PL88649B1 - Activation of insulating circuit board - prior to copper plating, using DMSO, DMF or pyrrolidone in alcohol[FR2223935A1] - Google Patents
Activation of insulating circuit board - prior to copper plating, using DMSO, DMF or pyrrolidone in alcohol[FR2223935A1] Download PDFInfo
- Publication number
- PL88649B1 PL88649B1 PL1974169872A PL16987274A PL88649B1 PL 88649 B1 PL88649 B1 PL 88649B1 PL 1974169872 A PL1974169872 A PL 1974169872A PL 16987274 A PL16987274 A PL 16987274A PL 88649 B1 PL88649 B1 PL 88649B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- plates
- mixture
- immersed
- bath
- alcohol
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/28—Sensitising or activating
- C23C18/30—Activating or accelerating or sensitising with palladium or other noble metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/2006—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30
- C23C18/2026—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30 by radiant energy
- C23C18/2033—Heat
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/2006—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30
- C23C18/2046—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30 by chemical pretreatment
- C23C18/2073—Multistep pretreatment
- C23C18/2086—Multistep pretreatment with use of organic or inorganic compounds other than metals, first
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/22—Roughening, e.g. by etching
- C23C18/24—Roughening, e.g. by etching using acid aqueous solutions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/22—Roughening, e.g. by etching
- C23C18/26—Roughening, e.g. by etching using organic liquids
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/381—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0779—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing characterised by the specific liquids involved
- H05K2203/0783—Using solvent, e.g. for cleaning; Regulating solvent content of pastes or coatings for adjusting the viscosity
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/18—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
- H05K3/181—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób obróbki
wstepnej przy aktywowaniu powierzchni plytek izo¬
lacyjnych w celu nalozenia metalu na podloza
plytkowe z obwodami drukowanymi, a zwlaszcza
nakladania metalu na zwyklych plytkach izolacyj¬
nych.
Przy produkcji róznych przyrzadów telekomuni¬
kacyjnych i przesylowych, w technice maszyn ma¬
tematycznych, w przemysle przyrzadów, itd., sto¬
suje sie obecnie niezliczone ilosci podlozy plytko¬
wych z polaczeniami i obwodami drukowanymi.
Dotychczas wytwarza sie je dwoma podstawowy¬
mi sposobami rózniacymi sie zasadniczo od siebie,
mianowicie sposobem addytywnym lub subtraktyw-
nym. W praktyce realizuje sie wielka liczbe od¬
mian obydwu podstawowych sposobów.
Sposoby subtraktywne opieraja sie na tej zasa¬
dzie, ze zgodnie z ukladem polaczen zbedna miedz
usuwa sie przez wytrawienie z plytki izolacyjnej
pokrytej warstewka miedzi, przy czym pozostawio¬
ny wzór tworzy zadany ksztalt polaczen. Poza wy¬
sokimi kosztami sposób ten wykazuje szereg dal¬
szych wad. Mianowicie przy wytrawianiu wylacz¬
nie górna powierzchnia warstewki miedzi zabezpie¬
czona jest ochronna warstewka izolacyjna nanie¬
siona uprzednio zgodnie z ukladem polaczen. Za¬
tem zainicjowane trawienie postepuje wglab war¬
stewki ochronnej tak dlugo, az w koncu czesc
paska folii, która pozostaje jako przewodnik i znaj¬
duje sie bezposrednio na plytce izolacyjnej, staje
sie wezsza niz czesc powierzchniowa, to jest prze¬
krój dzialajacy faktycznie jako przewodnik bedzie
mniejszy niz iloczyn szerokosci powierzchni i gru¬
bosci folii.
Zjawisko takie nazywa sie podtrawieniem i jest
szkodliwe nie tylko z powodu zmniejszenia prze¬
kroju, lecz takze dlatego, ze krawedzie pozostalego
paska folii nie moga byc ostre i odpowiadac zada¬
nemu wzorowi. Innym skutkiem tego podwójnego
efektu jest niemoznosc wytworzenia takim sposo¬
bem obwodów o drobnym wzorze oraz elementów
obwodu z wezszymi granicami tolerancji, a tym
samym otrzymac obwody o indukcyjnosci i pojem¬
nosci z odpowiednia dokladnoscia.
Wada tego sposobu jest takze to, ze zuzyte roz¬
twory trawiace, nieprzydatne do dalszego stosowa¬
nia, jako materialy trujace musza byc unicestwio¬
ne, co jest zadaniem trudnym. Oznacza to oczywis¬
cie zwiekszenie kosztów, co nalezy wziac pod uwa¬
ge. Z uwagi na swoja waznosc nalezy wspomniec
o zanieczyszczajacej naturze popluczyn, gdyz zwie¬
ksza to nieodlacznie trudnosci obróbki scieków.
W sposobach addytywnych polaczenia drukowa¬
ne wytwarza sie bezposrednio na izolacyjnym po¬
dlozu plytkowym. Najtrudniejszym i najbardziej
problematycznym zadaniem jest znalezienie tu ta¬
kiego sposobu przyczepiania pasków miedziowych
tworzacych wzór polaczen, do powierzchni plyty
izolacyjnej, aby uzyskac mozliwie najwieksza przy¬
czepnosc mechaniczna oraz odpornosc na efekty
88 649S8649
cieplne (to jest na efekt cieplny cynowej kapieli
lutowniczej lub kolby lutowniczej o temperaturze
przynajmniej 250°C).
Nalezy zauwazyc, ze wymaganie to jest ogólne
dla kazdego typu podloza plytkowego z polaczenia¬
mi drukowanymi, niezaleznie od sposobu stosowa¬
nego przy ich wytwarzaniu. W kazdym razie sto¬
sujac dostepne doskonale kleje latwo jest obecnie
sporzadzic plytki izolacyjne pokryte folia i stoso¬
wane w sposobach subtraktywnych, tak aby folia
miedziowa przylegala wlasciwie do plytki izolacyj¬
nej, zarówno z punktu widzenia naprezen mecha¬
nicznych, jak i efektów cieplnych. W przeciwien¬
stwie do tego, zgodnie z podstawowymi zasadami,
klejów nie mozna stosowac w sposobach addytyw-
nych i jest to przyczyna wszystkich wyzej wspom¬
nianych trudnosci.
Zgodnie ze sposobami addytywhymi, paski mie¬
dziane o z góry zadanej grubosci koncowej polaczen
drukowanych osadza sie w kapieli elektrolitycznej.
Do tego celu izolacyjne podloze plytkowe musi byc
odpowiednio wstepnie przygotowane, z jednej stro¬
ny w celu uzyskania warstwy osadzanej miedzi
odpowiadajacej polaczeniom (to jest wzorowi po-*
laczen), a z drugiej strony w celu uzyskania po¬
wloki miedziowej o przyczepnosci odpowiadajacej
wspomnianym wymaganiom.
Istnieje kilka wariantów wymaganej w sposobie
addytywnym obróbki wstepnej. Wykazuja one sze¬
reg zalet i wad zmuszajac wytwórców do rozwia¬
zan kompromisowych. Zatem zwykle stosowanymi
sposobami powlekana powierzchnie, pokryta u-
przednio lakierem polepszajacym przyczepnosc po¬
krywa sie chemicznie miedzia w celu elektroli¬
tycznego osadzenia folii metalowej, albo w po¬
wierzchnie plastiku wbudowuje sie krystaliczne
zarodki metalu, albo powierzchnie plastikowego
podloza plytkowego specznia sie przy uzyciu pew¬
nych rozpuszczalników organicznych. Z wymienio¬
nych sposobów, nalozenia lakieru polepszajacego
przyczepnosc jest raczej operacja pracochlonna
i nadto zwiazana z wiekszymi kosztami materia¬
lowymi niz zwykle.
Krystaliczne zarodki metalu (do tego celu sto¬
suje sie przewaznie kosztowny pallad) mozna wbu¬
dowac w plytke izolacyjna tylko ze specjalnych
materialów. Sposób ten jest wiec zbyt kosztowny
w porównaniu z innymi sposobami postepowania.
Zatem zarówno z technicznego, jak i ekonomicz¬
nego punkt widzenia, trzeci sposób czyli specznia¬
nie rozpuszczalnikami organicznymi wydaje sie byc
najbardziej obiecujacy przy obróbce wstepnej ply¬
tek izolacyjnych, jakkolwiek z pewnych wzgledów
jest równiez niekorzystny.
Na przyklad niemieckie zgloszenie nr 2105845 opi¬
suje sposób, w którym do produkcji polaczen dru¬
kowanych trzeba stosowac tkanine szklana nasy¬
cona zywica epoksydowa, przy czym w celu uzys¬
kania odpowiedniej przyczepnosci powierzchnia
tkaniny musi byc pokryta oddzielna warstwa zy¬
wicy epoksydowej o grubosci 50—100 ^im. Jako
srodki speczniajace stosuje sie sulfotlenki, amidy
lub pochodne pirolidonu. Wedlug innego podobnego
niemieckiego zgloszenia nr 2113244, do wytworze¬
nia polaczen drukowanych na plytkach izolacyj¬
nych tej samej jakosci, co i plytki wspomniane
wyzej, jako srodek speczniajacy stosuje sie miesza¬
nine tych samych zwiazków organicznych.
W celu przeksztalcenia warstwy powierzchnio-
s wej plytki izolacyjnej w material o wlasciwosciach
jonowymiennych, to jest odpowiedni do zwiazania
jonów metalu, plytka izolacyjna musi byc poddana
obróbce srodkiem powierzchniowo-czynnym. We¬
dlug obydwu wyzej opisanych sposobów operacja
sklada sie ze zbyt wielu etapów i nie moze byc
ekonomicznie wykorzystana w warunkach przemy¬
slowych. W tych procesach, po specznieniu po¬
wierzchni plytki poddaje sie ja obróbce kwasem
chromowym w zwykly sposób, stosowany w elek-
trolitycznym powlekaniu plastików. Z kolei w celu
uzyskania na specznionej powierzchni plytki wzoru
metalicznego odpowiadajacego polaczeniom druko¬
wanym, plytke aktywuje sie i sposobami chemicz¬
nymi pokrywa warstwa metalu (zwykle warstwa
miedzi).
Celem wynalazku jest podanie prostego sposobu
wytwarzania polaczen drukowanych na zwyczaj¬
nych handlowych plytkach epoksydowych, bez sto¬
sowania jakichkolwiek specjalnych plytek izolacyj-
nych.
Wynalazek obejmuje proces obróbki wstepnej
przy sporzadzaniu polaczen drukowanych na epo¬
ksydowych plytkach izolacyjnych, w celu zaktywo-
wania powierzchni plytek izolacyjnych w kapieli
skladajacej sie z mieszaniny rozpuszczalnika orga¬
nicznego i alkoholu zawierajacego l-s-3, ewentual¬
nie 4 atomy, wegla, i/lub diolu lub triolu, przy
czym plytki izolacyjne moczy sie w kapieli co naj¬
mniej w ciagu 5 minut, trawi w znany sposób kwa-
sem chromowym, uczula palladem, aktywuje, po¬
krywa miedzia sposobem chemicznym, a nastepnie
pokrywa elektrolitycznie warstwa miedzi.
Wynalazek opiera sie na odkryciu, ze mieszanina
pewnych rozpuszczalników organicznych, takich jak
4o sulfotlenki, amidy lub pochodne pirolidonu, a z
nich odpowiednio zwlaszcza sulfotlenek dwumety-
lowy, dwumetyloformamid lub metylopirolidon,
z alkoholami zdolne sa do odwracalnego rozerwa¬
nia polimerycznych lancuchów zywic epoksydo-
45 wych oraz, ze w wyniku tego efektu powierzchnia
plytki epoksydowej zanurzonej w mieszaninie roz¬
puszczalnika i alkoholu aktywuje sie. Po chemicz¬
nym pokryciu miedzia oraz nalozeniu warstwy
miedzi droga elektrolizy, na takiej plytce izolacyj-
so nej mozna wytworzyc doskonale przylegajaca i wy¬
soce cieploodporna powloke metalu.
W sposobie wedlug wynalazku z powodzeniem
mozna stosowac zwykle handlowe plytki epoksydo¬
we i zbedne staje sie uzycie plytek epoksydowych
55 specjalnego typu lub pokrytych specjalnymi po¬
wlokami. Do przygotowania kapieli z aktywatorem
powierzchni, sluzacej do obróbki wstepnej, jeden
z wyzej wspomnianych rozpuszczalników organicz¬
nych miesza sie z jednym z róznych alifatycznych
to alkoholi, dioli lub trioli albo ich kombinacji, ta¬
kich jak metanol, etanol, butanol, propanol, izopro-
panol, glikol etylenowy lub nawet gliceryna.
Jako przyklady wykonania sposobu wedlug wy¬
nalazku opisano kilka wariantów jego realizacji.
6B Jako materialy wyjsciowe sluzyly plytki epoksy-88*49
6
elektrolitycznie miedzia w kapieli zawierajacej
200 g/l siarczanu miedziowego i 50 g/l kwasu siar¬
kowego.
Kapiel sklada sie przez caly czas z roztworów
s wodnych.
Czas ekspozycji musi byc tak dobrany, aby kon¬
cowa warstewka miedzi posiadala calkowita gru¬
bosc 30 nm.
Warstewka miedzi wytworzona w ten sposób po¬
lo siadala przyczepnosc zmierzona wyzej podana me¬
toda badania 2,2 kG i zadowalajaca odpornosc
cieplna. ;
Przyklad II. Kapiel aktywujaca powierzchnia
zawierala 50% dwumetyloformamidu i 50% etano-
16 lu. Przyczepnosc wynosila 3,3 kG i zadowalajaca
odpornosc cieplna.
Przyklad III. Kapiel aktywujaca powierzchnia
zawierala 20% N-metylopirolidonu i 80% butano¬
lu. Przyczepnosc wynosila 1,8 kG i zadowalajaca
M odpornosc cieplna.
Przyklad IV. Kapiel aktywujaca powierzchnia
zawierala 50% sulfotlenku dwumetylowego i 50%
izopropanolu. Przyczepnosc wynosila 3,5 kG i za¬
dowalajaca odpornosc cieplna.
ss Przyklad V. Kapiel aktywujaca powierzchni*;
zawierala 50% dwumetyloformamidu i 50% glikolu.
Przyczepnosc wynosila 4 kG i zadowalajaca odpor¬
nosc cieplna.
-Przyklad VI. Kapiel aktywujaca powierzchnia
*o zawierala 80% dwumetyloformamidu, 20% glice¬
ryny. Przyczepnosc wynosila 3,1 kG i zadowalajaca
odpornosc cieplna.
Przyklad VII. Kapiel aktywujaca powierzch¬
nie zawierala 50% dwumetyloformamidu, 20% gli-
ceryny i 30% etanolu. Przyczepnosc wynosila 3,5 kG
i zadowalajaca odpornosc cieplna.
Jako badanie kontrolne, plytki izolacyjne tej sa¬
mej jakosci moczono odpowiednio w czystych roz¬
puszczalnikach i w czystych alkoholach w celu
40 wstepnej obróbki plytek i zaktywowania ich po¬
wierzchni. Nastepnie pokryto je metalem i powle¬
kano galwanicznie w sposób podany w przykladzie
I. Nalozone elektrolitycznie warstewki miedzi po¬
siadaly nieznaczna przyczepnosc (mogly byc wy-
45 tarte) i nie spelnialy wymagan odnosnie odpornos¬
ci cieplnej.
'5
dowe, utwardfcórie kwasem i wzmocnione tkanina
szklana, o wymiarach 50 mm X 50 mm X 1,5 mm.
Podane dale} przyklady wykonania sposobu róz¬
nia sie miedzy soba tylko skladem mieszaniny ak¬
tywujacej powierzchnie (tj. mieszaniny rozpuszczal¬
nika organicznego i alkoholu). Powierzchnie plytki
izolacyjnej aktywuje sie mieszaninami o róznym
skladzie i w nieznacznie rózniacy sie sposób. Za¬
tem uzyskane w poszczegóftijfcch przykladach po¬
wloki metalu nalozone elektrolitycznie przylegaja
do powierzchni plytki izolacyjnej z rózna sila,
przekraczajaca w znacznym stopniu, nawet dla po¬
wloki o najnizszej przyczepnosci wartosc wyma¬
gana w praktyce.
Przyczepnosc nalozonej elektrolitycznie warstew¬
ki metalu badano metoda Jackveta, to jest mierzo¬
no sile w kG potrzebna do oderwania paska me¬
talu o szerokosci 20 mm. Do okreslenia odpornosci
cieplnej plytke izolacyjna pokryta elektrolitycznie
metalem umieszczono warstewka metalu skiero¬
wana w dól na powierzchni lazni metalowej o tem¬
peraturze 250°C, skladajacej sie z 60% cyny i 40%
olowiu to jest stopu lutowniczego cynowo-olowio-
wego, na 5 sekund, a nastepnie zdjeto i pozosta¬
wiono do chlodzenia do temperatury pokojowej.
Jest to konwencjonalna próba wytrzymalosci ciep¬
lnej zlaczy lutowniczych. Badana plytka nadaje
sie do uzycia, jezeli warstewka metalu nigdzie nie
zluszcza sie lub nie oddziela od plytki.
W róznych przykladach wykonania sposobu we¬
dlug wynalazku jedyna róznica polega na skladzie
kapieli aktywujacej powierzchnie. Zatem po pier¬
wszym przykladzie w dalszych podane beda jedy¬
nie nowe sklady z pominieciem innych etapów
procesu, poniewaz sa takie same jak w przykla¬
dzie I, chociaz wyniki badan przyczepnosci zosta¬
na takze opisane.
Badania odpornosci cieplnej w odniesieniu do
poszczególnych skladników w mieszaninach akty¬
wujacych powierzchnie nie zawsze sa przeprowa¬
dzane, przy czym przedstawiamy tu sklady, które
okazaly sie optymalne. W opisie pierwszego wa¬
riantu sposobu, stosowane poszczególne etapy ope¬
racyjne oraz sklad kapieli podane beda w kolej¬
nosci ich stosowania.
Przyklad I. Plytke izolacyjna zanurza sie na
przynajmniej 5 minut, w temperaturze pokojowej
do mieszaniny 90% sulfotlenku dwumetylowego
i 10% metanolu, przy czym zbedne jest trzymanie
plytki dluzej niz 30 minut. Jest to etap aktywowa¬
nia powierzchni.
Nastepnie trawi sie je kwasem chromowym w
ciagu 5 minut w kapieli o temperaturze 40°C, za¬
wierajacej 300 g/l kwasu chromowego i 425 g/l
kwasu siarkowego, po czym splukuje sie mozliwie
biezaca woda, uczula w roztworze koloidalnego pal¬
ladu, splukuje sie mozliwie biezaca woda, aktywu¬
je w 5% roztworze kwasu nadchlorowego i splu¬
kuje mozliwie biezaca woda.
Pokrywanie miedzia sposobem chemicznym prze¬
prowadza sie w ciagu 20 minut, w temperaturze
pokojowej w kapieli zawierajacej 5 g/l siarczanu
miedziowego, 20 g/l wodorotlenku sodowego, 50 g/l
kwasu fluoroborowego i 20 g/l paraformaldehydu,
splukuje sie mozliwie biezaca woda i pokrywa sie
Claims (8)
1. Sposób obróbki wstepnej przy aktywowaniu powierzchni plytek izolacyjnych w celu nalozenia metalu na podloza plytkowe z obwodami drukowa¬ nymi, na epoksydowych plytkach izolacyjnych, znamienny tym, ze plytki izolacyjne zanurza sie w kapieli przygotowanej z mieszaniny sulfotlenku dwumetylowego lub dwumetyloformamidu lub me- tylopirolidonu z alkoholem o 1, 2 lub 3, a co naj¬ wyzej 4 atomach wegla, i/lub diolu i/lub triolu, i utrzymuje sie je w tej kapieli w ciagu co naj¬ mniej 5 minut.
2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ie plytki zanurza sie w kapieli przygotowanej z mie¬ szaniny 75—95% sulfotlenku dwumetylowego i 25— 5% metanolu. io 15 20 25 10 35 40 45 50 55 6088 649
3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze plytki zanurza sie w kapieli przygotowanej z mie¬ szaniny 40—60% dwumetyloformamidu i 60—40% etanolu.
4. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze plytki zanurza sie w kapieli przygotowanej z mie¬ szaniny 10—30% N-metylopirolidonu i 90—70% bu¬ tanolu.
5. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze plytki zanurza sie w kapieli przygotowanej z mie¬ szaniny 40—60% sulfotlenku dwumetylowego i 60— 40% izopropanolu. 10 S
6. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze plytki zanurza sie w kapieli przygotowanej z mie¬ szaniny 40—60% dwumetyloformamidu i 60—40% glikolu.
7. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze plytki zanurza sie w kapieli przygotowanej z mie¬ szaniny 70—90% dwumetyloformamidu i 30—10% gliceryny.
8. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze plytki zanurza sie w kapieli przygotowanej z mie¬ szaniny 40—60% dwumetyloformamidu, 30—10% gliceryny i 15—45% etanolu. Cena 10 zl WDL, Zam. 3313. 120
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
HUOI000159 HU166605B (pl) | 1973-03-29 | 1973-03-29 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
PL88649B1 true PL88649B1 (en) | 1976-09-30 |
Family
ID=11000249
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL1974169872A PL88649B1 (en) | 1973-03-29 | 1974-03-28 | Activation of insulating circuit board - prior to copper plating, using DMSO, DMF or pyrrolidone in alcohol[FR2223935A1] |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
DD (1) | DD111698A5 (pl) |
DE (1) | DE2414810A1 (pl) |
FR (1) | FR2223935A1 (pl) |
HU (1) | HU166605B (pl) |
IT (1) | IT1059678B (pl) |
NL (1) | NL7404043A (pl) |
PL (1) | PL88649B1 (pl) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3173905D1 (en) * | 1980-11-20 | 1986-04-03 | Crosfield Electronics Ltd | Coating of polymerical substrates |
JPH01315334A (ja) * | 1988-06-11 | 1989-12-20 | Nisshinbo Ind Inc | 金属コロイド分散液 |
-
1973
- 1973-03-29 HU HUOI000159 patent/HU166605B/hu unknown
-
1974
- 1974-03-26 NL NL7404043A patent/NL7404043A/xx not_active Application Discontinuation
- 1974-03-27 DE DE2414810A patent/DE2414810A1/de active Pending
- 1974-03-28 DD DD17753374A patent/DD111698A5/xx unknown
- 1974-03-28 PL PL1974169872A patent/PL88649B1/pl unknown
- 1974-03-28 FR FR7410843A patent/FR2223935A1/fr active Granted
- 1974-04-02 IT IT4992474A patent/IT1059678B/it active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2223935A1 (en) | 1974-10-25 |
FR2223935B3 (pl) | 1977-01-21 |
HU166605B (pl) | 1975-04-28 |
IT1059678B (it) | 1982-06-21 |
NL7404043A (pl) | 1974-10-01 |
DE2414810A1 (de) | 1974-10-10 |
DD111698A5 (pl) | 1975-03-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2238004C3 (de) | Verfahren zur Vorbehandlung für das nachfolgende Metallisieren von Kunststoffen, insbesondere zur Herstellung von gedruckten Leiterplatten | |
DE69511434T2 (de) | Herstellung von gedruckten schaltungen | |
CN101014460B (zh) | 具有底漆树脂层的带载体箔的电解铜箔及其制造方法 | |
KR890004583B1 (ko) | 금속표면 처리공정 | |
US4099974A (en) | Electroless copper solution | |
DE10313517B4 (de) | Lösung zum Ätzen von Kupfer, Verfahren zum Vorbehandeln einer Schicht aus Kupfer sowie Anwendung des Verfahrens | |
US6036758A (en) | Surface treatment of copper | |
DE10136078A1 (de) | Zusammensetzung zum Mikroätzen von Kupfer oder Kupferlegierung, Verfahren zum Mikroätzen und Verfahren zum Herstellen einer Schaltungsplatte | |
EP1613440B1 (en) | Improved coating for silver plated circuits | |
US3959523A (en) | Additive printed circuit boards and method of manufacture | |
CN112064069A (zh) | 一种环保光亮镀锡处理工艺方法 | |
CN109023335B (zh) | 一种金属材料表面转化膜的成膜液及其用途 | |
TWI396774B (zh) | A substrate manufacturing method and a copper surface treatment agent used therefor | |
DE10066028A1 (de) | Kupfersubstrat mit aufgerauhten Oberflächen | |
CN111826645A (zh) | 一种电路板内层铜箔棕化液 | |
CN101381872B (zh) | 一种干膜粘贴促进剂及其使用方法 | |
US20020174915A1 (en) | Chemical conversion reagent for magnesium alloy, surface-treating method, and magnesium alloy substrate | |
DE1521663A1 (de) | AEtzmittel und Verfahren zur Aufloesung von Metallen | |
CN105543816A (zh) | 一种化学镀金液 | |
EP0428260B1 (en) | Metal surface treatment agents | |
JP4264679B2 (ja) | プリント配線板の製造方法 | |
PL88649B1 (en) | Activation of insulating circuit board - prior to copper plating, using DMSO, DMF or pyrrolidone in alcohol[FR2223935A1] | |
JPH03204992A (ja) | 無電解金属前に合成樹脂を前処理するための膨潤剤、全面の金属化された基材の製造方法、全面の金属化された基材、及びプリント配線板、チツプ支持体、ハイブリツド回路、多層積層物半製品及び電磁遮蔽用半製品の製造方法 | |
AU580433B2 (en) | Process for conditioning the surface of plastic substrates prior to metal plating | |
EP0460226A1 (en) | Electroless plating process |