RU2013118110A - Эксимерный источник света - Google Patents
Эксимерный источник света Download PDFInfo
- Publication number
- RU2013118110A RU2013118110A RU2013118110/05A RU2013118110A RU2013118110A RU 2013118110 A RU2013118110 A RU 2013118110A RU 2013118110/05 A RU2013118110/05 A RU 2013118110/05A RU 2013118110 A RU2013118110 A RU 2013118110A RU 2013118110 A RU2013118110 A RU 2013118110A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- gas
- excimer
- lamp according
- ultraviolet
- excimer lamp
- Prior art date
Links
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract 38
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract 7
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract 6
- JWNBYUSSORDWOT-UHFFFAOYSA-N [Kr]Cl Chemical compound [Kr]Cl JWNBYUSSORDWOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 5
- VZPPHXVFMVZRTE-UHFFFAOYSA-N [Kr]F Chemical compound [Kr]F VZPPHXVFMVZRTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 5
- ISQINHMJILFLAQ-UHFFFAOYSA-N argon hydrofluoride Chemical compound F.[Ar] ISQINHMJILFLAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 claims abstract 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims abstract 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 claims abstract 2
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 13
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 229910016036 BaF 2 Inorganic materials 0.000 claims 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L barium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ba+2] OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- 229910001632 barium fluoride Inorganic materials 0.000 claims 2
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims 2
- 239000010431 corundum Substances 0.000 claims 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims 2
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 claims 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 claims 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/04—Electrodes; Screens; Shields
- H01J61/06—Main electrodes
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/06—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption
- G01N23/12—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption the material being a flowing fluid or a flowing granular solid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
- C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K5/00—Irradiation devices
- G21K5/08—Holders for targets or for other objects to be irradiated
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/04—Electrodes; Screens; Shields
- H01J61/06—Main electrodes
- H01J61/067—Main electrodes for low-pressure discharge lamps
- H01J61/0675—Main electrodes for low-pressure discharge lamps characterised by the material of the electrode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/04—Electrodes; Screens; Shields
- H01J61/06—Main electrodes
- H01J61/073—Main electrodes for high-pressure discharge lamps
- H01J61/0735—Main electrodes for high-pressure discharge lamps characterised by the material of the electrode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/12—Selection of substances for gas fillings; Specified operating pressure or temperature
- H01J61/16—Selection of substances for gas fillings; Specified operating pressure or temperature having helium, argon, neon, krypton, or xenon as the principle constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
- H01J65/042—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
- H01J65/046—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field the field being produced by using capacitive means around the vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B41/00—Circuit arrangements or apparatus for igniting or operating discharge lamps
- H05B41/14—Circuit arrangements
- H05B41/24—Circuit arrangements in which the lamp is fed by high frequency ac, or with separate oscillator frequency
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B41/00—Circuit arrangements or apparatus for igniting or operating discharge lamps
- H05B41/14—Circuit arrangements
- H05B41/30—Circuit arrangements in which the lamp is fed by pulses, e.g. flash lamp
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
- C02F2101/30—Organic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/322—Lamp arrangement
- C02F2201/3227—Units with two or more lamps
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Discharge Lamp (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Vessels And Coating Films For Discharge Lamps (AREA)
Abstract
1. Ультрафиолетовая эксимерная лампа, содержащая:оболочку,эксимерный газ,по меньшей мере один первый удлиненный электрод, проходящий вдоль продольного участка оболочки, ипо меньшей мере один второй удлиненный электрод, проходящий вдоль продольного участка оболочки и, по существу, параллельный указанному по меньшей мере одному первому удлиненному электроду.2. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.1, дополнительно содержащая основание, к которому прикреплены по меньшей мере один первый и один второй удлиненные электроды.3. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.2, в которой основание отражает или пропускает ультрафиолетовое излучение.4. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.2, в которой оболочка и основание выполнены как единая деталь из материала.5. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.1, в которой эксимерным газом служит благородный газ, галоген или их смесь.6. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.5, в которой эксимерным газом служит инертный газ, выбранный из аргона, криптона и ксенона, смешанный с галогеном, выбранным из хлора, брома, фтора и йода.7. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.6, в которой эксимерным газом служит фторид криптона.8. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.6, в которой эксимерным газом служит хлорид криптона.9. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.6, в которой эксимерным газом служит фторид аргона.10. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.1, в которой по меньшей мере один из первых и вторых удлиненных электродов изолирован.11. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.1, дополнительно содержащая источник напряжения, подсоединенный параллельно указанным первому и второму удлиненным э�
Claims (59)
1. Ультрафиолетовая эксимерная лампа, содержащая:
оболочку,
эксимерный газ,
по меньшей мере один первый удлиненный электрод, проходящий вдоль продольного участка оболочки, и
по меньшей мере один второй удлиненный электрод, проходящий вдоль продольного участка оболочки и, по существу, параллельный указанному по меньшей мере одному первому удлиненному электроду.
2. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.1, дополнительно содержащая основание, к которому прикреплены по меньшей мере один первый и один второй удлиненные электроды.
3. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.2, в которой основание отражает или пропускает ультрафиолетовое излучение.
4. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.2, в которой оболочка и основание выполнены как единая деталь из материала.
5. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.1, в которой эксимерным газом служит благородный газ, галоген или их смесь.
6. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.5, в которой эксимерным газом служит инертный газ, выбранный из аргона, криптона и ксенона, смешанный с галогеном, выбранным из хлора, брома, фтора и йода.
7. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.6, в которой эксимерным газом служит фторид криптона.
8. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.6, в которой эксимерным газом служит хлорид криптона.
9. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.6, в которой эксимерным газом служит фторид аргона.
10. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.1, в которой по меньшей мере один из первых и вторых удлиненных электродов изолирован.
11. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.1, дополнительно содержащая источник напряжения, подсоединенный параллельно указанным первому и второму удлиненным электродам.
12. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.11, в которой источником напряжения служит импульсный источник напряжения.
13. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.12, в которой частота импульса составляет приблизительно от 20 кГц до приблизительно 300 ГГц.
14. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.11, в которой источник напряжения выполнен в виде источника напряжения переменного тока.
15. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.14, в которой частота напряжения переменного тока составляет приблизительно от 20 кГц до приблизительно до 300 ГГц.
16. Система для обработки текучей среды, содержащая
камеру обработки, соединенную с впускным отверстием для текучей среды и выпускным отверстием для текучей среды, и
по меньшей мере один эксимерный газоразрядный источник света, в которой
источник света выполнен с возможностью воздействия излучением на текучую среду, проходящую через камеру обработки, причем
каждый источник света содержит
оболочку,
эксимерный газ,
по меньшей мере один первый удлиненный электрод, проходящий вдоль длины оболочки, и
по меньшей мере один второй удлиненный электрод, проходящий вдоль длины оболочки и по существу параллельный указанному по меньшей мере одному первому удлиненному электроду.
17. Система по п.16, в которой указанная камера обработки окружает оболочку.
18. Система по п.17, в которой камера обработки содержит рукав, изолирующий текучую среду от контакта с оболочкой.
19. Система по п.16, в которой эксимерным газом служит благородный газ, галоген или их смесь.
20. Система по п.19, в которой эксимерным газом служит фторид аргона.
21. Система по п.19, в которой эксимерным газом служит фторид криптона.
22. Система по п.19, в которой эксимерным газом служит хлорид криптона.
23. Способ очистки текучих сред от загрязнений, включающий
генерацию света с использованием эксимерного газоразрядного источника света, имеющего длину волны в диапазоне от 100 нм до 400 нм, и
освещение текущей среды указанным светом,
в котором
эксимерный газоразрядный источник света, используемый для генерации света, содержит:
оболочку,
эксимерный газ,
по меньшей мере один первый удлиненный электрод, проходящий вдоль длины оболочки, и
по меньшей мере один второй удлиненный электрод, проходящий вдоль длины оболочки и, по существу, параллельный указанному по меньшей мере одному первому удлиненному электроду.
24. Способ по п.23, в котором газоразрядный источник света генерирует свет, главным образом имеющий длину волны приблизительно между 170 нм и 310 нм.
25. Способ по п.24, в котором газоразрядный источник света генерирует свет, главным образом имеющий длину волны, приблизительно равную 193 нм.
26. Способ по п.24, в котором газоразрядный источник света генерирует свет, главным образом имеющий длину волны, приблизительно равную 222 нм.
27. Способ по п.24, в котором газоразрядный источник света генерирует свет, главным образом имеющий длину волны, приблизительно равную 248 нм.
28. Способ по п.23, в котором текучая среда состоит, по существу, из воды.
29. Ультрафиолетовая эксимерная лампа, содержащая
по меньшей мере два электрода и
несколько герметизированных трубок, причем
по меньшей мере некоторые из них содержат внутри эксимерный газ, и
указанные несколько трубок размещены по меньшей мере частично между указанными по меньшей мере двумя электродами.
30. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.29, в которой эксимерным газом служит благородный газ, галоген или их смесь.
31. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.30, в которой эксимерным газом служит фторид аргона.
32. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.30, в которой эксимерным газом служит фторид криптона.
33. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.30, в которой эксимерным газом служит хлорид криптона.
34. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.29, в которой по меньшей мере один из по меньшей мере двух электродов изолирован.
35. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.1, дополнительно содержащая источник напряжения, подсоединенный параллельно указанным по меньшей мере двум электродам.
36. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.35, в которой источником напряжения является импульсный источник напряжения.
37. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.36, в которой частота импульса составляет приблизительно от 20 кГц до приблизительно 300 ГГц.
38. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.35, в которой источником напряжения является источник напряжения переменного тока.
39. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.38, в которой частота напряжения переменного тока составляет приблизительно от 20 кГц до приблизительно до 300 ГГц.
40. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.29, в которой герметизированные трубки выполнены из кварца.
41. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.29, в которой герметизированные трубки имеют покрытие на своей внутренней поверхности.
42. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.41, в которой покрытие выполнено из одного материала или нескольких материалов, выбранных из группы: фтористый магний (MgF2), фтористый кальций (CaF2), фтористый барий (BaF2), фтористый литий (LiF), политетрафторэтилен, двуокись титана (TiO2) и корунд/сапфир (Al2O3).
43. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.29, в которой герметизированные трубки выполнены из одного материала или нескольких материалов, выбранных из группы: фтористый магний (MgF2), фтористый кальций (CaF2), фтористый барий (BaF2), фтористый литий (LiF), политетрафторэтилен; двуокись титана (TiO2) и корунд/сапфир (Al2O3).
44. Ультрафиолетовая эксимерная лампа по п.29, в которой герметизированные трубки содержат, по существу, только газ.
45. Система для обработки текучей среды, содержащая
камеру обработки, соединенную с впускным отверстием для текучей среды и выпускным отверстием для текучей среды, и
по меньшей мере один эксимерный газоразрядный источник света, в которой
источник света выполнен с возможностью воздействия излучением на текучую среду, проходящую через камеру обработки, а
по меньшей мере один эксимерный газоразрядный источник света содержит
по меньшей мере два электрода и
несколько герметизированных трубок, причем
по меньшей мере некоторые из которых содержат внутри эксимерный газ, и
указанные несколько герметизированных трубок размещены по меньшей мере частично между указанными по меньшей мере двумя электродами.
46. Система по п.45, в которой указанная камера обработки окружает оболочку.
47. Система по п.46, в которой камера обработки содержит рукав, изолирующий текучую среду от контакта с источником света.
48. Система по п.45, в которой эксимерным газом служит инертный газ, галоген или их смесь.
49. Система по п.48, в которой эксимерным газом служит фторид аргона.
50. Система по п.48, в которой эксимерным газом служит фторид криптона.
51. Система по п.48, в которой
эксимерным газом служит хлорид криптона.
52. Система по п.45, в которой герметизированные трубки содержат, по существу, только газ.
53. Способ очистки текучих сред от загрязнений, включающий
генерацию света с использованием эксимерного газоразрядного источника света, имеющего длину волны в диапазоне от 100 нм до 400 нм, и
освещение текущей среды указанным светом,
в котором
эксимерный газоразрядный источник света, используемый для генераций света, содержит:
по меньшей мере два электрода и
несколько герметизированных трубок, причем
по меньшей мере некоторые из них содержат внутри эксимерный газ, и
указанные несколько герметизированных трубок размещены по меньшей мере частично между по меньшей мере двумя электродами.
54. Способ по п.53, в котором газоразрядный источник света генерирует свет, главным образом имеющий длину волны приблизительно между 170 нм и 310 нм.
55. Способ по п.54, в котором газоразрядный источник света генерирует свет, главным образом имеющий длину волны, приблизительно равную 193 нм.
56. Способ по п.54, в котором газоразрядный источник света генерирует свет, главным образом имеющий длину волны, приблизительно равную 222 нм.
57. Способ по п.54, в котором газоразрядный источник света генерирует свет, главным образом имеющий длину волны, приблизительно равную 248 нм.
58. Способ по п.53, в котором текучая среда состоит, по существу, из воды.
59. Способ по п.53, в котором герметизированные трубки содержат, по существу, только газ.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US38785610P | 2010-09-29 | 2010-09-29 | |
| US61/387,856 | 2010-09-29 | ||
| PCT/US2011/053751 WO2012050916A2 (en) | 2010-09-29 | 2011-09-28 | Excimer light source |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2013118110A true RU2013118110A (ru) | 2014-11-10 |
| RU2592538C2 RU2592538C2 (ru) | 2016-07-20 |
Family
ID=45938874
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2013118110/05A RU2592538C2 (ru) | 2010-09-29 | 2011-09-28 | Эксимерный источник света |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US8946662B2 (ru) |
| EP (1) | EP2622623A4 (ru) |
| JP (1) | JP6096118B2 (ru) |
| KR (1) | KR102106293B1 (ru) |
| CN (2) | CN103415338B (ru) |
| AU (2) | AU2011314069B2 (ru) |
| CA (2) | CA2812947C (ru) |
| MX (1) | MX2013003437A (ru) |
| RU (1) | RU2592538C2 (ru) |
| WO (1) | WO2012050916A2 (ru) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102012017779A1 (de) * | 2012-09-07 | 2014-03-13 | Karlsruher Institut für Technologie | Dielektrisch behinderte Entladungs-Lampe |
| CN103227098A (zh) * | 2013-05-15 | 2013-07-31 | 王颂 | 282nm、222nm无极准分子灯 |
| WO2016125708A1 (ja) * | 2015-02-03 | 2016-08-11 | 合同会社紫光技研 | ガス放電装置とそれを使用した平面光源およびそれらの駆動方法 |
| CN205191526U (zh) * | 2015-11-06 | 2016-04-27 | 东莞莹辉灯饰有限公司 | Led净化节能灯 |
| US11614407B2 (en) | 2020-04-20 | 2023-03-28 | Denovo Lighting, Llc | Devices for instant detection and disinfection of aerosol droplet particles using UV light sources |
| US11786622B2 (en) | 2020-05-08 | 2023-10-17 | Ultra-Violet Solutions, Llc | Far UV-C light apparatus |
| WO2022116366A1 (zh) * | 2020-12-04 | 2022-06-09 | 广明源光科技股份有限公司 | 准分子灯 |
| CN113270309A (zh) * | 2021-06-21 | 2021-08-17 | 深圳市大博实业有限公司 | 一种uv准分子灯 |
Family Cites Families (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3927342A (en) * | 1969-04-28 | 1975-12-16 | Owens Illinois Inc | Capillary tube gas discharge device |
| EP0402417A1 (de) * | 1988-04-25 | 1990-12-19 | Siemens Aktiengesellschaft | Einrichtung zur vorionisierung an entladungsgepumpten gaslasern, insbesondere zur röntgen-vorionisierung |
| JPH04303549A (ja) * | 1991-03-30 | 1992-10-27 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 高周波点灯式放電ランプ |
| JP3291809B2 (ja) * | 1993-01-20 | 2002-06-17 | ウシオ電機株式会社 | 誘電体バリヤ放電ランプを使用した処理方法 |
| JPH09259834A (ja) * | 1996-03-26 | 1997-10-03 | Toshiba Corp | 真空紫外光源 |
| JPH1021880A (ja) * | 1996-07-08 | 1998-01-23 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 放電ランプ、照射装置、殺菌装置および水処理装置 |
| RU2120152C1 (ru) * | 1996-12-16 | 1998-10-10 | Общество с ограниченной ответственностью "Микроэлектронные системы" - ООО "МИКС" | Газоразрядная лампа |
| US7006546B2 (en) * | 2000-03-15 | 2006-02-28 | Komatsu Ltd. | Gas laser electrode, laser chamber employing the electrode, and gas laser device |
| CA2466953A1 (en) | 2001-11-14 | 2003-08-14 | Blacklight Power, Inc. | Hydrogen power, plasma, and reactor for lasing, and power conversion |
| CN2592631Y (zh) * | 2002-08-28 | 2003-12-17 | 中国科学院等离子体物理研究所 | 准分子紫外光源 |
| JP4583306B2 (ja) | 2002-10-10 | 2010-11-17 | 関西ペイント株式会社 | 半導体膜、光触媒及び光電極の製造方法 |
| DE60333792D1 (de) | 2003-01-02 | 2010-09-23 | Ultraviolet Sciences Inc | Mikro-entladungsvorrichtungen und anwendungen |
| GB2399216B (en) * | 2003-03-06 | 2007-05-09 | Quay Technologies Ltd | Ultraviolet light source |
| JP4013923B2 (ja) * | 2003-09-04 | 2007-11-28 | ウシオ電機株式会社 | エキシマランプ |
| WO2005098903A1 (ja) * | 2004-04-08 | 2005-10-20 | Sen Engineering Co., Ltd. | 誘電体バリア放電エキシマ光源 |
| JP2006302720A (ja) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Ｈｏｙａ Ｃａｎｄｅｏ Ｏｐｔｒｏｎｉｃｓ株式会社 | エキシマランプ |
| EP1873810A1 (en) * | 2005-04-22 | 2008-01-02 | Hoya Candeo Optronics Corporation | Excimer lamp |
| JP2005317555A (ja) * | 2005-07-12 | 2005-11-10 | Quark Systems Co Ltd | エキシマランプ及びエキシマ照射装置 |
| JP2007088116A (ja) * | 2005-09-21 | 2007-04-05 | Harison Toshiba Lighting Corp | 紫外光照射装置および光洗浄装置 |
| CN101489939B (zh) * | 2006-07-13 | 2011-11-16 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 包括辐射源模块和冷却装置的流体处理系统 |
| JP4424394B2 (ja) * | 2007-08-31 | 2010-03-03 | ウシオ電機株式会社 | エキシマランプ |
| WO2009139908A1 (en) * | 2008-05-15 | 2009-11-19 | Rutgers, The State University | Fluorescent excimer lamps |
| JP2010056008A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Ehime Univ | 無水銀殺菌ランプおよび殺菌装置 |
| EP2499677B1 (en) * | 2009-11-10 | 2022-03-30 | Immunolight, LLC | Up coversion system for production of light for treatment of a cell proliferation related disorder |
-
2011
- 2011-09-28 CA CA2812947A patent/CA2812947C/en active Active
- 2011-09-28 KR KR1020137010922A patent/KR102106293B1/ko active IP Right Grant
- 2011-09-28 RU RU2013118110/05A patent/RU2592538C2/ru active
- 2011-09-28 AU AU2011314069A patent/AU2011314069B2/en active Active
- 2011-09-28 EP EP11833068.7A patent/EP2622623A4/en not_active Ceased
- 2011-09-28 CN CN201180051962.4A patent/CN103415338B/zh active Active
- 2011-09-28 CN CN201910748148.6A patent/CN110459460B/zh active Active
- 2011-09-28 US US13/822,575 patent/US8946662B2/en active Active
- 2011-09-28 MX MX2013003437A patent/MX2013003437A/es active IP Right Grant
- 2011-09-28 CA CA3123418A patent/CA3123418C/en active Active
- 2011-09-28 JP JP2013531778A patent/JP6096118B2/ja active Active
- 2011-09-28 WO PCT/US2011/053751 patent/WO2012050916A2/en active Application Filing
-
2015
- 2015-01-30 US US14/609,757 patent/US9865448B2/en active Active
- 2015-07-27 AU AU2015206251A patent/AU2015206251B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20140038340A (ko) | 2014-03-28 |
| WO2012050916A3 (en) | 2012-07-19 |
| CN103415338B (zh) | 2019-09-10 |
| CN110459460B (zh) | 2023-03-21 |
| US20130175454A1 (en) | 2013-07-11 |
| US20150136999A1 (en) | 2015-05-21 |
| AU2011314069B2 (en) | 2015-04-30 |
| MX2013003437A (es) | 2014-02-27 |
| WO2012050916A2 (en) | 2012-04-19 |
| EP2622623A4 (en) | 2016-08-31 |
| CA3123418A1 (en) | 2012-04-19 |
| AU2015206251B2 (en) | 2017-03-02 |
| CA2812947A1 (en) | 2012-04-19 |
| EP2622623A2 (en) | 2013-08-07 |
| KR102106293B1 (ko) | 2020-06-02 |
| US9865448B2 (en) | 2018-01-09 |
| JP2013541816A (ja) | 2013-11-14 |
| CN103415338A (zh) | 2013-11-27 |
| AU2015206251A1 (en) | 2015-08-20 |
| AU2011314069A1 (en) | 2013-05-02 |
| CA3123418C (en) | 2023-10-10 |
| JP6096118B2 (ja) | 2017-03-15 |
| US8946662B2 (en) | 2015-02-03 |
| RU2592538C2 (ru) | 2016-07-20 |
| CN110459460A (zh) | 2019-11-15 |
| CA2812947C (en) | 2021-06-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2013118110A (ru) | Эксимерный источник света | |
| CN110167605B (zh) | 紫外线杀菌装置 | |
| JP2013541816A5 (ru) | ||
| JP2002093377A (ja) | 誘電体バリア放電ランプ装置 | |
| JP2008146906A (ja) | 紫外線発生装置 | |
| RU2211051C2 (ru) | Устройство для комбинированной бактерицидной обработки | |
| JP2008052916A (ja) | 紫外線照射装置 | |
| JP3189447B2 (ja) | 放電ランプ装置 | |
| RU2746384C1 (ru) | Бактерицидный облучатель | |
| JP2010123276A (ja) | 放電ランプ | |
| RU59324U1 (ru) | Источник излучения | |
| JP4475171B2 (ja) | フラッシュランプ | |
| TW201112305A (en) | Dielectric barrier discharge lamp with discharge spaces | |
| JP2016081695A (ja) | エキシマ放電ランプ | |
| RU42694U1 (ru) | Источник спонтанного вакуумного ультрафиолетового излучения | |
| RU2200356C2 (ru) | Рабочая среда лампы высокочастотного емкостного разряда | |
| JP2003338265A (ja) | フラッシュランプ | |
| SU660123A1 (ru) | Газоразр дный источник света | |
| RU2557328C2 (ru) | Мультиэлементный излучатель на парах металлов и их соединений | |
| RU2285311C2 (ru) | Газоразрядный источник ультрафиолетового излучения или озона | |
| JP2011100620A (ja) | エキシマランプ | |
| CN112530785A (zh) | 一种短波紫外光产生方法及其装置 | |
| RU2239911C1 (ru) | Источник излучения | |
| Vasilyak et al. | Influence of sinusoidal and rectangular current shapes of an increased frequency on resonant radiation of LP mercury discharge | |
| Shuaibov et al. | The optimum characteristics of a halogen lamp pumped by transverse RF discharge |