JPH01315334A - 金属コロイド分散液 - Google Patents

金属コロイド分散液

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JPH01315334A
JPH01315334A JP63142758A JP14275888A JPH01315334A JP H01315334 A JPH01315334 A JP H01315334A JP 63142758 A JP63142758 A JP 63142758A JP 14275888 A JP14275888 A JP 14275888A JP H01315334 A JPH01315334 A JP H01315334A
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aprotic polar
colloidal dispersion
liquid dispersion
stable
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Toshinori Marutsuka
丸塚 利徳
Osamu Hasegawa
修 長谷川
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Nisshinbo Holdings Inc
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Nisshinbo Industries Inc
Nisshin Spinning Co Ltd
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    • B01J13/00Colloid chemistry, e.g. the production of colloidal materials or their solutions, not otherwise provided for; Making microcapsules or microballoons
    • B01J13/0004Preparation of sols
    • B01J13/0026Preparation of sols containing a liquid organic phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/28Sensitising or activating

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は周期律表第■族の金属を含むコロイド分散液に
関する。
Nis Co1Rh、Pdなどの周期律表第■族の金属
が還元触媒としての活性を有することは良く知られてい
る。
例えばラネーニッケルは二重結合への水素付加、ニトロ
ベンゼンのアニリンへの還元等の還元反応のための触媒
として用いられる。Pd、Rhなどについても同様であ
る。本発明はこれらの触媒活性をもつ金属の安定なコロ
イド分散液を提供するものである。本発明のコロイド分
散液は例えば、有機化合物の水添還元用触媒として有用
であり、またCu、N%Co等の無電解メツキの始動触
媒としても極めて価値の高いものである。
ラネーニッケルは空気中で不安定であり、空気と接触す
ると発火の危険性がある。このため、より安全なニッケ
ル系還元触媒が研究されて来た。
例えば、IEC,vo144、No、5、p1006〜
plolOには、ニッケルの塩をH2気流下にエタノー
ル中でNaBH,により還元して得られるNi2Bにッ
ケルポライド)の微粉が強い還元触媒であることが記載
されている。また、特開昭56−9215号公報には、
ニッケルをコロイド状に安定化するため、ポリビニルピ
ロリドン。
可溶性ナイロン等の保護コロイドが有効であることが示
されている。
しかしこれらのニッケル系微粉又はコロイドは、ラネー
ニッケルのように発火性はないものの、空気及び水と接
触すると速やかに不活性化する。
このため還元操作は厳密に酸素及び水を除去した雰囲気
で行われねばならないという欠点がある。
一方、Pdは空気、水に対して安定であり、還元触媒と
して広く用いられている。例えば、PdC1i−5nC
Iz系で、コロイド状Pdを析出させ、不導体のニッケ
ルメッキ開始触媒とすることは広範に実施されている。
PdC1,を保護コロイド存在下に水溶液中で還元し、
Pdコロイド分散液としこれをニッケルメッキ開始触媒
とすることも提案されている。しかし、これらのPdコ
ロイド系触媒は触媒活性を付与するために、最終的に強
酸(例えば硫酸)による賦活処理を要するという欠点が
ある。
本発明の目的は上記の如き従来技術における問題点を克
服し、安定で極めて容易に取り扱うことができ、経済的
にも非常に有利な、周期律表第■族の還元触曝活性を有
する金属のコロイド分散液を提供することである。
本発明者等は、周期律表第■族金属、特にニッケルの塩
低級アルコールと、非プロトン極性化合物との混合溶媒
系中でNaBHいKBH,等の還元剤で還元すると、非
常に安定なコロイド分散液の得られることを見出した。
かくして、本発明によれば、低級アルコール類と非プロ
トン性極性化合物とからなる混合溶媒系中で周期律表第
■族の金属の塩を還元することにより得られるコロイド
分散液が提供される。
本発明のコロイド分散液は空気と接触させても安定であ
り、発火性も無く、しかも、強力な還元触媒能を維持す
る等の特徴がある。
本発明において混合溶媒系の使用は重要であり、低級ア
ルコール、例えばメタノール、エタノールのみを用いて
金属塩を還元すると、得られた生成物は直ちに凝集沈澱
し、もはや均一な分散液としては得られない。また、非
プロトン極性化合物、例えばジメチルホルムアミド(D
HF)のみを用いて還元を行っても同様の結果となる。
以下、本発明のコロイド分散液について更に詳しく述べ
る。
本発明に使用できる金属塩としては、周期律表第■族の
金属、例えばニッケル、コバルト、ルチニウム、ロジウ
ム、白金、パラジウム等の塩が使用でき、例えば塩化ニ
ッケルー6H80、酢酸ニッケルー4H!0、硝酸ニー
−)’フル塩−5H,O,塩化コバルト−6H,O,酢
酸コバルト−6H!O等が挙げられ、中でもニッケルの
塩を使用したものは非常に安定なコロイド分散液が得ら
れる。これらの金属塩はアルコール類及び非プロトン極
性化合物の混合溶媒系に溶解される。アルコール類とし
ては例えばメタノール、エタノール、プロパツール、イ
ンプロパツール、ブタノールが使用でき、また非プロト
ン極性化合物としては、低分子量のもの、例えばホルム
アミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセタミド、
α−ピロリドン、ビニルピロリドン、N−メチルホルム
アミド、ポリビニルピロリドン、N−メチルピロリドン
、テトラメチル尿素1.ε−カグロラクタム等のアシド
化合物;ジメチルスルホキシド、トリフェニルフォスフ
イン等が使用できる。
本発明では、この混合溶媒系においてアルコールと非プ
ロトン極性化合物との混合比も重要である。アルコール
類と非プロトン極性化合物の混合比には重量比でアルコ
ール類100部に対して非プロトン極性化合物は200
部〜0.O1部の範囲とするのが適当である。
非プロトン極性化合物が200部以上でも、0.01部
以下でも還元時に金属は凝集沈澱してしまい、安定なコ
ロイド分散液を得ることが困難となる。また、金属塩の
混合溶媒系への溶解濃度は一般に0.01重量%〜5重
量%、好ましくは0.1重量%〜1重量%の範囲とする
ことができる。
次にこの金属塩含有溶液中に還元剤を添加し還元を行な
う。還元剤としては、NaBHa、KBHいL i B
 H4、(CHs ) * N B Hs、ホルムアル
デヒド、塩化第1スズ、ジ亜リン酸ソーダ等が使用でき
、これらは上記アルコール類、非プロトン極性化合物又
はこれらの混合溶媒系の0.1〜5重量%の溶液として
は添加される。
還元剤の添加量は被還元金属の被還元電気当量の0.5
〜10倍の還元電気当量となる量が好ましい。
還元温度は一般に10°C〜30°Cが好ましい。
還元反応時に撹拌は必ずしも行なわなくてもよいが、撹
拌した方が均一反応が促進されるので好ましい。撹拌は
低速撹拌で充分である。これらの操作によりきわめて安
定なコロイド分散液を数秒〜数十分で得ることができる
必ずしも経済的ではないが、無酸素置囲気下でも本発明
のコロイド液をつくることができる。即ち、空気を遮断
し、例えばH2気流下で金属塩等を、本発明の混合溶媒
系中でNaBHa等で還元すると、コロイド分散液が得
られる。このものは強い活性をもつが、コロイドとして
不安定であり数時間乃至数日中に凝集沈降を開始するが
、凝集後も触媒活性は不変である。しかし、これを空気
と接触させ、つつ、撹拌すると、凝集粒子は再び分散し
、安定なコロイド液に変化する。
本発明のコロイド分散液は濃縮することもでき、る。コ
ロイド分散液を減圧下に比較的低温、例えば20〜50
℃で1/10溶以下になるまで濃縮すると、スラリー状
の残留物が得られる。このスラリーに再びアルコールを
加えると、コロイド分散液が得られ、これは触媒活性安
定性とももとの分散液と全く同様である。この方法は、
本発明のコロイド分散液を遠隔地に輸送する際極めて有
利である。
本発明のコロイド分散液は還元触媒としてのすぐれた活
性を有し、無電解チッキ、水素化触媒等として使用でき
る。本発明ののコロイド分散液は空気中で極めて安定で
あり、取り扱いが容易である。空気中で取り扱う場合は
特に無電解チッキ用触媒としての活性が高く無酸素置囲
気中で製造したものは無電解メツキ用としての活性のみ
でなく、水素化触媒としての活性も高い。従来安定なコ
ロイド化に必要だったコロイド保護剤を使用する必要も
ない。また、濃縮することもできるので運搬、輸送にも
有利である。
次に実施例により本発明をさらに具体的に説明する。
実施例 l 酢酸ニッケル(4水塩)2.5gをジメチルホルムアミ
ドlongとエタノール397.5gの混合液(497
,5g)に溶解し、金属塩溶液(500g)とする、一
方、水素化ホウ素ナトリウム0.8gをエタノールに溶
解し、還元液(500g)とする。この還元液を、上述
の金属塩溶液に滴下、撹拌すると黒色のコロイド状(金
属コロイド分散液)となる。
この、コロイド分散液は、室温、密閉空気中で、2ケ月
以上も凝集沈澱を生じることなく、また、活性低下をき
たすことなく、安定である。この金属コロイド分散液中
に、ケブラーパルプ50gを浸漬後、−過、洗浄(エタ
ノール)工程を経て、表面活性化合物(触媒付着量1.
3wt%/ケブラーバルブ)を得る。この表面活性化物
は、50℃の市販二2ケルめっき液(日本カニゼン製5
680)注に浸すと、1〜2秒で気泡を発生しながら、
めっきが進行する。1分後のめっき量は100wt%/
ケプラーバルブであった。得られためっき物は導電性を
有する繊維として使用できる。
実施例 2 実施例1の金属コロイド分散液中に、ポリエステルスパ
ン織物を浸漬し、エタノール洗浄後、市販鋼めっき液(
実計製薬製)中に浸すと、表面が銅光沢をもった織物と
なった。
実施例 3 実施例1の金属コロイド分散液を濾紙の片面にスプレー
塗布し、市販ニッケルめっき液中に浸すと、片面のみが
金属化された紙となった。
実施例 4 実施例1の金属コロイド分散液中に、ガラス繊維(スト
ランドマット等)を浸漬し、余分のコロイド分散液を、
絞り取り直接、市販ニッケルめっき液中に浸すと、表面
が金属化された。
実施例 5 酢酸ニッケル2.5 gとε−カプロラクタム12.5
gをエタノールに溶解し、金属塩溶液(500g)とす
る。これに(実施例1)で調製した還元液500gを滴
下、撹拌して、黒色の金属コロイド分散液を得た。この
コロイド分散液中、ポリエステルクロスを2〜3秒浸漬
して、乾燥後、市販ニッケルめっき液中に浸すと、良好
な金属化面を得ることができた。
実施例 6 実施例1の金属コロイド分散液をABS成型品(脱脂の
み)にスプレー塗布または分散液中にABS成型品を浸
漬すると、樹脂表面が膨潤し、乾燥後は強固にコロイド
粒子が固定化される。この表面活性化物を、市販ニッケ
ルめっき液中に浸すと、密着性良好な金属が析出する。
これにより、通常のエツチングによるアンカー効果を利
用しなくても、密着性の向上が可能となった。
実施例 7 実施例1の酢酸ニッケル・4H,Oの代りに、塩化ニッ
ケル・6H!O又は塩化コバルト・6H。
0等を同モル用いて調製しても、同様に安定性良好(室
温、空気中、2ケ月以上)な、金属コロイド分散液とな
った。また、めっき触媒としての活性も同程度であった
実施例 8 脱水、脱酸素した溶媒を用いて、水素雰囲気下で、実施
例1と同操作で金属コロイド分散液の調製を試みた。完
全な、コロイド状とはならず、−部凝集沈澱を生じた。
これを分散けん濁状態で用いて、オレフィン類等の水素
化触媒としての活性をみたところ、高活性を示した。
保護コロイド(pvp)系の活性比較表を以下に示す。
MMA     O,360,42 シクロヘキセン 1.8xlO−’     1.2x
lO−”(単位[mmo I −H!/ S e c−
g−N i] )Ni/オレフィン (モル比)  1
/20実施例 9 実施例5で、ε−カグロラクタムの代りにジメチルスル
ホキシド2.5gあるいは、トリフェニルホスフィン0
.25gを用いて調製すると、安定性良好な、金属コロ
イド分散液が得られた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、低級アルコール類と非プロトン極性化合物とからな
    る混合溶媒中で周期律表第VIII族の金属の塩を還元する
    ことにより得られるコロイド分散液。 2、低級アルコール類がメタノール及び/又はエタノー
    ルである特許請求の範囲第1項記載のコロイド分散液。 3、非プロトン極性化合物がアミド化合物である特許請
    求の範囲第1項記載のコロイド分散液。 4、非プロトン極性化合物がジメチルスルホキシド又は
    トリフェニルスルホスフィンである特許請求の範囲第1
    項記載のコロイド分散液。 5、周期律表第VIII族の金属がNiである特許請求の範
    囲第1項記載のコロイド状分散液。 6、混合溶媒系が重量比で低級アルコール類100に対
    して非プロトン極性化合物200乃至0.01の比率か
    らなる特許請求の範囲第1項記載のコロイド状分散液。
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DE (1) DE68909318T2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5506091A (en) * 1990-04-20 1996-04-09 Nisshinbo Industries, Inc. Photosensitive resin composition and method of forming conductive pattern
US6433481B1 (en) 1999-01-28 2002-08-13 Nisshinbo Industries, Inc. Transparent electromagnetic radiation shield material
US7179741B2 (en) 2002-04-23 2007-02-20 Nikko Materials Co., Ltd. Electroless plating method and semiconductor wafer on which metal plating layer is formed
WO2009084470A1 (ja) 2007-12-27 2009-07-09 Fujifilm Corporation めっき方法、金属薄膜形成方法、及びめっき触媒液

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2040482C (en) * 1990-04-20 1998-11-10 Toshio Suzuki Photosensitive resin composition and method of forming conductive pattern
US5348574A (en) * 1993-07-02 1994-09-20 Monsanto Company Metal-coated polyimide
US6325910B1 (en) 1994-04-08 2001-12-04 Atotch Deutschland Gmbh Palladium colloid solution and its utilization
US5922403A (en) 1996-03-12 1999-07-13 Tecle; Berhan Method for isolating ultrafine and fine particles
EP0817557A3 (en) * 1996-07-03 1998-05-06 Nisshinbo Industries, Inc. Electromagnetic radiation shield material and method of producing the same
DE19630581A1 (de) * 1996-07-30 1998-02-05 Studiengesellschaft Kohle Mbh Verfahren zur Herstellung von Solvens-stabilisierten Metallkolloiden und trägerfixierten Metallclustern
US6262129B1 (en) * 1998-07-31 2001-07-17 International Business Machines Corporation Method for producing nanoparticles of transition metals
US20050217427A1 (en) * 2000-12-21 2005-10-06 Suthersan Suthan S Method of making and using nanoscale metal
US6777449B2 (en) * 2000-12-21 2004-08-17 Case Logic, Inc. Method of making and using nanoscale metal
US7282710B1 (en) 2002-01-02 2007-10-16 International Business Machines Corporation Scanning probe microscopy tips composed of nanoparticles and methods to form same
US6897650B2 (en) * 2002-02-11 2005-05-24 International Business Machines Corporation Magnetic-field sensor device
WO2005056222A1 (ja) * 2003-12-15 2005-06-23 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. 金属ナノコロイド液、金属担持体の製造方法及び金属担持体
KR100761799B1 (ko) * 2005-08-24 2007-10-05 제일모직주식회사 나노복합체 및 이를 이용한 열가소성 나노복합재 수지조성물
KR100717514B1 (ko) * 2005-12-30 2007-05-11 제일모직주식회사 유기/무기 혼성 나노복합체 및 이를 이용한 열가소성나노복합재 수지 조성물
KR100762298B1 (ko) * 2006-12-29 2007-10-04 제일모직주식회사 내스크래치성이 향상된 열가소성 나노복합체 수지 조성물

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3438805A (en) * 1966-04-06 1969-04-15 Du Pont Chemical metallizing process
US3889017A (en) * 1971-02-02 1975-06-10 Ppg Industries Inc Chemical filming solution and process for plating therewith
HU166605B (ja) * 1973-03-29 1975-04-28
US3963841A (en) * 1975-01-06 1976-06-15 International Business Machines Corporation Catalytic surface preparation for electroless plating
US4339476A (en) * 1978-08-17 1982-07-13 Nathan Feldstein Dispersions for activating non-conductors for electroless plating
JPS569215A (en) * 1979-07-03 1981-01-30 Agency Of Ind Science & Technol Manufacture of nickel boride colloid
US4399345A (en) * 1981-06-09 1983-08-16 Analog Devices, Inc. Laser trimming of circuit elements on semiconductive substrates
NL8302590A (nl) * 1983-07-20 1985-02-18 Unilever Nv Nikkelboride in olie katalysator.
NL8401301A (nl) * 1984-04-19 1985-11-18 Unilever Nv Nikkelboride-katalysator en de toepassing daarvan.
DE3574270D1 (en) * 1984-06-29 1989-12-21 Hitachi Chemical Co Ltd Sensitizing agent for electroless plating and method for sensitizing substrate with the agent
US4877647A (en) * 1986-04-17 1989-10-31 Kansas State University Research Foundation Method of coating substrates with solvated clusters of metal particles

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5506091A (en) * 1990-04-20 1996-04-09 Nisshinbo Industries, Inc. Photosensitive resin composition and method of forming conductive pattern
US6433481B1 (en) 1999-01-28 2002-08-13 Nisshinbo Industries, Inc. Transparent electromagnetic radiation shield material
US7179741B2 (en) 2002-04-23 2007-02-20 Nikko Materials Co., Ltd. Electroless plating method and semiconductor wafer on which metal plating layer is formed
WO2009084470A1 (ja) 2007-12-27 2009-07-09 Fujifilm Corporation めっき方法、金属薄膜形成方法、及びめっき触媒液

Also Published As

Publication number Publication date
EP0347114B1 (en) 1993-09-22
CA1336283C (en) 1995-07-11
EP0347114A1 (en) 1989-12-20
US5160452A (en) 1992-11-03
DE68909318T2 (de) 1994-01-20
DE68909318D1 (de) 1993-10-28

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