RU1775051C - Цветной кинескоп - Google Patents

Abstract

Использование: щелева  тенева  маска дл  цветных кинескопов с визуально плоским экраном, позвол ющим получать требуемую ширину линии люминофора Сущность изобретени : цветной кинескоп содержит стекл нную панель с несферическим изогнутым пр моугольным лицевым участком и теневую маску со столбцами щелевых oi верстий. Сагитгальна  вы - сота и рассто ние между смежными столбцами щелевых отверстий возрастают вдоль главной оси как функции четвертой степени рассто ни  от малой оси. Рассто ние между смежными столбцами щелевых отверстий вблизи больших сторон маски меньше, чем вблизи главной оси, а вдоль поперечных сечений,параллельных главной оси, выбрано из графика их зависимости от рассто ни  от большой оси. Юил.

Description

|СЛ

t

Данное изобретение относитс  к цветным кинескопам, имеющим щелевую теневую маску, котора  монтируетс  в пространстве вблизи катодолюминесцент- ного экрана трубки, в частности к усовершенствованию в расположении столбца отверстий маски внутри таких кинескопов, что позвол ет улучшить очертани  (контур) маски.

Цель изобретени  - улучшение качества изображени  за счет возможности получени  требуемой ширины линий люминофора без искажени  их формы при использовании фотоэкспонировани  линейным источником света без применени  специальной технологии.

Изобретение иллюстрируетс  фиг,1 - 10, на которых изображено:на фиг.1 - вид сверху частично в осевом сечении цветного кинескопа с теневой маской, объедин ющего в себе одну из реализаций данного изобретени ; на фиг.2 - вид спереди передней панели цветного кинескопа, на фиг.З - вид, показывающий очертани  поверхности передней панели кинескопа на большой оси За - За, и малой оси ЗЬ - ЗЬ, поперечных сечений фиг.2; на фиг.4 - вид спереди теневой маски цветного кинескопа фиг.1, на фиг.5 - вид, показывающий очертани  поверхности теневой маски на большой оси 5а - 5а, малой оси 5Ь - 5Ь и диагонали 5с - 5с, поперечных сечений фиг,4, на фиг.6 - график размещени  от столбца к столбцу отверстий маски цветного кинескопа, показанный сплошными лини ми, и размещение отверстий в маске прототипа, представленное пунктирными лини ми; на фиг.7 - в увеличенном адзсштзЭе -енева  маска, представленна  в крухке фиг.4; на фиг 8 - график выбранных линий экрана цветного кинескоП«Д

па; на фмг.9 - вид спереди теневой маски, определ емой кривизной передней панели, показывающий линию очертани  с посто нной высотой прогиба и на фиг. 10 - вид спереди улучшенной теневой маски, показывающий линию очертани  с посто нной высотой прогиба.

На фиг.1 представлен пр моугольный цветной кинескоп 1, имеющий стекл нную колбу 2, содержащую стекл нную панель 3 и трубчатую горловину 4, которые соедин ютс  при помощи раструба 5. Панель 3 содержит лицевую поверхность 6 изображени  и наружный фланец или боковую стенку 7, котора  подсоединена к раструбу 5 при помощи оплавлени  стекла 8. Новый пр моугольный трехцветный като- долюминесцентный линейный экран 9 наноситс  на внутреннюю поверхность передней лицевой панели 6. Экран представл ет собой линейный экран с лини ми фосфора, проход щими параллельно к малой оси Y - Y кинескопа, проход щей через середины длинных сторон экрана. Очертани  линий (строк) фосфора рассматриваютс  более подробно далее. Новый многощелевой электрод выбора цвета или тенева  маска 10 монтируетс  с возможностью перемещени  внутри лицевой передней панели 3 с определенным промежутком по отношению к экрану 9, Электронна  пушка 11, показанна  схематически пунктирными лини ми на фиг.1, монтируетс  по центру внутри горловины 4, чтобы генерировать и направл ть три электронных луча 12 вдоль сход щихс  копла- нарных вначале путей через маску 10 к экрану 9.

Кинескоп 1 (фиг,1) конструируетс  таким образом, чтобы использоватьс  с наружной магнитной отклон ющей системой, такой как отклон юща  катушка 121, схематически представленна  как окружающа  горловину 4 раструба 5 вблизи их соединени , дл  того чтобы воздействовать на три электронных луча 12 при помощи вертикального и горизонтального магнитных потоков , чтобы сканировать лучи горизонтально в направлении большой оси (X - X) и вертикально в направлении малой оси (Y - Y) соответственно, создава  пр моугольный растр по экрану 9.

На фиг.2 представлена передн   лицева  панель 3 кинескопа. Наружна  часть панели 3 образует пр моугольник с слегка искривленными сторонами. Граничное очертание экрана 9 представлено пунктирными лини ми на фиг.2. Это граничное

очертание экрана представл ет пр моугольник .

Сравнение относительных очертаний наружной поверхности лицевой панели 3

вдоль малой оси Y - Y и большой оси X - X представлено на фиг.З. Наружна  поверхность лицевой панели 3 имеет кривизну как вдоль большой, так и вдоль малой оси, при этом кривизна вдоль малой оси больше, чем

0 кривизна вдоль большой оси в центральной части панели 3. Например, в центральной части лицевой панели отношение радиуса кривизны очертани  наружной поверхности вдоль большой оси к радиусу кривизны

5 вдоль малой оси больше чем 1,1 (разница более, 10%). Кривизна вдоль большой оси, однако, мала в центральной части лицевой панели и значительно увеличиваетс  вблизи краев лицевой панели. В данной реализа0 ции кривизна вдоль большой оси вблизи краев лицевой панели больше, чем основна  кривизна вдоль малой оси. При таком исполнении центральна  часть лицевой панели становитс  более плоской, так как точ5 ки наружной поверхности лицевой панели на кра х экрана лежат по существу в плоскости Р и ограничивают практически пр моугольную наружную линию очертани . Кривизна поверхности вдоль диагонали вы0 бираетс  таким образом, чтобы выравн ть переход между двум  различными кривизнами вдоль большой и малой осей. Предпочтительно , чтобы кривизна вдоль малой оси составл ла 4/3 кривизйы вдоль большой

5 оси в центральной части лицевой панели. Однако кривизна вдоль малой оси может быть такой же, как кривизна вдоль большой оси в центральной части, и увеличиватьс  по кривизне вблизи краев лицевой панели.

0 При помощи использовани  различной степени кривизны вдоль большой и малой осей достигаетс  то, что точки на наружной поверхности панели, расположенные на противоположных сторонах экрана 9, лежат

5 по существу в одной и той же плоскости Р. Эти по существу пленарные (лежащие в одной плоскости) точки, если смотреть спереди лицевой панели 3, как показано на фиг.2, образуют визуально пленарную пр 0 моугольную кромку на наружной поверхности панели на кра х экрана 9. Когда кинескоп вставл етс  в телевизионный приемник (телевизор), то вокруг кинескопа может использоватьс  ограничительна  маска

5 или обрамление с равномерной шириной. Кромка такого обрамлени , котора  контактирует с кинескопом по пр моугольной линии очертани , также по существу находитс  в плоскости Р, Так как наружна  ограничивающа  часть изображени  оказываетс  плоской, то создаетс  впечатление, что изображение плоское, даже если лицева  панель искривлена наружу как вдоль большой, так и вдоль малой оси.

На фиг.4 представлен вид спереди тене- вой маски 10. Пунктирными лини ми 13 показан ограничивающий контур щелевой части маски 10. Очертани  поверхности вдоль большой оси X - X, малой оси Y - Y и диагонали маски 10 представлены в виде кривых 5а, 5Ь и 5с соответственно на фиг.5. Маска 10 имеет другую кривизну вдоль ее большой оси, чем кривизна вдоль ее малой оси. Очертание вдоль большой оси имеет малую кривизну вблизи центра маски и большую кривизну по бокам маски. Очертание такой маски может быть получено при помощи изображени  кривизны в виде окружности с большим радиусом относительно центральной части большой оси и в виде окружности с меньшим радиусом относительно остальной части большой оси. Однако более точно сагиттальна  высота вдоль большой оси измен етс  по существу как четверта  степень рассто ни  от малой оси Y - Y. Сагиттальна  высота представл ет рассто ние от плоскости изображени , котора  тангенциальна к центральной поверхности маски. Кривизна, параллельна  малой оси Y - Y, такова, чтобы ровно выдер- живать кривизну большой оси дл  обеспечени  требуемого наружного очертани  маски, и может включать в себ  изменение кривизны, котора  измен етс  вдоль большой оси. Такое очертание маски обеспечи- ваетнекоторыеулучшенные

характеристики теплового расширени  вследствие увеличивающейс  кривизны вблизи концов большой оси.

На фиг.6 представлен график, показы- вающий рассто ние АН от столбца к столбцу внутри квадранта теневой маски 10. котора  представлена сплошными лини ми и обозначена Н, и внутри квадранта теневой маски , котора  сконструирована, как описано в прототипе № 615589, котора  представлена пунктирными лини ми и обозначена как F. Горизонтальна  координата соответствует рассто нию между щел ми от столбца к столбцу, которое, как показано на фиг.7, измер етс  от центровой линии одного столбца до центровой линии соседнего столбца. Кажда  крива  пронумерована, чтобы определ ть рассто ние от малой оси, которое ей соответствует. Например, каж- да  крива , обозначенна  номером 200, определ ет рассто ние между столбцами щелей 200 -л 201.

В прототипе теневой маски, показанной пунктирными лини ми, рассто ние

между щел ми от столбца к столбцу  вл етс  равномерным вдоль и вблизи малой оси, как показано пр мыми лини ми F - 1 и F - 150. Небольша  кривизна может наблюдатьс  в линии F - 200, показывающа , что рассто ние от столбца к столбцу дл  пространства 200 слегка увеличиваетс  с увеличением рассто ние от большой оси. Кривые F - 300 и F - 306 имеют значительный изгиб, показывающий значительное увеличение рассто ни  от столбца к столбцу с увеличением рассто ни  от большой оси.

Рассто ние между щел ми от столбца к столбцу дл  усовершенствованной теневой маски 10 значительно отличаетс  от рассто ни  прототипа маски вблизи малой оси. Как показано на фиг,6, рассто ние АН между щел ми от столбца к столбцу вблизи малой оси уменьшаетс  с увеличением рассто ни  от большой оси, как показано при помощи кривых Н-1. Н-50 и Н-100. Вблизи пространства 150 рассто ние между щел ми от столбца к столбцу начинает слегка увеличиватьс  с увеличением рассто ни  от большой оси, как показано при помощи легкого изгиба кривой Н-150. Этот изгиб кривых , соответствующих рассто нию между щел ми от столбца к столбцу, увеличиваетс  с рассто нием от малой оси, как показано при помощи кривых Н-200 и Н-300, но слегка уменьшаетс  по бокам маски, как можно заметить из сравнени  кривой Н-305 с кривой Н-300.

Рассто ние между щел ми от столбца к столбцу вдоль большой оси увеличиваетс  приблизительно как функци  четвертой степени рассто ни  от малой оси. На удалении от большой оси изменение рассто ни  между щел ми от столбца к столбцу измен етс  приблизительно в соответствии с выражением АН а + Ьх 4 сх ; где a, b и с представ- л ют различные функции (четвертой степени) рассто ни  от большой оси, а х представл ет рассто ние от малой оси. Экран 9 кинескопа 1 образуетс  при помощи известного фотографического процесса, в котором тенева  маска 10 используетс  в качестве фотографического эталона. Как упоминалось выше, существует проблема, котора  возникает, когда во врем  фазы экспозиции в фотографическом процессе используетс  линейный источник света. Эта проблема заключаетс  в непр молинейности изображени  источника линейного света с центральными лини ми фосфорных линий. Эта кепр молинейность, также нз- зь;ваема  ошибкой искажени  распростран етс  v, на распределение интенсивности света, -используемого при печати линий фосфора , и при эток увеличивает чувствительность ширины фосфора к экспозиции света, тем самым дела  регулирование ширины линии более трудным В прототипе маски дл  такой ошибки искажени  делаетс  компенсаци  при помощи различных средств, включающих технологию зональной экспозиции синхронизации наклона источника линейного света с последующей экспозицией различных областей экрана и изгиб щелей столбцов и линий люминофора. В новом кинескопе 1 проблема искажени  решаетс  при помощи изменени  рассто ни  между столбцами щелей от столбца к столбцу в виде функции как рассто ни  от малой оси, так и рассто ни  от большой оси, Получаемое изображение линий люминофора содержит изогнутые линии в области экрана , где ошибка искажени  максимальна, и пр мые линии по бокам экрана, где ошибка искажени  в данном кинескопе минимальна . На фиг.8 сплошными лини ми 14 - 19 представлены соответствующие выбранные линии люминофора, а пунктирными лини ми 20 представлены пр мые линии, параллельные малой оси. Кривизна линий люминофора увеличиваетс  с увеличением рассто ни  от малой оси, до максимальной кривизны в лини х 14 - 17, и затем уменьшаетс  до боковой линии 19, котора   вл етс  пр молинейной.

Преимуществом нового расположени  столбцов из щзлей  вл етс  то, что использование этого принципа позвол ет получить большую кривизну теневой маски в поперечном сечении вблизи боков маски, которые параллельные малой оси, по сравнению с кривизной, котора  может быть получена без его использовани . Очертание лицевой панели, имеющей практически плоские кра , предполагает очертание маски, показанное линией 21 на фиг.9. Лини  21 соответствует линии очертани  маски 22 с равной сагиттальной высотой. Лини  21 по существу пр молинейна с левой и с правой стороны маски. Така  пр молинейность создает существенные проблемы при изготовлении и обработке. Например, легкое прикосновение к маске может приводить к прогибу внутрь во врем  нормальной обработки , поэюму желательно конструировать

маску с большей кривизной по бокам маски, чтобы предотвратить эту проблему. Использование нового расположени  столбцов щелей позвол ет получить улучшенное

очертание маски, показанное линией 23 на фиг.10. Лини  23 представл ет линию очертани  маски 24 с равной сагиттальной высотой . В этом случае лини  3 существенно искривл етс  с левой и с правой сторон маски , обеспечива  при этом большую кривизну , параллельную малой оси, и тем самым большую прочность.

Claims (1)

1. Формула изобретени 

   Цветной кинескоп, содержащий стекл нную панель с несферическим изогнутым пр моугольным лицевым участком с расположенным на ней катодолюминесцентным линейным экраном с визуально планарной

   пр моугольной кромкой, смежно с которым установлена тенева  маска пр моугольной формы со столбцами щелевых отверстий, при этом кривизна контура маски вдоль главной оси, проход щей через центр маски

   и середины меньших сторон, меньше в центре , чем вблизи боковых сторон, а сагиттальна  высота вдоль главной оси возрастает как функци  четвертой степени рассто ни  от малой оси, проход щей через центр маски и середины больших сторон, столбцы ще- левых отверстий расположены в направлении малой оси, а рассто ние между смежными столбцами щелевых отверстий вдоль главной оси возрастает как

   функци  четвертой степени рассто ни  от малой оси, отличающийс  тем, что, с целью улучшени  качества изображени  путем обеспечени  получени  требуемой ширины линии люминофора без искажени  их

   формы, вблизи малой оси рассто ние между смежными столбцами щелевых отверстий меньше вблизи больших сторон теневой маски , чем вблизи главной оси, а рассто ние между смежными столбцами щелевых отверстий вдоль поперечных сечений, параллельных главной оси, выбрано из графика зависимости рассто ни  между смежными столбцами щелевых отверстий от рассто ни  от большой оси.

   1.

   f

   Т i hs

   i;

   Фиг2

   T

   jff

   Фиг.З

   /J- /

   2ЖЯ

   102 .1 28 2.

   У

   1-е-- 5Ь

   5с

   5а

   UУ

   (Purf

   32 38 39

   Дн

   03 и г. В

   40 4f 42

   У 15 3.0 4.5 6.0 7.5 03 Ш8

   фиг. 7

   -Я

   „X -2Z

   У (Риг. 9

   24

   У

   (Риг./О