CZ169986A3

CZ169986A3 - Shadow-mask

Info

Publication number: CZ169986A3
Application number: CS861699A
Authority: CZ
Inventors: Walter David Masterton
Original assignee: Rca Licensing Corp
Priority date: 1985-03-14
Filing date: 1986-03-12
Publication date: 1993-12-15
Also published as: GB8605930D0; BR8601066A; DD243586A5; IT8619651A0; JPH051574B2; CN1009512B; CZ278553B6; IN165336B; CN86101478A; JPS61214332A; IT1188569B; CA1237465A; RU1775051C; GB2175132A; KR900005932B1; KR860007708A; FR2579018A1; FR2579018B1; HK60594A; PL153713B1

Abstract

In a color picture tube (10) having a substantially rectangular slit-aperture type shadow mask (24) mounted therein in spaced relation to a substantially rectangular cathodoluminescent line screen (22), the spacing, AH, Fig. 6, between adjacent aperture columns near the minor axis (Y-Y) of the mask is less at the long sides of the mask than near the major axis (X-X) of the mask, as shown by "H"-1 to "H"-100 representing aperture columns 1-100 numbering from the mask centre outwards. Moreover the aperture column-to-column spacing may be greater near the corners of the mask than near the major axis - see "H"-300 and "H"-305. Preferably also the aperture column-to-column spacing along the major axis varies as a function of the fourth power of distance from the minor axis, and off the major axis, but parallel thereto, varies in accordance with A = a + bx<2> + cx<4> where a, b, and c are different functions of the square of the distance from the major axis, and x is the distance from the minor axis. <IMAGE>

Description

(57) Stínící maska pro barevnou obrazovku, v níž je upevněna a opatřena štěrbinovými otvory uspořádánými ve sloupcích. Rozteč sloupců otvorů v blízkosti vedlejší osy masky je menší u dlouhých stran masky, než v blízkosti její hlavní osy masky a je větší v blízkosti rohů masky, než u konců hlavní osy. Rozteč (Ah) mezi sloupci otvorů se v grafickém znázornění plnými křivkami ( Η 1 až H 305) mění v závislosti na vzdálenosti (es) od hlavní osy a je jiná, než u dosavadních provedení, kde grafické znázornění průběhu změny rozteče (Ah) sloupců otvorů přináší čárkované křivky ( F 1 až '' F 306).(57) Shielding mask for a color screen in which it is fixed and provided with slotted holes arranged in columns. The spacing of the columns of apertures near the minor axis of the mask is smaller for the long sides of the mask than near its major axis of the mask and is greater near the corners of the mask than at the ends of the major axis. The spacing (Ah) between the columns of holes in the graphical representation of full curves (Η 1 to H 305) varies depending on the distance (es) from the main axis and is different from the previous embodiments, where aperture curves (F 1 to F 306).

u.c>^s not 3 39|οφ 'lůas-auc> ^s not 3 39 | οφ 'lůas

Stínící maska pro barevnou obrazovkuShielding mask for color screen

Oblast technikyTechnical field

Vynález se týká stínící masky pro barevnou obrazovku, kde je štěrbinová stínící maska připevněná v blízkosti katodoluminiscenčního čárového stínítka.The invention relates to a screen mask for a color screen, wherein the slit screen mask is mounted in the vicinity of the cathodoluminescence line screen.

Dosavadní stav technikyBACKGROUND OF THE INVENTION

Dosud běžné barevné obrazovky mají čárové stínítko a štěrbinovou masku. Obvykle mají sféricky zakřivenou pravoúhlou čelní desku s čárovým stínítkem z katodoluminiscenčních materiálů a poněkud sféricky zakřivenou, štěrbinovými otvory opatřenou stínící masku v blízkosti stínítka. Otvory štěrbinového tvaru v maskách takových obrazovek jsou uspořádány ve sloupcích, které jsou v podstatě rovnoběžné s vedlejší osou obrazovky nebo mají postupně se zvyšující zakřivení od středu ke krátkým stranám masky. Jsou též vyráběny a používány barevné obrazovky s takovým tvarem čelní desky, který vytváří iluzi plochosti. Tvar čelní desky takto pozměněné obrazovky má zakřivení jak podél hlavní, tak podél vedlejší osy čelního panelu, ale je nesférická. Hlavní a vedlejší osa jsou určeny jako středové horizontální a vertikální osy, když je obrazovka uspořádána v normální pozorovací poloze. V tomto výhodném provedení je obvodová hranice stínítka obrazovky v podstatě rovinné a vizuálně se jako taková jeví. Pro získání této rovinné nebo zhruba rovinné obvodové oblasti je nezbytné, vytvořit čelní desku se zakřivením podél její hlavní osy větším na stranách desky než ve středu desky. Takové nesférické tvarování čelní desky přináší problém týkající se tvaru stínící masky. Pokud je stínící maska vytvořena s přímými průřezy rovnoběžnými s vedlejší osou podél svých stran má obvykle špatné mechanické vlastnosti, jako je nežádoucí mikrofonie a/nebo problémy vyklenutí. Proto je žádoucí vytvoření zakřivením na těchto průřezech než jak to čelní desky. Taková změna tvaru masky však vyžaduje obrazovce, a to včetně změn ve vzorku otvorů masky.Previously common color screens have a line screen and a slit mask. Usually they have a spherically curved rectangular faceplate with a cathodoluminescent material line screen and a somewhat spherical, curved, aperture aperture provided with a screen mask near the screen. The slot-shaped openings in masks of such screens are arranged in columns that are substantially parallel to the minor axis of the screen or have gradually increasing curvature from the center to the short sides of the mask. Color screens with a faceplate shape that create the illusion of flatness are also produced and used. The faceplate shape of the altered screen has a curvature along both the major and minor axes of the faceplate, but is non-spherical. The major and minor axes are designated as the central horizontal and vertical axes when the screen is arranged in the normal viewing position. In this preferred embodiment, the peripheral boundary of the display screen is substantially planar and appears as such. To obtain this planar or roughly planar peripheral region, it is necessary to provide a face plate with a curvature along its major axis larger on the sides of the plate than in the center of the plate. Such non-spherical shaping of the faceplate poses a problem with the shape of the shadow mask. When the shielding mask is formed with straight cross sections parallel to the minor axis along its sides, it usually has poor mechanical properties, such as unwanted microphones and / or arching problems. Therefore, it is desirable to create a curvature on these cross-sections rather than a face plate. However, such a change in the shape of the mask requires a screen, including changes in the pattern of the mask holes.

masky s větším vyplývá z tvaru změny vmasks with greater results from the shape change in

V prvních obrazovkách s čárovým stínítkem a štěrbinovou masku byly stínící masky téměř sférické a oddělené sousední sloupce otvorů podél hlavní osy, tedy jejich horizontální oddělení, bylo udržováno na konstantní hodnotě na celé masce. Některé pozdější obrazovky tohoto typu však obsahovaly stínící masku se zvětšeným zakřivením a byly opatřeny proměnlivými roztečemi sloupců otvorů. V takových obrazovkách rozteč mezi středovými čarami sousedních sloupců otvorů vzrůstá od středu k okraji masky. Tento nárůst pak kolísá podél hlavní osy obecně s mocninou vzdálenosti od vedlejší osy.In the first screens with a line screen and a slit mask, the shadow masks were almost spherical and the separate adjacent columns of openings along the main axis, ie their horizontal separation, were kept constant throughout the mask. However, some later screens of this type contained a shielding mask with increased curvature and were provided with varying column spacing. In such screens, the spacing between the center lines of adjacent columns of apertures increases from the center to the edge of the mask. This increase then varies along the major axis generally with the power of the distance from the minor axis.

Dále je známa obrazovka, kde rozteč mezi sousedními sloupci otvorů vzrůstá od středu ke stranám stínící masky jako přibližně čtvrtá mocnina vzdálenosti od vedlejší osy stínící masky. Toto kolísání v roztečích sloupců může být vyjádřeno jako koeficient krát čtvrtá mocnina vzdálenosti, kde koeficient je proměnný a je větší pro průřezy masky, které jsou rovnoběžné se středovou horizontální osou, ale leží mimo tuto osu, než pro průřezy na středové horizontální ose. Toto kolísání čtvrté mocniny se ukázalo být přiměřeným pro tvary stínící masky první generace v podstatě rovinných obrazovek. Takové obrazovky první generace mají stínící masky se značně větším zakřivením podél vedlejší osy než podél hlavní osy. Zakřivení masky na průřezech rovnoběžných s vedlejší osou však vykazují pokles zakřivení od vedlejší osy ke stranám masky tak, že se stávají relativně ploché na stranách masky. U stínící masky je tato plochost nežádoucí, poněvadž maska je pak náchylnější k deformaci v průběhu práce s ní a vykazuje nepředvídatelný ohyb při nahřívání v průběhu činnosti obrazovky.Furthermore, a screen is known where the spacing between adjacent columns of apertures increases from the center to the sides of the shadow mask as approximately the fourth power of the distance from the minor axis of the shadow mask. This variation in the column spacing can be expressed as a coefficient times the fourth power of the distance, where the coefficient is variable and is greater for mask cross-sections that are parallel to, but lie off, the center horizontal axis than for the horizontal horizontal axis. This variation of the fourth power turned out to be adequate for the shapes of the first generation shading mask of substantially planar screens. Such first generation displays have screen masks with considerably greater curvature along the minor axis than along the major axis. However, the curvature of the mask on cross-sections parallel to the minor axis exhibits a decrease in the curvature from the minor axis to the sides of the mask so that they become relatively flat on the sides of the mask. In a shielding mask, this flatness is undesirable because the mask is then more susceptible to deformation during work with it and exhibits an unpredictable bending during warm-up during the operation of the screen.

Podstata vvnálezuThe essence of the invention

Vynález zajištuje lepší hodnoty roztečí mezi sloupci otvorů, což umožňuje různé změny zakřivení u takových stínících masek pro dosažení většího zakřivení na stranách masek a odstranění uvedených nevýhod. Podstata vynálezu spočívá v tom, že rozteč sloupců otvorů v blízkosti vedlejší osy stínící masky je menší u dlouhých stran masky než v blízkosti její hlavní osy, zatímco tato rozteč je větší v blízkosti rohů masky než u konců hlavní osy.The invention provides better spacing values between the columns of apertures, allowing various variations in the curvature of such shielding masks to achieve greater curvature on the sides of the masks and obviate these disadvantages. It is an object of the present invention that the spacing of the columns of apertures near the minor axis of the shield mask is smaller at the long sides of the mask than near its major axis, while this spacing is greater near the corners of the mask than at the ends of the main axis.

Přehled obrázků na výkresechBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

Vynález bude dále blíže popsán podle připojených výkresů, kde na obr. 1 je pohled, částečně v axiálním řezu na barevnou obrazovku se stínící maskou, zahrnující jedno příkladné provedení podle vynálezu, na obr. 2 je pohled na čelní desku barevné obrazovky z obr. 1, obr. 3 představuje pohled znázorňující povrchové obrysy 3a čelní desky na hlavní ose a povrchové obrysy 3b na vedlejší ose v řezech z obr. 2, obr. 4 znázorňuje čelní pohled na stínící masku barevné obrazovky z obr. 1, na obr. 5 jsou znázorněny povrchové obrysy 5a stínící masky v hlavní ose a povrchové obrysy 5b ve vedlejší ose, jakož i povrchové obrysy 5c v úhlopříčce, a to v řezech z obr. 4, na obr. 6 je graf roztečí mezi sloupci otvorů stínící masky barevné obrazovky, znázorněný plnými čarami a roztečí mezi otvory v masce podle dosavadního stavu techniky znázorněný čárkovaně, na obr. 7 je pohled na stínící masku v kruhu 7 z obr. 4, obr. 8 znázorňuje graf čar stínítka obrazovky, obr. 9 představuje v čelním pohledu stínící masku s obrysovou čarou o konstantní sagitální výšce a na obr. 10 je čelní pohled na zlepšenou stínící masku, znázorňující obrysovou čáru na ní o konstantní sagitální výšce.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The invention will now be described in more detail with reference to the accompanying drawings, in which: Figure 1 is a view, partially in axial section, of a color screen with a shielding mask incorporating one exemplary embodiment of the invention; Fig. 3 is a view showing the front axis surface contours 3a and the minor axis surface contours 3b in Fig. 2; Fig. 4 is a front view of the color mask of the color screen of Fig. 1; The surface contours 5a of the shadow mask in the main axis and the surface contours 5b in the minor axis, as well as the surface contours 5c in the diagonal, are shown in the cross-sections of Fig. 4. 7 is a cross-sectional view of the screen mask in circle 7 of FIG. FIG. 8 is a front view of a screen mask line; FIG. 9 is a front view of a shadow mask with a contour line of constant sagittal height; and FIG. 10 is an end view of an improved screen mask showing a contour line of constant sagittal height.

Příklady provedeni vynálezuDETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

Obr. 1 znázorňuje pravoúhlou barevnou obrazovku 10 se skleněným obalem 11, obsahující pravoúhlou čelní desku 12 a válcovité hrdlo 14 spojené s baňkou 16,. Čelní deska 12. obsahuje pozorovací panel 18 a obvodovou přírubu nebo boční stěnu 20., která je přitavena k baňce 16 skleněnou fritou 17. Pravoúhlé tříbarevné katodoluminiscenční fosforové stínítko 22 je upevněno na vnitřní ploše čelního panelu 18,. Stínítko 22 je čárového typu s katodoluminiscenčními čarami táhnoucími se prakticky rovnoběžně s vedlejší osou Y-Y obrazovky, to jest kolmo k rovině obr. 1. Obrysy katodoluminiscenčních čar jsou detailněji uvedeny dále. Mnohaotvorová elektroda selekce barev či stínící maska 24 je rozebíratelně připevněna k čelní desce 12 v daném prostorovém vztahu ke stínítku 22. Elektronová tryska 26 typu in line, znázorněná schématicky čárkovaně na obr. 1, je středově upevněna v hrdle 14 pro generování a směrování tří elektronových paprsků 28 podél z počátku koplanárních konvergentních drah přes masku 24 ke stínítku 22. Obrazovka 10 je opatřena vnějším magnetickým vychylovacím systémem jako je např. vychylovací systém 30 schématicky znázorněný tak, že obklopuje hrdlo 14 a baňku 16 v blízkosti jejich spojení za účelem směrování tří elektronových paprsků 28 v závislosti na vertikálním a horizontálním magnetickém toku pro rastrování elektronových paprsků 28 horizontálně ve směru hlavní osy X-X a vertikálně ve směru vedlejší osy Y-Y po stínítku. 22.Giant. 1 shows a rectangular color screen 10 with a glass container 11 comprising a rectangular faceplate 12 and a cylindrical neck 14 connected to the bulb 16. The faceplate 12 comprises an observation panel 18 and a peripheral flange or side wall 20 that is fused to the flask 16 by a glass frit 17. A rectangular three-color cathodoluminescent phosphor screen 22 is mounted on the inner surface of the front panel 18. The screen 22 is of the line type with cathodoluminescence lines extending substantially parallel to the minor axis of the Y-Y screen, i.e. perpendicular to the plane of FIG. 1. The contours of the cathodoluminescence lines are detailed below. The multi-hole color selection electrode or shield mask 24 is detachably attached to the faceplate 12 in a given spatial relationship to the screen 22. The in-line electron gun 26, shown schematically in dashed lines in FIG. The screen 10 is provided with an external magnetic deflection system such as a deflection system 30 schematically shown to surround the throat 14 and the bulb 16 near their junction to direct the three electron beams. of the beams 28 depending on the vertical and horizontal magnetic flux for scanning the electron beams 28 horizontally in the direction of the major axis XX and vertically in the direction of the minor axis YY along the screen. 22nd

Obr. 2 znázorňuje čelo čelní desky 12.. Její obvod vytvoří obdélník s poněkud zakřivenými stranami. Obvodová hrana stínítka 22 je znázorněna čárkovaně na obr. 2 a je pravoúhlá.Giant. 2 shows the face of the face plate 12. Its perimeter forms a rectangle with somewhat curved sides. The peripheral edge of the screen 22 is shown in dashed lines in FIG. 2 and is rectangular.

Srovnání relativních obrysů vnější plochy čelní desky 12 podél vedlejší osy Y-Y a hlavní osy X-X je znázorněno na obr. 3. Vnější plocha čelní desky 12 je zakřivena jak podél hlavní, tak podél vedlejší osy, přičemž zakřivení podél vedlejší osy je větší než zakřivení podél hlavní osy ve středové části čelní desky 12,. Na příklad ve středu čelní desky 12 je poměr poloměru zakřivení obrysu vnější plochy podél hlavní osy X-X k poloměru zakřivení podél vedlejší osy Y-Y větší než 1,1 to jest rozdíl je větší než 10 %. Zakřivení podél hlavní osy X-X však je malé ve středové části čelní desky a velmi vzrůstá v blízkosti okrajů čelní desky 12. V tomto příkladném provedení je zakřivení podél hlavní osy X-X v blízkosti okrajů čelní desky 12 větší než obecné zakřivení podél vedlejší osy Y-Y. U tohoto provedení se středová část čelní desky 12 stává plošší, zatímco body vnější plochy čelní desky 12 na okrajích stínítka 22 leží v rovině P a určují zhruba pravoúhlou obvodovou obrysovou čáru. Zakřivení povrchu podél úhlopříčky je zvoleno tak, aby se vytvořil hladký přechod mezi různými zakřiveními podél hlavní a vedlejší osy. S výhodou je zakřivení podél vedlejší osy Y-Y asi 4/3 krát větší než zakřivení podél hlavní osy X-X ve středové části čelní desky 12.. V důsledku použití odlišných zakřivení podél hlavní a vedlejší osy leží body na vnější ploše čelní desky 12 přímo naproti hranám stínítka 22 v podstatě v téže rovině P. Tyto v rovině ležící body při pohledu zepředu od čelní desky 12, viz obr. 2, vytvářejí obrysovou čáru na vnější ploše desky 12, která je v podstatě obdélníkem superponovaným na hrany stínítka 22. Proto když je obrazovka 10 vložena do televizního přijímače, může se okolo obrazovky použít stranová maska s jednotnou šířkou. Okraj takové stranové masky, který se dotýká obrázovký v pravoúhlé obrysové čáře, leží také vlastně v rovině P. Poněvadž obvodový okraj obrazu na stínítku obrazovky se zdá být rovinným, dochází zde k vytvoření iluze, že obraz je plochý, i když čelní deska je zakřivena směrem ven podél hlavní osy X-X i vedlejší osy Y-Y.A comparison of the relative contours of the outer face of the faceplate 12 along the minor axis YY and the major axis XX is shown in Fig. 3. The outer face of the faceplate 12 is curved along both the major and minor axes, the curvature along the minor axis being greater than axis in the central portion of the faceplate 12. For example, at the center of the faceplate 12, the ratio of the radius of curvature of the outer surface contour along the major axis X-X to the radius of curvature along the minor axis Y-Y is greater than 1.1, i.e. the difference is greater than 10%. However, the curvature along the major axis X-X is small in the central portion of the faceplate and greatly increases near the edges of the faceplate 12. In this exemplary embodiment, the curvature along the major axis X-X near the edges of the faceplate 12 is greater than the general curvature along the minor axis Y-Y. In this embodiment, the central portion of the faceplate 12 becomes flatter, while the points of the outer face of the faceplate 12 at the edges of the screen 22 lie in the plane P and define a roughly rectangular circumferential contour line. The surface curvature along the diagonal is selected so as to create a smooth transition between the different curvature along the major and minor axes. Preferably, the curvature along the minor axis YY is about 4/3 times greater than the curvature along the major axis XX in the central portion of the faceplate 12. Due to the use of different curvature along the major and minor axes, the points on the outer face of the faceplate 12 lie directly opposite the edges of the screen. These planar points, seen from the front of the faceplate 12, see FIG. 2, form a contour line on the outer face of the faceplate 12, which is essentially a rectangle superimposed on the edges of the screen 22. Therefore, when the screen is 10 is inserted into the television, a uniform width side mask may be used around the screen. The edge of such a side mask that touches the pictorial in the rectangular contour line is also actually in the P plane. outwards along the major axis XX and the minor axis YY.

Obr. 4 znázorňuje pohled zepředu na stínící masku 24. Přerušovaná čára 32 znázorňuje hranici otvory opatřené části masky 24.. Povrchové obrysy podél hlavní osy X-X, vedlejší osy Y-Y, případně úhlopříčky masky 24 jsou znázorněny křivkami 5a. 5b, případně 5c na obr. 5. Maska 24 má rozdílné zakřivení podél hlavní osy a podél vedlejší osy. Obrys podél hlavní osy má malé zakřivení poblíž středu masky 24 a větší po stranách masky 24.. Obrys takové stínící masky 24 lze obecně získat opsáním zakřivení hlavní osy X-X jako kruhu s velkým poloměrem přes přibližně středovou část hlavní osy a kruhu s menším poloměrem přes zbytek hlavní osy. Zejména sagitální výška podél hlavní osy se však značně mění se čtvrtou mocninou vzdálenosti od vedlejší osy Y-Y. Sagitální výška je vzdálenost od myšlené roviny, která se dotýká středu plochy masky. Zakřivení rovnoběžné s vedlejší osou Y-Y je takové, aby hladce vyplynulo do zakřivení hlavní osy k požadovanému okraji masky 24 a může zahrnovat měnící se zakřivení, jak se používá podél hlavní osy. Takový obrys masky 24 vykazuje určité zlepšené vlstnoti při teplotním roztahování vzhledem ke zvýšenému zakřivení v blízkosti konců hlavní osy.Giant. 4 shows a front view of the shield mask 24. The dashed line 32 shows the boundary of the apertured portion of the mask 24. The surface contours along the major axis X-X, the minor axis Y-Y, or the diagonals of the mask 24 are shown by curves 5a. 5b and 5c respectively in FIG. 5. The mask 24 has different curvature along the major axis and along the minor axis. The contour along the major axis has a small curvature near the center of the mask 24 and larger on the sides of the mask 24. The contour of such a shadow mask 24 can generally be obtained by describing the curvature of the major axis XX as a large radius circle over approximately main axis. In particular, the sagittal height along the major axis varies greatly with the fourth power of the distance from the minor axis Y-Y. The sagittal height is the distance from the imaginary plane that touches the center of the mask area. The curvature parallel to the minor axis Y-Y is such that it smoothly flows into the curvature of the major axis to the desired edge of the mask 24 and may include varying the curvature as used along the major axis. Such a mask outline 24 exhibits some improved thermal expansion properties due to the increased curvature near the ends of the major axis.

Na obr. 6 je znázorněn graf, představující rozteč A_H mezi sloupci otvorů v kvadrantu stínící masky 24., který je proveden plnými křivkami s označením H a dále v kvadrantu výše zmíněné stínící masky podle dosavadního stavu techniky, což je znázorněno čárkovanými křivkami a označeno F. Vertikální souřadnice grafu představují vzdálenost od hlavní osy X-X. Horizontální souřadnice představují rozteč A_H sloupců, která, jak je · znázorněno na obr. 7, je měřena od středové čáry jednoho sloupce ke středové čáře sousedního sloupce. Každá křivka je na obr. 6 očíslována pro určení vzdálenosti od vedlejší osy Y-Y, kterou reprezentuje. Na příklad každá křivka označená 200 představuje rozteč mezi dvoustým a dvěstěprvním sloupcem otvorů. Ve stínící masce podle dosavadního stavu techniky, znázorněné čárkovanou křivkou je rozteč A_H mezi sloupci otvorů jednotná podél vedlejší osy a v její blízkosti jak je naznačeno přímými křivkami F - 1 a F” - 150. Mírné zakřivení může být zaznamenáno v křivce F - 200, indikující že rozteč mezi sloupci pro vzdálenost 200 lehce vzrůstá se vzdáleností od hlavní osy. Křivky F - 300 a F - 306 jsou již značně obloukovité a indikují značný nárůst rozteče mezi sloupci se zvyšující se vzdáleností od hlavní osy. Rozteč mezi sloupci otvorů nové zlepšení stínící masky 24 se značně liší od rozteče v masce podle dosavadního stavu techniky v blízkosti vedlejší osy. Jak je nakresleno na obr. 6, rozteč A_Hsloupců otvorů v blízkosti vedlejší osy klesá se zvyšující se vzdáleností es od hlavní osy, což je znázorněno křivkami H 1, H - 50 a H - 100. V blízkosti stopadesátého sloupce začíná rozteč sloupců otvorů mírně vzrůstat se zvyšující se vzdáleností od hlavní osy, jak je znázorněno lehkým zakřivením v křivce H - 150. Toto obloukovité zakřivení křivek, představující rozteč sloupců otvorů, vzrůstá se vzdáleností od vedlejší osy, jak je znázorněno křivkami ”H - 200 a HFig. 6 is a graph representing the spacing A _H between the column of apertures in the quadrant of the shadow mask 24, which is represented by solid curves marked H and further in the quadrant of the prior art shadow mask shown by dashed curves and marked F. The vertical coordinates of the graph represent the distance from the main axis XX. The horizontal coordinates represent the column spacing A _H , which, as shown in Fig. 7, is measured from the center line of one column to the center line of an adjacent column. Each curve is numbered in Figure 6 to determine the distance from the minor axis YY it represents. For example, each curve indicated by 200 represents the spacing between the two hundred and two hundred first holes. In the prior art shading mask shown by the dashed line, the pitch A _H between the column of apertures is uniform along and adjacent to the minor axis as indicated by the straight lines F-1 and F "-150. A slight curvature can be recorded in the F-200 curve indicating that the spacing between the columns for a distance of 200 slightly increases with the distance from the major axis. The curves F - 300 and F - 306 are already very arcuate and indicate a significant increase in the spacing between the columns with increasing distance from the main axis. Pitch Between Column Holes The new improvement of the screen mask 24 differs greatly from that of the prior art mask near the minor axis. As shown in Fig. 6, the hole column spacing A _H near the minor axis decreases with increasing distance α from the major axis, as shown by the curves H 1, H-50 and H-100. Near the 150th column, the hole column spacing begins slightly increasing with increasing distance from the major axis as shown by the slight curvature in the H-150 curve. This arcuate curve of the curves, representing the column spacing of the orifices, increases with the distance from the minor axis as shown by the H-200 and H curves.

300, ale mírně klesá po stranách masky 24, jak je zřejmé ze srovnání křivky H - 305 s křivkou H - 300.300, but slightly decreases on the sides of the mask 24, as can be seen from the comparison of curve H-305 with curve H-300.

Rozteč sloupců otvorů podél hlavní osy vzrůstá přibližně jako funkce čtvrté mocniny vzdálenosti od vedlejší osy. V daném příkladu, znázorněném na obr. 6, je toto kolísání hlavní osy v tisícinách palce přibližně: A_H = 30 + 0,00185 X⁴, kde X je vzdálenost osy sloupce od vedlejší osy Y-Y. Mimo hlavní osu však je kolísání rozteče sloupců otvorů složitější a mění se přibližně jako rovnice A_H - a + bx² + cx⁴, kde a, b, c jsou různé funkce čtverce vzdálenosti od hlavní osy a x je vzdálenost od vedlejší osy.The spacing of the columns of holes along the major axis increases approximately as a function of the fourth power of the distance from the minor axis. In the example shown in Fig. 6, this major axis variation in thousandths of an inch is approximately: _AH = 30 + 0.00185 X ⁴ , where X is the distance of the column axis from the minor axis YY. Outside the major axis, however, the variation of the hole column spacing is more complex and varies approximately as equation A _H - a + bx ² + cx ⁴ , where a, b, c are different functions of the square distance from the major axis and x is the distance from the minor axis.

Stínítko 22 obrazovky 10 je vytvořeno známým fotografickým procesem, který používá stínící masku 24 jako čar. Toto intenzity, fotografickou matrici. Když se v průběhu expozičního kroku fotografického procesu používá lineárního světelného zdroje, objevuje se problém špatného nastavení obrazu lineárního světelného zdroje vůči středovým čarám katodoluminiscenčních špatné vystředění rozšiřuje rozdělení světelné použité k natištění katodoluminiscenčních čar, a tím zvyšuje citlivost použitého fosforu ke světelné expozici a tak dělá řízení šířky čáry složitějším. Podle známého stavu techniky se prováděla kompenzace této optické vady různými prostředky včetně techniky zonální expozice synchronizující odklon lineárního světelného zdroje s postupnou expozicí různých oblastí stínítka, případně prohnutí sloupců otvorů a katodoluminiscenčních čar. Ve zlepšené obrazovce 10 je problém této optické vady vyřešen kolísáním rozteče sloupců otvorů jako funkce jak vzdálenost od vedlejší osy, tak vzdálenosti od hlavní osy. Výsledný vzorek katodoluminiscenčních čar zahrnuje prohnuté čáry v oblasti stínítka, kde je tato optická vada v současných obrazovkách minimální. Takový vzorek je znázorněn na obr. 8, kde plné linie 40 až 45 představují zvolené, od sebe oddělené katodoluminiscenční čáry a přerušované linie 46 představují rovné čáry, rovnoběžné s vedlejší osou. Je zřejmé, že zakřivení katodoluminiscenčních čar se zvyšuje se zvyšující se vzdáleností od vedlejší osy až k maximálnímu zakřivení v sousedství linií 42 až 43 a pak se snižuje až ke koncové liniiThe screen 22 of the screen 10 is formed by a known photographic process that uses the shadow mask 24 as lines. This intensity, a photographic matrix. When a linear light source is used during the exposure step of the photographic process, the problem of misalignment of the linear light source image relative to the cathodoluminescence center lines occurs The misalignment extends the light distribution used to print the cathodoluminescence lines, thereby increasing the sensitivity of the phosphorus used to light exposure line width more complex. According to the prior art, this optical defect has been compensated for by various means, including a zonal exposure technique synchronizing the deflection of a linear light source with successive exposure of various areas of the screen, possibly deflection of columns of holes and cathodoluminescence lines. In the improved screen 10, the problem of this optical defect is solved by varying the spacing of the hole columns as a function of both the distance from the minor axis and the distance from the major axis. The resulting cathodoluminescence line pattern includes curved lines in the screen area, where this optical defect is minimal in current screens. Such a sample is shown in FIG. 8, where solid lines 40-45 represent selected, separated cathodoluminescent lines and dashed lines 46 represent straight lines parallel to the minor axis. Obviously, the curvature of the cathodoluminescence lines increases with increasing distance from the minor axis to the maximum curvature adjacent to lines 42-43 and then decreases to the end line

45. která je přímá.45. which is direct.

Výhodou rozteče sloupce otvorů podle vynálezu je, že její použití umožňuje větší zakřivení stínící masky v průřezech v blízkosti stran masky, které jsou rovnoběžné s vedlejší osou, než by bylo možné bez jejího použití. Obrys čelního panelu 12, majícího v podstatě rovinný okraj, vede konstruktéra k obrysu masky 52., znázorněnému čarou 50 na obr. 9. Čára 50 představuje obrysovou linii na masce 52 o stejné sagitální výšce. Je zřejmé, že čára 50 je v podstatě přímá na levé a pravé straně masky 52. Tato přímost vytváří značné problémy při tvarování masky 52. a zacházení s ní. Již lehký dotyk masky 52 může způsobit, že se i při normální manipulaci prohne směrem dovnitř. Proto je žádoucí navrhnout masku 52 s větším zakřivením po stranách, aby se zabránilo vzniku tohoto problému. Použití nové rozteče sloupců otvorů umožňuje zlepšený obrys masky, jak je znázorněn čarou 54 v obr. 10. Čára 54 představuje obrysovou čáru na masce 56 o stejné sagitální výšce. V tomto případě je zřejmé, že čára 54 je značně zakřivena na levé a pravé straně masky 56 a tím jí dává větší zakřivení rovnoběžně s vedlejší osou Y-Y a takto i větší pevnost.An advantage of the column spacing of the apertures of the invention is that its use allows for greater curvature of the shadow mask in cross-sections near the sides of the mask that are parallel to the minor axis than would be possible without its use. The contour of the front panel 12, having a substantially planar edge, leads the designer to the outline of the mask 52 shown by the line 50 in Fig. 9. The line 50 represents the contour line on the mask 52 of the same sagittal height. Obviously, the line 50 is substantially straight on the left and right sides of the mask 52. This straightness creates considerable problems in shaping and handling the mask 52. Even a light touch of the mask 52 can cause it to bend inwards even during normal handling. Therefore, it is desirable to design a mask 52 with greater curvature at the sides to avoid this problem. The use of a new hole column pitch allows an improved mask outline as shown by line 54 in FIG. 10. Line 54 represents the outline of the mask 56 at the same sagittal height. In this case, it is apparent that the line 54 is greatly curved on the left and right sides of the mask 56, thereby giving it a greater curvature parallel to the minor axis Y-Y and hence greater strength.

Průmyslová využitelnostIndustrial applicability

Stínící maska podle vynálezu je využitelná u barevných obrazovek pro televizní přijímače.The screen mask according to the invention is applicable to color television screens.

Claims

PATENT CLAIMS

A screen mask for a color screen disposed at a cathodoluminescence line screen comprising a plurality of slotted apertures arranged in columns, wherein the major axis of the mask extends through the center and midpoints of the short sides and the minor axis extends through the center of the mask and midpoints of the long sides. direction of the minor axis and spaced side by side at other distances at the minor axis of the mask, characterized by a column of apertures near the minor (24) being smaller at the long sides of the mask (24) than near its major axis (XX); near the corners of the mask (24) than at the ends of the major axis (XX).

direction of the main axis in than at the sides by the spacing (Apj) of the axis (Y-Y) of the shadow mask

Shielding mask according to claim 1, characterized in that the spacing (A _H ) of the columns of holes along the main axis (XX) parallel to it increases as a function of the square of the distance from the minor axis (YY).