RU2367600C1 - Способ получения кремния высокой чистоты - Google Patents

Способ получения кремния высокой чистоты Download PDF

Info

Publication number
RU2367600C1
RU2367600C1 RU2008114420/15A RU2008114420A RU2367600C1 RU 2367600 C1 RU2367600 C1 RU 2367600C1 RU 2008114420/15 A RU2008114420/15 A RU 2008114420/15A RU 2008114420 A RU2008114420 A RU 2008114420A RU 2367600 C1 RU2367600 C1 RU 2367600C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
silicon
hydrogen
monoxide
methane
preparation
Prior art date
Application number
RU2008114420/15A
Other languages
English (en)
Inventor
Валерий Давидович Афанасьев (RU)
Валерий Давидович Афанасьев
Александр Диевич Горохов (RU)
Александр Диевич Горохов
Борис Георгиевич Грибов (RU)
Борис Георгиевич Грибов
Борис Александрович Евдокимов (RU)
Борис Александрович Евдокимов
Константин Владимирович Зиновьев (RU)
Константин Владимирович Зиновьев
Геннадий Яковлевич Красников (RU)
Геннадий Яковлевич Красников
Original Assignee
Борис Георгиевич Грибов
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Борис Георгиевич Грибов filed Critical Борис Георгиевич Грибов
Priority to RU2008114420/15A priority Critical patent/RU2367600C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2367600C1 publication Critical patent/RU2367600C1/ru

Links

Landscapes

  • Silicon Compounds (AREA)

Abstract

Изобретение может быть использовано для производства высокочистого кремния. Способ получения кремния высокой чистоты заключается в восстановлении диоксида кремния до монооксида кремния под действием электродуговой плазмы в атмосфере водорода с последующим восстановлением полученного монооксида кремния до элементарного кремния под действием электродуговой плазмы газовой смесью водорода и метана. Изобретение позволяет получать кремний с содержанием примесей менее 1·10-3 вес.%, в том числе углерода - менее 1·10-4 вес.%. 1 табл.

Description

Изобретение относится к области цветной металлургии, в частности к производству высокочистого кремния, который может быть использован при изготовлении солнечных элементов.
Известен способ получения высокочистого кремния карботермическим восстановлением чистого кварца в электродуговой печи с использованием углеродного восстановителя. Способ описан в статье А.А.Бахтина, Л.В.Черняховского, Л.П.Кищенко, П.С.Меньшикова «Влияние качества сырьевых материалов на производство кремния высокой чистоты», журнал «Цветные металлы», №1, 1992 г., с.29-32. Недостатками этого способа являются большие потери чистых исходных материалов в процессе восстановления и высокое для солнечного кремния содержание примесей (до 2·10-2 вес.%).
Известен также способ получения высокочистого кремния для солнечной энергетики восстановлением кварцевого сырья в две стадии - сначала до монооксида кремния SiO, а затем до элементарного кремния. Способ описан в патенте РФ №2173738 от 23.12.1999 г. и позволяет совместить получение кремния с его очисткой, поскольку летучесть SiO значительно выше летучести большинства примесей. Недостаток этого способа в том, что в качестве восстановителя на второй стадии используется углеродная сажа. В результате получаемый кремний содержит много углерода, а используемое оборудование быстро загрязняется сажей.
Наиболее близким к данному изобретению является техническое решение, предложенное в заявке №2006130023/15 (032646) от 22.08.2006 г. с решением о выдаче патента РФ на изобретение от 12.12.2007 г. Для получения кремния высокой чистоты, пригодного в технологии изготовления солнечных элементов, используют процесс восстановления диоксида кремния (природного кварца) также в две стадии.
На первой стадии чистый кварц расплавляют в тигле и при температуре 1900°С вводят в тигель смесь порошков SiO2 и кремния высокой чистоты. Образующийся при этом монооксид кремния SiO поступает на вторую стадию, где восстанавливается до элементарного кремния чистым метаном при температуре 2300-2500°С. Полученный жидкий кремний собирается в тигле-приемнике.
Способ позволяет получить кремний с малым содержанием примесей, в частности - углерода. Степень извлечения кремния составляет при этом 95%. Однако этому способу присущи следующие недостатки:
- использование высокочистого кремния в качестве сырьевого материала (на первой стадии процесса) экономически невыгодно из-за его высокой стоимости. При одинаковой чистоте стоимость кремния выше стоимости кварца в 10-15 раз;
- использование метана в качестве основного восстановителя для SiO (на второй стадии) не позволяет снизить содержание углерода в кремнии до уровня, допустимого для солнечного кремния высокого качества.
Целью изобретения является повышение качества получаемого кремния и снижение затрат на его изготовление. Поставленная цель достигается тем, что в способе получения кремния высокой чистоты, включающем получение монооксида кремния из диоксида кремния и последующее восстановление монооксида кремния до элементарного кремния, монооксид кремния получают посредством термической диссоциации диоксида кремния в электродуговой плазме в атмосфере водорода, а восстановление монооксида кремния до элементарного кремния проводят в электродуговой плазме газовой смесью метана и водорода при содержании метана в смеси 5-10% по объему.
Сущность изобретения состоит в том, что обе стадии процесса получения кремния из диоксида кремния осуществляются в газовой фазе в потоке водорода под воздействием электрической дуги постоянного тока. На первой стадии диоксид кремния, помещенный в зону дугового разряда с температурой выше 2500°С, быстро испаряется и диссоциирует на газообразный монооксид кремния и кислород. Последний сразу реагирует с водородом, образуя воду, а монооксид кремния транспортируется во второй реактор для восстановления. Восстановление монооксида кремния до элементарного кремния проводят атомарным водородом, который образуется из обычного молекулярного водорода под действием высокой температуры и излучения электрической дуги (с длиной волны менее 850 Ǻ). Для активации процесса осаждения восстановленного кремния из газовой фазы в реактор вводят дополнительно небольшое количество углеводорода - метана, не менее 5 и не более 10 об.% в газовой смеси. При содержании метана ниже 5% снижается выход кремния в реакции восстановления, а при содержании метана выше 10% возрастает концентрация углерода в полученном кремнии.
Для получения высокочистого кремния согласно настоящему изобретению используют двухреакторную установку с системой электропитания, а также с газовой и вакуумной системами. Установка включает реактор для получения монооксида кремния из диоксида кремния и реактор для получения элементарного кремния из его монооксида. Оба реактора соединены между собой обогреваемым каналом для транспортировки монооксида кремния. Каждый реактор имеет подвижный и неподвижный электроды (анод и катод) и свой источник питания постоянного тока для создания электрической дуги. Реактор для получения монооксида кремния снабжен дозатором для подачи порошкообразного диоксида кремния в зону электродугового разряда. Газовая система обеспечивает регулируемую подачу в реактор чистых аргона и водорода, а также метана. Вакуумная система предназначена для удаления воздуха из реакторов и обеспечивает получение остаточного давления до 10-2 мм рт.ст. Способ получения кремния высокой чистоты на данной установке описан в примере.
Пример
Оба реактора герметизируют, откачивают в вакууме до остаточного давления 10-2 мм рт.ст. и продувают аргоном в течение 20 мин. В обоих реакторах производят запуск электрической дуги. Для этого подвижный электрод (анод) замыкается с катодом и включается источник питания каждого реактора. После режима короткого замыкания (поджига дуги) подвижный электрод выдвигается на расстояние 15 см от катода, создавая внутри реактора зону горения дуги. В процессе работы контролируются вольт-амперные характеристики электрической дуги (в обоих реакторах). Рабочие параметры процесса: напряжение 90-250 В, ток 15-30 А.
После прогрева в течение 15 мин в первый реактор из дозатора непрерывно подается порошок диоксида кремния, а из блока подготовки газов - чистый водород. Образующийся монооксид кремния вместе с избытком водорода транспортируется во второй реактор, где восстанавливается до кремния. Расход SiO2 в рабочем режиме составляет ~200 г/мин.
Чтобы инициировать процесс осаждения кремния из смеси монооксида кремния с водородом, во второй реактор через специальный штуцер подают газ метан в заданном объеме. Объемное соотношение метан/водород в рабочем режиме поддерживают автоматически (с помощью программного обеспечения на IBM PC, Pentium 4). Восстановленный кремний в жидком виде собирают в тигле-приемнике, откуда производят его выгрузку порционно. В непрерывном процессе за 3 часа получают 15 кг кремния с параметрами, приведенными ниже.
Результаты примера и других экспериментов приведены в таблице.
Сопоставление способа, являющегося предметом данного изобретения, с прототипом показывает следующие преимущества:
1) заявляемый способ позволяет получить кремний с очень низким содержанием углерода, т.е. намного повышает качество получаемого кремния (до так называемого «солнечного качества»);
2) заявляемый способ позволяет снизить затраты на сырьевые материалы и соответственно снизить себестоимость кремния на ~40%.
Таблица
Показатели ед. изм. Прототип Заявляемый способ
Содержание метана в смеси, % по объему
4 5 7 10 11
Содержание суммы примесей в кремнии ppm 8-10 9 8 8 9 10
Содержание углерода в кремнии ppm 4-5 0,4 0,5 0,5 0,8 1,5
Степень извлечения кремния из SiO2 % 95 86 95 96 96 96
Производительность по кремнию кг/час 5 <5 5 >5 >5 >5
Себестоимость кремния (по расчету) руб./кг ~750 - ~450 ~450 ~450 -
ppm - 10-4 вес.%

Claims (1)

  1. Способ получения кремния высокой чистоты, включающий получение монооксида кремния из диоксида кремния и последующее восстановление монооксида кремния до элементарного кремния с использованием метана, отличающийся тем, что монооксид кремния получают термической диссоциацией диоксида кремния в электродуговой плазме в атмосфере водорода, а восстановление монооксида кремния до элементарного кремния проводят в электродуговой плазме с использованием метана в смеси с водородом при содержании метана 5-10% по объему.
RU2008114420/15A 2008-04-16 2008-04-16 Способ получения кремния высокой чистоты RU2367600C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2008114420/15A RU2367600C1 (ru) 2008-04-16 2008-04-16 Способ получения кремния высокой чистоты

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2008114420/15A RU2367600C1 (ru) 2008-04-16 2008-04-16 Способ получения кремния высокой чистоты

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2367600C1 true RU2367600C1 (ru) 2009-09-20

Family

ID=41167849

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2008114420/15A RU2367600C1 (ru) 2008-04-16 2008-04-16 Способ получения кремния высокой чистоты

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2367600C1 (ru)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2497753C1 (ru) * 2012-06-28 2013-11-10 Борис Георгиевич Грибов Способ получения кремния высокой чистоты
RU2516512C2 (ru) * 2012-07-09 2014-05-20 Лев Алексеевич Борисов Способ прямого получения поликристаллического кремния из природного кварца и из его особо чистых концентратов
RU2542274C1 (ru) * 2013-08-20 2015-02-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Омский государственный технический университет" Способ получения кремния
RU2648615C1 (ru) * 2017-01-31 2018-03-26 Сергей Михайлович Карабанов Способ плазмохимического рафинирования металлов в вакууме и плазмотрон для его осуществления
WO2018141805A1 (de) 2017-02-06 2018-08-09 Solar Silicon Gmbh Verfahren zur herstellung von elementarem silizium
WO2019238808A1 (de) 2018-06-15 2019-12-19 Solar Silicon Gmbh Verfahren zur herstellung von elementarem silizium
CN111056556A (zh) * 2019-12-26 2020-04-24 黄冈师范学院 一种以二氧化硅和氢气为原料制备多晶硅的方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2497753C1 (ru) * 2012-06-28 2013-11-10 Борис Георгиевич Грибов Способ получения кремния высокой чистоты
RU2516512C2 (ru) * 2012-07-09 2014-05-20 Лев Алексеевич Борисов Способ прямого получения поликристаллического кремния из природного кварца и из его особо чистых концентратов
RU2542274C1 (ru) * 2013-08-20 2015-02-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Омский государственный технический университет" Способ получения кремния
RU2648615C1 (ru) * 2017-01-31 2018-03-26 Сергей Михайлович Карабанов Способ плазмохимического рафинирования металлов в вакууме и плазмотрон для его осуществления
WO2018141805A1 (de) 2017-02-06 2018-08-09 Solar Silicon Gmbh Verfahren zur herstellung von elementarem silizium
WO2019238808A1 (de) 2018-06-15 2019-12-19 Solar Silicon Gmbh Verfahren zur herstellung von elementarem silizium
CN112313172A (zh) * 2018-06-15 2021-02-02 太阳能硅有限公司 生产元素硅的方法
CN111056556A (zh) * 2019-12-26 2020-04-24 黄冈师范学院 一种以二氧化硅和氢气为原料制备多晶硅的方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2367600C1 (ru) Способ получения кремния высокой чистоты
CN104203877A (zh) 使用等离子体技术制备乙炔的方法和装置
JP2012025636A (ja) 二酸化炭素の吸着還元剤及び還元方法
CN109553105A (zh) 一种高纯碳化硅粉及其制备方法
CN101624708A (zh) 电解合成三氟化氮的方法
KR101092520B1 (ko) 열플라즈마를 이용한 인듐-주석 산화물 나노분말의 제조방법
US20040250764A1 (en) Method and apparatus for production of high purity silicon
KR102465326B1 (ko) 일산화질소를 이용한 암모니아 제조 장치
CN116254547B (zh) 一种三氟化氮的制备方法
JP3569279B2 (ja) F2ガス発生装置及びf2ガス発生方法並びにf2ガス
US4472254A (en) Electric plasma discharge combustion synthesis of chlorine dioxide
JP2010189227A (ja) 光応答性を有する半導体材料、光電極材料及びその製造方法
EP3992146A1 (en) Method for producing carbonyl sulfide
JPH11335883A (ja) オゾン、水素発生方法及び発生装置
CN113518502A (zh) 一种基于等离子电离快速制备硫等离子体的方法
JP7516956B2 (ja) 臭化水素の製造方法
CN108190858B (zh) 一种氟化石墨的制备方法
CN110980767B (zh) 一种氰氨化钙的合成方法
KR101206871B1 (ko) 고리형 Pd나노구조체 및 그 탄화수소화합물 합성용 Pd나노구조체 촉매
RU2385291C1 (ru) Способ получения кристаллического кремния высокой чистоты (варианты)
RU2298526C2 (ru) Способ получения карбида хрома
JP5811002B2 (ja) 中空炭素電極を用いたSiOの製造方法及び装置
CN104099632B (zh) 电化学促进的碳热还原金属硫化物制备金属碳化物的方法
KR101141296B1 (ko) 열플라즈마에 의한 질화마그네슘 나노분말의 제조 방법 및 이에 의하여 제조되는 질화마그네슘 나노분말
CN117735544B (zh) 一种半导体级石墨粉的深度纯化方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20110417