RU2013123930A - Устройство генерирования электронного луча - Google Patents
Устройство генерирования электронного луча Download PDFInfo
- Publication number
- RU2013123930A RU2013123930A RU2013123930/07A RU2013123930A RU2013123930A RU 2013123930 A RU2013123930 A RU 2013123930A RU 2013123930/07 A RU2013123930/07 A RU 2013123930/07A RU 2013123930 A RU2013123930 A RU 2013123930A RU 2013123930 A RU2013123930 A RU 2013123930A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- cathode
- region
- glow discharge
- electron beam
- discharge plasma
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/075—Electron guns using thermionic emission from cathodes heated by particle bombardment or by irradiation, e.g. by laser
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J3/00—Details of electron-optical or ion-optical arrangements or of ion traps common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J3/02—Electron guns
- H01J3/025—Electron guns using a discharge in a gas or a vapour as electron source
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/077—Electron guns using discharge in gases or vapours as electron sources
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/31—Processing objects on a macro-scale
- H01J2237/3104—Welding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/31—Processing objects on a macro-scale
- H01J2237/3128—Melting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/31—Processing objects on a macro-scale
- H01J2237/3132—Evaporating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
1. Устройство генерирования электронного луча, включающее в себя корпус (12), который ограничивает вакуумируемое пространство (13) и имеет отверстие для выхода электронного луча; впуск (16) для подачи рабочего газа в вакуумируемое пространство (13); плоский катод (14) и анод (15), которые расположены в вакуумируемом пространстве (13) и между которыми посредством прилагаемого электрического напряжения создается плазма тлеющего разряда, при этом ионы из плазмы тлеющего разряда ускоряются на поверхность катода (14), а эмитированные катодом электроны в плазму тлеющего разряда, отличающееся тем, чтоa) первая часть (14a) катода (14), которая образует центрально расположенную первую область поверхности катода (14), по меньшей мере со стороны эмиссии состоит из первого материала;b) вторая часть (14b) катода, которая образует вторую область поверхности катода (14), охватывающую первую область поверхности, состоит из второго материала;c) первый материал является электрически проводящим и обладает работой выхода электронов менее 4 эВ;d) второй материал является электрически проводящим и обладает работой выхода электронов более 4 эВ;e) первый материал при воздействии на него ускоренных ионов может нагреваться до температуры, при которой электроны выходят из первого материала, преимущественно за счет термоэлектронной эмиссии.2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что первая область поверхности выполнена плоской.3. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что первая область поверхности выполнена вогнутой.4. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что вторая область поверхности, охватывающая первую область, выполнена вогнутой.5. Устройство по п. 1, отлича�
Claims (17)
1. Устройство генерирования электронного луча, включающее в себя корпус (12), который ограничивает вакуумируемое пространство (13) и имеет отверстие для выхода электронного луча; впуск (16) для подачи рабочего газа в вакуумируемое пространство (13); плоский катод (14) и анод (15), которые расположены в вакуумируемом пространстве (13) и между которыми посредством прилагаемого электрического напряжения создается плазма тлеющего разряда, при этом ионы из плазмы тлеющего разряда ускоряются на поверхность катода (14), а эмитированные катодом электроны в плазму тлеющего разряда, отличающееся тем, что
a) первая часть (14a) катода (14), которая образует центрально расположенную первую область поверхности катода (14), по меньшей мере со стороны эмиссии состоит из первого материала;
b) вторая часть (14b) катода, которая образует вторую область поверхности катода (14), охватывающую первую область поверхности, состоит из второго материала;
c) первый материал является электрически проводящим и обладает работой выхода электронов менее 4 эВ;
d) второй материал является электрически проводящим и обладает работой выхода электронов более 4 эВ;
e) первый материал при воздействии на него ускоренных ионов может нагреваться до температуры, при которой электроны выходят из первого материала, преимущественно за счет термоэлектронной эмиссии.
2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что первая область поверхности выполнена плоской.
3. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что первая область поверхности выполнена вогнутой.
4. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что вторая область поверхности, охватывающая первую область, выполнена вогнутой.
5. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что первый материал включает в себя борид редкоземельных элементов.
6. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что первая область поверхности образована массивным формованным элементом (14a), состоящим из первого материала.
7. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что первая область поверхности является составной частью составного элемента.
8. Устройство по п. 1,отличающееся тем, что второй материал включает в себя графит.
9. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что второй материал включает в себя металл.
10. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что первая и вторая области поверхности разделены зазором, проходящим вокруг первой области поверхности.
11. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что по меньшей мере первый материал теплоизолирован от охлаждаемых частей устройства задним тепловым барьером.
12. Устройство по п. 11, отличающееся тем, что тепловой барьер включает в себя по меньшей мере один вакуумируемый зазор (44; 54) и/или тепловой изолятор (18; 56).
13. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что рабочий газ
тлеющего разряда представляет собой инертный газ или водород.
14. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что мощность его излучения при постоянном или импульсном напряжении горения регулируется посредством варьирования потока рабочего газа тлеющего разряда.
15. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что имеет корпус (19; 48; 58) электрического изолятора, который имеет отделенные от катодного потенциала каналы (19a) охлаждения и вакуумонепроницаемый ввод (19b) высокого напряжения.
16. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что управление направлением распространения электронного луча (17) в катодной камере (13) осуществляется с помощью поперечного магнитного поля, создаваемого посредством системы (11b) магнитных катушек в области между катодом (14) и анодом (15).
17. Устройство по п. 15, отличающееся тем, что корпус изолятора состоит из полимерного материала (48), из оксидной керамики или из нитрида алюминия (58).
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102010049521.2 | 2010-10-25 | ||
| DE102010049521A DE102010049521B3 (de) | 2010-10-25 | 2010-10-25 | Vorrichtung zum Erzeugen eines Elektronenstrahls |
| PCT/EP2011/004517 WO2012055458A1 (de) | 2010-10-25 | 2011-09-08 | Vorrichtung zum erzeugen eines elektronenstrahls |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2013123930A true RU2013123930A (ru) | 2014-12-10 |
| RU2557078C2 RU2557078C2 (ru) | 2015-07-20 |
Family
ID=44741253
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2013123930/07A RU2557078C2 (ru) | 2010-10-25 | 2011-09-08 | Устройство генерирования электронного луча |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8878422B2 (ru) |
| EP (1) | EP2633543B1 (ru) |
| JP (1) | JP5808417B2 (ru) |
| CN (1) | CN103299390B (ru) |
| DE (1) | DE102010049521B3 (ru) |
| PL (1) | PL2633543T3 (ru) |
| RU (1) | RU2557078C2 (ru) |
| UA (1) | UA109032C2 (ru) |
| WO (1) | WO2012055458A1 (ru) |
Families Citing this family (70)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2231352B1 (en) | 2008-01-03 | 2013-10-16 | Arcam Ab | Method and apparatus for producing three-dimensional objects |
| CN102470439B (zh) | 2009-07-15 | 2016-03-02 | 阿卡姆股份公司 | 制造三维物体的方法和设备 |
| WO2013098054A1 (en) | 2011-12-28 | 2013-07-04 | Arcam Ab | Method and apparatus for detecting defects in freeform fabrication |
| WO2013098135A1 (en) | 2011-12-28 | 2013-07-04 | Arcam Ab | Method and apparatus for manufacturing porous three-dimensional articles |
| US9718129B2 (en) | 2012-12-17 | 2017-08-01 | Arcam Ab | Additive manufacturing method and apparatus |
| US9550207B2 (en) | 2013-04-18 | 2017-01-24 | Arcam Ab | Method and apparatus for additive manufacturing |
| US9676033B2 (en) | 2013-09-20 | 2017-06-13 | Arcam Ab | Method for additive manufacturing |
| DE102013111650B3 (de) * | 2013-10-23 | 2015-02-05 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung zum Erzeugen beschleunigter Elektronen |
| US10434572B2 (en) | 2013-12-19 | 2019-10-08 | Arcam Ab | Method for additive manufacturing |
| DE102013113688B3 (de) * | 2013-12-09 | 2015-05-07 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung zum Beaufschlagen von Schüttgut mit beschleunigten Elektronen |
| US9802253B2 (en) | 2013-12-16 | 2017-10-31 | Arcam Ab | Additive manufacturing of three-dimensional articles |
| US10130993B2 (en) | 2013-12-18 | 2018-11-20 | Arcam Ab | Additive manufacturing of three-dimensional articles |
| US9789563B2 (en) | 2013-12-20 | 2017-10-17 | Arcam Ab | Method for additive manufacturing |
| US9789541B2 (en) | 2014-03-07 | 2017-10-17 | Arcam Ab | Method for additive manufacturing of three-dimensional articles |
| US20150283613A1 (en) | 2014-04-02 | 2015-10-08 | Arcam Ab | Method for fusing a workpiece |
| JP6169043B2 (ja) * | 2014-05-26 | 2017-07-26 | 住友重機械イオンテクノロジー株式会社 | イオン発生装置および熱電子放出部 |
| US9865423B2 (en) * | 2014-07-30 | 2018-01-09 | General Electric Company | X-ray tube cathode with shaped emitter |
| US9310188B2 (en) | 2014-08-20 | 2016-04-12 | Arcam Ab | Energy beam deflection speed verification |
| US20160052056A1 (en) * | 2014-08-22 | 2016-02-25 | Arcam Ab | Enhanced electron beam generation |
| US10014146B2 (en) | 2014-09-05 | 2018-07-03 | Korea Institute Of Industrial Technology | Electron beam emission device |
| KR101634535B1 (ko) * | 2014-09-05 | 2016-07-11 | 한국생산기술연구원 | 반사전자 차단구조체가 구비된 전자빔 방출장치 |
| KR101626516B1 (ko) * | 2014-09-05 | 2016-06-02 | 한국생산기술연구원 | 컨케이브 캐소드 및 홀더가 구비되는 전자빔 방출장치 |
| US20160167303A1 (en) | 2014-12-15 | 2016-06-16 | Arcam Ab | Slicing method |
| CN104538273B (zh) * | 2014-12-19 | 2016-07-27 | 中国航空工业集团公司北京航空制造工程研究所 | 高电压冷阴极气体放电电子枪的电源装置及其控制方法 |
| CN104635617B (zh) * | 2014-12-19 | 2017-03-15 | 中国航空工业集团公司北京航空制造工程研究所 | 冷阴极电子枪电磁控制系统及其控制方法 |
| US9406483B1 (en) | 2015-01-21 | 2016-08-02 | Arcam Ab | Method and device for characterizing an electron beam using an X-ray detector with a patterned aperture resolver and patterned aperture modulator |
| DE202015101690U1 (de) | 2015-02-20 | 2016-05-23 | Perndorfer Maschinenbau Kg | Vorrichtung zur Erzeugung eines Elektronenstrahls |
| DE102015105193A1 (de) | 2015-02-20 | 2016-09-08 | Perndorfer Maschinenbau Kg | Vorrichtung zur Erzeugung eines Elektronenstrahls |
| US11014161B2 (en) | 2015-04-21 | 2021-05-25 | Arcam Ab | Method for additive manufacturing |
| US10807187B2 (en) | 2015-09-24 | 2020-10-20 | Arcam Ab | X-ray calibration standard object |
| US11571748B2 (en) | 2015-10-15 | 2023-02-07 | Arcam Ab | Method and apparatus for producing a three-dimensional article |
| US10525531B2 (en) | 2015-11-17 | 2020-01-07 | Arcam Ab | Additive manufacturing of three-dimensional articles |
| US10610930B2 (en) | 2015-11-18 | 2020-04-07 | Arcam Ab | Additive manufacturing of three-dimensional articles |
| US10147581B2 (en) * | 2016-01-26 | 2018-12-04 | Electronics And Telecommunications Research Institute | X-ray tube including hybrid electron emission source |
| US11247274B2 (en) | 2016-03-11 | 2022-02-15 | Arcam Ab | Method and apparatus for forming a three-dimensional article |
| US10549348B2 (en) | 2016-05-24 | 2020-02-04 | Arcam Ab | Method for additive manufacturing |
| US11325191B2 (en) | 2016-05-24 | 2022-05-10 | Arcam Ab | Method for additive manufacturing |
| US10525547B2 (en) | 2016-06-01 | 2020-01-07 | Arcam Ab | Additive manufacturing of three-dimensional articles |
| JP6938498B2 (ja) * | 2016-07-19 | 2021-09-22 | デンカ株式会社 | 電子源およびその製造方法 |
| UA113827C2 (xx) * | 2016-09-07 | 2017-03-10 | Аксіальна електронна гармата | |
| LV15213B (lv) * | 2016-10-21 | 2017-04-20 | Kepp Eu, Sia | Gāzizlādes elektronu lielgabals |
| US10792757B2 (en) | 2016-10-25 | 2020-10-06 | Arcam Ab | Method and apparatus for additive manufacturing |
| RU2650101C1 (ru) * | 2016-12-14 | 2018-04-09 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники" (ТУСУР) | Способ генерации и вывода электронного пучка в область высокого давления газа, до атмосферного |
| US10987752B2 (en) | 2016-12-21 | 2021-04-27 | Arcam Ab | Additive manufacturing of three-dimensional articles |
| CN107068528B (zh) * | 2016-12-28 | 2018-08-24 | 中国电子科技集团公司第十八研究所 | 电子束聚焦线圈在焊接真空室内的电子枪保护装置 |
| US10049864B2 (en) * | 2017-01-12 | 2018-08-14 | Upendra D Desai | Metallic glow discharge diode and triode devices with large cold cathode as efficient charger generator—a power cell |
| DE102017104509A1 (de) * | 2017-03-03 | 2018-09-06 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung zum Erzeugen beschleunigter Elektronen |
| US11059123B2 (en) | 2017-04-28 | 2021-07-13 | Arcam Ab | Additive manufacturing of three-dimensional articles |
| US11292062B2 (en) | 2017-05-30 | 2022-04-05 | Arcam Ab | Method and device for producing three-dimensional objects |
| US11185926B2 (en) | 2017-09-29 | 2021-11-30 | Arcam Ab | Method and apparatus for additive manufacturing |
| US10529070B2 (en) | 2017-11-10 | 2020-01-07 | Arcam Ab | Method and apparatus for detecting electron beam source filament wear |
| US11072117B2 (en) | 2017-11-27 | 2021-07-27 | Arcam Ab | Platform device |
| US10821721B2 (en) | 2017-11-27 | 2020-11-03 | Arcam Ab | Method for analysing a build layer |
| US11517975B2 (en) | 2017-12-22 | 2022-12-06 | Arcam Ab | Enhanced electron beam generation |
| US11267051B2 (en) | 2018-02-27 | 2022-03-08 | Arcam Ab | Build tank for an additive manufacturing apparatus |
| US10800101B2 (en) | 2018-02-27 | 2020-10-13 | Arcam Ab | Compact build tank for an additive manufacturing apparatus |
| US11400519B2 (en) | 2018-03-29 | 2022-08-02 | Arcam Ab | Method and device for distributing powder material |
| CN110400731A (zh) * | 2018-04-24 | 2019-11-01 | 大连纳晶科技有限公司 | 空心阴极旁热式六硼化镧电子束枪 |
| RU2709793C1 (ru) * | 2018-07-09 | 2019-12-20 | Публичное акционерное общество "Электромеханика" | Электронно-лучевая пушка с повышенным ресурсом эксплуатации |
| US10566168B1 (en) * | 2018-08-10 | 2020-02-18 | John Bennett | Low voltage electron transparent pellicle |
| CN110556279A (zh) * | 2019-08-13 | 2019-12-10 | 河南河大科技发展有限公司 | 一种阴极电子枪灯丝装置 |
| WO2021052600A1 (de) * | 2019-09-20 | 2021-03-25 | Inficon ag | Vakuumdichte elektrische durchführung |
| EP4078649A2 (en) * | 2019-12-17 | 2022-10-26 | Titanium Metals Corporation | Modular gun assembly for melt furnaces |
| CN111120234B (zh) * | 2019-12-19 | 2021-02-23 | 上海航天控制技术研究所 | 一种用于电推力器的石墨高温阴极装置 |
| US11380511B2 (en) * | 2020-03-24 | 2022-07-05 | Fei Company | Charged particle beam source |
| TWI805180B (zh) * | 2021-01-21 | 2023-06-11 | 日商紐富來科技股份有限公司 | 電子線描繪裝置及陰極壽命預測方法 |
| GB202102555D0 (en) * | 2021-02-23 | 2021-04-07 | Twi Ltd | An electron gun cathode mount |
| RU2758498C1 (ru) * | 2021-04-18 | 2021-10-29 | Общество с ограниченной ответственностью «КАТОД» | Микроканальная пластина |
| RU2766565C1 (ru) * | 2021-05-25 | 2022-03-15 | Акционерное Общество "Наука И Инновации" | Катодный узел с профилированным тепловым зазором для мощной электронно-лучевой пушки |
| CN113357109B (zh) * | 2021-06-30 | 2022-07-15 | 哈尔滨工业大学 | 一种射频离子推力器点火装置 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3312856A (en) | 1963-03-26 | 1967-04-04 | Gen Electric | Rhenium supported metallic boride cathode emitters |
| US3430091A (en) | 1965-11-17 | 1969-02-25 | United Aircraft Corp | Contoured glow discharge cathode producing focused electron beams |
| GB1209026A (en) * | 1966-10-26 | 1970-10-14 | Atomic Energy Authority Uk | Improvements in or relating to cold cathode, glow discharge device |
| NL160114C (nl) | 1974-05-27 | 1979-09-17 | Philips Nv | Gasontladingselektronenkanon van het holle anodetype voor het opwekken van een elektronenbundel met behulp van een glimontlading. |
| DE2741363A1 (de) * | 1977-09-12 | 1979-03-22 | Battelle Memorial Institute | Elektronenkanone zur erzeugung lumineszierender entladung sowie ein katodenelement fuer eine derartige elektronenkanone |
| JPS5698827A (en) * | 1979-01-04 | 1981-08-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Electron beam exposure device |
| SU813536A1 (ru) | 1979-01-16 | 1981-03-15 | Винницкий Политехнический Инсти-Тут | Газоразр дный источник электро-HOB |
| US4707637A (en) * | 1986-03-24 | 1987-11-17 | Hughes Aircraft Company | Plasma-anode electron gun |
| JPH0451438A (ja) * | 1990-06-18 | 1992-02-19 | Fujitsu Ltd | 電子ビーム露光装置及び露光方法 |
| JPH07302565A (ja) * | 1994-05-06 | 1995-11-14 | Toshiba Corp | プラズマ式電子銃 |
| JP2001195994A (ja) * | 2000-01-07 | 2001-07-19 | Riken Corp | プラズマ発生装置及び皮膜形成方法 |
| US6863531B2 (en) * | 2001-06-28 | 2005-03-08 | Itac Ltd. | Surface modification process on metal dentures, products produced thereby, and the incorporated system thereof |
| JP2004259478A (ja) * | 2003-02-24 | 2004-09-16 | Nikon Corp | 電子銃及び電子線露光装置 |
| JP4113032B2 (ja) * | 2003-04-21 | 2008-07-02 | キヤノン株式会社 | 電子銃及び電子ビーム露光装置 |
| US7728498B2 (en) * | 2006-03-25 | 2010-06-01 | Kaufman & Robinson, Inc. | Industrial hollow cathode |
-
2010
- 2010-10-25 DE DE102010049521A patent/DE102010049521B3/de not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-08-09 UA UAA201306491A patent/UA109032C2/en unknown
- 2011-09-08 EP EP11764469.0A patent/EP2633543B1/de active Active
- 2011-09-08 JP JP2013535286A patent/JP5808417B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-09-08 RU RU2013123930/07A patent/RU2557078C2/ru active
- 2011-09-08 US US13/821,887 patent/US8878422B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-09-08 PL PL11764469T patent/PL2633543T3/pl unknown
- 2011-09-08 WO PCT/EP2011/004517 patent/WO2012055458A1/de active Application Filing
- 2011-09-08 CN CN201180051544.5A patent/CN103299390B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2557078C2 (ru) | 2015-07-20 |
| WO2012055458A1 (de) | 2012-05-03 |
| UA109032C2 (en) | 2015-07-10 |
| EP2633543B1 (de) | 2015-03-18 |
| JP2013541167A (ja) | 2013-11-07 |
| CN103299390A (zh) | 2013-09-11 |
| US8878422B2 (en) | 2014-11-04 |
| EP2633543A1 (de) | 2013-09-04 |
| JP5808417B2 (ja) | 2015-11-10 |
| PL2633543T3 (pl) | 2015-08-31 |
| CN103299390B (zh) | 2016-04-20 |
| US20130162134A1 (en) | 2013-06-27 |
| DE102010049521B3 (de) | 2012-04-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2013123930A (ru) | Устройство генерирования электронного луча | |
| TWI518733B (zh) | 離子源、離子植入系統與產生多個電荷離子於離子源內的方法 | |
| WO2008010882A2 (en) | Ion source with recess in electrode | |
| US8796649B2 (en) | Ion implanter | |
| Liu et al. | Status of CSNS H− ion source | |
| TW201515043A (zh) | 離子源及其操作方法 | |
| KR20090005203A (ko) | 이온 소스를 위한 전방 플레이트 | |
| WO2021050206A1 (en) | Thermally isolated repeller and electrodes | |
| Kazakov et al. | Generation of millisecond low-energy large-radius electron beam by a forevacuum plasma-cathode source | |
| JP2019507467A (ja) | セラミックのイオン源チャンバ | |
| JPS60170141A (ja) | イオン源装置 | |
| US10529532B2 (en) | Ion source and ion implantation apparatus | |
| Lynn et al. | Light emission from CsI-coated carbon velvet cathodes under varied conditions | |
| RU2299489C1 (ru) | Ионный источник с холодным катодом | |
| US10910192B2 (en) | Ion source, ion implantation apparatus, and ion source operating method | |
| Sidorov et al. | Generation of a high-current beam of multiply charged ions from a dense plasma produced by high-power millimeter-wave gyrotron radiation under ECR conditions | |
| JP6595734B1 (ja) | イオン注入装置、イオン源 | |
| JP3140636B2 (ja) | プラズマ発生装置 | |
| RU2240627C1 (ru) | Ионный источник с холодным катодом | |
| JP5321234B2 (ja) | イオン源 | |
| RU159300U1 (ru) | Электронный источник с плазменным эмиттером | |
| Zhirkov et al. | Discharge initiation in a hollow-cathode plasma source of electrons | |
| JP2020173984A (ja) | イオン源及びイオン注入装置並びにマグネシウムイオン生成方法 | |
| JP6637285B2 (ja) | 放電を発生させるための装置及び方法 | |
| Abdrashitov et al. | Emission properties of inductively driven negative ion source for NBI |