PL88649B1 - Activation of insulating circuit board - prior to copper plating, using DMSO, DMF or pyrrolidone in alcohol[FR2223935A1] - Google Patents

Activation of insulating circuit board - prior to copper plating, using DMSO, DMF or pyrrolidone in alcohol[FR2223935A1] Download PDF

Info

Publication number
PL88649B1
PL88649B1 PL1974169872A PL16987274A PL88649B1 PL 88649 B1 PL88649 B1 PL 88649B1 PL 1974169872 A PL1974169872 A PL 1974169872A PL 16987274 A PL16987274 A PL 16987274A PL 88649 B1 PL88649 B1 PL 88649B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
plates
mixture
immersed
bath
alcohol
Prior art date
Application number
PL1974169872A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Orion Radio Es Villamossagi Vallalat Budapest
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Orion Radio Es Villamossagi Vallalat Budapest filed Critical Orion Radio Es Villamossagi Vallalat Budapest
Publication of PL88649B1 publication Critical patent/PL88649B1/pl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/28Sensitising or activating
    • C23C18/30Activating or accelerating or sensitising with palladium or other noble metal
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/2006Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30
    • C23C18/2026Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30 by radiant energy
    • C23C18/2033Heat
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/2006Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30
    • C23C18/2046Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30 by chemical pretreatment
    • C23C18/2073Multistep pretreatment
    • C23C18/2086Multistep pretreatment with use of organic or inorganic compounds other than metals, first
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/22Roughening, e.g. by etching
    • C23C18/24Roughening, e.g. by etching using acid aqueous solutions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/22Roughening, e.g. by etching
    • C23C18/26Roughening, e.g. by etching using organic liquids
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/381Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the substrate
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/07Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
    • H05K2203/0779Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing characterised by the specific liquids involved
    • H05K2203/0783Using solvent, e.g. for cleaning; Regulating solvent content of pastes or coatings for adjusting the viscosity
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/18Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
    • H05K3/181Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób obróbki wstepnej przy aktywowaniu powierzchni plytek izo¬ lacyjnych w celu nalozenia metalu na podloza plytkowe z obwodami drukowanymi, a zwlaszcza nakladania metalu na zwyklych plytkach izolacyj¬ nych.
Przy produkcji róznych przyrzadów telekomuni¬ kacyjnych i przesylowych, w technice maszyn ma¬ tematycznych, w przemysle przyrzadów, itd., sto¬ suje sie obecnie niezliczone ilosci podlozy plytko¬ wych z polaczeniami i obwodami drukowanymi.
Dotychczas wytwarza sie je dwoma podstawowy¬ mi sposobami rózniacymi sie zasadniczo od siebie, mianowicie sposobem addytywnym lub subtraktyw- nym. W praktyce realizuje sie wielka liczbe od¬ mian obydwu podstawowych sposobów.
Sposoby subtraktywne opieraja sie na tej zasa¬ dzie, ze zgodnie z ukladem polaczen zbedna miedz usuwa sie przez wytrawienie z plytki izolacyjnej pokrytej warstewka miedzi, przy czym pozostawio¬ ny wzór tworzy zadany ksztalt polaczen. Poza wy¬ sokimi kosztami sposób ten wykazuje szereg dal¬ szych wad. Mianowicie przy wytrawianiu wylacz¬ nie górna powierzchnia warstewki miedzi zabezpie¬ czona jest ochronna warstewka izolacyjna nanie¬ siona uprzednio zgodnie z ukladem polaczen. Za¬ tem zainicjowane trawienie postepuje wglab war¬ stewki ochronnej tak dlugo, az w koncu czesc paska folii, która pozostaje jako przewodnik i znaj¬ duje sie bezposrednio na plytce izolacyjnej, staje sie wezsza niz czesc powierzchniowa, to jest prze¬ krój dzialajacy faktycznie jako przewodnik bedzie mniejszy niz iloczyn szerokosci powierzchni i gru¬ bosci folii.
Zjawisko takie nazywa sie podtrawieniem i jest szkodliwe nie tylko z powodu zmniejszenia prze¬ kroju, lecz takze dlatego, ze krawedzie pozostalego paska folii nie moga byc ostre i odpowiadac zada¬ nemu wzorowi. Innym skutkiem tego podwójnego efektu jest niemoznosc wytworzenia takim sposo¬ bem obwodów o drobnym wzorze oraz elementów obwodu z wezszymi granicami tolerancji, a tym samym otrzymac obwody o indukcyjnosci i pojem¬ nosci z odpowiednia dokladnoscia.
Wada tego sposobu jest takze to, ze zuzyte roz¬ twory trawiace, nieprzydatne do dalszego stosowa¬ nia, jako materialy trujace musza byc unicestwio¬ ne, co jest zadaniem trudnym. Oznacza to oczywis¬ cie zwiekszenie kosztów, co nalezy wziac pod uwa¬ ge. Z uwagi na swoja waznosc nalezy wspomniec o zanieczyszczajacej naturze popluczyn, gdyz zwie¬ ksza to nieodlacznie trudnosci obróbki scieków.
W sposobach addytywnych polaczenia drukowa¬ ne wytwarza sie bezposrednio na izolacyjnym po¬ dlozu plytkowym. Najtrudniejszym i najbardziej problematycznym zadaniem jest znalezienie tu ta¬ kiego sposobu przyczepiania pasków miedziowych tworzacych wzór polaczen, do powierzchni plyty izolacyjnej, aby uzyskac mozliwie najwieksza przy¬ czepnosc mechaniczna oraz odpornosc na efekty 88 649S8649 cieplne (to jest na efekt cieplny cynowej kapieli lutowniczej lub kolby lutowniczej o temperaturze przynajmniej 250°C).
Nalezy zauwazyc, ze wymaganie to jest ogólne dla kazdego typu podloza plytkowego z polaczenia¬ mi drukowanymi, niezaleznie od sposobu stosowa¬ nego przy ich wytwarzaniu. W kazdym razie sto¬ sujac dostepne doskonale kleje latwo jest obecnie sporzadzic plytki izolacyjne pokryte folia i stoso¬ wane w sposobach subtraktywnych, tak aby folia miedziowa przylegala wlasciwie do plytki izolacyj¬ nej, zarówno z punktu widzenia naprezen mecha¬ nicznych, jak i efektów cieplnych. W przeciwien¬ stwie do tego, zgodnie z podstawowymi zasadami, klejów nie mozna stosowac w sposobach addytyw- nych i jest to przyczyna wszystkich wyzej wspom¬ nianych trudnosci.
Zgodnie ze sposobami addytywhymi, paski mie¬ dziane o z góry zadanej grubosci koncowej polaczen drukowanych osadza sie w kapieli elektrolitycznej.
Do tego celu izolacyjne podloze plytkowe musi byc odpowiednio wstepnie przygotowane, z jednej stro¬ ny w celu uzyskania warstwy osadzanej miedzi odpowiadajacej polaczeniom (to jest wzorowi po-* laczen), a z drugiej strony w celu uzyskania po¬ wloki miedziowej o przyczepnosci odpowiadajacej wspomnianym wymaganiom.
Istnieje kilka wariantów wymaganej w sposobie addytywnym obróbki wstepnej. Wykazuja one sze¬ reg zalet i wad zmuszajac wytwórców do rozwia¬ zan kompromisowych. Zatem zwykle stosowanymi sposobami powlekana powierzchnie, pokryta u- przednio lakierem polepszajacym przyczepnosc po¬ krywa sie chemicznie miedzia w celu elektroli¬ tycznego osadzenia folii metalowej, albo w po¬ wierzchnie plastiku wbudowuje sie krystaliczne zarodki metalu, albo powierzchnie plastikowego podloza plytkowego specznia sie przy uzyciu pew¬ nych rozpuszczalników organicznych. Z wymienio¬ nych sposobów, nalozenia lakieru polepszajacego przyczepnosc jest raczej operacja pracochlonna i nadto zwiazana z wiekszymi kosztami materia¬ lowymi niz zwykle.
Krystaliczne zarodki metalu (do tego celu sto¬ suje sie przewaznie kosztowny pallad) mozna wbu¬ dowac w plytke izolacyjna tylko ze specjalnych materialów. Sposób ten jest wiec zbyt kosztowny w porównaniu z innymi sposobami postepowania.
Zatem zarówno z technicznego, jak i ekonomicz¬ nego punkt widzenia, trzeci sposób czyli specznia¬ nie rozpuszczalnikami organicznymi wydaje sie byc najbardziej obiecujacy przy obróbce wstepnej ply¬ tek izolacyjnych, jakkolwiek z pewnych wzgledów jest równiez niekorzystny.
Na przyklad niemieckie zgloszenie nr 2105845 opi¬ suje sposób, w którym do produkcji polaczen dru¬ kowanych trzeba stosowac tkanine szklana nasy¬ cona zywica epoksydowa, przy czym w celu uzys¬ kania odpowiedniej przyczepnosci powierzchnia tkaniny musi byc pokryta oddzielna warstwa zy¬ wicy epoksydowej o grubosci 50—100 ^im. Jako srodki speczniajace stosuje sie sulfotlenki, amidy lub pochodne pirolidonu. Wedlug innego podobnego niemieckiego zgloszenia nr 2113244, do wytworze¬ nia polaczen drukowanych na plytkach izolacyj¬ nych tej samej jakosci, co i plytki wspomniane wyzej, jako srodek speczniajacy stosuje sie miesza¬ nine tych samych zwiazków organicznych.
W celu przeksztalcenia warstwy powierzchnio- s wej plytki izolacyjnej w material o wlasciwosciach jonowymiennych, to jest odpowiedni do zwiazania jonów metalu, plytka izolacyjna musi byc poddana obróbce srodkiem powierzchniowo-czynnym. We¬ dlug obydwu wyzej opisanych sposobów operacja sklada sie ze zbyt wielu etapów i nie moze byc ekonomicznie wykorzystana w warunkach przemy¬ slowych. W tych procesach, po specznieniu po¬ wierzchni plytki poddaje sie ja obróbce kwasem chromowym w zwykly sposób, stosowany w elek- trolitycznym powlekaniu plastików. Z kolei w celu uzyskania na specznionej powierzchni plytki wzoru metalicznego odpowiadajacego polaczeniom druko¬ wanym, plytke aktywuje sie i sposobami chemicz¬ nymi pokrywa warstwa metalu (zwykle warstwa miedzi).
Celem wynalazku jest podanie prostego sposobu wytwarzania polaczen drukowanych na zwyczaj¬ nych handlowych plytkach epoksydowych, bez sto¬ sowania jakichkolwiek specjalnych plytek izolacyj- nych.
Wynalazek obejmuje proces obróbki wstepnej przy sporzadzaniu polaczen drukowanych na epo¬ ksydowych plytkach izolacyjnych, w celu zaktywo- wania powierzchni plytek izolacyjnych w kapieli skladajacej sie z mieszaniny rozpuszczalnika orga¬ nicznego i alkoholu zawierajacego l-s-3, ewentual¬ nie 4 atomy, wegla, i/lub diolu lub triolu, przy czym plytki izolacyjne moczy sie w kapieli co naj¬ mniej w ciagu 5 minut, trawi w znany sposób kwa- sem chromowym, uczula palladem, aktywuje, po¬ krywa miedzia sposobem chemicznym, a nastepnie pokrywa elektrolitycznie warstwa miedzi.
Wynalazek opiera sie na odkryciu, ze mieszanina pewnych rozpuszczalników organicznych, takich jak 4o sulfotlenki, amidy lub pochodne pirolidonu, a z nich odpowiednio zwlaszcza sulfotlenek dwumety- lowy, dwumetyloformamid lub metylopirolidon, z alkoholami zdolne sa do odwracalnego rozerwa¬ nia polimerycznych lancuchów zywic epoksydo- 45 wych oraz, ze w wyniku tego efektu powierzchnia plytki epoksydowej zanurzonej w mieszaninie roz¬ puszczalnika i alkoholu aktywuje sie. Po chemicz¬ nym pokryciu miedzia oraz nalozeniu warstwy miedzi droga elektrolizy, na takiej plytce izolacyj- so nej mozna wytworzyc doskonale przylegajaca i wy¬ soce cieploodporna powloke metalu.
W sposobie wedlug wynalazku z powodzeniem mozna stosowac zwykle handlowe plytki epoksydo¬ we i zbedne staje sie uzycie plytek epoksydowych 55 specjalnego typu lub pokrytych specjalnymi po¬ wlokami. Do przygotowania kapieli z aktywatorem powierzchni, sluzacej do obróbki wstepnej, jeden z wyzej wspomnianych rozpuszczalników organicz¬ nych miesza sie z jednym z róznych alifatycznych to alkoholi, dioli lub trioli albo ich kombinacji, ta¬ kich jak metanol, etanol, butanol, propanol, izopro- panol, glikol etylenowy lub nawet gliceryna.
Jako przyklady wykonania sposobu wedlug wy¬ nalazku opisano kilka wariantów jego realizacji. 6B Jako materialy wyjsciowe sluzyly plytki epoksy-88*49 6 elektrolitycznie miedzia w kapieli zawierajacej 200 g/l siarczanu miedziowego i 50 g/l kwasu siar¬ kowego.
Kapiel sklada sie przez caly czas z roztworów s wodnych.
Czas ekspozycji musi byc tak dobrany, aby kon¬ cowa warstewka miedzi posiadala calkowita gru¬ bosc 30 nm.
Warstewka miedzi wytworzona w ten sposób po¬ lo siadala przyczepnosc zmierzona wyzej podana me¬ toda badania 2,2 kG i zadowalajaca odpornosc cieplna. ; Przyklad II. Kapiel aktywujaca powierzchnia zawierala 50% dwumetyloformamidu i 50% etano- 16 lu. Przyczepnosc wynosila 3,3 kG i zadowalajaca odpornosc cieplna.
Przyklad III. Kapiel aktywujaca powierzchnia zawierala 20% N-metylopirolidonu i 80% butano¬ lu. Przyczepnosc wynosila 1,8 kG i zadowalajaca M odpornosc cieplna.
Przyklad IV. Kapiel aktywujaca powierzchnia zawierala 50% sulfotlenku dwumetylowego i 50% izopropanolu. Przyczepnosc wynosila 3,5 kG i za¬ dowalajaca odpornosc cieplna. ss Przyklad V. Kapiel aktywujaca powierzchni*; zawierala 50% dwumetyloformamidu i 50% glikolu.
Przyczepnosc wynosila 4 kG i zadowalajaca odpor¬ nosc cieplna.
-Przyklad VI. Kapiel aktywujaca powierzchnia *o zawierala 80% dwumetyloformamidu, 20% glice¬ ryny. Przyczepnosc wynosila 3,1 kG i zadowalajaca odpornosc cieplna.
Przyklad VII. Kapiel aktywujaca powierzch¬ nie zawierala 50% dwumetyloformamidu, 20% gli- ceryny i 30% etanolu. Przyczepnosc wynosila 3,5 kG i zadowalajaca odpornosc cieplna.
Jako badanie kontrolne, plytki izolacyjne tej sa¬ mej jakosci moczono odpowiednio w czystych roz¬ puszczalnikach i w czystych alkoholach w celu 40 wstepnej obróbki plytek i zaktywowania ich po¬ wierzchni. Nastepnie pokryto je metalem i powle¬ kano galwanicznie w sposób podany w przykladzie I. Nalozone elektrolitycznie warstewki miedzi po¬ siadaly nieznaczna przyczepnosc (mogly byc wy- 45 tarte) i nie spelnialy wymagan odnosnie odpornos¬ ci cieplnej. '5 dowe, utwardfcórie kwasem i wzmocnione tkanina szklana, o wymiarach 50 mm X 50 mm X 1,5 mm.
Podane dale} przyklady wykonania sposobu róz¬ nia sie miedzy soba tylko skladem mieszaniny ak¬ tywujacej powierzchnie (tj. mieszaniny rozpuszczal¬ nika organicznego i alkoholu). Powierzchnie plytki izolacyjnej aktywuje sie mieszaninami o róznym skladzie i w nieznacznie rózniacy sie sposób. Za¬ tem uzyskane w poszczegóftijfcch przykladach po¬ wloki metalu nalozone elektrolitycznie przylegaja do powierzchni plytki izolacyjnej z rózna sila, przekraczajaca w znacznym stopniu, nawet dla po¬ wloki o najnizszej przyczepnosci wartosc wyma¬ gana w praktyce.
Przyczepnosc nalozonej elektrolitycznie warstew¬ ki metalu badano metoda Jackveta, to jest mierzo¬ no sile w kG potrzebna do oderwania paska me¬ talu o szerokosci 20 mm. Do okreslenia odpornosci cieplnej plytke izolacyjna pokryta elektrolitycznie metalem umieszczono warstewka metalu skiero¬ wana w dól na powierzchni lazni metalowej o tem¬ peraturze 250°C, skladajacej sie z 60% cyny i 40% olowiu to jest stopu lutowniczego cynowo-olowio- wego, na 5 sekund, a nastepnie zdjeto i pozosta¬ wiono do chlodzenia do temperatury pokojowej.
Jest to konwencjonalna próba wytrzymalosci ciep¬ lnej zlaczy lutowniczych. Badana plytka nadaje sie do uzycia, jezeli warstewka metalu nigdzie nie zluszcza sie lub nie oddziela od plytki.
W róznych przykladach wykonania sposobu we¬ dlug wynalazku jedyna róznica polega na skladzie kapieli aktywujacej powierzchnie. Zatem po pier¬ wszym przykladzie w dalszych podane beda jedy¬ nie nowe sklady z pominieciem innych etapów procesu, poniewaz sa takie same jak w przykla¬ dzie I, chociaz wyniki badan przyczepnosci zosta¬ na takze opisane.
Badania odpornosci cieplnej w odniesieniu do poszczególnych skladników w mieszaninach akty¬ wujacych powierzchnie nie zawsze sa przeprowa¬ dzane, przy czym przedstawiamy tu sklady, które okazaly sie optymalne. W opisie pierwszego wa¬ riantu sposobu, stosowane poszczególne etapy ope¬ racyjne oraz sklad kapieli podane beda w kolej¬ nosci ich stosowania.
Przyklad I. Plytke izolacyjna zanurza sie na przynajmniej 5 minut, w temperaturze pokojowej do mieszaniny 90% sulfotlenku dwumetylowego i 10% metanolu, przy czym zbedne jest trzymanie plytki dluzej niz 30 minut. Jest to etap aktywowa¬ nia powierzchni.
Nastepnie trawi sie je kwasem chromowym w ciagu 5 minut w kapieli o temperaturze 40°C, za¬ wierajacej 300 g/l kwasu chromowego i 425 g/l kwasu siarkowego, po czym splukuje sie mozliwie biezaca woda, uczula w roztworze koloidalnego pal¬ ladu, splukuje sie mozliwie biezaca woda, aktywu¬ je w 5% roztworze kwasu nadchlorowego i splu¬ kuje mozliwie biezaca woda.
Pokrywanie miedzia sposobem chemicznym prze¬ prowadza sie w ciagu 20 minut, w temperaturze pokojowej w kapieli zawierajacej 5 g/l siarczanu miedziowego, 20 g/l wodorotlenku sodowego, 50 g/l kwasu fluoroborowego i 20 g/l paraformaldehydu, splukuje sie mozliwie biezaca woda i pokrywa sie

Claims (8)

Zastrzezenia patentowe
1. Sposób obróbki wstepnej przy aktywowaniu powierzchni plytek izolacyjnych w celu nalozenia metalu na podloza plytkowe z obwodami drukowa¬ nymi, na epoksydowych plytkach izolacyjnych, znamienny tym, ze plytki izolacyjne zanurza sie w kapieli przygotowanej z mieszaniny sulfotlenku dwumetylowego lub dwumetyloformamidu lub me- tylopirolidonu z alkoholem o 1, 2 lub 3, a co naj¬ wyzej 4 atomach wegla, i/lub diolu i/lub triolu, i utrzymuje sie je w tej kapieli w ciagu co naj¬ mniej 5 minut.
2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ie plytki zanurza sie w kapieli przygotowanej z mie¬ szaniny 75—95% sulfotlenku dwumetylowego i 25— 5% metanolu. io 15 20 25 10 35 40 45 50 55 6088 649
3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze plytki zanurza sie w kapieli przygotowanej z mie¬ szaniny 40—60% dwumetyloformamidu i 60—40% etanolu.
4. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze plytki zanurza sie w kapieli przygotowanej z mie¬ szaniny 10—30% N-metylopirolidonu i 90—70% bu¬ tanolu.
5. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze plytki zanurza sie w kapieli przygotowanej z mie¬ szaniny 40—60% sulfotlenku dwumetylowego i 60— 40% izopropanolu. 10 S
6. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze plytki zanurza sie w kapieli przygotowanej z mie¬ szaniny 40—60% dwumetyloformamidu i 60—40% glikolu.
7. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze plytki zanurza sie w kapieli przygotowanej z mie¬ szaniny 70—90% dwumetyloformamidu i 30—10% gliceryny.
8. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze plytki zanurza sie w kapieli przygotowanej z mie¬ szaniny 40—60% dwumetyloformamidu, 30—10% gliceryny i 15—45% etanolu. Cena 10 zl WDL, Zam. 3313. 120
PL1974169872A 1973-03-29 1974-03-28 Activation of insulating circuit board - prior to copper plating, using DMSO, DMF or pyrrolidone in alcohol[FR2223935A1] PL88649B1 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
HUOI000159 HU166605B (pl) 1973-03-29 1973-03-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL88649B1 true PL88649B1 (en) 1976-09-30

Family

ID=11000249

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1974169872A PL88649B1 (en) 1973-03-29 1974-03-28 Activation of insulating circuit board - prior to copper plating, using DMSO, DMF or pyrrolidone in alcohol[FR2223935A1]

Country Status (7)

Country Link
DD (1) DD111698A5 (pl)
DE (1) DE2414810A1 (pl)
FR (1) FR2223935A1 (pl)
HU (1) HU166605B (pl)
IT (1) IT1059678B (pl)
NL (1) NL7404043A (pl)
PL (1) PL88649B1 (pl)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3173905D1 (en) * 1980-11-20 1986-04-03 Crosfield Electronics Ltd Coating of polymerical substrates
JPH01315334A (ja) * 1988-06-11 1989-12-20 Nisshinbo Ind Inc 金属コロイド分散液

Also Published As

Publication number Publication date
FR2223935A1 (en) 1974-10-25
FR2223935B3 (pl) 1977-01-21
HU166605B (pl) 1975-04-28
IT1059678B (it) 1982-06-21
NL7404043A (pl) 1974-10-01
DE2414810A1 (de) 1974-10-10
DD111698A5 (pl) 1975-03-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2238004C3 (de) Verfahren zur Vorbehandlung für das nachfolgende Metallisieren von Kunststoffen, insbesondere zur Herstellung von gedruckten Leiterplatten
DE69511434T2 (de) Herstellung von gedruckten schaltungen
CN101014460B (zh) 具有底漆树脂层的带载体箔的电解铜箔及其制造方法
KR890004583B1 (ko) 금속표면 처리공정
US4099974A (en) Electroless copper solution
DE10313517B4 (de) Lösung zum Ätzen von Kupfer, Verfahren zum Vorbehandeln einer Schicht aus Kupfer sowie Anwendung des Verfahrens
US6036758A (en) Surface treatment of copper
DE10136078A1 (de) Zusammensetzung zum Mikroätzen von Kupfer oder Kupferlegierung, Verfahren zum Mikroätzen und Verfahren zum Herstellen einer Schaltungsplatte
EP1613440B1 (en) Improved coating for silver plated circuits
US3959523A (en) Additive printed circuit boards and method of manufacture
CN112064069A (zh) 一种环保光亮镀锡处理工艺方法
CN109023335B (zh) 一种金属材料表面转化膜的成膜液及其用途
TWI396774B (zh) A substrate manufacturing method and a copper surface treatment agent used therefor
DE10066028A1 (de) Kupfersubstrat mit aufgerauhten Oberflächen
CN111826645A (zh) 一种电路板内层铜箔棕化液
CN101381872B (zh) 一种干膜粘贴促进剂及其使用方法
US20020174915A1 (en) Chemical conversion reagent for magnesium alloy, surface-treating method, and magnesium alloy substrate
DE1521663A1 (de) AEtzmittel und Verfahren zur Aufloesung von Metallen
CN105543816A (zh) 一种化学镀金液
EP0428260B1 (en) Metal surface treatment agents
JP4264679B2 (ja) プリント配線板の製造方法
PL88649B1 (en) Activation of insulating circuit board - prior to copper plating, using DMSO, DMF or pyrrolidone in alcohol[FR2223935A1]
JPH03204992A (ja) 無電解金属前に合成樹脂を前処理するための膨潤剤、全面の金属化された基材の製造方法、全面の金属化された基材、及びプリント配線板、チツプ支持体、ハイブリツド回路、多層積層物半製品及び電磁遮蔽用半製品の製造方法
AU580433B2 (en) Process for conditioning the surface of plastic substrates prior to metal plating
EP0460226A1 (en) Electroless plating process