PL83007B1 - Electroplating - esp of selected regions of semiconductors[FR2144766A1] - Google Patents

Electroplating - esp of selected regions of semiconductors[FR2144766A1] Download PDF

Info

Publication number
PL83007B1
PL83007B1 PL15650972A PL15650972A PL83007B1 PL 83007 B1 PL83007 B1 PL 83007B1 PL 15650972 A PL15650972 A PL 15650972A PL 15650972 A PL15650972 A PL 15650972A PL 83007 B1 PL83007 B1 PL 83007B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
electrolyte
electroplating
coating
elements
coated
Prior art date
Application number
PL15650972A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Amelchakov Nikolai Pavlovich
Baidalinov Ilya Vladimovich
Isakov Anatoly Filippovich
Kolomeichuk Alexandr Ivanovich
Malin Boris Vladimirovich
Monakhova Svetlana Petrovna
Rudakova Maria Alexandrovna
Ryaboi Mikhail Yakovlevich
Ryabov Anatoly Leonidovich
Tsiopko Vasily Vasilievich
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from SU1670569A external-priority patent/SU392152A1/ru
Priority claimed from SU1670568A external-priority patent/SU384436A1/ru
Application filed by Amelchakov Nikolai Pavlovich, Baidalinov Ilya Vladimovich, Isakov Anatoly Filippovich, Kolomeichuk Alexandr Ivanovich, Malin Boris Vladimirovich, Monakhova Svetlana Petrovna, Rudakova Maria Alexandrovna, Ryaboi Mikhail Yakovlevich, Ryabov Anatoly Leonidovich, Tsiopko Vasily Vasilievich filed Critical Amelchakov Nikolai Pavlovich
Publication of PL83007B1 publication Critical patent/PL83007B1/pl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/02Electroplating of selected surface areas

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Description

Uprawniony z patentu: Anatoly Filippovich Isakov, Alexandr Ivano- wich Kolomeichuk, Svetlana Petrovna Monak- hova, Maria Alexandrovna Rudakova, Mikhail Yakovlevich Ryaboi, Vasily Vasilievich Tsiopko, Nikolai Pavlovich Amelchakov, Boris Vladimi- rovich Malin, Ilya Vladimirovich Baidalinov, Anatoly Leonidovich Ryabov, Moskwa (Zwiazek Socjalistycznych Republik Radzieckich) Sposób galwanicznego powlekania elementów oraz urzadzenie do stosowania tego sposobu Przedmiotem wynalazku jest sposób galwanicz¬ nego powlekania elementów oraz urzadzenie do stosowania tego sposobu.Wynalazek dotyczy elektrolitycznego osadzania metali w produkcji aparatów pólprzewodnikowych w szczególnosci obwodów scalonych.W procesie montazu obwodów scalonych istnie¬ je koniecznosc przyspawania krysztaltu do obwodu pozloconej powierzchni ramy wyprowadzenia, w ksztalcie prostokata o siatkowej] powierzchni, któ¬ rej plaszczyzna jest w przyblizeniu okolo 40 razy wieksza niz powierzchnia niezbedna do przyspa¬ wania kirylsztalu.Nie jest znany dotychczas sposób powlekania miejscowego i trzeba powlekac cala powierzchnie co powoduje niepotrzebne zuzycie drogich materia¬ lów, w szczególnosci zlota. Znany jest na przyklad sposób miejscowego pozlacania elementów polega¬ jacy na tym, ze na nachylonej powierzchni tworzy sie skierowany strumien elektrolitu o stalym po¬ ziomie, a w kierunku przeciwnym do strumienia w plaszczyznie jego poziomu przemieszcza sie ele¬ menty, których jedna wystajaca plaszczyzne trze¬ ba powlec, calkowicie przez kontakt z elektroli¬ tem. Sposób ten wyklucza mozliwosc miejscowego powlekania jakiejkolwiek plaszczyzny.Znane sa takze urzadzenia do galwanicznego po¬ wlekania elementów zawierajace podstawowy zbiornik wypelniony elektrolitem przepompowywa¬ nym do zbiornika posredniego, w celu stabilizacji 2 elektrolitu, utworzenia stalego poziomu i filtracji oraz roboczy zestaw galwanicznego powlekania ele¬ mentów. Jednakze powyzsze urzadzenia równiez nie zapewniaja miejscowego galwanicznego powlekania 5 elementów.Celem wynalazku jest usuniecie powyzszych nie¬ dogodnosci.Zadaniem wynalazku jest opracowanie sposobu galwanicznego powlekania elementów oraz urza- io dzeniia pozwalajacego na miejscowe nanoszenie po¬ wlok z drogich materialów to jest w potrzebnych miejscach okreslonych konkretnymi wymiarami.Postawione zadanie zoistalo rozwiazane dzieki te¬ mu, ze w sposobie galwanicznego powlekania ele- 15 mentów na drodze utworzenia skierowanego stru¬ mienia elektrolitu J doprowadzenia go na -powleka¬ ny element, zgodnie z wynalazkiem, skierowany strumien elektrolitu rozdziela sie na „n" strumieni w zamknietych szczelnie kanalach majajcych ksztalt 20 i wymiary stref przeznacznych do miejscowego po¬ wlekania w celu osiagniecia miejscowego powle¬ kania elementów. Uksztaltowane strumienie elek¬ trolitu doprowadza sie do powlekanego elementu prostopadle do strefy miejscowego powlekania izo- 25 lowanej od innych niejpoWlekanych czesoi ele¬ mentu.Wynalazek obejmoije irówhlez urzadzenie do sto¬ sowania sposobu wedlulg wynalazku zawierajac podstawowy zbiornik wypelniony elektrolitem, któ- 30 ry jest przepompowywany do posredniego zbior- 830073 83007 4 nika w celu stabilizacji i filtracji elektrolitu i ze¬ staw rolboczy do galwanicznego powlekania ele¬ mentów, przy czyim obrabiany element i elektrolit sa elektrodami. W narzadzeniu tym, zgodnie z wy¬ nalazkiem roboczy zestaw usytuowany jest poza podstawowymi zibiotmiikiem i ma postac kasety z ukladem kanalów do doprowadzania elektrolitu.W kasecie umieszczona jest co najmniej jedna dy¬ sza z uszczelnieniem obejmujacym strefe powleka¬ nia elementu i izolujacym niepowlekane jego cze- s»ci.Uklad kanalów w roboczym zestawie rozmiesz¬ czany jest tak, ze powlekanie elementu przebiega w strumieniu elektrolitu przeplywajacyim przez siatkowa powierzchnie powlekanej strefy elemen¬ tu, w celu miejscowego galwanicznego powlekania elementów o plaskiej siatkowej powierzchni.Uklad kanalów w roboczym zestawie rozimiesz- czony jest tak, ze doprowadzenie i odprowadzenie elektrolitu jest dokonane po stronie strefy powle¬ kania, w celu miejscowego galwanicznego powleka¬ nia plaskich elementów o ciaglej powierzchna.Roboczy zestaw ma kanal odplywowy oraz kon¬ cówki, umieszczone u wylotu dysz zapewniajace stala predkosc przeplywu elektrolitu przez strefe powlekania elementu. Przy calkowiftym powleka¬ niu ramek wyprowadzenia obwodów scalonych zu¬ zywa sie srednio 800 gram zlota na 1(000 sztuk ra¬ mek. Takich ramek wytwarza sie dziesiatki milio¬ nów.Opracowany sposób i urzadzenie pozwala na ob¬ nizenie zuzycia ' zlota do 6 gramów na 1000 ele¬ mentów. W ten sposób oszczednosc zlota tylko na 10 milionach wyprodukowanych elementów wynie¬ sie: 0 (30^6). 107 - = 74 .108 g = 740 kg zlota 10« Jezeli uwzgledni sie caly program produkowa¬ nych elementów to oszczednosci beda dziesiatki ra¬ zy wieksze.Przedmiot wynalazku jest przedstawiony w przykladzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia urzadzenie do galwanicznego miejscowego powlekania plaskich siatkowych ele¬ mentów w widoku perspektywicznym, fig. 2 ele¬ ment majacy plaska siatkowa powierzchnie w wi¬ doku z góry, fig. 3 urzadzenie do galwanicznego miejscowego powlekania plaskich elementów o po¬ wierzchni ciaglej w widoku perspektywicznym, fdig. 4 — element majacy plaska ciagla powierzch¬ nie w widoku z góry.Sposób galwanicznego powlekania elementów po¬ lega na tym, ze elektrolit przepompowuje sie z podstawowego zbiornika do zbiornika poslednie¬ go, przeznaczonego do stabilizacji i filtracji stru¬ mienia, nastepnie strumien elektrolitu o stalym poziomie, rozdziela sie w szczelnych kanalach, na przyklad w dylszach odpowiadajacych ksztaltem i wymiarami strefom miejscowego powlekania, na „n" strumieni odpowiednio dio zalozonej ilosci stref miejscowego powlekania. Uksztaltowane strumienie doprowadza sie do powlekanego eliejmentu w stirefy mitejjscowelgo powlekania prostopadle.Opisany sposób moze byc wdrozony za pomoca urzadzen do galwanicznego miejscowego powleka¬ nia elementów, zapewniajacych mozliwosc powle¬ kania plaskich siaIJkowych elementów i plaskich elementów o powierzchni ciaglej.Urzadzenie do galwanicznego miejscowego po¬ wlekania plaskich siatkowych elementów sklada sie z podstawowego zbiornika, w szczególnosci z wanny 1 (fig. 1), pompy 2, posredniego zbiorni¬ ka 3 z filtrem 4 i z roboczego zestawu 5 powle¬ kania .elementów.Roboczy zestaw 5 powlekania elementów zesta¬ wiony jest z podstawowym zbiornikiem rozlacznie i wykonany jest w postaci wielomiejfacowej kasety zawierajacej - korpus 6, w którym znajduje sie ka¬ nal odplywowy 7 i uklad kanalów 8 (na fig. 1 przedstawiony jest jedynie kanal odplywowy). Od dolu wmontowane sa dysze skladajace sie z króc¬ ców 9, podkladek 10, uszczelnienia 11 i nakretek 12. Dolna czesc zbiornika wykonana jest w postaci ruchomej, dociskanej listwa 13, w która wmonto¬ wano dolne uszczelniajace podkladki 14, ruchome tulejki 15 i koncówki 16. Miedzy uszczelniajaca podkladka 14 i uszczelnieniem 11 zaciskany jest element 17 majacy plaska siatkowa powierzchnie (fig. 2).Miejscowe powlekanie siatkowych plaskich ele- *imien*tów dokonywane jest w taki sposób, ze elek¬ trolit z wanny 1 za pomoca pompy 2 podawany jest do posredniego zbiornika 3, w którym umiesz¬ czona jest anoda 18. Po przejsciu przez filtr 4 elektrolit przeplywa przez szczeline 19 do wielo- miejscowej kasety. Nadmiar elektrolitu w posre¬ dnim zbiorniku splywa do wanny 1 kanalem 20.Z przestrzeni wielomiejscowej kasety elektrolit podawany jest kanalem 8 do miejsc powlekania elementu przez króciec 9 i uszczelnienie 11 za- disniejte na króccu nakretka 12. Wymiar i ksztalt ojtwom uszczelnienia 11 okreslaja ksztalt i wymiar strefy miejscowego powlekania. Uiszczekiienie stre¬ fy powlekania, to jest jej odizolowanie osiaga sie dzieki uszczelnieniu lii i uszczelniajacej podkladce 14. Dociskanie elementów 17 do uszczelnien 11 i 14 dokonywane jest za pomoca ruchomej, w kierunku pionowym listwy 13. Za pomoca plaskiej sprezy¬ ny 21 do elementu 17 doprowadza sie ujemny po¬ tencjal. Potencjal dodatni doprowadza sie do ano¬ dy 18. Przez koncówke 16 elektrolit splywa z po¬ wrotem do wanny 1. W ten sposób za pomoca opi- sanelgo urzadzenia dokonuje sie miejscowego po¬ wlekania elementów w wyniku przelotowego prze¬ plywu elektrolitu.Urzadzenie do galwanicznego miejscowego po¬ wlekania plaskich elementów o ciaglej powierzchni jest analogiczne do urzadzenia do galwanicznego miejscowego powlekania plaskich siarkowych ele¬ mentów z ta róznica, ze w tym przypadku dodat¬ kowo w górnej czesci korpusu 6 (fig. 3) we wspól¬ nej listwie 23 wmontowane sa dociskajace trzpie¬ nie 22 a uklad kanalów 8 do doprowadzenia i od¬ prowadzenia elektrolitu usytuowany jiest w wielo¬ miejscowej kasecie 5 po jednej stronie dyszy, w ktcirej uklada sie element 17.Opisane urzadzenie z fig. 3 dziala analogicznie do urzadzenia z fig. 1. Anoda 18 umieszczona jest 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 605 83007 6 takze we wnece posredniego zbdiornlilka 3, a poten¬ cjal ujemny doprowadza sie do elementu przez dociskajace trzpienie 22. Wylmiar dtworu konców¬ ki 16 i odplywowego kanalu 7 okresfliaja niezmien¬ nosc poziomu elektrolitu w zlbiorniiku i stala pred¬ kosc omywania strefy powlekania. Podczas miej¬ scowego powlekania plaskich elementów o ciaglej powierzchni doprowadzenie i odplyw elektrolitu odbywa sie po stronie strefy powlekania. PL

Claims (5)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób galwanicznego powlekania elementów polegajacy ma utworzeniu skierowanego striuimienia o stalyim poziomie i doprowadzenia go do powle¬ kanego elemientu, znamienny tym, ze skierowany strumien elektrolitu rozidziela sie na „n" strumieni w zaimiknietych szczelnie kanalach, majacych ksztalt i wymiary stref przeznaczonych do miejscowego powlekania, przy czyni uksztaltowlane strumiende elektrolitu doprowadza sie do powlekanego elemen¬ tu prositoipadle do strefy miejscowego powlekania, odizolowanej od innych mieipowiekanych czesci ele¬ mentu.
  2. 2. Urzadzenie do stosowania sposobu weidhig zatsitrz. 1, zawierajace podstawowy zbiornik wypel¬ niony elektrolitem, który jest przepompowywany do posredniego zbiornika w celu stabilizacji i fil¬ tracji elektrolitu oraz zestaw roboczy do galwa¬ nicznego powlekania elementów, przy czyim obra¬ biany element i elektrolit sa elektrodami, zna¬ mienne tym, ze roboczy organ (5) usyftouiowany jest poza podisliawowyim zbioafflkiem (1) i ma pólstac kasety z ukladem kanalów (8) do doprowadzania elektrolitu, przy czym w kasecie umde&zczona jest co najmniej jedna dyisza z ulszczelniienieim (11) obejmujacym strefe powlekania elementu (17) i izoluj acyim niepowlekane czesci etaneotu (17).
  3. 3. Urzadzenie wedlug zastrz. 2, znamienne tym, ze uklad kanalów (8) w roboczym zestawiie (5) roz¬ mieszczony jest tak, ze powlekanie elementu (17) przebiega w strumieniu elektrolitu przeplywajajcym przez siatkowa powierzchnie powlekanej strefy elementu (17) w celu miejlscowelgo galwanicznego powlekania' elementów .o plaskiej siatkowej po- wtierzchnli.
  4. 4. Urzadzenie wedlug zastrz. 3, znamienne tym, ze uklad kanalów (8) w roboczym zestawie (5) rozmieszczony jest tak, ze doprowadzenie i odpro¬ wadzenie elektrolitu jest dokonywanie po stewilie strefy powlekania w celu miejlscoiwego galwanicz¬ nego powlekania plaskich elementów o ciaglej po¬ wierzchni.
  5. 5. Urzadzenie wedlug zastrz. 2-^4, znamienne tym, ze roboczy zestaw (5) ma odplywowy kanal (7) koncówki (16) uimiesziczone u wylotu dysz za¬ pewniajacych stala predkosc przeplywu elektrolitu przez strefe powlekania elemenltu (17). 10 15 2083007 Cena zl 10 DN-7 — Zam. 892/76 PL
PL15650972A 1971-07-05 1972-07-05 Electroplating - esp of selected regions of semiconductors[FR2144766A1] PL83007B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU1670569A SU392152A1 (ru) 1971-07-05 1971-07-05 Устройство дл локальной электролитической обработки деталей
SU1670568A SU384436A1 (ru) 1971-07-05 1971-07-05 Устройство дл локальной электролитической обработки деталей

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL83007B1 true PL83007B1 (en) 1975-12-31

Family

ID=26665433

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL15650972A PL83007B1 (en) 1971-07-05 1972-07-05 Electroplating - esp of selected regions of semiconductors[FR2144766A1]

Country Status (7)

Country Link
AT (1) AT326440B (pl)
DD (1) DD97441A1 (pl)
FR (1) FR2144766A1 (pl)
HU (1) HU171455B (pl)
IT (1) IT973345B (pl)
NL (1) NL7209403A (pl)
PL (1) PL83007B1 (pl)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5836067B2 (ja) * 1980-10-16 1983-08-06 アイシン精機株式会社 環状体の上面内縁部に部分メッキするためのメッキ装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2502495A (en) * 1946-06-29 1950-04-04 Norris Stamping And Mfg Compan Apparatus for copper plating
FR1360811A (fr) * 1963-04-03 1964-05-15 Microdécapeur
FR1537535A (fr) * 1967-09-22 1968-08-23 Heye Hermann Fa Procédé et dispositif de nickelage des surfaces internes des corps creux, en particulier des moules à verre

Also Published As

Publication number Publication date
DE2232995A1 (de) 1973-01-25
DE2232995B2 (de) 1975-12-04
ATA577472A (de) 1975-02-15
FR2144766A1 (en) 1973-02-16
IT973345B (it) 1974-06-10
HU171455B (hu) 1978-01-28
FR2144766B1 (pl) 1976-05-14
NL7209403A (pl) 1973-01-09
DD97441A1 (pl) 1973-05-14
AT326440B (de) 1975-12-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4367123A (en) Precision spot plating process and apparatus
US4348267A (en) Plating means
JP5763151B2 (ja) 電解メッキ遮蔽板及びこれを有する電解メッキ装置
US8926820B2 (en) Working electrode design for electrochemical processing of electronic components
GB2027054A (en) Electroplating of selected areas of a surface
PL83007B1 (en) Electroplating - esp of selected regions of semiconductors[FR2144766A1]
JP2002097594A (ja) 基板めっき装置及び基板めっき方法
JPS5827993A (ja) 微小部分メツキ方法及びその装置
US4409071A (en) Masking for selective electroplating jet method
JPH0356696A (ja) 湿式電解処理装置
KR100454505B1 (ko) 경사형 전극링을 갖는 전기 도금 장치
JPH08283993A (ja) ウエハ処理装置
JPH07157892A (ja) 電気めっき方法
JPS58217693A (ja) 微小部分銀メツキ処理物及びそのメツキ方法
JP3187579B2 (ja) めっき装置
KR100727270B1 (ko) 인쇄 회로 기판 제작을 위한 도금 전극 구조 및 이를 구비한 전해 도금 장치
JPH0317298A (ja) 均一部分電気メッキ法
KR20140136700A (ko) 전해 도금 장치
EP0055316B1 (en) A plating apparatus
JPH04280992A (ja) ウエーハ用メッキ装置
JPS5931882A (ja) 浴中表面処理方法及びその装置
JPS62127491A (ja) 部分メツキ方法及びその装置
JPH04199550A (ja) リードの半田メッキ装置
PL89481B1 (pl)
JPH02159393A (ja) 高速部分めっき装置