RU2005132838A

RU2005132838A - Покрытия на основе оксида титана

Info

Publication number: RU2005132838A
Application number: RU2005132838/02A
Authority: RU
Inventors: Л н Е (GB); Лян Е
Original assignee: Пилкингтон Плс (Gb); Пилкингтон Плс
Priority date: 2003-03-25
Filing date: 2004-03-25
Publication date: 2006-03-20
Also published as: MXPA05009815A; EP1608793B1; DE602004027124D1; BRPI0408115B1; ES2343630T3; US20060194066A1; GB0306797D0; RU2351688C2; WO2004085701A1; ATE467699T1; EP1608793A1; CN1764737A; JP2006521470A; BRPI0408115A

Claims

1. Способ химического осаждения из паровой фазы для осаждения фотокаталитически активного покрытия, содержащего окись титана, на поверхности подложки, который отличается тем, что он включает контактирование указанной поверхности с паром, содержащим тетраэтоксид титана или тетраизопропоксид титана и сложный эфир карбоновой кислоты при температуре, которая является достаточно высокой для формирования покрытия на основе оксида титана.

2. Способ по п.1, отличающийся тем, что сложный эфир карбоновой кислоты представляет собой соединение, имеющее общую формулу

R-C(O) - O - С(XX¹) - C(YY¹) - R¹

где R и R¹, которые могут быть одинаковыми или различными, представляют собой атомы водорода или алкильную группу, содержащую от 1 до 10 атомов углерода; X, X¹, Y и Y¹, которые могут быть одинаковыми или различными, представляют собой атомы водорода или алкильные группы, содержащие от 1 до 4 атомов углерода, при условии, что по меньшей мере один из Y или Y¹ представляет собой атом водорода.

3. Способ по п.2, отличающийся тем, что сложный эфир карбоновой кислоты представляет собой сложный эфир, где R представляет собой алкильную группу, содержащую от 1 до 4 атомов углерода.

4. Способ по п.3, отличающийся тем, что алкильная группа представляет собой этильную группу.

5. Способ по п.3, отличающийся тем, что сложный эфир карбоновой кислоты выбирается из группы, содержащей этилформиат, этилацетат, этилпропионат, этилбутират, н-пропилформиат, н-пропилацетат, н-пропилпропионат, н-пропилбутират, изопропилформиат, изопропилацетат, изопропилпропионат, изопропилбутират, н-бутилформиат, н-бутилацетат, втор-бутилацетат и трет-бутилацетат.

6. Способ по п.5, отличающийся тем, что сложный эфир карбоновой кислоты представляет собой этилацетат

7. Способ по любому из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что подложка находится при температуре в пределах от 400 до 800°C.

8. Способ по п.7, отличающийся тем, что подложка находится при температуре от 610 до 720°C.

9. Способ по п.1, отличающийся тем, что подложка представляет собой полосу стекла, производимую во время процесса производства листового стекла.

10. Способ по п.9, отличающийся тем, что осаждение имеет место внутри флоат-ванны.

11. Фотокаталитически активная подложка, имеющая покрытие на основе оксида титана на, по меньшей мере, одной ее поверхности, отличающаяся тем, что поверхность с нанесенным покрытием демонстрирует фотокаталитическую активность по меньшей мере 50% (выраженную как процент уменьшения интегральной площади пиков поглощения, соответствующих тонкой пленке стеариновой кислоты, полученных посредством облучения UVA при интенсивности 0,76 Вт/м² в течение 30 мин), и она остается неизменной при погружении в 1 молярный раствор гидроксида натрия при 75°C в течение по меньшей мере 6 ч.

12. Фотокаталитически активная подложка, имеющая покрытие на основе диоксида титана на по меньшей мере одной ее поверхности, отличающаяся тем, что поверхность с нанесенным покрытием имеет значение Ra, меньшее, чем 2 нм, фотокаталитическую активность по меньшей мере 50% (выраженную как процент уменьшения интегральной площади пиков поглощения, соответствующих тонкой пленке стеариновой кислоты, полученных посредством облучения UVA при интенсивности 32 Вт/м² в течение 30 мин).

13. Фотокаталитически активная подложка, имеющая покрытие на основе диоксида титана на по меньшей мере одной своей поверхности, отличающаяся тем, что покрытие является кристаллическим и имеет значение Ra, меньшее, чем 2 нм.

14. Фотокаталитически активная стеклянная подложка, имеющая покрытие на основе диоксида титана на по меньшей мере одной ее поверхности, отличающаяся тем, что поверхность с нанесенным покрытием демонстрирует фотокаталитическую активность по меньшей мере 80% (выраженную как процент уменьшения интегральной площади пиков поглощения, соответствующих тонкой пленке стеариновой кислоты, полученных посредством облучения UVA при интенсивности 0,76 Вт/м² в течение 30 мин) и отражение видимого света 20% или меньше.

15. Стеклянная подложка по п.14, отличающаяся тем, что она имеет отражение видимого света, меньшее, чем 12%.

16. Подложка по любому из пп.11-15, отличающаяся тем, что слой диоксида титана имеет толщину от 10 до 40 нм.

17. Подложка по п.16, отличающаяся тем, что слой диоксида титана имеет толщину от 10 до 20 нм.

18. Стеклянная подложка по любому из пп.11-15, отличающаяся тем, что подложка содержит блокирующий слой для щелочного металла между стеклом и покрытием на основе диоксида титана.

19. Стеклянная подложка по п.18, отличающаяся тем, что блокирующий слой для щелочного металла имеет толщину от 10 до 20 нм.

20. Стеклянная подложка по любому из пп.11-15, отличающаяся тем, что подложка остается фотоактивной после 200 циклов испытания циклирования в условиях влажности.

21. Стеклянная подложка по любому из пп.12-15, отличающаяся тем, что покрытие остается неизменным при погружении в 1M гидроксид натрия при 75°C в течение 6 ч.

22. Стеклянная подложка по любому из пп.11-15, отличающаяся тем, что стойкость к царапанию покрытия является такой, что испытание на дисковой машине при нагрузке 3 нм не приводит к появлению непрерывных царапин на поверхности с нанесенным покрытием.

23. Стеклянная подложка по любому из пп.11-15, отличающаяся тем, что содержание углерода в покрытии является меньшим, чем 10%.