RU1827398C - Способ изготовлени поглотител водорода в вакууме - Google Patents

Abstract

Использование: в качестве поглотител  водорода из герметичных объемов. Сущность изобретени : пластина губчатого титана подвергаетс  температурной обработке при температуре 1100°С в течение 10 мин. Затем удал ют окисную пленку путем ионной очистки поверхности титана. После чего нанос т слой паллади  толщиной 2...5 мкм. Процесс изготовлени  поглотител  осуществл ют в вакууме при 10 ...5x10 6 мм рт.ст. Изготовленный таким способом поглотитель поглощает водород как в бескислородной среде, так и в присутствии кислорода.

Description

Изобретение относитс  к средствам очистки газовой среды герметичных объектов , в которых размещены приборы, чувствительные к воздействию вредных летучих примесей, а более конкретно к способам изготовлени  поглотителей, необратимо удал ющих водород из герметичных объектов .

Целью изобретени   вл етс  расширение области применени  изготавливаемого поглотител  водорода, т.е. расширение его способности поглощать водород не только в бескислородной среде, но и в присутствии кислорода.

Указанна  цель достигаетс  тем, что в известном способе изготовлени  поглотител  водорода из пластины губчатого титана, подвергаемой температурной обработке с последующим удалением окисной пленки,

температурную обработку производ т при температуре 1100°С в течение 10 мин, а удаление окисной пленки производ т ионной очисткой поверхности титана, после чего нанос т слой из паллади  толщиной 2...5 мкм, причем все работы производ т в вакууме ...5- мм рт.ст.

Достижимость поставленной цели обусловлена тем, что, во-первых, все операции производ тс  в глубоком вакууме и поэтому под слоем из паллади  отсутствует даже мономолекул рна  окисна  пленка на титане, котора  преп тствует поглощению водорода титаном; во-вторых, слой из паллади  обладает высоким коэффициентом водоро- допроницаемости и поэтому он выполн ет функцию мембраны, котора  пропускает только водород, не пропуска  другие газы; и в третьих, энтропи  взаимодействи  водо00

го

v|

со

4D 00

рода с титаном приблизительно в два раза выше энтропии системы Pd-H, а согласно второму закону термодинамики: самопроизвольно могут протекать только процессы и реакции, з ходе которых энтропи  возрастает , поэтому палладий будет передавать свой растворенный водород титану с последующим его поглощением титаном.

Таким образок изготовленный данным способом поглотитель в среде с кислородом будет поглощать водород за счет каталитического окислени  водорода слоем паллади , а в среде без кислорода будет диффундировать через палладиевый слой и поглощатьс  титаном.

Сравнение за вл емого решени  с другими техническими решени ми в данной области техники показывает, что в микроэлектронике используетс  ионна  очистка поверхности металлов с нанесением покрыти  из паллади  дл  создани  контактных площадок.

Пор док конкретного способа изготовлени  поглотител  водорода следующий;

образцы из титановой губки марки ВТ-1 закрепл ют во вращательное устройство установки типа АИР-3 и камеру установки ва- куумируют до давлени  10 ...5 10 мм рт.ст,;

расфокусированным пучком электронного луча нагревают образцы до температуры 1100°С и выдерживают при этой температуре 10 минут;

расфокусированными потоками металлической плазмы производ т ионную очистку образцов;

непосредственно после ионной очистки нанос т слой из паллади  толщиной 2...5 мкм сфокусированной металлической плазмой .

Выполненный данным способом поглотитель поглощает водород как в кислород- ной, так и бескислородной среде. При этом по теоретическим расчетам при давлении водорода в одну атмосферу поглотитель в виде диска диаметром 2,5 см и толщиной 0,5 см в бескислородной среде может поглотить около 40 л водорода со скоростью поглощени  до 1 л водорода в минуту.

Claims (1)

1. Формула изобретени 

   Способ изготовлени  поглотител  водорода в вакууме из пластины губчатого титана , включающий температурную обработку пластины, удаление окисной пленки, отличающийс  тем, что, с целью расширени  технологических возможностей, температурную обработку провод т при 1100°С в течение 10 мин, удаление окисной пленки производ т путем ионной очистки поверхности титана, после чего нанос т слой паллади  толщиной 2-5 мкм, причем температурную обработку, ионную очистку и нанесение сло  паллади  осуществл ют при давлении 1 - 5 мм рт.ст.