RU2014123354A

RU2014123354A - Слои hipims

Info

Publication number: RU2014123354A
Application number: RU2014123354/02A
Authority: RU
Inventors: Зигфрид КРАССНИТЦЕР; Маркус ЛЕХТХАЛЕР
Original assignee: Эрликон Трейдинг Аг, Трюббах
Priority date: 2011-11-09
Filing date: 2012-10-26
Publication date: 2015-12-20
Also published as: RU2633672C2; MX364356B; EP2777061A1; MY168656A; JP2015501876A; KR20140099898A; CA2854976C; TWI582258B; SG11201402191VA; MX2014005722A; DE102011117994A1; WO2013068080A1; TR201902881T4; EP2777061B1; AR088700A1; BR112014011141B1; BR112014011141A2; US9416441B2; US20140305792A1; CN103918054B

Abstract

1. Способ осаждения систем слоев PVD из газовой фазы с помощью напыления по меньшей мере на одну подложку, при этом система слоев содержит по меньшей мере один первый слой, отличающийся тем, что по меньшей мере на одном этапе способа применяют способ HIPIMS с плотностью мощности по меньшей мере 250 Вт/см, при этом используют длину импульсов по меньшей мере с длительностью 5 мс, в то время как к подложке приложено напряжение смещения, так что возникающий во время этого этапа слой имеет морфологию, которая при рассматривании с помощью растрового электронного микроскопа имеет более грубый вид, чем морфология сравнимого слоя, который осажден при длительности импульсов 250 мкс при прочих равных условиях.2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что плотность мощности не превышает 2000 Вт/см.3. Способ по п. 1 или 2, отличающийся тем, что дополнительно по меньшей мере к одному первому слою наносят по меньшей мере один второй слой при более низком по величине напряжении смещения.4. Способ по п. 1 или 2, отличающийся тем, что длительность импульсов изменяют во время способа и за счет этого возникает система слоев со слоями HIPIMS различной морфологии.5 Способ по п. 3, отличающийся тем, что длительность импульсов изменяют во время способа и за счет этого возникает система слоев со слоями HIPIMS различной морфологии.6. Способ по п. 4, отличающийся тем, что длительность импульсов изменяют так, что переход между слоями различной морфологии по меньшей мере один раз является постепенным переходом.7. Способ по п. 5, отличающийся тем, что длительность импульсов изменяют так, что переход между слоями различной морфологии по меньшей мере один раз является постепенным

Claims

1. Способ осаждения систем слоев PVD из газовой фазы с помощью напыления по меньшей мере на одну подложку, при этом система слоев содержит по меньшей мере один первый слой, отличающийся тем, что по меньшей мере на одном этапе способа применяют способ HIPIMS с плотностью мощности по меньшей мере 250 Вт/см², при этом используют длину импульсов по меньшей мере с длительностью 5 мс, в то время как к подложке приложено напряжение смещения, так что возникающий во время этого этапа слой имеет морфологию, которая при рассматривании с помощью растрового электронного микроскопа имеет более грубый вид, чем морфология сравнимого слоя, который осажден при длительности импульсов 250 мкс при прочих равных условиях.

2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что плотность мощности не превышает 2000 Вт/см².

3. Способ по п. 1 или 2, отличающийся тем, что дополнительно по меньшей мере к одному первому слою наносят по меньшей мере один второй слой при более низком по величине напряжении смещения.

4. Способ по п. 1 или 2, отличающийся тем, что длительность импульсов изменяют во время способа и за счет этого возникает система слоев со слоями HIPIMS различной морфологии.

5 Способ по п. 3, отличающийся тем, что длительность импульсов изменяют во время способа и за счет этого возникает система слоев со слоями HIPIMS различной морфологии.

6. Способ по п. 4, отличающийся тем, что длительность импульсов изменяют так, что переход между слоями различной морфологии по меньшей мере один раз является постепенным переходом.

7. Способ по п. 5, отличающийся тем, что длительность импульсов изменяют так, что переход между слоями различной морфологии по меньшей мере один раз является постепенным переходом.