RU95109839A - Способ и устройство для изготовления оптических структур, оптический элемент и оптическая система, изготовленные этим способом - Google Patents

Способ и устройство для изготовления оптических структур, оптический элемент и оптическая система, изготовленные этим способом

Info

Publication number
RU95109839A
RU95109839A RU95109839/28A RU95109839A RU95109839A RU 95109839 A RU95109839 A RU 95109839A RU 95109839/28 A RU95109839/28 A RU 95109839/28A RU 95109839 A RU95109839 A RU 95109839A RU 95109839 A RU95109839 A RU 95109839A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
optical
substrate
melting
stage
manufacturing
Prior art date
Application number
RU95109839/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2114450C1 (ru
Inventor
Хентце Йоахим
De]
Н.Лисоченко Виталий
Ua]
Original Assignee
Хентце Йоахим
De]
Н.Лисоченко Виталий
Ua]
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Хентце Йоахим, De], Н.Лисоченко Виталий, Ua] filed Critical Хентце Йоахим
Publication of RU95109839A publication Critical patent/RU95109839A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2114450C1 publication Critical patent/RU2114450C1/ru

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/18Diffraction gratings
    • G02B5/1876Diffractive Fresnel lenses; Zone plates; Kinoforms
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0025Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
    • G02B27/0037Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration with diffracting elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/42Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
    • G02B27/4272Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having plural diffractive elements positioned sequentially along the optical path
    • G02B27/4277Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having plural diffractive elements positioned sequentially along the optical path being separated by an air space
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00Simple or compound lenses
    • G02B3/0006Arrays
    • G02B3/0012Arrays characterised by the manufacturing method
    • G02B3/0018Reflow, i.e. characterized by the step of melting microstructures to form curved surfaces, e.g. manufacturing of moulds and surfaces for transfer etching
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/18Diffraction gratings
    • G02B5/1876Diffractive Fresnel lenses; Zone plates; Kinoforms
    • G02B5/189Structurally combined with optical elements not having diffractive power
    • G02B5/1895Structurally combined with optical elements not having diffractive power such optical elements having dioptric power
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S359/00Optical: systems and elements
    • Y10S359/90Methods

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Eyeglasses (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Optical Head (AREA)
  • Circuit Arrangements For Discharge Lamps (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Chemical And Physical Treatments For Wood And The Like (AREA)
  • Micromachines (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

Способ изготовления оптических структур, в частности линз и совокупности линз, а также призм, при котором по меньшей мере в ходе одной операции маскирования с последующей операцией травления на поверхности субстрата 1 образуют ступенчатую оптически эффективную основную структуру 10, которая затем в ходе операции плавления нагревают до плавления и выравнивают с помощью капиллярных поверхностных сил расплавленного субстрата, для чего субстрат помещают в вакуумную камеру 3, где он полосами облучается электронным лучом 4 при одновременном непрерывном относительном перемещении с такой плотностью энергии, что образуется зона плавления глубиной, которая по меньшей мере соответствует одной высоте ступени ступенчатой основной структуры. Раскрываются устройство для реализации способа и изготовленные с их помощью новые оптические элементы.

Claims (1)

  1. Способ изготовления оптических структур, в частности линз и совокупности линз, а также призм, при котором по меньшей мере в ходе одной операции маскирования с последующей операцией травления на поверхности субстрата 1 образуют ступенчатую оптически эффективную основную структуру 10, которая затем в ходе операции плавления нагревают до плавления и выравнивают с помощью капиллярных поверхностных сил расплавленного субстрата, для чего субстрат помещают в вакуумную камеру 3, где он полосами облучается электронным лучом 4 при одновременном непрерывном относительном перемещении с такой плотностью энергии, что образуется зона плавления глубиной, которая по меньшей мере соответствует одной высоте ступени ступенчатой основной структуры. Раскрываются устройство для реализации способа и изготовленные с их помощью новые оптические элементы.
    Figure 00000001
RU95109839A 1992-10-15 1992-10-30 Способ изготовления оптических структур и устройство для осуществления операции плавления RU2114450C1 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4234740A DE4234740C2 (de) 1992-10-15 1992-10-15 Verfahren zur Herstellung von optischen Elementen
DEP4234740.8 1992-10-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU95109839A true RU95109839A (ru) 1996-12-10
RU2114450C1 RU2114450C1 (ru) 1998-06-27

Family

ID=6470506

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU95109839A RU2114450C1 (ru) 1992-10-15 1992-10-30 Способ изготовления оптических структур и устройство для осуществления операции плавления

Country Status (18)

Country Link
US (1) US5504302A (ru)
EP (1) EP0664891B1 (ru)
JP (1) JP3225359B2 (ru)
KR (1) KR100303175B1 (ru)
AT (1) ATE161974T1 (ru)
AU (1) AU676669B2 (ru)
BR (1) BR9207167A (ru)
CA (1) CA2147009C (ru)
CZ (1) CZ282703B6 (ru)
DE (2) DE4234740C2 (ru)
DK (1) DK0664891T3 (ru)
ES (1) ES2112336T3 (ru)
HU (1) HU217401B (ru)
PL (1) PL171204B1 (ru)
RU (1) RU2114450C1 (ru)
SK (1) SK47895A3 (ru)
UA (1) UA29459C2 (ru)
WO (1) WO1994009389A1 (ru)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19602736A1 (de) * 1996-01-26 1997-07-31 Inst Mikrotechnik Mainz Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von optischen Linsen und optischen Linsenarrays
US6504650B1 (en) 1999-10-19 2003-01-07 Anthony J. Alfrey Optical transformer and system using same
KR20010057689A (ko) * 1999-12-23 2001-07-05 김춘호 마이크로 빔 스플리터 제조 방법
FR2803396B1 (fr) * 1999-12-30 2002-02-08 Commissariat Energie Atomique Procede de formation d'un microrelief concave dans un substrat, et mise en oeuvre du procede pour la realisation de composants optiques
JP2002122707A (ja) * 2000-10-13 2002-04-26 Canon Inc 非球面マイクロ構造体、及びその作製方法
US7531104B1 (en) 2002-03-20 2009-05-12 Ruey-Jen Hwu Micro-optic elements and method for making the same
TWI256945B (en) * 2003-05-30 2006-06-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd A method of making mode
EP1500975A3 (de) * 2003-07-21 2006-01-18 Ingeneric GmbH Verfahren zur Herstellung von optischen Mikrostrukturen
LT5257B (lt) 2003-12-19 2005-08-25 Uždaroji akcinė bendrovė MGF "Šviesos konversija" Ryškį išsaugojantis lazerinių pluoštų formuotuvas
WO2007103898A2 (en) 2006-03-03 2007-09-13 Aculight Corporation Diode-laser-pump module with integrated signal ports for pumping amplifying fibers
DE102007061777B4 (de) * 2007-12-19 2010-12-16 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Verfahren zur Vakuumbeschichtung von zu beschichtenden Substraten und Vakkumbeschichtungsanlage
US9976664B2 (en) * 2010-11-05 2018-05-22 Hamilton Sundtrand Corporation Furnace braze deposition of hardface coating on wear surface
DE102012010635B4 (de) 2012-05-18 2022-04-07 Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V. Verfahren zur 3D-Strukturierung und Formgebung von Oberflächen aus harten, spröden und optischen Materialien
JP6047654B2 (ja) 2012-07-07 2016-12-21 リモ パテントフェルヴァルトゥング ゲーエムベーハー ウント コー.カーゲーLIMO Patentverwaltung GmbH & Co.KG 電子ビームを発生させるための装置
DE102015100940A1 (de) 2015-01-22 2016-07-28 Lilas Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Bauteils mit einer zumindest abschnittsweise gekrümmten Oberfläche
DE102015119325A1 (de) 2015-11-10 2017-05-11 Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V. Verfahren zur Glättung von Oberflächen eines Werkstücks
DE102018122605A1 (de) * 2018-09-14 2020-03-19 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Glätten eines Bauteiloberflächenbereichs

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2887599A (en) * 1957-06-17 1959-05-19 High Voltage Engineering Corp Electron acceleration tube
US4319889A (en) * 1979-08-06 1982-03-16 Villalobos Humberto F Ultrasharp diamond edges and points and methods of making same by precision micro-irradiation techniques
US4348263A (en) * 1980-09-12 1982-09-07 Western Electric Company, Inc. Surface melting of a substrate prior to plating
ZA82933B (en) * 1981-02-13 1983-02-23 Smith & Nephew Ass Wound dressing, manufacture and use
US4863778A (en) * 1982-04-24 1989-09-05 Smith And Nephew Associated Companies P.L.C. Products, processes and use
US4563565A (en) * 1983-03-02 1986-01-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method for forming a peripheral edge on contact lenses
EP0122085B1 (en) * 1983-04-06 1987-06-24 Smith and Nephew Associated Companies p.l.c. Dressing
JPS60103310A (ja) * 1983-11-11 1985-06-07 Pioneer Electronic Corp マイクロフレネルレンズの製造方法
US5179262A (en) * 1986-10-14 1993-01-12 Allergan, Inc. Manufacture of ophthalmic lenses by excimer laser
US4867150A (en) * 1987-01-20 1989-09-19 The B. F. Goodrich Company Perforated elastomeric soft film and wound dressing made therewith
US4815147A (en) * 1988-02-17 1989-03-28 Easton Sports High flexibility protective glove
JPH0321901A (ja) * 1989-06-19 1991-01-30 Seiko Epson Corp レンズアレイの製造方法
JP2805023B2 (ja) * 1989-10-31 1998-09-30 コーテック株式会社 創傷被覆材及びその製造方法
US5148322A (en) * 1989-11-09 1992-09-15 Omron Tateisi Electronics Co. Micro aspherical lens and fabricating method therefor and optical device
JP2993170B2 (ja) * 1991-04-17 1999-12-20 コーテック株式会社 創傷被覆材
US5317661A (en) * 1993-07-06 1994-05-31 Siecor Corporation Laser removal of altered index of refraction layer on glass fibers

Also Published As

Publication number Publication date
CA2147009C (en) 2002-09-24
CZ93295A3 (en) 1996-01-17
JP3225359B2 (ja) 2001-11-05
PL308640A1 (en) 1995-08-21
EP0664891B1 (de) 1998-01-07
EP0664891A1 (de) 1995-08-02
BR9207167A (pt) 1995-12-12
ES2112336T3 (es) 1998-04-01
DE4234740A1 (de) 1994-04-21
AU676669B2 (en) 1997-03-20
AU2882492A (en) 1994-05-09
UA29459C2 (ru) 2000-11-15
DE4234740C2 (de) 1997-12-11
SK47895A3 (en) 1995-12-06
HUT70343A (en) 1995-09-28
RU2114450C1 (ru) 1998-06-27
DE59209123D1 (de) 1998-02-12
PL171204B1 (pl) 1997-03-28
US5504302A (en) 1996-04-02
ATE161974T1 (de) 1998-01-15
CA2147009A1 (en) 1994-04-28
CZ282703B6 (cs) 1997-09-17
DK0664891T3 (da) 1998-09-07
HU9500927D0 (en) 1995-05-29
WO1994009389A1 (de) 1994-04-28
JPH08502368A (ja) 1996-03-12
HU217401B (hu) 2000-01-28
KR100303175B1 (ko) 2001-11-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU95109839A (ru) Способ и устройство для изготовления оптических структур, оптический элемент и оптическая система, изготовленные этим способом
US7043129B2 (en) Wide bandgap semiconductor waveguide structures
JP2005086175A (ja) 半導体薄膜の製造方法、半導体薄膜、半導体薄膜チップ、電子管、及び光検出素子
MY157663A (en) Laser irradiating device, laser irradiating method and manufacturing method of semiconductor device
US5597621A (en) Method of manufacturing photoluminescing semiconductor material using lasers
ES8405999A1 (es) Procedimiento para fabricar un dispositivo optico
JP2003340579A (ja) 透明材料内部の処理方法およびその装置
JP2707143B2 (ja) 薄膜el端部発光構造体においてピクセル・アレーを画定する方法
JPS57183023A (en) Laser annealing
JPS5799747A (en) Light beam diffusor
DE102016116241A1 (de) Verfahren zum bearbeiten eines wafers und verfahren zum bearbeiten eines trägers
RU94006882A (ru) Способ изготовления поликапиллярных структур и устройства, основанные на этом способе
RU1838163C (ru) Способ формировани изображений
JP6757953B2 (ja) 表面加工方法、構造体の製造方法
JP2003020258A (ja) 光を用いた透明誘電体物体への微細空洞加工方法及びその装置
JPH0251224A (ja) 不純物の注入方法
Nantel et al. Laser machining of silicon for photonics components
JPS567434A (en) Manufacture of semiconductor device
JPS5630721A (en) Diffusing device of selected impurity
JPS57111020A (en) Manufacture of semiconductor device
JPS63227091A (ja) 半導体レ−ザ装置およびその製造方法
JPS58191431A (ja) 半導体素子の製造方法
JPS6444292A (en) Method or grooving substrate of optical material
Herman et al. Advanced-laser processing of photonic and microelectronic components at Photonics Research Ontario
KR100526991B1 (ko) 레이저 결정화 장치 및 결정화 방법

Legal Events

Date Code Title Description
PC4A Invention patent assignment

Effective date: 20100429

PD4A Correction of name of patent owner