JP2002322590A - めっき品及びその製造方法 - Google Patents
めっき品及びその製造方法Info
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- JP2002322590A JP2002322590A JP2001168847A JP2001168847A JP2002322590A JP 2002322590 A JP2002322590 A JP 2002322590A JP 2001168847 A JP2001168847 A JP 2001168847A JP 2001168847 A JP2001168847 A JP 2001168847A JP 2002322590 A JP2002322590 A JP 2002322590A
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- satin
- glossy
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Abstract
(57)【要約】
【目的】耐食性に優れ且つ、金属光沢の艶とサテン調を
併せ持った真珠のような優美な外観のめっき品及びその
製造方法を提供する 【構成】硫黄含有率が０〜０．０３％になるニッケルめ
っきをおこない、その後硫黄含有率が０．０１〜０．１
％になる光沢のあるニッケルめっきをおこない、その後
硫黄含有率が０．００５〜０．１％になるサテン形成ニ
ッケルめっきをおこない、その後硫黄含有率が０〜０．
０５％になる非導電性微粒子共析ニッケルめっきをおこ
ない、最後にクロムめっきをする。膜厚はそれぞれ、３
〜２０μｍ、３〜２０μｍ、０．５〜５μｍ、０．５〜
５μｍ、０．０１〜０．５μｍが望ましい。
併せ持った真珠のような優美な外観のめっき品及びその
製造方法を提供する 【構成】硫黄含有率が０〜０．０３％になるニッケルめ
っきをおこない、その後硫黄含有率が０．０１〜０．１
％になる光沢のあるニッケルめっきをおこない、その後
硫黄含有率が０．００５〜０．１％になるサテン形成ニ
ッケルめっきをおこない、その後硫黄含有率が０〜０．
０５％になる非導電性微粒子共析ニッケルめっきをおこ
ない、最後にクロムめっきをする。膜厚はそれぞれ、３
〜２０μｍ、３〜２０μｍ、０．５〜５μｍ、０．５〜
５μｍ、０．０１〜０．５μｍが望ましい。
Description
【００１】
【産業上の利用分野】本発明は、サテン状めっきにおい
て、サテン形成ニッケルめっき層とその下層の光沢のあ
るニッケルめっき層との電位差が同等乃至前記サテン形
成ニッケルめっき層が貴で、前記サテン形成ニッケルめ
っき層とその上層に構成された膜厚０．５μｍ以上の非
導電性微粒子共析ニッケルめっき層との電位差が同等乃
至前記サテン形成ニッケルめっき層が卑で、前記光沢の
あるニッケルめっき層の下層に前記光沢のあるニッケル
めっきよりも電位差が貴であるニッケルめっき層を構成
してなる耐食性に優れ且つ、艶とサテン調を併せ持った
外観のめっき品及びその製造方法に関するものである。
て、サテン形成ニッケルめっき層とその下層の光沢のあ
るニッケルめっき層との電位差が同等乃至前記サテン形
成ニッケルめっき層が貴で、前記サテン形成ニッケルめ
っき層とその上層に構成された膜厚０．５μｍ以上の非
導電性微粒子共析ニッケルめっき層との電位差が同等乃
至前記サテン形成ニッケルめっき層が卑で、前記光沢の
あるニッケルめっき層の下層に前記光沢のあるニッケル
めっきよりも電位差が貴であるニッケルめっき層を構成
してなる耐食性に優れ且つ、艶とサテン調を併せ持った
外観のめっき品及びその製造方法に関するものである。
【００２】
【従来の技術】従来、めっきをサテン状（梨地状）に仕
上げるには、素地をショットブラスト等で梨地状にした
り、電気ニッケルめっき中に非導電性微粒子を混合し、
共析させる方法、また電気ニッケルめっき中に非イオン
界面活性剤を添加し、エマルジョンを形成させてめっき
する方法（特開昭５０−２０９３４号公報、特開平３−
３９４９５号公報）等がある。また、アルミマイカ等の
入ったメタリック調塗装により、サテン状めっきの風合
いを出す方法もある。
上げるには、素地をショットブラスト等で梨地状にした
り、電気ニッケルめっき中に非導電性微粒子を混合し、
共析させる方法、また電気ニッケルめっき中に非イオン
界面活性剤を添加し、エマルジョンを形成させてめっき
する方法（特開昭５０−２０９３４号公報、特開平３−
３９４９５号公報）等がある。また、アルミマイカ等の
入ったメタリック調塗装により、サテン状めっきの風合
いを出す方法もある。
【００３】
【本発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
従来技術においては、ショットブラストのものでは耐食
性は通常の装飾めっき並を得ることはできるが非常に製
造工程が煩雑で手間がかかり、工程間の移動も多いため
不良品が多く発生する。非導電性微粒子を共析させる方
法では、共析した微粒子で表面の艶を消すことによりサ
テン調を出しているので、優美な金属光沢を有するサテ
ン状めっきはできない。エマルジョンを形成させてめっ
きする方法では、サテン調の外観は出せるが耐食性が悪
く、屋外使用などの環境の厳しいところでの使用には適
さなかった。また、塗装では塗装顔料の微細化に限度が
あり微細でなめらかなサテン調の外観を出すことができ
ず、さらに耐摩耗性が低い為、屋外や良く手の触れると
ころ等には長期の使用で塗膜が摩耗し外観を損ねる。
従来技術においては、ショットブラストのものでは耐食
性は通常の装飾めっき並を得ることはできるが非常に製
造工程が煩雑で手間がかかり、工程間の移動も多いため
不良品が多く発生する。非導電性微粒子を共析させる方
法では、共析した微粒子で表面の艶を消すことによりサ
テン調を出しているので、優美な金属光沢を有するサテ
ン状めっきはできない。エマルジョンを形成させてめっ
きする方法では、サテン調の外観は出せるが耐食性が悪
く、屋外使用などの環境の厳しいところでの使用には適
さなかった。また、塗装では塗装顔料の微細化に限度が
あり微細でなめらかなサテン調の外観を出すことができ
ず、さらに耐摩耗性が低い為、屋外や良く手の触れると
ころ等には長期の使用で塗膜が摩耗し外観を損ねる。
【００４】本発明は、上記問題点を解決するためになさ
せたものであって、その目的は、一連の製造工程で耐食
性に優れ且つ、金属光沢の艶とサテン調を併せ持った優
美な外観のめっき品及びその製造方法を提供することに
ある。
せたものであって、その目的は、一連の製造工程で耐食
性に優れ且つ、金属光沢の艶とサテン調を併せ持った優
美な外観のめっき品及びその製造方法を提供することに
ある。
【００５】
【課題を解決する手段】上記問題点を解決するため、本
発明では、サテン形成めっき層の上層に非導電性微粒子
共析ニッケルめっき層を０．５μｍ以上で且つ電位差が
同等乃至サテン形成ニッケルめっき層が卑で、さらにサ
テン形成ニッケルめっき層と下層の光沢あるニッケルめ
っき層との電位差を同じ乃至はサテン形成ニッケルめっ
き層が貴で、更に前記光沢あるニッケルめっき層の下層
に前記光沢のあるニッケルめっき層よりも電位が貴なニ
ッケルめっき層を構成することにより耐食性を向上させ
且つ艶とサテン調とを併せ持つ外観のめっきをすること
をその要旨する。
発明では、サテン形成めっき層の上層に非導電性微粒子
共析ニッケルめっき層を０．５μｍ以上で且つ電位差が
同等乃至サテン形成ニッケルめっき層が卑で、さらにサ
テン形成ニッケルめっき層と下層の光沢あるニッケルめ
っき層との電位差を同じ乃至はサテン形成ニッケルめっ
き層が貴で、更に前記光沢あるニッケルめっき層の下層
に前記光沢のあるニッケルめっき層よりも電位が貴なニ
ッケルめっき層を構成することにより耐食性を向上させ
且つ艶とサテン調とを併せ持つ外観のめっきをすること
をその要旨する。
【００６】
【作用】上記の構成によれば、非導電性微粒子共析ニッ
ケルめっき層によりマイクロポーラスクロムめっきとな
り腐蝕電位がめっき面全体に分散し、且つ、表面から進
行した腐蝕は、非導電性微粒子共析ニッケルめっき層、
サテン形成めっき層、光沢のあるニッケルめっき層と順
次進行するが、腐蝕は電位が卑である層で進行するため
それ以上は進行せず、めっき中層部の光沢のあるニッケ
ルめっき層で腐蝕が進行し、被めっき物素地まで進行す
る致命的な腐蝕は起こらず、且つ表面も識別できる程度
の致命的な腐蝕が起こらない。
ケルめっき層によりマイクロポーラスクロムめっきとな
り腐蝕電位がめっき面全体に分散し、且つ、表面から進
行した腐蝕は、非導電性微粒子共析ニッケルめっき層、
サテン形成めっき層、光沢のあるニッケルめっき層と順
次進行するが、腐蝕は電位が卑である層で進行するため
それ以上は進行せず、めっき中層部の光沢のあるニッケ
ルめっき層で腐蝕が進行し、被めっき物素地まで進行す
る致命的な腐蝕は起こらず、且つ表面も識別できる程度
の致命的な腐蝕が起こらない。
【００７】
【実施例】本発明による無電解めっきを添付の図面等を
用いて以下に説明する。図面等は、本発明の特徴の一例
を概念的に示したものであり、実施に当たって何ら形状
等を限定するものではない。
用いて以下に説明する。図面等は、本発明の特徴の一例
を概念的に示したものであり、実施に当たって何ら形状
等を限定するものではない。
【００８】被めっき物を周知のめっき方法により電気め
っき可能な状態にする。まず、被めっき物を硫酸銅電気
めっき液（荏原ユージライト社製 ＵＢＡＣ−ＥＰ）に
浸漬し、少なくとも被めっき物表面の微細凹凸が消える
程度めっきする。被めっき物の表面状態にもよるが、膜
厚は５〜５０μｍくらいが望ましい。その後、硫黄含有
率が０〜０．０３％になるニッケルめっき（荏原ユージ
ライト社製 ＣＦ−５Ｐ）をおこない、硫黄含有率が
０．０１〜０．１％になる光沢のあるニッケルめっき
（荏原ユージライト社製 光沢ニッケル＃６６）をおこ
ない、硫黄含有率が０．００５〜０．１％になるエマル
ジョン系のサテン形成ニッケルめっき（上村工業社製
パールブライトＢタイプ）をおこない、硫黄含有率が０
〜０．０５％になる非導電性微粒子共析ニッケルめっき
（荏原ユージライト社製 ジュールニッケル３６６）を
おこない、クロムめっきをする。膜厚はそれぞれ、３〜
２０μｍ、３〜２０μｍ、０．５〜５μｍ、０．５〜５
μｍ、０．０１〜０．５μｍが望ましい。
っき可能な状態にする。まず、被めっき物を硫酸銅電気
めっき液（荏原ユージライト社製 ＵＢＡＣ−ＥＰ）に
浸漬し、少なくとも被めっき物表面の微細凹凸が消える
程度めっきする。被めっき物の表面状態にもよるが、膜
厚は５〜５０μｍくらいが望ましい。その後、硫黄含有
率が０〜０．０３％になるニッケルめっき（荏原ユージ
ライト社製 ＣＦ−５Ｐ）をおこない、硫黄含有率が
０．０１〜０．１％になる光沢のあるニッケルめっき
（荏原ユージライト社製 光沢ニッケル＃６６）をおこ
ない、硫黄含有率が０．００５〜０．１％になるエマル
ジョン系のサテン形成ニッケルめっき（上村工業社製
パールブライトＢタイプ）をおこない、硫黄含有率が０
〜０．０５％になる非導電性微粒子共析ニッケルめっき
（荏原ユージライト社製 ジュールニッケル３６６）を
おこない、クロムめっきをする。膜厚はそれぞれ、３〜
２０μｍ、３〜２０μｍ、０．５〜５μｍ、０．５〜５
μｍ、０．０１〜０．５μｍが望ましい。
【００９】硫黄含有率が高くなるほどニッケルめっき被
膜の電位は卑になる。硫黄含有率は、めっき液中の有機
硫黄化合物の種類・添加量や陰極電流密度（被めっき物
側の電極電流密度）により変化させる。有機硫黄化合物
を多く添加すると硫黄含有率は高くなり、めっき被膜の
電位は卑になる。陰極電流密度を高くすると同じく硫黄
含有率は高くなり、めっき被膜の電位は卑になる。
膜の電位は卑になる。硫黄含有率は、めっき液中の有機
硫黄化合物の種類・添加量や陰極電流密度（被めっき物
側の電極電流密度）により変化させる。有機硫黄化合物
を多く添加すると硫黄含有率は高くなり、めっき被膜の
電位は卑になる。陰極電流密度を高くすると同じく硫黄
含有率は高くなり、めっき被膜の電位は卑になる。
【０１０】上述の如く処理しためっき品は、サテン調と
光沢クロム調が融和した外観となる。また四層にわたり
ニッケルめっき被膜の電位を調整し、マイクロポーラス
クロムめっきになるように非導電性微粒子共析ニッケル
めっきを０．５μｍ以上施してあるため、その耐食性
は、ＪＩＳ Ｄ０２０１の定めるところのキャス試験に
於いても、８０時間（５周期）試験を行ってもレイテン
グナンバ９．０以上（表面腐蝕面積０．１％以下）を保
持することを見いだした。また、サテン形成ニッケルめ
っき層を非導電性微粒子共析ニッケルめっき層よりも１
０ｍＶ以上卑にまたは、光沢あるニッケルめっき層より
も１０ｍＶ以上貴にすることにより、前期キャス試験に
於いて８０時間でレイテングナンバ９．３以上（表面腐
蝕面積０．０７％以下）を保持することを見いだした。
更に、非導電性微粒子共析ニッケルめっき層を１μｍ以
上とし、サテン形成ニッケルめっき層を非導電性微粒子
共析ニッケルめっき層よりも１０ｍＶ以上卑で且つ、光
沢あるニッケルめっき層よりも１０ｍＶ以上貴にするこ
とにより、レイテングナンバ９．５以上（表面腐蝕面積
０．０５％以下）を保持することを見いだした。
光沢クロム調が融和した外観となる。また四層にわたり
ニッケルめっき被膜の電位を調整し、マイクロポーラス
クロムめっきになるように非導電性微粒子共析ニッケル
めっきを０．５μｍ以上施してあるため、その耐食性
は、ＪＩＳ Ｄ０２０１の定めるところのキャス試験に
於いても、８０時間（５周期）試験を行ってもレイテン
グナンバ９．０以上（表面腐蝕面積０．１％以下）を保
持することを見いだした。また、サテン形成ニッケルめ
っき層を非導電性微粒子共析ニッケルめっき層よりも１
０ｍＶ以上卑にまたは、光沢あるニッケルめっき層より
も１０ｍＶ以上貴にすることにより、前期キャス試験に
於いて８０時間でレイテングナンバ９．３以上（表面腐
蝕面積０．０７％以下）を保持することを見いだした。
更に、非導電性微粒子共析ニッケルめっき層を１μｍ以
上とし、サテン形成ニッケルめっき層を非導電性微粒子
共析ニッケルめっき層よりも１０ｍＶ以上卑で且つ、光
沢あるニッケルめっき層よりも１０ｍＶ以上貴にするこ
とにより、レイテングナンバ９．５以上（表面腐蝕面積
０．０５％以下）を保持することを見いだした。
【０１１】作用の項でも述べたが、マイクロポーラス
（微細孔）になっているクロムめっきでは、腐蝕が表面
全体で起こるため、一カ所の腐蝕は小さいものになる。
表面より進行する腐蝕は、ニッケルめっき中もっとも卑
である光沢のあるニッケルめっきの層で優先的に進行
し、めっき素地（本実施例の場合銅めっき層）を腐蝕し
たり、外観に視認されるような致命的な腐蝕に非常にな
りにくい。また更に耐食性を向上させるために、光沢の
あるニッケルめっきとその下層のニッケルめっきの間に
光沢のあるニッケルめっきよりも卑なニッケルめっき層
を設けることもある。
（微細孔）になっているクロムめっきでは、腐蝕が表面
全体で起こるため、一カ所の腐蝕は小さいものになる。
表面より進行する腐蝕は、ニッケルめっき中もっとも卑
である光沢のあるニッケルめっきの層で優先的に進行
し、めっき素地（本実施例の場合銅めっき層）を腐蝕し
たり、外観に視認されるような致命的な腐蝕に非常にな
りにくい。また更に耐食性を向上させるために、光沢の
あるニッケルめっきとその下層のニッケルめっきの間に
光沢のあるニッケルめっきよりも卑なニッケルめっき層
を設けることもある。
【０１２】サテン形成ニッケルめっきを光沢のあるニッ
ケルめっきの上層に設け、硫黄の共析を抑えるために陰
極電流密度を低くすることにより、めっき品外観は、サ
テン調の艶消しと装飾クロムめっきの光沢外観とが融合
した新規な外観を呈する。
ケルめっきの上層に設け、硫黄の共析を抑えるために陰
極電流密度を低くすることにより、めっき品外観は、サ
テン調の艶消しと装飾クロムめっきの光沢外観とが融合
した新規な外観を呈する。
【０１３】上記実施例ではニッケルめっきを銅めっき上
に施しているがこれに限定されることはなく、ニッケル
めっきの下地は、炭素鋼等の鉄鋼、亜鉛、アルミ、ニッ
ケル、砲金、真鍮等如何なる金属やこれらの合金または
めっき被膜でも良い。
に施しているがこれに限定されることはなく、ニッケル
めっきの下地は、炭素鋼等の鉄鋼、亜鉛、アルミ、ニッ
ケル、砲金、真鍮等如何なる金属やこれらの合金または
めっき被膜でも良い。
【０１４】上記実施例では、ニッケルめっき被膜の硫黄
含有率を具体的数値で表したが、これは記載の範囲が好
ましいと言うことであり、各ニッケルめっき層間の電位
差を本発明の趣旨の如くに確保できるのであれば、上記
記載の範囲外でも良い。
含有率を具体的数値で表したが、これは記載の範囲が好
ましいと言うことであり、各ニッケルめっき層間の電位
差を本発明の趣旨の如くに確保できるのであれば、上記
記載の範囲外でも良い。
【０１５】上記実施例では、各めっきの膜厚を具体的数
値で示したが、求められる耐食性等の性能、外観等によ
っては、上記記載の範囲外でも良い。
値で示したが、求められる耐食性等の性能、外観等によ
っては、上記記載の範囲外でも良い。
【０１６】上記実施例では、電気めっき薬品として一例
を挙げてあるが、各ニッケルめっき層間の電位差及び非
導電性微粒子共析ニッケルめっき層を本発明の趣旨の如
くに確保できるのであれば、上記記載の薬品以外を使用
しても良い。
を挙げてあるが、各ニッケルめっき層間の電位差及び非
導電性微粒子共析ニッケルめっき層を本発明の趣旨の如
くに確保できるのであれば、上記記載の薬品以外を使用
しても良い。
【０１７】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明のめっき品
及びその製造方法によれば、非導電性微粒子共析ニッケ
ルめっき層によりマイクロポーラスクロムめっきとなり
腐蝕電位がめっき面全体に分散し、且つ、表面から進行
した腐蝕は、めっき中層部の光沢のあるニッケルめっき
層で優先的に腐蝕が進行し、被めっき物素地まで進行す
る致命的な腐蝕は起こらず、且つ表面も識別できる程度
の致命的な腐蝕が起こらず、さらにサテン調と装飾クロ
ム調の外観が融合した真珠のような優美な外観を呈する
という優れた効果を奏する。
及びその製造方法によれば、非導電性微粒子共析ニッケ
ルめっき層によりマイクロポーラスクロムめっきとなり
腐蝕電位がめっき面全体に分散し、且つ、表面から進行
した腐蝕は、めっき中層部の光沢のあるニッケルめっき
層で優先的に腐蝕が進行し、被めっき物素地まで進行す
る致命的な腐蝕は起こらず、且つ表面も識別できる程度
の致命的な腐蝕が起こらず、さらにサテン調と装飾クロ
ム調の外観が融合した真珠のような優美な外観を呈する
という優れた効果を奏する。
【図１】本発明による一実施例に於けるめっき品の断面
図
図
【図２】一実施例に於ける腐蝕の進行の概念図（腐蝕初
期）
期）
【図３】一実施例に於ける腐蝕の進行の概念図（腐蝕中
期）
期）
【図４】一実施例に於ける腐蝕の進行の概念図（腐蝕後
期）
期）
１…装飾クロムめっき層 ２…非導電性微粒子共析ニッケルめっき層 ３…サテン形成ニッケルめっき層 ４…光沢のあるニッケルめっき層 ５…最下層ニッケルめっき層 ６…銅めっき層 ７…被めっき品 ８…非導電性微粒子 ９…腐蝕部
Claims (4)
- 【請求項１】サテン状めっきにおいて、サテン形成ニッ
ケルめっき層とその下層に設けられた光沢のあるニッケ
ルめっき層との電位差が同等乃至サテン形成ニッケルめ
っき層が貴で、サテン形成ニッケルめっき層とその上層
に構成された０．５μｍ以上の非導電性微粒子共析ニッ
ケルめっき層との電位差が同等乃至サテン形成ニッケル
めっき層が卑で、前記光沢のあるニッケルめっき層より
も電位が貴であるニッケルめっき層を前記光沢のあるニ
ッケルめっき層の下層に設けてなる耐食性に優れ且つ、
艶とサテン調を併せ持った真珠のような外観のめっき品
及びその製造方法 - 【請求項２】前記サテン形成ニッケルめっき層と前記光
沢のあるニッケルめっき層との電位差において前記サテ
ン形成ニッケルめっき層が１０ｍＶ以上貴である請求項
１に記載のめっき品及びその製造方法 - 【請求項３】前記サテン形成ニッケルめっき層と前記非
導電性微粒子共析ニッケルめっき層との電位差において
前記サテン形成ニッケルめっき層が１０ｍＶ以上卑であ
る請求項１に記載のめっき品及びその製造方法 - 【請求項４】前記サテン状めっきにおいて、請求項２及
び請求項３の組み合わせであって、前記非導電性微粒子
共析ニッケルめっき層の膜厚が１μｍ以上である請求項
１に記載のめっき品及びその製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001168847A JP2002322590A (ja) | 2001-04-25 | 2001-04-25 | めっき品及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001168847A JP2002322590A (ja) | 2001-04-25 | 2001-04-25 | めっき品及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002322590A true JP2002322590A (ja) | 2002-11-08 |
Family
ID=19011000
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001168847A Pending JP2002322590A (ja) | 2001-04-25 | 2001-04-25 | めっき品及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002322590A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3067443A1 (en) * | 2015-03-11 | 2016-09-14 | Jiaxing Minhui Automotive Parts Co.,Ltd | Nickel and/or chromium plated member and method for manufacturing the same |
| JP7330349B1 (ja) * | 2022-11-11 | 2023-08-21 | 株式会社Jcu | クロムめっき部品及びその製造方法 |
-
2001
- 2001-04-25 JP JP2001168847A patent/JP2002322590A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3067443A1 (en) * | 2015-03-11 | 2016-09-14 | Jiaxing Minhui Automotive Parts Co.,Ltd | Nickel and/or chromium plated member and method for manufacturing the same |
| JP2016169437A (ja) * | 2015-03-11 | 2016-09-23 | 嘉興敏惠汽車零部件有限公司 | ニッケル及び／又はクロムメッキ部材、並びにその製造方法 |
| JP7330349B1 (ja) * | 2022-11-11 | 2023-08-21 | 株式会社Jcu | クロムめっき部品及びその製造方法 |
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