RU2001130989A - Устройство облучения электронным пучком и способ - Google Patents

Устройство облучения электронным пучком и способ

Info

Publication number
RU2001130989A
RU2001130989A RU2001130989/12A RU2001130989A RU2001130989A RU 2001130989 A RU2001130989 A RU 2001130989A RU 2001130989/12 A RU2001130989/12 A RU 2001130989/12A RU 2001130989 A RU2001130989 A RU 2001130989A RU 2001130989 A RU2001130989 A RU 2001130989A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
electron beam
magnetic field
focal point
irradiation
focusing electromagnet
Prior art date
Application number
RU2001130989/12A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2221636C2 (ru
Inventor
Йосихико НАИТОХ
Original Assignee
Ибара Корпорейшн
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ибара Корпорейшн filed Critical Ибара Корпорейшн
Publication of RU2001130989A publication Critical patent/RU2001130989A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2221636C2 publication Critical patent/RU2221636C2/ru

Links

Claims (6)

1. Устройство облучения электронным пучком, содержащее источник электронного пучка для излучения электронов, ускорительную трубку для ускорения электронов, излучаемых источником электронного пучка, фокусирующий электромагнит для регулирования диаметра электронного пучка посредством приложения магнитного поля к электронному пучку, сформированному в ускорительной трубке и имеющему высокую энергию, электромагнит для отклонения и сканирования электронного пучка посредством приложения магнитного поля к электронному пучку, и окно облучения, для выхода электронного пучка, отличающееся тем, что электронный пучок фокусируется в точке фокуса фокусирующим электромагнитом, так что электронный пучок сходится один раз, затем расходится, и затем излучается наружу через упомянутое окно облучения.
2. Устройство облучения по п.1, отличающееся тем, что точка фокуса упомянутого электронного пучка размещена в месте расположения, после участка, где электронный пучок проходит через магнитное поле для отклонения и сканирования электронного пучка по направлению его распространения.
3. Устройство облучения по п.2, в котором место расположения точки фокуса корректируется посредством регулирования величины тока, подаваемого на фокусирующий электромагнит.
4. Способ облучения электронным пучком, заключающийся в том, что регулируют диаметр электронного пучка, имеющего высокую энергию, посредством приложения магнитного поля к электронному пучку, отклоняют и сканирую электронный пучок, диаметр которого был отрегулирован посредством приложения магнитного поля к электронному пучку фокусирующим электромагнитом, и излучают наружу электронный пучок через окно облучения, отличающийся тем, что упомянутый электронный пучок фокусируется в точке фокуса фокусирующим электромагнитом, так что упомянутый электронный пучок сходится один раз, затем расходится, и затем излучается наружу через окно облучения.
5. Способ облучения по п.4, отличающийся тем, что точку фокуса упомянутого электронного пучка размещают в месте расположения, после участка, где электронный пучок проходит через магнитное поле для сканирования электронного пучка.
6. Способ облучения по п.5, отличающийся тем, что место расположения точки фокуса корректируют посредством регулирования величины тока, подаваемого на фокусирующий электромагнит.
RU2001130989/15A 1999-07-02 2000-06-30 Устройство облучения электронным пучком и способ RU2221636C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11/189604 1999-07-02
JP18960499 1999-07-02

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2001130989A true RU2001130989A (ru) 2003-07-27
RU2221636C2 RU2221636C2 (ru) 2004-01-20

Family

ID=16244101

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2001130989/15A RU2221636C2 (ru) 1999-07-02 2000-06-30 Устройство облучения электронным пучком и способ

Country Status (8)

Country Link
US (1) US6696693B1 (ru)
EP (1) EP1200175A1 (ru)
JP (1) JP3929309B2 (ru)
CN (1) CN1358108A (ru)
AU (1) AU5706600A (ru)
PL (1) PL352512A1 (ru)
RU (1) RU2221636C2 (ru)
WO (1) WO2001002082A1 (ru)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10163474A1 (de) * 2001-12-21 2003-07-10 Siemens Ag Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung und/oder Reformierung von gasförmigen Brennstoffen und zugehörige Anwendung
EP2448662B1 (en) * 2009-06-03 2016-04-06 Ixys Corporation Methods and apparatuses for converting carbon dioxide and treating waste material
CN104258702B (zh) * 2014-10-16 2016-02-17 厦门大学 一种电子束烟气脱硫脱硝的方法及装置
CN105904078B (zh) * 2016-06-24 2017-11-17 桂林狮达机电技术工程有限公司 电子束变焦焊方法及系统
CN106540505A (zh) * 2017-02-03 2017-03-29 盐城工学院 电子照射管以及voc废气处理装置
CN109589767A (zh) * 2018-12-17 2019-04-09 郑州大学 一种玻璃窑炉烟气中污染物一体化脱除的方法和装置
CN112973311A (zh) * 2021-03-19 2021-06-18 于佩 一种工业制造中脱硫脱销在线检测系统及其使用方法
CN113470859A (zh) * 2021-07-12 2021-10-01 中国原子能科学研究院 辐照装置及利用其进行杀菌处理的方法
CN117733305B (zh) * 2024-02-20 2024-04-26 四川华束科技有限公司 一种封离式电子枪及非真空电子束焊接机器人

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE906737C (de) * 1931-05-31 1954-03-18 Siemens Ag Anordnung zum vergroesserten Abbilden von Gegenstaenden mittels Elektronenstrahlen
US2907915A (en) * 1956-02-16 1959-10-06 Gen Electric Cathode ray tube structure including combined electrostatic and magnetic convergence system
GB1206623A (en) * 1966-10-03 1970-09-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd Recording cathode ray tube
JPS61216228A (ja) 1985-03-22 1986-09-25 Hitachi Ltd 電子線描画装置における焦点調整方式
DE3608291A1 (de) 1985-10-23 1987-04-23 Licentia Gmbh Verfahren zur selektiven oder simultanen abscheidung von schadstoffen aus rauchgasen durch bestrahlung der rauchgase mit elektronenstrahlen
US4864195A (en) * 1988-05-05 1989-09-05 Rca Licensing Corp. Color display system with dynamically varied beam spacing
US5361020A (en) * 1988-08-12 1994-11-01 Innovative Solutions & Support, Incorporated A Corporation Of Pennsylvania Methods and apparatus for improving cathode ray tube image quality
US5319211A (en) * 1992-09-08 1994-06-07 Schonberg Radiation Corp. Toxic remediation
US5623183A (en) * 1995-03-22 1997-04-22 Litton Systems, Inc. Diverging beam electron gun for a toxic remediation device with a dome-shaped focusing electrode
PL187298B1 (pl) * 1996-07-25 2004-06-30 Ebara Corp Sposób i urządzenie do oczyszczania gazów techniką napromieniania wiązką elektronową
JPH11281799A (ja) * 1998-03-27 1999-10-15 Ebara Corp 電子線照射装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101689466B (zh) 利用旋转阳极或旋转帧管中的z偏转进行的快速剂量调制
JPH0896735A (ja) 長く延びた陽極に沿って電子ビーム束を放射するための電子源を有するx線放射器
US20090065706A1 (en) Particle beam therapy system
WO2002103337A3 (en) Electron beam apparatus and method for using said apparatus
WO2002037526A9 (fr) Appareil a faisceau electronique et procede de fabrication d'un dispositif a semi-conducteur comprenant ledit appareil
JP2012015130A (ja) 電子ビーム装置
ATE394708T1 (de) Vorrichtung zur erzeugung von extremem uv-licht und anwendung auf eine lithografiequelle mit extremer uv-strahlung
EP1179381A3 (en) Surface treatment apparatus
KR890012360A (ko) 이온 주입 표면의 충전조절방법 및 장치
JPS60157147A (ja) 光制御x線スキヤナ
RU2001130989A (ru) Устройство облучения электронным пучком и способ
GB957342A (en) Apparatus for directing ionising radiation in the form of or produced by beams from particle accelerators
JPH02115800A (ja) 製品の両面照射装置
US20110139997A1 (en) Ion transporter, ion transport method, ion beam irradiator, and medical particle beam irradiator
JPS6134348B2 (ru)
DE60213389D1 (de) Röntgen-bestrahlungsvorrichtung
JP2002528878A (ja) 可変結像スポットサイズを提供するx線管
US4543487A (en) Procedure and means for creating an electron curtain with adjustable intensity distribution
CN111063595A (zh) 脉冲x射线管微聚焦点光源装置及方法
RU99106679A (ru) Устройство для облучения пучком электронов
JP2002324510A (ja) 走査電子顕微鏡
US4918358A (en) Apparatus using charged-particle beam
CN210837645U (zh) 脉冲x射线管微聚焦点光源装置
JPS60232650A (ja) 特性x線発生装置
CN108335960A (zh) 基于激光驱动金属细丝的高能电子导引装置