RU2015128469A

RU2015128469A - Никелированный и/или хромированный элемент и способ его производства

Info

Publication number: RU2015128469A
Application number: RU2015128469A
Authority: RU
Inventors: Цзинцзюнь ХАО; Лимин ЦЯНЬ
Original assignee: Цзясин Миньхой Аутомотив Партс Ко., Лтд
Priority date: 2015-03-11
Filing date: 2015-07-14
Publication date: 2017-01-19
Also published as: JP6134354B2; EP3067443A1; JP2016169437A; RU2618017C2; EP3067443B1; US20160265131A1; CN104790004A; US9976223B2

Claims

1. Никелированный элемент, включающий:

субстрат;

слой покрытия предварительной обработки, нанесенный на весь субстрат, на котором образуется слой омеднения; и

функциональный слой, образованный на слое омеднения, при этом функциональный слой имеет слой никеля с низким потенциалом и слой микропористого никеля, образованный на слое никеля с низким потенциалом.

2. Никелированный элемент по п. 1, отличающийся тем, что разность потенциалов между слоем микропористого никеля и слоем никеля с низким потенциалом находится в диапазоне 10-120 мВ.

3. Никелированный элемент по п. 2, отличающийся тем, что слой никеля с низким потенциалом включает одно из следующего: слой высокосернистого никеля и слой никеля с микротрещинами или слой комплексного покрытия из слоя высокосернистого никеля со слоем никеля с микротрещинами.

4. Никелированный элемент по п. 2 или 3, отличающийся тем, что разность потенциалов между слоем микропористого никеля и слоем никеля с низким потенциалом находится в диапазоне 20-100 мВ.

5. Никелированный элемент по п. 2 или 3, отличающийся тем, что если в слое никеля с низким потенциалом применяется слой комплексного покрытия из слоя никеля с микротрещинами со слоем высокосернистого никеля, то разность потенциалов между слоем никеля с микротрещинами и слоем высокосернистого никеля составляет 10-80 мВ.

6. Покрытый никель-хромом элемент, включающий:

субстрат;

функциональный слой, образованный на слое омеднения, при этом функциональный слой имеет слой никеля с низким потенциалом и слой микропористого никеля, образованный на слое никеля с низким потенциалом; и

декоративный слой, образованный на слое микропористого никеля, при этом декоративный слой представляет собой слой покрытия трехвалентным хромом или слой покрытия шестивалентным хромом.

7. Покрытый никель-хромом элемент по п. 6, отличающийся тем, что декоративный слой представляет собой слой покрытия трехвалентным хромом, а слой покрытия трехвалентным хромом представляет собой слой покрытия черным трехвалентным хромом или слой покрытия белым трехвалентным хромом.

8. Покрытый никель-хромом элемент, включающий:

субстрат;

базовый слой, образованный на слое омеднения; и

функциональный слой, образованный на базовом слое, при этом функциональный слой имеет слой никеля с низким потенциалом и слой микропористого никеля, образованный на слое никеля с низким потенциалом; и

9. Покрытый никель-хромом элемент по п. 8, отличающийся тем, что базовый слой включает один или несколько из следующего: слой полублестящего никеля, слой высокосернистого никеля, слой блестящего никеля и слой сатинового никеля.

10. Покрытый никель-хромом элемент по п. 9, отличающийся тем, что базовый слой представляет собой комплекс из слоя полублестящего никеля со слоем блестящего никеля или слоем сатинового никеля, при этом слой полублестящего никеля образуется на слое омеднения, а слой блестящего никеля или слой сатинового никеля образуется на слое полублестящего никеля.

11. Покрытый никель-хромом элемент по п. 9, отличающийся тем, что базовый слой представляет собой комплекс из слоя полублестящего никеля, слоя высокосернистого никеля со слоем блестящего никеля, при этом слой полублестящего никеля образуется на слое омеднения, слой высокосернистого никеля образуется на слое полублестящего никеля, а слой блестящего никеля образуется на слое высокосернистого никеля.

12. Покрытый никель-хромом элемент по п. 9, отличающийся тем, что базовый слой представляет собой комплекс из слоя полублестящего никеля, слоя высокосернистого никеля со слоем сатинового никеля, при этом слой полублестящего никеля образуется на слое омеднения, слой высокосернистого никеля образуется на слое полублестящего никеля, а слой сатинового никеля образуется на слое высокосернистого никеля.

13. Покрытый никель-хромом элемент по п. 9, отличающийся тем, что базовый слой представляет собой комплекс из слоя полублестящего никеля, слоя блестящего никеля со слоем сатинового никеля, при этом слой полублестящего никеля образуется на слое омеднения, слой блестящего никеля образуется на слое полублестящего никеля, а слой сатинового никеля образуется на слое блестящего никеля.

14. Покрытый никель-хромом элемент по п. 10, отличающийся тем, что разность потенциалов между любым из слоя блестящего никеля, и слоя сатинового никеля, и слоя никеля с низким потенциалом находится в диапазоне 0-100 мВ.

15. Покрытый никель-хромом элемент по п. 10, отличающийся тем, что и разность потенциалов между слоем полублестящего никеля и слоем блестящего никеля, и разность потенциалов между слоем полублестящего никеля и слоем сатинового никеля находятся в диапазоне 100-200 мВ.

16. Способ производства покрытого никель-хромом элемента, включающий:

предварительную обработку поверхности субстрата;

нанесение слоя покрытия предварительной обработки на весь субстрат и образование слоя омеднения на слое покрытия предварительной обработки; и

образование базового слоя на слое омеднения; и

образование функционального слоя на базовом слое; и

образование декоративного слоя на функциональном слое;

где базовый слой представляет собой комплекс из слоя полублестящего никеля со слоем блестящего никеля или комплекс из слоя полублестящего никеля со слоем сатинового никеля, при этом слой полублестящего никеля образуется на слое омеднения, а слой блестящего никеля или слой сатинового никеля образуется на слое полублестящего никеля;

функциональный слой представляет собой комплекс из слоя никеля с низким потенциалом со слоем микропористого никеля, при этом слой никеля с низким потенциалом образуется на слое блестящего никеля или слое сатинового никеля, слой микропористого никеля образуется на слое никеля с низким потенциалом, и разность потенциалов между слоем микропористого никеля и слоем никеля с низким потенциалом составляет 10-120 мВ.