PL153713B1

PL153713B1 - Colour image tube with shade mask

Info

Publication number: PL153713B1
Application number: PL1986258427A
Authority: PL
Priority date: 1985-03-14
Filing date: 1986-03-14
Publication date: 1991-05-31
Also published as: CZ278553B6; GB2175132A; FR2579018B1; SG20792G; FR2579018A1; RU1775051C; HK60594A; IT8619651A1; GB8605930D0; DD243586A5; MX165247B; JPS61214332A; BR8601066A; KR860007708A; DE3608433A1; KR900005932B1; GB2175132B; CN86101478A; CA1237465A; JPH051574B2

Description

RZECZPOSPOLITA OPIS PATENTOWY 153 713

POLSKA

URZĄD

PATENTOWY

RP

Patent dodatkowy do patentu nr--:—

Int. Cl.® H01J 29/07

Zgłoszono: 86 03 14 (P. 258427) ^{H01J 29/86}

Pierwszeństwo: 85 03 14 Stany Zjednoczone Ameryki

G 6 fl L R A

Zgłoszenie ogłoszono: 87 02 09

Opis patentowy opublikowano: 1991 12 31

Twórca wynalazku: Walter D. Masterton

Uprawniony z patentu: RCA Corporation,

Nowy Jork (Stany Zjednoczone Ameryki)

Kineskop kolorowy z maską cieniową

Wynalazek dotyczy kineskopów kolorowych ze szczelinowymi maskami cieniowymi, zamontowanymi w pobliżu liniowego ekranu luminoforowego, a bardziej dokładnie, przedmiotem wynalazku jest kineskop z maską cieniową o udoskonalonym rozmieszczeniu kolumn otworów, które zapewnia możliwość uzyskania udoskonalonego konturu maski.

Obecnie większość wytwarzanych kolorowych kineskopów są kineskopami, mającymi liniowy ekran i cieniową maskę szczelinową. Te kineskopy mają zasadniczo prostokątne płyty czołowe o powierzchniach stanowiących wycinki kuli z liniowo rozmieszczonymi na wewnętrznych powierzchniach płyt czołowych elementami luminoforowymi oraz maski cieniowe z otworami szczelinowymi usytuowane w pobliżu ekranów. Maski te również mają nieco wypukłe powierzchnie, będące wycinkami kuli. W takich kineskopach otwory szczelinowe w maskach są usytuowane w kolumnach tak, iż te kolumny są zasadniczo równoległe do mniejszej osi kineskopu, lub też krzywizny kolumn stopniowo zwiększają się w kierunku od środka ekranu ku jego krótszym krawędziom.

Obecnie sugeruje się wprowadzenie pewnych modyfikacji kineskopu kolorowego. Jedną z tych modyfikacji jest koncepcja nowego obrysu płyty czołowej, który to obrys stwarza iluzję płaskości. Taka modyfikacja jest ujawniona w trzech złożonych jednocześnie i znajdujących się w stadium jednoczesnego badania w Urzędzie do spraw Patentów i Znaków Towarowych Stanów Zjednoczonych Ameryki zgłoszeniach: nr 469 772 dokonanym przez F.R.Raglanda, juniora, w dniu 25 lutego 1983r., nr 469 774 dokonanym przez F.R.Raglanda, juniora, w dniu 25 lutego 1983 roku, rn 529 644 dokonanym przez R.J.D'Amato i innych w dniu 06 września 1983 roku.

Obrys płyty czołowej zmodyfikowanego kineskopu odznacza się krzywizną zarówno wzdłuż większej jak i mniejszej osi płyty czołowej, jednakże powierzchnia płyty czołowej nie stanowi już wycinka kuli. Mówiąc inaczej, powierzchnia ta nie jest sferyczna. Większa i mniejsza osie są definiowane jako środkowe (przechodzące przez środek) osie pozioma i pionowa, odpowiednio,

153 713 gdy kineskop jest usytuowany w swojej normalnej pozycji, w jakiej jest montowany do skrzyni odbiornika telewizyjnego.

W korzystnym przykładzie realizacji wynalazku, opisanym w niniejszym zgłoszeniu, krawędzie peryferyjne ekranu kineskopu są zasadniczo płaskie i wizualnie wydają się płaskimi. Aby otrzymać taki płaski lub zasadniczo płaski brzeg peryferyjny, niezbędnym jest ukształtowanie płyty czołowej w taki sposób, aby krzywizna wzdłuż większej osi była większa w bocznych częściach płyty w porównaniu ze środkiem płyty. Takie niesferyczne ukształtowanie płyty czołowej komplikuje wiele zagadnień, łącznie z wyborem kształtu masek cieniowych.

Jeżeli maska cieniowa jest wytworzona z prostymi przekrojami poprzecznymi równoległymi do mniejszej osi wzdłuż jej krawędzi, wówczas maska może mieć złe parametry mechaniczne, co staje się przyczyną takich niepożądanych efektów, jak mikrofonowanie, wyginanie się maski w kopułą itd. Dlatego korzystnym jest zapewnić, aby maska miała większą krzywiznę w tych przekrojach poprzecznych, niż to jest sugerowane konturem płyty czołowej. Taka modyfikacja konturu maski, jednakże, wymaga innych zmian w kineskopie, włączając zmiany w rozmieszczeniu otworów szczelinowych w masce.

W pierwszych kineskopach z maskami cieniowymi o otworach szczelinowych i z ekranami liniowymi maski cieniowe były prawie sferyczne i odstęp między sąsiednimi kolumnami otworów szczelinowych w masce wzdłuż większej osi (odstęp poziomy) był utrzymany stały w całej masce. Jednakże niektóre później opracowane kineskopy tego typu zawierały maski cieniowe o większej krzywiźnie i ze zmieniającymi się odstępami między kolumnami otworów jak, na przykład, w rozwiązaniu według patentu Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 4136 300 udzielonego A.M.Morrellowi w dniu 23 stycznia 1979 roku. W takich kineskopach odległość między liniami środkowymi kolumn otworów zwiększa się w kierunku od środka ku krawędziom maski. Takie zwiększenie następuje wzdłuż większej osi głównie proporcjonalnie do kwadratu odległości od mniejszej osi.

Zagadnienie związane ze zmieniającymi się odległościami między kolumnami jest omawiane w zgłoszeniu nr 615 585 dokonanym w Stanach Zjednoczonych Ameryki przez W.D.Mastertona w dniu 31 marca 1984 roku. W tym zgłoszeniu odległości między sąsiednimi kolumnami otworów zwiększają się od środka ku krawędziom maski cieniowej mniej więcej proporcjonalnie do czwartej potęgi odległości od mniejszej osi maski cieniowej. Te zmiany w odległościach między kolumnami mogą być wyrażone poprzez pewien współczynnik przemnożony przez czwartą potęgę odległości, przy założeniu, że współczynnik ten jest zmienny, większy dla przekrojów maski, które są równoległe do środkowej osi poziomej maski lecz nie pokrywają się z nią, niż dla przekrojów na środkowej osi poziomej.

Taka zmiana proporcjonalna do czwartej potęgi, ma potwierdzenie dla konturów masek cieniowych pierwszej generacji zasadniczo płaskich kineskopów. Takie kineskopy pierwszej generacji mają maski cieniowe z zasadniczo większą krzywizną wzdłuż mniejszej osi, niż wzdłuż większej osi. Jednakże krzywizny masek w przekrojach poprzecznych równoległych do mniejszej osi zmniejszają się od mniejszej osi ku krawędziom maski, aby stać się stosunkowo płaskimi przy krawędziach maski. Taka płaskość nie jest korzystna w maskach cieniowych, ponieważ taka maska jest bardziej podatna na deformację podczas procesów wytwarzania i może mieć w pewnym stopniu nie dającą się przewidzieć giętkość podczas procesów wytwarzania kineskopów realizowanych w podwyższonych temperaturach.

Niniejszy wynalazek dotyczy takiego udoskonalenia rozmieszczenia otworów w sąsiednich kolumnach, które pozwala stosować różną krzywiznę w takich maskach cieniowych, aby uzyskać większą krzywiznę przy krawędziach maski.

Przedmiotem wynalazku jest kineskop kolorowy, zawierający maskę cieniową zamontowaną w pobliżu luminoforowego ekranu rzędowego, która to maska cieniowa ma wiele szczelinowo ukształtowanych otworów uporządkowanych w kolumnach i która to maska cieniowa ma zasadniczo prostokątny obrys o dwóch przeciwległych dłuższych krawędziach i dwóch przeciwległych krótszych krawędziach. Większa oś maski cieniowej jest osią przechodzącą przez środek maski i przez środki krótszych krawędzi, a mniejsza oś wspomnianej maski jest osią przechodzącą przez środek maski i przez środki dłuższych krawędzi. Kolumny otworów są rozmieszczone tak, że kierunek ich osi podłużnych zasadniczo odpowiada kierunkowi mniejszej osi. Odstęp między tymi

153 713 kolumnami jest mierzony w kierunku większej osi, przy czym odstęp między kolumnami otworów w pobliżu mniejszej osi w masce cieniowej jest mniejszy przy dłuższych krawędziach maski niż w pobliżu większej osi maski, a odstęp między kolumnami otworów w pobliżu części narożnych maski jest większy niż w pobliżu większej osi.

Zgodnie z wynalazkiem, odstęp między kolumnami otworów wzdłuż przekrojów poprzecznych równoległych do większej osi, lecz znajdujących się w pewnej odległości od większej osi, zmienia się, w przybliżeniu, zgodnie z równaniem: A — a + bx² + cx⁴, gdzie A jest odstępem między kolumnami otworów, a, b, c są różnymi funkcjami odległości od większej osi, a x jest odległością od mniejszej osi. Korzystne jest, gdy odstęp między kolumnami otworów mierzony wzdłuż większej osi zwiększa się zasadniczo proporcjonalnie do czwartej potęgi odległości od mniejszej osi.

Przedmiot wynalazku jest bliżej objaśniony w przykładzie realizacji wynalazku na podstawie załączonego rysunku, na którym fig. 1 przedstawia widok z boku, częściowo w przekroju wzdłużnym, kineskop kolorowy z maską cieniową, fig. 2 — w widoku z przodu płytę czołową kineskopu kolorowego w przekroju wzdłuż linii 2-2 z fig. 1, fig. 3 stanowi nałożone na siebie widoki płyty czołowej w przekroju wzdłuż większej osi (wzdłuż linii 3a-3a) i w przekroju wzdłuż mniejszej osi (wzdłuż linii 3b-3b) z fig. 2, fig. 4 — widok z przodu maski cieniowej kineskopu kolorowego z figury 1, fig. 5 — nałożone na siebie widoki w przekrojach wzdłuż większej osi (wzdłuż linii 5a-5a), wzdłuż mniejszej osi (wzdłuż linii 5b-5b) i wzdłuż przekątnej (wzdłuż linii 5c-5c) z figury 4, fig. 6— wykres odwzorowujący rozmieszczenie kolumn otworów w masce cieniowej w kineskopie według wynalazku (linia ciągła) i w znanym kineskopie (linie kreskowane); fig. 7 przedstawia w powiększeniu wycinek maski cieniowej ograniczonej okręgiem z figury 4, fig. 8 — wykres wybranych linii ekranowych kineskopu kolorowego według wynalazku; fig. 9 — maskę cieniową w widoku z przodu przy założeniu, że płyta czołowa ma krzywiznę, z zaznaczoną linią konturową będącą geometrycznym zbiorem punktów o stałej wysokości sagitalnej; a fig. 10 — udoskonaloną maskę cieniową w widoku z przodu, z zaznaczoną linią konturową, będącą geometrycznym zbiorem punktów o stałej wysokości sagitalnej.

Figura 1 przedstawia prostokątny kineskop kolorowy 10 mający balon szklany 11 składający się z prostokątnej płyty czołowej 12, części stożkowej 16 i części szyjkowej 14. Płyta czołowa składa się z części ekranowej 18 i ścianek bocznych 20, które są spawane z częścią stożkową 16 przy użyciu spoiwa szklanego 17. Nowy trójkolorowy ekran luminoforowy 22 jest nałożony na wewnętrzną powierzchnię płyty czołowej 18. Ekran jest liniowy, z paskami luminoforowymi nałożonymi równolegle do mniejszej osi Y-Y kineskopu (prostopadle do płaszczyzny fig. 1).

Zagadnienie dotyczące obrysów pasków luminoforowych jest omówione szczegółowo w dalszych częściach opisu. Nowa wieloszczelinowa elektroda do selekcji kolorów, zwana inaczej maską cieniową, jest montowana rozłącznie w przestrzeni, ograniczonej płytą czołową 12 w uprzednio ustalonej odległości od ekranu 22. Liniowa wyrzutnia elektronowa 26 zaznaczona na figurze 1 linią kreskowaną, jest zamontowana współosiowo wewnątrz części szyjkowej 14 kineskopu. Jest ona przeznaczona do wytwarzania trzech zbieżnych wiązek elektronów 28, których tory znajdują się w ich części początkowej w jednej płaszczyźnie i które przechodzą następnie przez otwory maski 24. Przy tym punkty zbieżności tych wiązek powinny tworzyć powierzchnię zasadniczo pokrywającą się z powierzchnią ekranu 22.

Kineskop 10 z figury 1 jest skonstruowany tak, że jest stosowany z zewnętrznym zespołem odchylania takim, jak zespół odchylania 30 zaznaczony na rysunku schematycznie, usytuowany tak, że obejmuje szyjkę 14 i część stożkową 16 w otoczeniu miejsca ich połączenia. Zespół odchylania 30 wytwarza pole magnetyczne oddziaływujące na trzy wiązki elektronów 28 powodując ich odchylanie poziome — w kierunku większej osi Χ-Χ i pionowo — w kierunku mniejszej osi Y-Y odpowiednio, w obszarze prostokątnej osnowy obrazu na ekranie 22.

Na figurze 2 przedstawiona jest schematycznie w widoku z przodu płyta czołowa 12. Krawędzie zewnętrzne płyty czołowej 12 tworzą prostokąt o nieco zaokrąglonych ściankach. Granica ekranu 22 zaznaczona jest na figurze 2 linią kresowaną, tworzącą prostokąt.

Porównanie konturów powierzchni zewnętrznej płyty czołowej 12 w przekrojach wzdłuż

153 713 mniejszej osi Y-Y i większej osi Χ-Χ jest przedstawione na figurze 3. Powierzchnia zewnętrzna płyty czołowej 12 ma krzywiznę wzdłuż obu osi — mniejszej i większej z tym, że krzywizna wzdłuż mniejszej osi jest większa od krzywizny wzdłuż większej osi w środkowej części płyty 12. Na przykład w środku płyty czołowej stosunek promienia krzywizny powierzchni zewnętrznej wzdłuż większej osi do promienia krzywizny wzdłuż mniejszej osi jest większy od 1,1 (różnica promieni krzywizny jest większa od 10%). Oznacza to, że krzywizna wzdłuż większej osi jest mała w części środkowej płyty czołowej i znacznie zwiększa się przy krawędziach płyty. W przedstawionym jednym przykładzie realizacji wynalazku krzywizna wzdłuż większej osi, w pobliżu krawędzi płyty czołowej, jest większa niż ogólna krzywizna wzdłuż mniejszej osi. Przy takim rozwiązaniu część środkowa płyty czołowej staje się bardziej płaska, ponieważ punkty zewnętrznej powierzchni płyty czołowej przy krawędziach ekranu znajdują się zasadniczo w płaszczyźnie P i wyznaczają zasadniczo prostokątną brzegową linię konturową. Krzywizna powierzchni wzdłuż przekątnej jest wybrana dla wygładzania, przejścia między różnymi krzywiznami wzdłuż większej i mniejszej osi. Korzystnym jest przy tym, gdy krzywizna wzdłuż mniejszej osi jest około 3/4 większa od krzywizny wzdłuż większej osi w części środkowej płyty czołowej. Jednakże krzywizna wzdłuż mniejszej osi również może być podobna do krzywizny wzdłuż większej osi w części środkowej i zwiększać się przy krawędziach płyty czołowej.

Przy zastosowaniu różnych krzywizn wzdłuż większej i mniejszej osi, punkty na zewnętrznej powierzchni płyty czołowej znajdujące się bezpośrednio naprzeciwko krawędzi ekranu 22, znajdują się bezpośrednio w tej samej płaszczyźnie P. Punkty znajdujące się zasadniczo na płaszczyźnie, gdy na nie patrzy się z przodu płyty czołowej 12, jak na figurze 2, tworzą linię konturową na zewnętrznej powierzchni płyty czołowej, która jest zasadniczo obrysem prostokątu nałożonego na powierzchnię organiczną krawędziami ekranu 22. Wynika z tego, że gdy kineskop 10 jest wstawiony do skrzynki odbiornika telewizyjnego, maska o ujednoliconej szerokości obejmująca kineskop, lub ramka, może być nałożona na kineskop. Krawędzie takiej maski, które mają kontakt z kineskopem w punktach tworzących prostokąt, również są rozmieszczone zasadniczo w płaszczyźnie P. Ponieważ peryferyjna granica obrazu na ekranie kineskopu wydaje się płaska, otrzymuje się wrażenie, że obraz jest płaski, nawet jeżeli płyta czołowa jest wypukła wypukłością skierowana na zewnątrz wzdłuż obu osi — większej i mniejszej.

Figura 4 przedstawia w widoku z przodu nową maskę cieniową 24. Kreskowane linie 32 zaznaczają granicę perforowanej części maski 24. Obrys powierzchni w przekrojach: wzdłuż większej osi Χ-Χ, wzdłuż mniejszej osi Y-Y i wzdłuż przekątnej maski 24 są odwzorowane krzywymi 5a, 5b, 5c, odpowiednio, na figurze 5.

Maska 24 ma inną krzywiznę wzdłuż większej osi niż wzdłuż mniejszej osi. Linia przecięcia się powierzchni maski z płaszczyzną prostopadłą do powierzchni podstawy maski a przechodzącą przez większą oś ma niedużą krzywiznę w pobliżu środka maski i większą krzywiznę przy krawędziach maski. Kontur takiej maski cieniowej w przekroju wzdłuż większej osi Χ-Χ może być generalnie otrzymany poprzez opisanie krzywizny jako krzywizny okręgu o dużym promieniu w środkowej części większej osi i jako krzywizny okręgu o mniejszym promieniu w pozostałej części większej osi. Jednakże, bardziej szczegółowo, wysokość sagitalna wzdłuż większej osi zmienia się zasadniczo proporcjonalnie do czwartej potęgi odległości od mniejszej osi Y-Y. Wysokość sagitalna punktu na powierzchni maski —jest to odległość między płaszczyzną styczną do powierzchni maski w jej części środkowej a punktem. Krzywizna równoległa do mniejszej osi Y-Y jest taka, że stopniowo dostosowuje się krzywiznę wzdłuż większej osi do uzyskania wymaganej krzywizny na obszarach peryferyjnych i może odznaczać się zmianami krzywizny, jakie są stosowane wzdłuż większej osi. Taki obrys maski oznacza lepszą rozszerzalność termiczną maski ze względu na zwiększoną krzywiznę w pobliżu końców większej osi.

Figura 6 stanowi wykres, na którym liniami ciągłymi oznaczonymi literami „H“ pokazane jest rozmieszczenie otworów szczelinowych w jednej ćwiartce maski cieniowej 24, a liniami kreskowanymi oznaczonymi literami „F“ pokazane jest rozmieszczenie otworów szczelinowych w jednej ćwiartce maski cieniowej, jaka jest opisana w patencie nr 4 583 022, cytowanym powyżej. Współrzędne pionowe wykresów odwzorowują odległości od większej osi otworów usytuowanych w kolejnych kolumnach. Współrzędne poziome odwzorowują odległości między otworami w sąsiednich kolumnach, które, jak pokazano na figurze 7, są mierzone od linii środkowej jednej kolumny do linii środkowej sąsiedniej kolumny. Każda krzywa jest ponumerowana dla identyfikacji odległości od niej do mniejszej osi tak, że liczba przypisana do jakiejś krzywej, reprezentuje tę krzywą. Na przykład, linia oznaczona symbolem 200 identyfikuje odległość między 200-ną a 201-ą kolumnami otworów.

153 713

W znanych cieniowych maskach, których kolumny są zaznaczone kreskowanymi liniami, odległość między otworami w sąsiednich kolumnach są jednakowe wzdłuż i w pobliżu mniejszej osi, co jest zaznaczone prostymi F-l i F-150. Może być zauważona niewielka krzywizna linii F-200, co oznacza, że odległości między otworami w sąsiednich kolumnach zwiększają się wraz ze zwiększeniem się odległości od większej osi. Krzywe F-300 i F-306 mają zauważalną łukowatość oznaczającą zasadnicze zwiększenia odległości między kolumnami wraz ze zwiększeniem się odległości od większej osi.

Odległości między kolumnami w udoskonalonej masce cieniowej 24 znacznie się różnią od tychże odległości w znanych maskach w obszarze w pobliżu mniejszej osi. Jak pokazano na figurze 6, odległość Ah między otworami w sęsiednich kolumnach, w pobliżu mniejszej osi zmniejsza się wraz ze zwiększeniem się odległości od większej osi, jak pokazano na przykładzie krzywych H-l, H-5 i H-100. W pobliżu obszaru 150 odległości między sąsiednimi kolumnami zaczynają nieco się zwiększać wraz ze zwiększeniem odległości od większej osi, jak pokazano poprzez lekką łukowatość krzywej H-150. Ta łukowatość krzywych reprezentujących odległości między sąsiednimi kolumnami zwiększa się wraz ze zwiększeniem odległości od mniejszej osi, jak zaznaczono na przykładzie krzywych H-200 i H-300, lecz nieco zmniejsza się przy krawędziach maski, jak można zauważyć przy porównaniu krzywej H-305 z krzywą H-300.

Odległości między sąsiednimi kolumnami wzdłuż większej osi zwiększają się, w przybliżeniu, proporcjonalnie do czwartej potęgi odległości od mniejszej osi. W szczególnym przykładzie, przedstawionym na fig. 6, te zmiany, względem większej osi, w milicalach, wynoszą w przybliżeniu:

A_h = 30 +0,00185 x⁴.

Jednakże, jeżeli mieć ma uwadze odległości od większej osi, odległości między sąsiednimi kolumnami zmieniają się w sposób bardziej skomplikowany i ta zależność może być przedstawiona równaniem:

Ah = a + b x² + c x⁴, gdzie a, b, c — różne funkcje kwadratu odległości od większej osi, a x — odległość od mniejszej osi.

Ekran 22 kineskopu 10 jest wytworzony znanym sposobem fotolitograficznym, w którym maska cieniowa jest wykorzystywana jako wzorcowa maska fotograficzna. Jak zaznaczono powyżej, związany jest z tym problem, jaki powstaje wówczas, gdy stosuje się liniowe źródło światła przy naświetlaniu warstwy fotoczułej na ekranie kineskopu. Problemem tym jest niewspółliniowość obrazu linearnego źródła światła z liniami środkowymi pasków luminoforowych. Ta niewspółliniowość, nazywana również „błędem ukośności, rozszerza rozdział natężenia światła stosowanego do drukowana pasków luminoforowych i przez to zwiększa czułości szerokości luminoforu względem czasu naświetlania, czyniąc w ten sposób kontrolę szerokości linii bardziej trudną.

W znanych rozwiązaniach kompensację tego błędu ukośności uzyskuje się poprzez zastosowanie różnych środków, łącznie ze stosowaniem strefowego naświetlania synchronizującego przechylanie linearnego źródła światła przy kolejnym naświetlaniu różnych obszarów ekranu tak, jak ujawniono w patencie Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3 888 673 udzielonych Suzuki i innym w dniu 10 czerwca 1975 roku i poprzez zakrzywianie linii kolumn otworów szczelinowych w masce i pasków luminoforowych na ekranie tak, jak to zostało ujawnione w patencie Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3 889 145 udzielonym Suzuki i innym w dniu 10 czerwca 1975 roku.

W nowym kineskopie 10 według wynalazku problem ukośności jest rozwiązany poprzez zastosowanie nowego rozkładu linii luminoforowych, przy którym to rozkładzie, przy patrzeniu na ekran z przodu, proste linie znajdują się w obszarze mniejszej osi, linie zakrzywione znajdują się w obszarze ekranu, gdzie błąd ukośności jest największy, i linie proste są przy krawędziach ekranu, gdzie błąd ukośności w reprezentowanym kineskopie jest najmniejszy. Taki rozkład jest przedstawiony na figurze 8, na której liniami ciągłymi 40 do 45 odwzorowano wybrane usytuowane w pewnym odstępnie względem siebie linie luminoforowe, a liniami kreskowanymi 46 odwzorowano proste linie równoległe do mniejszej osi. Jak można zobaczyć, krzywizna linii luminoforowych zwiększa się wraz ze zwiększeniem odległości od mniejszej osi, osiąga maksimum w obszarze linii 42-43, a następnie zmniejsza się w kierunku krawędzi ekranu, gdzie linie 45 znów są proste.

Zaletą nowego rozmieszczenia kolumn otworów jest to, że zastosowanie takiego rozmieszczenia pozwala zwiększyć krzywiznę maski cieniowej w przekroju poprzecznym w pobliżu krawędzi maski, które są równoległe do mniejszej osi, niżby to było możliwe bez takiego rozmieszczenia.

153 713

Kontur płyty czołowej, mający zasadniczo płaskie krawędzie, zakłada zastosowanie masek o konturze, jak pokazano linią kreskowaną 50 na figurze 9. Linia 50 odwzorowuje linię konturową na masce 52 ,która to linia konturowa jest geometrycznym zbiorem punktów na masce 52 o jednakowej wysokości sagitalnej. Jak można zauważyć, linia 50 jest zasadniczo prosta przy lewej i prawej krawędziach maski.

Płaskość wywołuje zasadniczy problem, związany z procesem formowania i obróbki maski. Na przykład, lekkie dotknięcie maski może spowodować, że zostanie ona wygięta do wewnątrz w procesie normalnej obróbki. Dlatego korzystnym jest skonstruować maskę o większej krzywiźnie przy krawędziach maski tak, aby uniknąć tego problemu. Zastosowanie nowego rozmieszczenia kolumn otworów pozwala uzyskać udoskonalony kontur maski, taki, jaki jest zaznaczony linią kreskowaną 54 na figurze 10. Linia 54 odwzorowuje linię konturową na masce 56 będącą geometrycznym zbiorem punktów maski o jednakowej wysokości sagitalnej. W tym przypadku, jak można zauważyć, linia 54 jest zasadniczo zakrzywiona przy lewej i prawej krawędziach maski, przez co ma ona większą krzywiznę równoległą do mniejszej osi i z tego powodu — większą sztywność.

Claims

Zastrzeżenia patentowe

1. Kineskop kolorowy z maską cieniową zamontowaną w pobliżu luminoforowego ekranu rzędowego, która to maska cieniowa ma wiele szczelinowo ukształtowanych otworów uporządkowanych w kolumnach i która to maska cieniowa ma zasadniczo prostokątny obrys o dwóch przeciwległych dłuższych krawędziach i dwóch przeciwległych krótszych krawędziach, której to maski cieniowej większa oś jest osią przechodzącą przez środek maski i przez środki krótszych krawędzi, a mniejsza oś wspomnianej maski jest osią przechodzącą przez środek maski i przez środki dłuższych krawędzi, przy czym kolumny otworów są rozmieszczone tak, że kierunek ich osi podłużnych zasadniczo odpowiada kierunkowi mniejszej osi, odstęp między tymi kolumnami otworów jest mierzony w kierunku zgodnym z kierunkiem większej osi, przy czym odstęp między kolumnami otworów w pobliżu mniejszej osi w masce cieniowej jest mniejszy przy dłuższych krawędziach maski niż w pobliżu większej osi maski, a odstęp między kolumnami otworów w pobliżu części narożnych maski jest większy niż w pobliżu większej osi, znamienny tym, że odstęp /A/ między kolumnami otworów mierzony wzdłuż przekrojów poprzecznych równoległych do większej osi, lecz znajdujących się w pewnej odległości od większej osi, zmienia się, w przybliżeniu, zgodnie z równaniem: A = a + bx² + cx⁴, gdzie A jest odstępem między kolumnami otworów, natomiast a, b, c są różnymi funkcjami odległości od większej osi, a x jest odległością od mniejszej osi /Y-Y/.
2. Kineskop według zastrz. 1, znamienny tym, że odstęp między kolumnami otworów /Ah/ mierzony wzdłuż większej osi /Χ-Χ/ zwiększa się zasadniczo proporcjonalnie do czwartej potęgi odległości od mniejszej osi /Y-Y/.

17 20 t

Zakład Wydawnictw UP RP. Nakład 100 egz.

Cena 3000 zł