RU2006131616A - Устройство для создания рентгеновского или крайнего уф-излучения - Google Patents

Устройство для создания рентгеновского или крайнего уф-излучения Download PDF

Info

Publication number
RU2006131616A
RU2006131616A RU2006131616/28A RU2006131616A RU2006131616A RU 2006131616 A RU2006131616 A RU 2006131616A RU 2006131616/28 A RU2006131616/28 A RU 2006131616/28A RU 2006131616 A RU2006131616 A RU 2006131616A RU 2006131616 A RU2006131616 A RU 2006131616A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
deflecting
particle beam
point
diaphragm
target
Prior art date
Application number
RU2006131616/28A
Other languages
English (en)
Inventor
Альфред РАЙНХОЛЬД (DE)
Альфред РАЙНХОЛЬД
Original Assignee
Комет Гмбх (De)
Комет Гмбх
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Комет Гмбх (De), Комет Гмбх filed Critical Комет Гмбх (De)
Publication of RU2006131616A publication Critical patent/RU2006131616A/ru

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00—X-ray tubes
    • H01J35/02—Details
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/08—Deviation, concentration or focusing of the beam by electric or magnetic means
    • G21K1/087—Deviation, concentration or focusing of the beam by electric or magnetic means by electrical means
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/08—Deviation, concentration or focusing of the beam by electric or magnetic means
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00—X-ray tubes
    • H01J35/02—Details
    • H01J35/14—Arrangements for concentrating, focusing, or directing the cathode ray
    • H01J35/147—Spot size control
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00—X-ray tubes
    • H01J35/02—Details
    • H01J35/14—Arrangements for concentrating, focusing, or directing the cathode ray
    • H01J35/153—Spot position control
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00—X-ray tubes
    • H01J35/24—Tubes wherein the point of impact of the cathode ray on the anode or anticathode is movable relative to the surface thereof
    • H01J35/30—Tubes wherein the point of impact of the cathode ray on the anode or anticathode is movable relative to the surface thereof by deflection of the cathode ray

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • X-Ray Techniques (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Claims (16)

1. Устройство для создания рентгеновского или крайнего УФ-излучения, содержащее средства для направления пучка электрически заряженных частиц на мишень и отклоняющие средства для отклонения пучка частиц таким образом, что центральная ось пучка частиц проходит через первую отклоняющую точку и удаленную от первой отклоняющей точки в направлении распространения пучка вторую отклоняющую точку, причем отклоняющие средства содержат первый отклоняющий блок для отклонения пучка частиц таким образом, что его центральная ось проходит через первую отклоняющую точку, и второй отклоняющий блок, удаленный от первого отклоняющего блока в направлении распространения пучка частиц, для отклонения пучка частиц таким образом, что его центральная ось проходит через вторую отклоняющую точку, причем пучок частиц может быть отклонен отклоняющими блоками по отношению к одной отклоняющей точке независимо от отклонения по отношению к другой отклоняющей точке, отличающееся тем, что каждый из отклоняющих блоков (26, 32) выполнен для отклонения пучка частиц вдоль двух взаимно перпендикулярных осей (ось Х и ось Y) таким образом, что первая и вторая отклоняющие точки (20, 22) лежат на оси с заданной или задаваемой точкой (24) падения пучка (12) частиц на мишень.
2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что содержит управляющие средства (38) для управления отклоняющими средствами.
3. Устройство по пп.1 и 2, отличающееся тем, что первый и второй отклоняющие блоки (26, 32) выполнены с возможностью управления независимо друг от друга управляющими средствами (38) с возможностью отклонения пучка(12) частиц по отношению к одной отклоняющей точке (20, 22) независимо от отклонения по отношению к другой отклоняющей точке (22, 20).
4. Устройство по п.1, отличающееся тем, что каждый из отклоняющих блоков (26, 32) содержит, по меньшей мере, один отклоняющий элемент (28, 34).
5. Устройство по п.4, отличающееся тем, что отклоняющий элемент (28, 34) содержит, по меньшей мере, одну катушку или устройство на основе катушек, в частности квадруполь.
6. Устройство по п.4, отличающееся тем, что отклоняющий элемент содержит, по меньшей мере, одну электростатическую отклоняющую пластину.
7. Устройство по п.1, отличающееся тем, что отклоняющие средства выполнены для отклонения пучка частиц вдоль двух взаимно перпендикулярных осей.
8. Устройство по п.1, отличающееся тем, что, по меньшей мере, один из отклоняющих блоков (26, 32) содержит диафрагму (30, 36), расположенную в направлении распространения пучка за отклоняющим элементом (28, 34) отклоняющего блока(26, 32).
9. Устройство по п.8, отличающееся тем, что первый отклоняющий блок (26) содержит первую диафрагму (30), которая расположена в направлении распространения пучка в зоне плоскости действия отклоняющего элемента (34) второго отклоняющего блока (32).
10. Устройство по п.9, отличающееся тем, что второй отклоняющий блок (32) содержит вторую диафрагму (36).
11. Устройство по п.8, отличающееся тем, что, по меньшей мере, одна диафрагма (30, 36), по меньшей мере, частично состоит из электропроводящего материала, при этом диафрагма (30, 36) соединена с измерительным блоком (42, 44) для измерения электрического тока, возникающего от падения пучка (12) частиц на диафрагму (30, 36).
12. Устройство по п.11, отличающееся тем, что измерительный блок (42, 44) связан с управляющими средствами (38) для управления отклоняющими средствами с возможностью отклонения пучка (12) частиц в зависимости от тока, измеренного измерительным блоком (42, 44).
13. Устройство по п.8, отличающееся тем, что диафрагма (36) напротив мишени (16) соединена с измерительным блоком (44) для измерения в первом режиме работы электрического тока, возникающего от падения пучка (12) частиц на обращенную от мишени (16) поверхность диафрагмы, и для измерения во втором режиме работы электрического тока, возникающего от рассеянных мишенью (16) электрически заряженных частиц.
14. Устройство по п.13, отличающееся тем, что измерительный блок (44) связан с управляющими и/или регулирующими средствами (38), которые выполнены с возможностью управления или регулирования тока мишени посредством управления источником (10) частиц для создания пучка (12) частиц в зависимости от тока, измеренного измерительным блоком (44) во втором режиме работы.
15. Устройство по п.1, отличающееся тем, что содержит фокусирующие средства (48) для фокусирования пучка (12) частиц на мишени (16).
16. Устройство по п.15, отличающееся тем, что фокусирующие средства (48) расположены в направлении распространения пучка за отклоняющими средствами.
RU2006131616/28A 2005-09-03 2006-09-01 Устройство для создания рентгеновского или крайнего уф-излучения RU2006131616A (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102005041923A DE102005041923A1 (de) 2005-09-03 2005-09-03 Vorrichtung zur Erzeugung von Röntgen- oder XUV-Strahlung
DE102005041923 2005-09-03

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2006131616A true RU2006131616A (ru) 2008-03-10

Family

ID=37114464

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2006131616/28A RU2006131616A (ru) 2005-09-03 2006-09-01 Устройство для создания рентгеновского или крайнего уф-излучения

Country Status (11)

Country Link
US (1) US20070051907A1 (ru)
EP (1) EP1760760A3 (ru)
JP (1) JP2007073517A (ru)
KR (1) KR20070026024A (ru)
CN (1) CN1959924A (ru)
AU (1) AU2006203782A1 (ru)
CA (1) CA2558216A1 (ru)
DE (1) DE102005041923A1 (ru)
IL (1) IL177803A0 (ru)
RU (1) RU2006131616A (ru)
TW (1) TW200715337A (ru)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008044194A2 (en) * 2006-10-13 2008-04-17 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Electron optical apparatus, x-ray emitting device and method of producing an electron beam
DE102006062452B4 (de) 2006-12-28 2008-11-06 Comet Gmbh Röntgenröhre und Verfahren zur Prüfung eines Targets einer Röntgenröhre
DE102008038569A1 (de) * 2008-08-20 2010-02-25 Siemens Aktiengesellschaft Röntgenröhre
JP5687001B2 (ja) * 2009-08-31 2015-03-18 浜松ホトニクス株式会社 Ｘ線発生装置
JP5167475B2 (ja) * 2010-12-27 2013-03-21 双葉電子工業株式会社 光殺菌装置および紫外線エックス線発生装置
JP5347138B2 (ja) * 2010-12-27 2013-11-20 双葉電子工業株式会社 光殺菌装置および紫外線エックス線発生装置
WO2013185829A1 (en) * 2012-06-14 2013-12-19 Excillum Ab Limiting migration of target material
DE102012216977B4 (de) * 2012-09-21 2016-01-21 Siemens Aktiengesellschaft Vorrichtung zur Erzeugung von Röntgenstrahlung
EP2763156A1 (en) * 2013-02-05 2014-08-06 Nordson Corporation X-ray source with improved target lifetime
DE102020134487A1 (de) * 2020-12-21 2022-06-23 Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik Röntgenquelle und Betriebsverfahren hierfür
DE102020134488A1 (de) * 2020-12-21 2022-06-23 Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik Röntgenquelle und Betriebsverfahren hierfür
US20240130028A1 (en) * 2022-10-18 2024-04-18 Carl Zeiss X-ray Microscopy, Inc. Reflection target X-ray source with steered beam on target

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1057284A (en) * 1912-11-08 1913-03-25 Karl Kamillo Schmidt Process of artificially staining woods.
CH355225A (de) * 1958-01-22 1961-06-30 Foerderung Forschung Gmbh Verfahren und Einrichtung zum Kontrollieren und Korrigieren der Lage des durch einen Kathodenstrahl erzeugten Brennflecks auf der Antikathode einer Röntgenröhre
US3138729A (en) * 1961-09-18 1964-06-23 Philips Electronic Pharma Ultra-soft X-ray source
CH542510A (de) * 1971-12-27 1973-09-30 Siemens Ag Röntgenröhre
JPS5318318B2 (ru) * 1972-12-27 1978-06-14
US4075489A (en) * 1977-01-21 1978-02-21 Simulation Physics Method and apparatus involving the generation of x-rays
US4523327A (en) * 1983-01-05 1985-06-11 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Multi-color X-ray line source
DE3401749A1 (de) * 1984-01-19 1985-08-01 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Roentgendiagnostikeinrichtung mit einer roentgenroehre
JPH0218844A (ja) * 1988-07-07 1990-01-23 Jeol Ltd 電子顕微鏡の自動絞り軸合わせ装置
US4933552A (en) * 1988-10-06 1990-06-12 International Business Machines Corporation Inspection system utilizing retarding field back scattered electron collection
US5136167A (en) * 1991-01-07 1992-08-04 International Business Machines Corporation Electron beam lens and deflection system for plural-level telecentric deflection
US5224137A (en) * 1991-05-23 1993-06-29 Imatron, Inc. Tuning the scanning electron beam computed tomography scanner
DE19513291C2 (de) * 1995-04-07 1998-11-12 Siemens Ag Röntgenröhre
KR100606490B1 (ko) * 1997-04-08 2006-07-31 엑스레이 테크놀로지즈 피티와이 리미티드 극소형 대상물의 고 분해능 Ｘ-ray 이미징
FI102697B1 (fi) * 1997-06-26 1999-01-29 Metorex Int Oy Polarisoitua herätesäteilyä hyödyntävä röntgenfluoresenssimittausjärjestely ja röntgenputki
JP2001319608A (ja) * 2000-05-10 2001-11-16 Shimadzu Corp マイクロフォーカスｘ線発生装置
AU2002351104A1 (en) * 2001-10-10 2003-04-22 Applied Materials Isreal Limited Method and device for aligning a charged particle beam column
US6639221B2 (en) * 2002-01-18 2003-10-28 Nikon Corporation Annular illumination method for charged particle projection optics
JP4158419B2 (ja) * 2002-05-30 2008-10-01 株式会社島津製作所 Ｘ線管とその光軸合わせ方法
JP4126484B2 (ja) * 2002-06-10 2008-07-30 株式会社島津製作所 Ｘ線装置
DE20213975U1 (de) * 2002-09-06 2002-12-19 LZH Laserzentrum Hannover e.V., 30419 Hannover Einrichtung zur Erzeugung von UV-Strahlung, insbesondere EUV-Strahlung
DE10301071A1 (de) * 2003-01-14 2004-07-22 Siemens Ag Vorrichtung und Verfahren zum Einstellen der Brennfleckposition einer Röntgenröhre
US7218703B2 (en) * 2003-11-21 2007-05-15 Tohken Co., Ltd. X-ray microscopic inspection apparatus
EP1557864A1 (en) * 2004-01-23 2005-07-27 Tohken Co., Ltd. X-ray microscopic inspection apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
KR20070026024A (ko) 2007-03-08
CA2558216A1 (en) 2007-03-03
JP2007073517A (ja) 2007-03-22
EP1760760A2 (de) 2007-03-07
IL177803A0 (en) 2006-12-31
CN1959924A (zh) 2007-05-09
DE102005041923A1 (de) 2007-03-08
US20070051907A1 (en) 2007-03-08
TW200715337A (en) 2007-04-16
AU2006203782A1 (en) 2007-03-22
EP1760760A3 (de) 2008-07-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2006131616A (ru) Устройство для создания рентгеновского или крайнего уф-излучения
US9818573B2 (en) Particle beam transport apparatus
JP2005328047A5 (ru)
JP2012533855A5 (ru)
JP2013196951A5 (ru)
JP2008515165A (ja) 空気イオン化モジュールおよび方法
JP2006228641A5 (ru)
TW201216317A (en) Charged particle detection system and multi-beamlet inspection system
JP2013544030A5 (ru)
EP3061497B1 (en) Multi-resolution detectors for measuring and controlling a charged particle pencil beam
JP2005062167A5 (ru)
CN114189172B (zh) 一种精准调控微粒净电量的方法及装置
JP6919063B2 (ja) 荷電粒子線応用装置
JP6047654B2 (ja) 電子ビームを発生させるための装置
JP6100611B2 (ja) Ｘ線発生装置
RU1804632C (ru) Устройство дл обнаружени и локализации частиц потока нейтральных частиц
US9763315B2 (en) Beam current variation system for a cyclotron
CA2952412C (en) Shutter for an ion mobility spectrometer
TW201740423A (zh) 帶電粒子束裝置、用於帶電粒子束裝置的系統、及用於操作帶電粒子束裝置的方法
JPH0635433Y2 (ja) イオン風発生装置
JPS6329786B2 (ru)
CN106257616B (zh) 真空室和质量分析电磁铁
KR102216696B1 (ko) 비파괴 검사용 솔레노이드
JP6514409B2 (ja) 荷電粒子線応用装置
CN114303229A (zh) 用于控制电子束的静电透镜

Legal Events

Date Code Title Description
FA93 Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination)

Effective date: 20090902