار محلول تغذية ثانٍ مخفف. البيان 57: عملية ‎Gy‏ للبيان 56( حيث يشتمل بذل ضغط هيدروستاتيكي على الجانب الأول من 5 الغشاء شبه المنفذ على توصيل؛ عبر مضخة مرتفعة الضغط» محلول التغذية الأول إلى الجانب الأول للغشاء شبه المنفذ لبذل ضغط هيدروستاتيكي على الجانب الأول من الغشاء شبه المنفذ. البيان 58: عملية وفقًا للبيان 56 أو البيان 57؛ حيث تشتمل كذلك على بذل ضغط هيدروستاتيكي على الجانب الثاني من الغشاء شبه المنفذ من خلال توصيل محلول التغذية الثاني إلى الجانب الثاني للغشاء شبه ‎dial‏ حيث يكون الضغط الهيدروستاتيكي المبذول على الجانب الثاني للغشاء شبه 0 المنفذ أقل من الضغط الهيدروستاتيكي المبذول على الجانب الأول من الغشاء شبه المنفذ. البيان 59: عملية ‎Gg‏ لأي من البيانات السابقة 58-56؛ حيث يشتمل بذل ضغط هيدروستاتيكي على الجانب الأول من الغشاء شبه المنفذ على ما يتراوح من حوالي 344.73 كيلو باسكال إلى حوالي 28 كيلو باسكال. ‎Glad‏ 60: عملية وفقًا للبيان 58 أو البيان 59؛ حيث يتراوح الضغط الهيدروستاتيكي المبذول على 5 الجانب الأول من الغشاء شبه المنفذ من حوالي 344.73 كيلو باسكال إلى حوالي 34473.78 كيلو باسكال ويتراوح الضغط الهيدروستاتيكي المبذول على الجانب الثاني من الغشاء شبه المنفذ من حوالي
0 كيلو باسكال إلى حوالي 34473.78 كيلو باسكال. البيان 61: عملية وفقًا لأي من البيانات السابقة 60-56 حيث يكون تركيز المادة المذابة الأول أكبر من أو يساوي تركيز المادة المذابة الثاني. البيان 62: عملية وفقًا لأي من البيانات السابقة 61-56 حيث يكون تركيز المادة المذابة الأول
مساويًا تقريبًا لتركيز المادة المذابة الثاني.
البيان 63: عملية وفقًا لأي من البيانات السابقة 62-56؛ حيث يكون تركيز المادة المذابة الثاني ‎LS‏ من حوالي 500 جزءٍ في المليون. البيان 64: عملية وفقًا لأي من البيانات السابقة 63-56؛ حيث يشتمل تيار محلول التغذية الثاني على معدل تدفق يتراوح بين حوالي 200 جرام من المادة المذابة في الدقيقة وحوالي 2000 جرام من
0 المادة المذابة في الدقيقة. البيان 65: عملية وفقًا لأي من البيانات السابقة 64-56؛ حيث تتراوح النسبة من الضغط التناضحي الأول إلى الضغط التناضحي الثاني من حوالي 1 إلى حوالي 5. البيان 66: عملية وفقًا لأي من البيانات السابقة 65-56؛ حيث يكون الضغط التناضحي الأول مساويًا تقريبًا للضغط التناضحي الثاني.
5 البيان 67: عملية وفقًا لأي من البيانات السابقة 66-56؛ حيث يكون الضغط التناضحي الثاني ‎GS‏ ‏لتقليل الضغط الهيدروستاتيكي المطلوب لإنتاج تيار محلول تغذية أول مركز وتيار محلول تغذية ثانٍ مخفف بواسطة المذيب المار من تيار محلول التغذية الأول إلى تيار محلول التغذية الثاني عبر الغشاء شبه المنفذ. البيان 68: عملية وفقًا لأي من البيانات السابقة 67-56؛ حيث يشتمل تيار محلول التغذية الأول
0 على مادة مذابة أولى ومذيب أول ويشتمل تيار محلول التغذية الثاني على مادة مذابة ثانية ومذيب ثان؛ ويتم اختيار المذيب الثاني على الأقل من المجموعة التي ‎calls‏ من الماء؛ ميثانول؛ إيثانول؛ وأية توليفة منها. البيان 69: عملية ‎By‏ للبيان 68؛ حيث يكون المذيب الثاني على الأقل عبارة عن الماء. البيان 70: عملية ‎By‏ للبيان 69؛ حيث يتم اختيار المادة المذابة الثانية من المجموعة التي تتألف
5 .من كحولات» دايوكسان» أسيتون» تترا هيدرو فيوران» داي ميثيل فورماميد؛ داي ميثيل سلفوكسيد؛ وأية توليفة منها.
— 0 4 — البيان 71: عملية ‎Bg‏ للبيان 68 حيث يتم اختيار المادة المذابة الثانية من المجموعة ‎al)‏ تتألف من كلوريد الصوديوم؛ كلوريد البوتاسيوم» كلوريد المجنسيوم؛ كربونات المجنسيوم؛ سلفات المجنسيوم» كلوريد الكالسيوم » سلفات الكالسيوم ¢ كريونات الكالسيوم ¢ أسيتات البوتاسيوم ¢ كالسيوم مجنسيوم أسيتات؛ وأية توليفة منها.
البيان 72: عملية ‎Wy‏ للبيان 68؛ حيث يتم اختيار المادة المذابة الثانية من سكرء أكسيد الإيثيلين» أكسيد البروبيلين» مركبات بولي إيثيلين جليكول» حمض بولي (أكربليك)؛ كحول بولي ‎(Jad)‏ أكسيد بولي (إيثيلين)» حمض بولي (قينيل)؛ بولي (ستيرين سلفونات)؛ مركبات بولي إلكتروليت أساسها بولي (أكريل أميد)؛ بولي (داي أليل ‎(gla‏ ميثيل أمونيوم كلوريد)؛ بولي (أليل أمين هيدروكلوريد)؛ بولي ‎dad)‏ بيروليدون)؛ بولي (10-أيزو بروبيل أكريل أميد)؛ مركبات بولي (ألكيل أكريلات)؛
0 أحماض بولي ألكيل أكربليك» بولي (2- أوكسازولين) وبولي إيثيلين إيمين؛ بوليمرات مشتركة أو بوليمرات مشتركة كتلية منهاء وأية توليفة منها. البيان 73: عملية وفقًا لأي من البيانات السابقة 72-56( حيث يشتمل إدخال تيار محلول التغذية الثاني على الجانب الثاني من الغشاء شبه المنفذ على التدفق المستمر لتيار محلول التغذية الثاني على الجانب الثانى من الغشاء شبه المنفذ.
5 البيان 74: عملية وفقًا لأي من البيانات السابقة 73-56( حيث يشتمل إدخال تيار محلول التغذية الأول على الجانب الأول من الغشاء شبه المنفذ على تدفق تيار محلول التغذية الأول من مضخة مرتفعة الضغط. البيان 75: عملية وفقًا لأي من البيانات السابقة 74-56( ‎Cua‏ تشتمل كذلك على التغذية بمحلول التغذية الأول المركز إلى مكون تناضح أمامي لكي يتم استخدامه في صورة محلول السحب بواسطة
0 مكون التناضح الأمامي. البيان 76: عملية وفقًا لأي من البيانات السابقة 75-56 حيث تشتمل كذلك على استخدام محلول التغذية الأول المركز لتجديد محلول السحب عند مكون التناضح الأمامي. البيان 77: عملية وفقًا لأي من البيانات السابقة 76-56( حيث تشتمل كذلك على اختيار الضغط التتاضحى الثائى لتقليل الضغط الهيدروستاتيكى.
5 البيان 78: عملية ‎By‏ لأي من البيانات السابقة 76-56؛ حيث يكون الضغط التناضحي الثاني عبارة عن ضغط تناضحي محدد مسبقًا منتقى لتقليل الضغط الهيدروستاتيكي اللازم لجعل المذيب يمر من
الجانب الأول إلى الجانب الثاني للغشاء شبه المنفذ.
البيان 79: عملية وفقًا لأي من البيانات السابقة 78-56( حيث يشتمل محلول ناتج النفاذية على
ضغط تناضحي ثالث؛ حيث يكون الضغط التناضحي الثاني أكبر من الضغط التناضحي الثالث.
البيان 80: عملية وفقًا لأي من البيانات السابقة 79-56( حيث تشتمل كذلك على اختيار الضغط
التناضحي الثاني بحيث يكون أكبر من الضغط التناضحي لمحلول ناتج النفاذية لتقليل الضغط
الهيدروستاتيكي.
البيان 81: عملية وفقًا لأي من البيانات السابقة 80-56؛ حيث يشتمل ‎IS‏ من تيار محلول التغذية
الأول وتيار محلول التغذية الثاني على جزءِ على الأقل من نفس المحلول الملوث.
البيان 82: عملية وفقًا لأي من البيانات السابقة 81-56؛ حيث تشتمل كذلك على إعادة تدوير تيار محلول التغذية الأول المركز؛ أو ‎gia‏ منه؛ إلى الجانب الأول للغشاء شبه المنفذ.
البيان 83: عملية وفقًا لأي من البيانات السابقة 82-56؛ حيث تشتمل كذلك على إعادة تدوير جزءٍ
على الأقل من تيار محلول التغذية الأول المركز إلى الجانب الثاني للغشاء شبه المنفذ.
البيان 84: عملية لتركيز مادة مذابة في محلول يشتمل على مذيب ومادة مذابة؛ حيث تشتمل العملية
على: توفير وحدة نمطية أولى مقترنة ‎Gaile‏ بمصدر محلول تغذية أول ومصدر محلول تغذية ثان؛ 5 حيث تشتمل الوحدة النمطية الأولى على: ‎Has‏ أولى ‎Sang‏ ثانية؛ وغشاء شبه ‎Mie‏ موضوع عند
السطح البيني الموجود بين الحجرة الأولى والحجرة الثانية؛. حيث يكون للغشاء شبه المنفذ جانب أول
في اتصال مائعي مع الحجرة الأولى وجانب ثانٍ في اتصال مائعي مع ‎Saal)‏ الثانية؛ إدخال؛ من
مصدر محلول التغذية الأول تيار محلول تغذية أول إلى الحجرة الأولى وعلى الجانب الأول من
الغشاء شبه المنفذء ويكون تيار محلول التغذية الأول بتركيز مادة مذابة أول وضغط تناضحي أول؛ 0 إدخال؛ من مصدر محلول التغذية الثاني؛ تيار محلول تغذية ثانٍ إلى الحجرة الثانية وعلى الجانب
الثاني من الغشاء شبه المنفذء يكون تيار محلول التغذية الثاني بتركيز مادة مذابة ‎Ob‏ وضغط
تناضحي ثانٍ؛ حيث يكون الضغط التناضحي الأول أكبر من أو يساوي الضغط التناضحي الثاني؛
بذل ضغط هيدروستاتيكي على الجانب الأول من الغشاء شبه المنفذ بحيث يمر المذيب من الجانب
الأول للغشاء شبه المنفذ إلى الجانب الثاني للغشاء شبه المنفذ مما يؤدي إلى إنتاج تيار محلول تغذية 5 أول مركز في الحجرة الأولى وتيار محلول تغذية ‎GB‏ مخفف في الحجرة الثانية.
البيان 85: عملية ‎By‏ للبيان 84؛ حيث تشتمل كذلك على: توفير ‎Bang‏ نمطية ثانية مقترنة مائعيًا
بالوحدة النمطية الأولى ومصدر محلول تغذية رابع ‎Cus‏ تشتمل الوحدة النمطية الثانية على: حجرة أولى وحجرة ثانية؛ وغشاء شبه منفذ موضوع عند السطح البيني الموجود بين الحجرة الأولى والحجرة الثانية» حيث يكون للغشاء شبه المنفذ جانب أول في اتصال مائعي مع الحجرة الأولى وجانب ثانٍ في اتصال مائعي مع الحجرة الثانية؛ إدخال» من الحجرة الأولى للوحدة النمطية الأولى؛ تيار محلول تغذية ثالث إلى الحجرة الأولى الخاصة بالوحدة النمطية ‎All)‏ حيث يشتمل تيار محلول التغذية الثالث على جزءِ على الأقل من تيار محلول التغذية الأول المركز ويكون بتركيز ‎sabe‏ مذابة ثالث وضغط تناضحي ثالث؛ ‎laa]‏ من مصدر محلول التغذية الرابع؛ تيار محلول تغذية رابع إلى الحجرة الثانية للوحدة النمطية الثانية وعلى الجانب الثاني من الغشاء شبه ‎Maal)‏ حيث يكون تيار محلول التغذية الرابع بتركيز مادة مذابة رابع وضغط تناضحي رابع؛ حيث يكون الضغط التناضحي الثالث
0 أكبر من أو يساوي الضغط التناضحي الرابع؛ بذل ضغط هيدروستاتيكي على الجانب الأول من الغشاء شبه ‎Middl‏ للوحدة النمطية الثانية بحيث يمر المذيب من الجانب الأول للغشاء شبه المنفذ إلى الجانب الثاني للغشاء شبه المنفذ مما يؤدي إلى إنتاج تيار محلول تغذية ثالث مركز في الحجرة الأولى للوحدة النمطية الثانية وتيار محلول تغذية رابع مخفف في الحجرة الثانية الخاصة بالوحدة النمطية الثانية.
5 البيان 86: عملية ‎Gg‏ للبيان 85 حيث يكون تركيز المادة المذابة الرابع أكبر من تركيز المادة المذابة الثاني. البيان 87: عملية ‎Gy‏ للبيان 86( حيث يشتمل مصدر التغذية الرابع على الحجرة الأولى للوحدة النمطية الأولى» وبشتمل تيار محلول التغذية الرابع على ‎ga‏ على الأقل من تيار محلول التغذية الأول المركز.
0 البيان 88: عملية لتنقية مذيب؛ حيث تشتمل العملية على: توفير مكون تناضح أمامي مقترن ‎Gaile‏ ‏بمكون تناضح عكسي ووحدة نمطية؛ حيث تشتمل الوحدة النمطية على: حجرة أولى؛ مقترنة ‎Gaile‏ ‏بمكون التناضح العكسي ومكون التناضح الأمامي» وحجرة ثانية مقترنة ‎Gaile‏ بمكون التناضح العكسي؛ وغشاء شبه منفذ موضوع عند السطح البيني الموجود بين الحجرة الأولى والحجرة الثانية؛ حيث يكون للغشاء شبه المنفذ جانب أول في اتصال مائعي مع الحجرة الأولى وجانب ثانٍ في اتصال
مائعي مع الحجرة الثانية؛ إدخال تيار محلول تغذية بالتناضح الأمامي ملوث إلى مكون التناضح الأمامي؛ حيث يشتمل مكون التناضح الأمامي على محلول السحب؛ ‎Cua‏ يشتمل تيار محلول التغذية
بالتناضح الأمامي الملوث على مذيب ملوث بواحدة أو أكثر من المواد المذابة؛ جعل مكون التناضح الأمامي يقوم بإنتاج تيار محلول تغذية بالتناضح الأمامي مركز ومحلول سحب مخفف من تيار محلول التغذية بالتناضح الأمامي الملوث؛ إدخال محلول السحب المخفف إلى مكون التناضح العكسي لتكوين ‎ein‏ على الأقل من تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي؛ جعل مكون التناضح العكسي يقوم بإنتاج محلول ناتج نفاذية وتيار محلول تغذية بالتناضح العكسي مركز من تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي؛ حيث محلول ناتج النفاذية على مذيب منقى؛ إدخال؛ من مكون التناضح العكسي؛ تيار محلول تغذية أول إلى الحجرة الأولى للوحدة النمطية وعلى الجانب الأول من الغشاء شبه المنفذء حيث يشتمل تيار محلول التغذية الأول على ‎ga‏ على الأقل من تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي المركز ويه تركيز مادة مذابة أول وضغط تناضحي أول؛ إدخال؛ من مكون التناضح 0 العكسي؛ تيار محلول تغذية ثانٍ إلى الحجرة الثانية للوحدة النمطية وعلى الجانب الثاني من الغشاء شبه المنفذء حيث يشتمل تيار محلول التغذية الثاني على ‎gia‏ على الأقل من تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي المركز ويه تركيز مادة مذابة ثانٍ وضغط تناضحي ‎(ol‏ حيث يكون الضغط التناضحي الأول أكبر من أو يساوي الضغط التناضحي الثاني؛ بذل ضغط هيدروستاتيكي على الجانب الأول من الغشاء شبه المنفذ بحيث يمر المذيب من الجانب الأول للغشاء شبه المنفذ إلى 5 الجانب الثاني للغشاء شبه المنفذ مما يؤدي إلى إنتاج تيار محلول تغذية أول مركز في الحجرة الأولى وتيار محلول تغذية ‎ol‏ مخفف في الحجرة الثانية؛ إدخال» من الحجرة الثانية للوحدة النمطية؛ ‎a‏ ‏على الأقل من تيار محلول التغذية الثاني المخفف إلى مكون التناضح العكسي لتكوين ‎a‏ على الأقل من تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي؛ إدخال» من الحجرة الأولى للوحدة النمطية؛ جزء على الأقل من تيار محلول التغذية الأول المركز إلى مكون التناضح الأمامي لتكوين ‎gia‏ على الأقل
0 .من محلول السحب. البيان 89: نظام يشتمل على: مصدر محلول تغذية أول؛ مصدر محلول تغذية ثانٍ؛ ووحدة نمطية واحدة على ‎(JAY)‏ حيث تشتمل كل وحدة نمطية على: ‎Has‏ أولى وحجرة ثانية؛ غشاء ‎apd‏ منفذ موضوع عند السطح البيني الموجود بين الحجرة الأولى والحجرة ‎All)‏ حيث يكون للغشاء شبه المنفذ جانب أول في اتصال مائعي مع الحجرة الأولى وجانب ثانٍ في اتصال مائعي مع الحجرة 5 الثانية؛ حيث تتم ‎Lugs‏ الحجرة الأولى لاستقبال تيار محلول تغذية أول من مصدر محلول التغذية الأول وتتم تهيئة الحجرة الثانية لاستقبال تيار محلول تغذية ‎OF‏ من مصدر محلول التغذية الثاني؛
ويكون تيار محلول التغذية الأول بتركيز ‎sale‏ مذابة أول وضغط تناضحي أول؛ ويكون تيار المحلول الثاني بتركيز مادة مذابة ‎GB‏ وضغط تناضحي ثان؛ حيث يكون الضغط التناضحي الأول أكبر من أو يساوي الضغط التناضحي الثاني؛ وحيث تتم تهيئة مصدر محلول التغذية الأول لتوفير ضغط هيدروستاتيكي إلى الحجرة الأولى بهدف إنتاج تيار محلول تغذية أول مركز وتيار محلول تغذية ثانٍ مخفف بواسطة المذيب المار من الحجرة الأولى إلى الحجرة الثانية عبر الغشاء شبه المنفذ.
البيان 90: نظام ‎Big‏ للبيان 89( حيث يشتمل كذلك على مجموعة وحدات نمطية»؛ حيث يتم إقران
الحجرة الأولى لكل وحدة نمطية مائعيًا بالحجرة الأولى للوحدة النمطية الأخرى الواحدة على الأقل. البيان 91: نظام ‎Gy‏ للبيان 89 أو البيان 90 حيث يشتمل كذلك على وحدة نمطية أولى ووحدة نمطية ‎dh‏ حيث تكون الحجرة الأولى للوحدة النمطية الأولى مقترنة ‎Gaile‏ بالحجرة الأولى الخاصة
0 بالوحدة النمطية الثانية؛ وحيث تتم تهيئة الحجرة الأولى للوحدة النمطية الثانية لاستقبال تيار محلول التغذية الأول المركز من الحجرة الأولى للوحدة النمطية الأولى. البيان 92: نظام ‎lady‏ للبيان 91( حيث تشتمل الحجرة الأولى للوحدة النمطية الأولى على منفذ دخول ‎Lge Jf‏ لاستقبال تيار محلول التغذية الأول من مصدر محلول التغذية الأول ومنفذ خروج أول؛ وتشتمل الحجرة الأولى للوحدة النمطية الثانية على منفذ دخول ثانٍ مقترن مائعيًا بمنفذ الخروج الأول؛
5 وتتم تهيئة منفذ الدخول الثاني لاستقبال تيار محلول التغذية الأول المركز من الحجرة الأولى للوحدة النمطية الأولى. البيان 93: نظام ‎Gd‏ للبيان 92( حيث يتم إقران الحجرة الثانية للوحدة النمطية الثانية مائعيًا بالحجرة الثانية للوحدة النمطية الأولى» وحيث تتم تهيئة الحجرة الثانية للوحدة النمطية الثانية لاستقبال محلول التغذية الثاني المخفف من الحجرة الثانية للوحدة النمطية الأولى.
0 البيان 94: نظام ‎Gy‏ للبيان 93 حيث يشتمل كذلك على مكون تناضح أمامي مقترن ‎Gaile‏ بالحجرة الثانية على الأقل الخاصة بالوحدة النمطية الثانية؛ ويكون مكون التناضح الأمامي مهياً لإنتاج محلول سحب مخفف ومحلول تغذية مركز من محلول السحب وتيار محلول تغذية بالتناضح الأمامي؛ حيث تتم تهيئة الحجرة الثانية للوحدة النمطية الثانية لاستقبال محلول السحب المخفف من مكون التناضح الأمامي واستخدام محلول السحب المخفف في صورة ‎ohn‏ على الأقل من محلول التغذية الثاني.
5 البيان 95: نظام ‎Wy‏ للبيان 89 حيث يشتمل مصدر محلول التغذية الأول على مكون تناضح عكسي؛ حيث ينتج مكون التناضح العكسي محلول ناتج نفاذية وتيار محلول تغذية بالتناضح العكسي
مركز من تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي؛ حيث يشتمل تيار محلول التغذية الأول على ‎Sa‏ ‏على الأقل من تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي المركز.
البيان 96: نظام ‎Gy‏ للبيان 95( حيث يشتمل مصدر محلول التغذية الثاني على مكون التناضح العكسي؛ حيث يشتمل تيار المحلول الثاني على ‎ga‏ على الأقل من تيار محلول التغذية بالتناضح
العكسي المركز.
البيان 97: نظام وفقًا للبيان 96( حيث تتم تهيئة الحجرة الثانية لنقل ‎gia‏ على الأقل من تيار محلول التغذية الثاني المخفف إلى مكون التناضح العكسي؛ حيث تتم تهيئة مكون التناضح العكسي لاستقبال ‎shal‏ على الأقل من تيار محلول التغذية الثاني المخفف من الحجرة ‎(doll‏ حيث يشتمل تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي ‎Ga‏ على الأقل على تيار محلول التغذية الثاني المخفف.
0 البيان 98: نظام وفقًا للبيان 97( حيث يشتمل كذلك على مكون تناضح أمامي مقترن ‎Gaile‏ بمكون التناضح العكسي والوحدة النمطية الواحدة على الأقل؛ ويكون مكون التناضح الأمامي مهياً لإنتاج محلول سحب مخفف ومحلول تغذية مركز من محلول السحب وتيار محلول تغذية بالتناضح الأمامي؛ حيث تتم تهيئة الحجرة الأولى للوحدة النمطية الواحدة على الأقل لنقل تيار محلول التغذية الأول المركز المنتج إلى مكون التناضح الأمامي؛ حيث تتم تهيئة مكون التناضح الأمامي لاستقبال تيار
5 محلول التغذية الأول المركز من الحجرة الأولى للوحدة النمطية الواحدة على الأقل واستخدام ‎ey‏ ‏على الأقل من تيار محلول التغذية الأول المركز في صورة محلول السحب. البيان 99: نظام وفقًا للبيان 98؛ حيث تتم تهيئة مكون التناضح الأمامي لنقل تيار محلول السحب المخفف إلى مكون التناضح العكسي؛ حيث تتم تهيئة مكون التناضح العكسي لاستقبال تيار محلول السحب المخفف من مكون التناضح الأمامي واستخدام ‎ga‏ على الأقل من تيار محلول السحب
0 المخفف في صورة تيار محلول التغذية بالتناضح العكسي. قائمة التتابع: ‎wT‏ ‏أب" جمإلتر 'ج' ‎ROPI‏
‎'Y 5‏ صوع 'ه' ‎PROPI‏
و 01 وعدم زا 1 ‎OsARO‏ ‏"ح" ناتج نفاذية اط" 01-02 عند المخارج جم/لتر #ي" الضغط على جانب تيار التغذية 0116 كيلو باسكال 'ك" . » دلتا؛ ‎JW‏ مقايل التركيز المبدثي ل" «ز لتر لكل متر مربع في الساعة لم" التركيزء جم/لتر أن" دلتا ©؛ جم/لتر 00 "سس" 120 منزوع الايونات ّمع ‎RO‏ ‏"ف" 1000 كيلو باسكال لص" جزءٍ بالمليون اق 1000 ‎OSARO‏ كيلو باسكال ‎H20 "yy 5‏ بحر 'لش' ‎OSARO‏ ‏ات" براين ‎RO‏ ‏اث" ‎UF‏ ‏أ" ‎NF‏ ‎UF "2 20‏ 'اض' ‎FO‏ ‎"IT‏ عملية اعادة تدوير ‎FO‏ ‏'ب1" النظام ‎FO-RO6‏ ‏"ج11" 095880-80 بمساعدة تناضحية ‎"1S 25‏ تيار التغذية ‎1a‏ بالوزن
‎‘ly‏ 7058 ا ‎LC‏ ‎HP "lg‏ ‎11H‏ براين ي1" 300 رطل بوصة مريعة ك1" ‎HP2‏ ‏ل1' ‎HP1‏ ‏م1" ‎HP3‏ ‎OSARO1 "ly‏ 0 س1" ‎OSARO2‏ ‏ع1" عا ي0قم0.

Claims (6)

عناصر الحماية
1. نظام يشتمل على: مصدر محلول تغذية ‎feed solution source‏ أول؛ مصدر محلول تغذية ‎feed solution source‏ ثاني؛ و وحدة نمطية واحدة على الأقل» تشتمل كل وحدة نمطية على: غفة أولى وغرفة ثانية؛ غشاء شبه ‎semipermeable membrane Mis‏ يوضع بالحد الفاصل بين الغرفة الأولى والغرفة الثانية؛ للغشاء شبه المنفذ ‎semipermeable membrane‏ جانب أول متصل مائعياً بالغرفة الأولى وجانب ثاني متصل مائعياً بالغرفة الثانية؛ حيث تم تصميم الغرفة الأولى لاستقبال تدفق محلول تغذية ‎feed solution stream‏ أول من مصدر 0 محلول التغذية ‎feed solution source‏ الأول والغرفة الثانية مصممة لاستقبال تدفق محلول تغذية ‎feed solution stream‏ ثاني من مصدر محلول التغذية ‎feed solution source‏ الثاني؛ حيث يكون لتدفق محلول التغذية ‎feed solution stream‏ الأول تركيز مذاب ‎solute concentration‏ أول وضغط أسموزي ‎osmotic pressure‏ أول ؛ ولتدفق محلول التغذية ‎feed solution stream‏ الثاني تركيز مذاب ‎solute concentration‏ ثاني وضغط أسموزي ‎osmotic pressure‏ ثاني؛ يكون الضغط ‎١٠ 15‏ لأسموزي ‎osmotic pressure‏ الأول أكبر من أو يساوي الضغط ‎١‏ لأسموزي ‎osmotic pressure‏ الثاني؛ و ‎Cua‏ تم تصميم مصدر محلول التغذية ‎feed solution source‏ الأول ‎él‏ ضغط هيدروستاتيكي ‎hydrostatic pressure‏ للغرفة الأولى بحيث يتم إنتاج تيار محلول تغذية ‎feed solution stream‏ أول مُركز وتيار محلول تغذية ‎JU feed solution stream‏ مُخفف بواسطة مذيب يمر من الغرفة الاولى 0 إلى الغرفة الثانية عبر الغشاء شيه المُنفْذ ‎«semipermeable membrane‏ ‎Gua‏ يشتمل مصدر محلول التغذية ‎feed solution source‏ الأول على مكون ضغط أسموزي ‎reverse‏ ‎(RO) osmosis‏ ينتج مكون الضغط ‎١‏ لأسموزي ‎Jelae (RO) reverse osmosis‏ ناتج تخلل ‎permeate solution‏ وتيار محلول تغذية ‎feed solution stream‏ ضغط أسموزي 055 ‎reverse‏ ‎(RO)‏ مُركز من تيار محلول تغذية ‎feed solution stream‏ ضغط أسموزي ‎«(RO) reverse osmosis‏ 5 حيث يشتمل تيار محلول التغذية ‎feed solution stream‏ الأول على ‎gia‏ على الأقل من تيار محلول
تغذية ‎feed solution stream‏ الضغط الأسموزي ‎(RO) reverse osmosis‏ المُركزء ‎Guang‏ يشتمل جزءِ على الأقل من تيار محلول تغذية ‎feed solution stream‏ الضغط الأسموزي ‎reverse osmosis‏ ‎(RO)‏ على تيار محلول التغذية ‎feed solution stream‏ الثاني المُخفف» و حيث يكون مكون ‎١‏ لأسموزي | لأمامي ‎(FO) forward osmosis‏ مقترن بمكون الضغط ‎١‏ لأسموزي ‎(RO) reverse osmosis 5‏ والوحدة النمطية الواحدة على الأقل؛ يتم تهيئة مكون الأسموزي الأمامي ‎(FO) forward osmosis‏ لإنتاج تيار محلول سحب ‎draw solution stream‏ مخفف وتيار محلول تغذية ‎feed solution stream‏ مُركز من محلول السحب ‎draw solution‏ وتيار محلول تغذية ‎feed‏ ‎solution stream‏ | لأسموزي | لأمامي ‎(FO) forward osmosis‏ حيث يتم تهيئة الغرفة الأولى بالوحدة النمطية الواحدة على الأقل لنقل تيار محلول التغذية ‎feed solution stream‏ الأول المُركز المُنتج إلى 0 مكون ‎١‏ لأسموزي | لأمامي ‎(FO) forward osmosis‏ يتم تهيئة مكون ‎١‏ لأسموزي | لأمامي ‎forward‏ ‎(FO) osmosis‏ لاستقبال تيار محلول التغذية ‎feed solution stream‏ الأول المركز من الغرفة الأولى بالوحدة النمطية الواحدة على الأقل واستخدام ‎gia‏ على الأقل من تيار محلول التغذية ‎feed solution‏ ‎stream‏ الأول المركز باعتباره محلول السحب ‎.draw solution‏
2. النظام وفقاً لعنصر الحماية 1؛ ‎Gus‏ تشتمل الوحدة النمطية الواحدة على الأقل على مجموعة من الوحدات النمطية؛ حيث تكون الغرفة ‎dV‏ بكل ‎Bang‏ نمطية من المجموعة من الوحدات النمطية مقترنة عن طريق المائع بالغرفة الاولى بالوحدة النمطية الواحدة على الأقل. 3 النظام وفقاً لعنصر الحماية 2 حيث تشتمل المجموعة من الوحدات النمطية على وحدة نمطية 0 أولى ووحدة نمطية ثانية؛ تقترن الغرفة الاولى بالوحدة النمطية الاولى مع الغرفة الاولى بالوحدة النمطية ‎All‏ وبحيث تكون الغرفة الاولى بالوحدة النمطية الثانية مهيأة لاستقبال تيار محلول التغذية ‎feed solution stream‏ الأول المركز من الغرفة الاولى بالوحدة النمطية الاولى؛ حيث تشتمل الغرفة الاولى بالوحدة النمطية الاولى على منفذ دخول أول مصمم لاستقبال تيار محلول التغذية ‎feed solution stream‏ الأول من مصدر محلول التغذية ‎feed solution source‏ الأول ومنفذذ خروج 5 أول؛ وتشتمل الغرفة الاولى بالوحدة النمطية الثانية على منفذ دخول ثاني مقترن عن طريق المائع بمنفذ الخروج الأول؛ يتم تهيئة منفذ الدخول الثاني لاستقبال تيار محلول التغذية ‎feed solution‏
‎stream‏ الأول من الغرفة الاولى بالوحدة النمطية الاولى؛ وبحيث تكون الغرفة الثانية بالوحدة النمطية الثانية مقترنة بالغرفة الثانية بالوحدة النمطية الاولى» وبحيث يتم تهيئة الغرفة الثانية بالوحدة النمطية الثانية لاستقبال محلول التغذية ‎feed solution‏ الثاني المُخفف من الغرفة الثانية بالوحدة النمطية الاولى.
4. النظام وفقاً لعنصر الحماية 3؛ حيث يكون المُكون الأسموزي الأمامي ‎(FO) forward osmosis‏ مقترن عن طريق المائع على الأقل مع الغرفة الاولى بالوحدة النمطية ‎(Aol)‏ حيث يتم تهيئة الغرفة الاولى بالوحدة النمطية الثانية لتوصيل محلول السحب ‎draw solution‏ إلى مُكون الأسموزي الأمامي ‎(FO) forward osmosis‏ واستخدام محلول السحب ‎draw solution‏ المخفف على الأقل كجزءِ من محلول التغذية ‎feed solution‏ الأول لمحلول التغذية ‎All feed solution‏
5. النظام وفقاً لعنصر الحماية 1؛ حيث يتم تهيئة مُكون الأسموزي الأمامي ‎forward osmosis‏ ‎(FO)‏ لنقل ‎ga‏ على الأقل من تيار محلول السحب ‎draw solution stream‏ المخفف إلى الغرفة الثانية بالوحدة النمطية الواحدة على الأقل.
6. النظام وفقاً لعنصر الحماية 1 حيث يكون الضغط الأسموزي ‎osmotic pressure‏ الأول لتيار محلول التغذية ‎feed solution stream‏ الأول اكبر من الضغط ‎١‏ لأسموزي ‎osmotic pressure‏ الثاني لتيار محلول التغذية ‎feed solution stream‏ الثاني.
0 7. النظام وفقاً لعنصر الحماية 1 حيث يكون الضغط الأسموزي ‎osmotic pressure‏ الأول لتيار محلول التغذية ‎feed solution stream‏ الأول اكبر من الضغط ‎١‏ لأسموزي ‎osmotic pressure‏ الثاني لتيار محلول التغذية ‎feed solution stream‏ الثاني.
SA518392144A 2016-02-02 2018-08-02 عملية تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي وطريقة لاستخدامها SA518392144B1 (ar)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201662388563P 2016-02-02 2016-02-02
US201662392203P 2016-05-24 2016-05-24
PCT/US2016/066995 WO2017136048A1 (en) 2016-02-02 2016-12-15 Osmotic pressure assisted reverse osmosis process and method of using the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SA518392144B1 true SA518392144B1 (ar) 2022-12-07

Family

ID=59500465

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SA518392144A SA518392144B1 (ar) 2016-02-02 2018-08-02 عملية تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي وطريقة لاستخدامها

Country Status (11)

Country Link
US (1) US11198097B2 (ar)
EP (1) EP3411133A4 (ar)
JP (1) JP6971992B2 (ar)
KR (2) KR20180104152A (ar)
CN (1) CN108778469B (ar)
CL (1) CL2018002085A1 (ar)
CO (1) CO2018008248A2 (ar)
MX (1) MX2018009473A (ar)
SA (1) SA518392144B1 (ar)
WO (1) WO2017136048A1 (ar)
ZA (1) ZA201805788B (ar)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6862935B2 (ja) * 2017-03-07 2021-04-21 東洋紡株式会社 濃縮システムおよび濃縮方法
AU2019291739A1 (en) * 2018-06-18 2021-01-14 S.P. Textile Processors Pvt. Ltd. Batch and semi-batch membrane liquid separation using a sweep stream
JP7238233B2 (ja) * 2018-07-26 2023-03-14 東洋紡株式会社 正浸透処理方法および正浸透処理装置
CA3109230A1 (en) 2018-08-22 2020-02-27 Gradiant Corporation Liquid solution concentration system comprising isolated subsystem and related methods
EP3845296A4 (en) * 2018-08-31 2022-06-29 Nippon Shokubai Co., Ltd. Draw solute and water treatment equipment
KR102020176B1 (ko) * 2019-02-25 2019-11-04 강성종 용암해수 미네랄 조정 방법
US10947143B2 (en) * 2019-04-01 2021-03-16 Saline Water Conversion Corporation Desalination brine concentration system and method
US20210053848A1 (en) 2019-08-22 2021-02-25 Saline Water Conversion Corporation Multi-Valent Ion Concentration Using Multi-Stage Nanofiltration
JP7427890B2 (ja) * 2019-09-12 2024-02-06 東洋紡エムシー株式会社 濃縮システム
JP2021041374A (ja) * 2019-09-13 2021-03-18 東洋紡株式会社 濃縮システム
CN110550877B (zh) * 2019-09-18 2021-10-01 云南凝创环保科技有限公司 一种半透膜法生产α高强石膏的方法
CN111213713A (zh) * 2019-10-23 2020-06-02 内蒙古蒙牛乳业(集团)股份有限公司 浓缩设备
US11092141B1 (en) * 2020-06-19 2021-08-17 James Cheng-Shyong Lu Method and system for generating large-scale renewable energy by pressure-enhanced osmosis and synergistic effects
WO2022108891A1 (en) 2020-11-17 2022-05-27 Gradiant Corporaton Osmotic methods and systems involving energy recovery
US20240157298A1 (en) * 2021-04-07 2024-05-16 Nippon Shokubai Co., Ltd. Draw Solute and Water Treatment Equipment
CN113804677A (zh) * 2021-09-16 2021-12-17 杨兴红 一种养殖水体的pH快速检测试剂盒
US11806668B2 (en) 2021-12-14 2023-11-07 Saline Water Conversion Corporation Method and system for extraction of minerals based on divalent cations from brine
US11502323B1 (en) 2022-05-09 2022-11-15 Rahul S Nana Reverse electrodialysis cell and methods of use thereof
US11502322B1 (en) 2022-05-09 2022-11-15 Rahul S Nana Reverse electrodialysis cell with heat pump
JP2024054676A (ja) * 2022-10-05 2024-04-17 栗田工業株式会社 廃水の濃縮装置及び濃縮方法
US11855324B1 (en) 2022-11-15 2023-12-26 Rahul S. Nana Reverse electrodialysis or pressure-retarded osmosis cell with heat pump

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3580841A (en) 1969-07-31 1971-05-25 Us Interior Ultrathin semipermeable membrane
JPS5531459A (en) * 1978-08-28 1980-03-05 Futoshi Norimura Sea water desalination apparatus of two-stage permeation system
JP4187316B2 (ja) * 1998-08-11 2008-11-26 東レ株式会社 逆浸透膜分離装置および逆浸透膜分離方法
CN1116096C (zh) * 1999-03-25 2003-07-30 高耀祖 双流道对流反渗透分离装置及双流道反渗透膜组件
JP2002001068A (ja) * 2000-06-21 2002-01-08 Kurita Water Ind Ltd 膜分離方法および装置
IL157581A (en) 2003-01-09 2004-08-31 Ide Technologies Ltd Direct osmosis membrane cleaning
US7314606B2 (en) * 2004-03-29 2008-01-01 Council Of Scientific And Industrial Research Recovery of sodium thiocyanate from industrial process solution using nanofiltration technique
US8216473B2 (en) * 2008-06-13 2012-07-10 Solution Dynamics, Llc Apparatus and methods for solution processing using reverse osmosis
JP2011173040A (ja) * 2010-02-23 2011-09-08 Kurita Water Ind Ltd 排水処理方法及び装置
KR101200838B1 (ko) * 2010-07-14 2012-11-13 한국기계연구원 염도차를 이용한 삼투발전 및 해수의 담수화를 위한 장치 및 방법
US20130186822A1 (en) * 2012-01-20 2013-07-25 Hydration Systems, Llc Low energy forward osmosis membrane water processing system
US20140102982A1 (en) * 2012-10-17 2014-04-17 Nuwater Resources International, Llc Semipermeable Membrane and Process Using Same
US9950297B2 (en) 2013-02-06 2018-04-24 Korea Advanced Institute Of Science And Technology Method for concentrating aqueous containing solute into high concentration by hydraulic-membrane process under no difference in osmotic pressure
CN107261847A (zh) * 2013-02-08 2017-10-20 Oasys水有限公司 渗透分离系统和方法
WO2015157818A1 (en) 2014-04-14 2015-10-22 Murdoch University A method and apparatus for liquid extraction
JP2016016384A (ja) 2014-07-10 2016-02-01 国立大学法人山口大学 浸透膜モジュールの評価装置及び評価方法
US9206060B1 (en) * 2015-05-22 2015-12-08 Basel Abusharkh Method for purifying liquids

Also Published As

Publication number Publication date
US20190054421A1 (en) 2019-02-21
JP2019504763A (ja) 2019-02-21
WO2017136048A1 (en) 2017-08-10
CO2018008248A2 (es) 2018-10-22
KR20180104152A (ko) 2018-09-19
CN108778469B (zh) 2022-08-02
ZA201805788B (en) 2019-07-31
EP3411133A1 (en) 2018-12-12
EP3411133A4 (en) 2020-02-12
JP6971992B2 (ja) 2021-11-24
KR20200087271A (ko) 2020-07-20
KR102392316B1 (ko) 2022-05-02
MX2018009473A (es) 2018-12-11
CL2018002085A1 (es) 2018-11-16
CN108778469A (zh) 2018-11-09
US11198097B2 (en) 2021-12-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SA518392144B1 (ar) عملية تناضح عكسي بمساعدة الضغط التناضحي وطريقة لاستخدامها
US9206060B1 (en) Method for purifying liquids
US10500544B2 (en) Advancements in osmotically driven membrane systems including multi-stage purification
AU2015244268B2 (en) Osmotic separation systems and methods
US11628403B2 (en) High water recovery hybrid membrane system for desalination and brine concentration
US20070068871A1 (en) Low water recovery rate desalination system and method
US20210198136A1 (en) Combinatorial membrane-based systems and methods for dewatering and concentrating applications
JPH08108048A (ja) 逆浸透分離装置及び逆浸透分離方法
CN114096342A (zh) 脱盐盐水浓缩系统及方法
AU2013229839A1 (en) Methods for osmotic concentration of hyper saline streams
CN110636894A (zh) 渗透压辅助的反渗透膜和模块
JP2000093751A (ja) 逆浸透分離装置及び逆浸透分離方法
JP2000051663A (ja) 逆浸透膜分離装置および逆浸透膜分離方法
WO2021140374A1 (en) Apparatus for filtration and purification of water
JP2001347142A (ja) 逆浸透分離方法
US20240165562A1 (en) Reverse osmosis or nanofiltration process for cleaning water
KR20170097967A (ko) 역삼투를 이용한 염수 농축 방법
JP2001347141A (ja) 逆浸透分離装置
Orecki et al. Removal of Oil from Model Oily Wastewater Using the UF/NF Hybrid Process.
JP2022144923A (ja) 水処理システム及び水処理方法
JP2002058967A (ja) 逆浸透分離方法
JP2001347140A (ja) 逆浸透分離方法
CN105110505A (zh) 一种预处理及软化一级反渗透装置