UA88430U - СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ нитридной ПЛЕНКИ - Google Patents

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ нитридной ПЛЕНКИ

Info

Publication number
UA88430U
UA88430U UAU201313293U UAU201313293U UA88430U UA 88430 U UA88430 U UA 88430U UA U201313293 U UAU201313293 U UA U201313293U UA U201313293 U UAU201313293 U UA U201313293U UA 88430 U UA88430 U UA 88430U
Authority
UA
Ukraine
Prior art keywords
target
voltage
titanium
substrate
implantation
Prior art date
Application number
UAU201313293U
Other languages
English (en)
Ukrainian (uk)
Inventor
Наталья Афанасьевна Василенко
Лариса Александровна Васецкая
Original Assignee
Восточноукраинский Национальный Университет Имени Владимира Даля
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Восточноукраинский Национальный Университет Имени Владимира Даля filed Critical Восточноукраинский Национальный Университет Имени Владимира Даля
Priority to UAU201313293U priority Critical patent/UA88430U/ru
Publication of UA88430U publication Critical patent/UA88430U/ru

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Способ получения нитридной пленки заключается в распылении титановой мишени, формировании модифицированного покрытия в результате ионной имплантации в решетку поликристаллической подложки ионизированных атомов титановой мишени и реактивного газа азота, причем в качестве поликристаллической подложки применяют подложку конструкционной подшипниковой стали ШХ15, на которую перед имплантацией подают отрицательный потенциал, включают напряжение на анод и катод, где возникает дуговой разряд, одновременно подают напряжение на мишень путем интенсивной бомбардировки титановой мишени ионами азота и распыления ее материала, причем разогнанные ионы титана, выбитые из мишени, проникают в стальные подложки, защитное модифицированное покрытие получают при ре�
UAU201313293U 2013-11-15 2013-11-15 СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ нитридной ПЛЕНКИ UA88430U (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
UAU201313293U UA88430U (ru) 2013-11-15 2013-11-15 СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ нитридной ПЛЕНКИ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
UAU201313293U UA88430U (ru) 2013-11-15 2013-11-15 СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ нитридной ПЛЕНКИ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
UA88430U true UA88430U (ru) 2014-03-11

Family

ID=52299095

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
UAU201313293U UA88430U (ru) 2013-11-15 2013-11-15 СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ нитридной ПЛЕНКИ

Country Status (1)

Country Link
UA (1) UA88430U (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW201614089A (en) A high power impulse magnetron sputtering process to achieve a high density high SP3 containing layer
AR086193A1 (es) Procedimiento para generar una descarga de plasma e instalacion de magnetrones-fuente de bombardeo ionico
SG10201806990UA (en) Plasma processing method and plasma processing apparatus
WO2015134430A8 (en) Boron-containing dopant compositions, systems and methods of use thereof for improving ion beam current and performance during boron ion implantation
JP2013535074A5 (ru)
ATE535629T1 (de) Gepulstes hochleistungs-magnetronsputterverfahren sowie hochleistungs-elektroenergiequelle
EA201500839A1 (ru) Способ обработки стеклянного материала пучком однозарядных и многозарядных ионов газа для получения антиотражающего стеклянного материала
TW200723338A (en) Method of operating ion source and ion implanting apparatus
RU2015137774A (ru) Устройство для ионной бомбардировки и способ его применения для очистки поверхности подложки
Lee et al. Ar and O2 linear ion beam PET treatments using an anode layer ion source
JP2010065240A (ja) スパッタ装置
EA201892238A1 (ru) Поддающаяся термической обработке противоотражающая стеклянная подложка и способ ее изготовления
WO2010144761A3 (en) Ionized physical vapor deposition for microstructure controlled thin film deposition
MX2013012200A (es) Metodo de pulverizacion catódica por magnetron de impulso de alta potencia que proporciona la ionizacion mejorada de las particulas obtenidas por pulverización catódica y aparato para su implementacion.
RU2008101310A (ru) Способ комбинированной вакуумной ионно-плазменной обработки изделий
Vizir et al. Boron ion beam generation using a self-sputtering planar magnetron
EA201892122A1 (ru) Противоотражающая стеклянная подложка и способ ее изготовления
WO2013055141A3 (ko) 생체용 재료의 표면개질 장치 및 표면개질 방법
UA88430U (ru) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ нитридной ПЛЕНКИ
CN204497191U (zh) 一种带防静电涂层的考夫曼电源
WO2013055523A3 (en) Closed electron drift ion source and methods of using the same
RU2601903C2 (ru) Способ напыления тонкопленочных покрытий на поверхность полупроводниковых гетероэпитаксиальных структур методом магнетронного распыления
UA66847U (ru) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ нитридной ПЛЕНКИ
CN108149213B (zh) 一种提高无机磷酸盐涂层耐腐蚀性能的方法
RU2012105581A (ru) Способ нанесения покрытий электронно-лучевым испарением в вакууме