PL49091B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL49091B1 PL49091B1 PL100799A PL10079963A PL49091B1 PL 49091 B1 PL49091 B1 PL 49091B1 PL 100799 A PL100799 A PL 100799A PL 10079963 A PL10079963 A PL 10079963A PL 49091 B1 PL49091 B1 PL 49091B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- etching
- nitric acid
- volume
- printing
- plates
- Prior art date
Links
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 18
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1CC KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 3
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 claims description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- PHYFQTYBJUILEZ-IUPFWZBJSA-N triolein Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC PHYFQTYBJUILEZ-IUPFWZBJSA-N 0.000 claims 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 150000002888 oleic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010426 asphalt Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- LXVQWMLOHFDJAM-DPMBMXLASA-M sodium;[(z,7r)-17-carboxyheptadec-9-en-7-yl] sulfate Chemical compound [Na+].CCCCCC[C@@H](OS(O)(=O)=O)C\C=C/CCCCCCCC([O-])=O LXVQWMLOHFDJAM-DPMBMXLASA-M 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
Opublikowano: 25.11.1965 49091 KI. 15 b, l/Ol bfyic UKn '# Wspóltwórcy wynalazku: inz. Jan Dorocinski, mgr inz. Adam Wolski, [BIBLIOTEKA mgr inz. JanuszZak I | Wlasciciel patentu: Zjednoczenie Przemyslu Graficznego (Centralne La-|^rit?au r' boratorium Poligraficzne), Warszawa (Polska) IftttlU tocmn»ilitH Lttirf Sposób zabezpieczania boków elementów drukujacych chemigraficznych plyt drukarskich przed podtrawianiem podczas wytrawiania tych plyt kwasem azotowym Przedmiotem wynalazku jest sposób zabezpie¬ czania bocznych scianek elementów drukujacych chemigraficznych plyt drukarskich przed podtra¬ wianiem ich przez kwas azotowy podczas wy¬ trawiania plyt.Znany sposób wytrawiania metalowych, a zwlasz¬ cza cynkowych, chemigraficznych plyt drukarskich polega na tym, ze plyte uklada sie na otwartj^m u góry zbiorniku, strona wytrawiana do jego wne¬ trza i uruchomia umieszczone w zbiorniku mie¬ szadlo, zaopatrzone w lopatki, które podrzucaja znajdujacy sie w zbiorniku kwas azotowy, prze¬ waznie w postaci 10°/o-ago roztworu wodnego na wytrawiana powierzchnie plyty. Kwas azotowy wytrawia jednak przy tym plyte nie tylko w glab, prostopadle do jej powierzchni, ale dziala równiez rozpuszczajaco na boczne scianki pionowe elemen¬ tów drukujacych. Ten szkodliwy proces nazywa sie w technice podtrawianiem elementów drukuja¬ cych, lub krótko podtrawianiem punktu.Aby nie dopuscic do podtrawiania punktu w roz¬ miarach mogacych odbic sie niekorzystnie na ja¬ kosci gotowej plyty drukarskiej, przerywa sie opisany proces wytrawiania, zdejmuje plyte, zmy¬ wa woda, suszy i recznie, za pomoca walka na¬ klada na elementy drukujace farbe drukarska, ka¬ lafonie i asfalt tak, aby substancje te zsuwaly sie z powierzchni elementów na ich boczne scian¬ ki, gdzie nastepnie utrwala sie je przez wysusze¬ nie lub wypalenie. W ten sposób na sciankach 10 15 20 25 bocznych drukujacych elementów tworzy sie war¬ stwa, zabezpieczajaca je przed dzialaniem kwasu azotowego. Zabezpieczenie to jest jednak skuteczr ne tylko przez bardzo krótki okres prowadzonego dalej wytrawiania, gdyz kwas azotowy, wytra¬ wiwszy bardziej w glab plyte, dziala nastepnie równiez i na boczne scianki elementów drukuja¬ cych, poza utworzona poprzednio warstewka za¬ bezpieczajaca. Z tego tez wzgledu przerywa sie powtórnie wytrawianie i ponawia opisane za¬ biegi tworzenia warstewki z farby i asfaltu. Czyn¬ nosci te powtarza sie kilkakrotnie, zanim proces wytrawiania beclzie zakonczony. Oczywiscie po¬ woduje to znaczne przedluzenie i podrozenie cale¬ go procesu, a przy tym nie daje zadowalajacych wyników.W celu unikniecia opisanych niedogodnosci, pro¬ ponowano stosowac do wytrawiania chemigraficz¬ nych plyt drukarskich mieszanine kwasu azotowe¬ go z rozpuszczalnikiem organicznym i srodkiem zwilzajacym oraz z niewielkim dodatkiem kwasu siarkowego. Sposób ten daje wprawdzie dosc dobre wyniki w odniesieniu do plyt magnezowych, ale zawodzi przy wytrawianiu plyt drukarskich z in¬ nych metali, a zwlaszcza cynku.Obecnie stwierdzono, ze bardzo dobre zabezpie¬ czenie przed podtrawianiem boków elementów drukujacych przy wytrawianiu metalowych, a zwlaszcza cynkowych plyt drukarskich uzyskuje sie, jezeli do wytrawiania stosuje sie mieszanine, 4909149091 3 która oprócz kwasu azotowego i rozpuszczalnika organicznego zawiera w odpowiednim stosunku sulforycynian sodowy i sulfonowany kwas oleino¬ wy jako srodki powierzchniowo czynne.Stwierdzono, ze najkorzystniejsze wyniki osia¬ ga sie, dodajac do wodnego roztworu kwasu azo¬ towego 1—5% objetosciowych mieszaniny, która w 1 litrze zawiera: 200—400 ml sulforycynianu sodowego (olej turecki), 30—100 ml sulfonowanego kwasu oleinowego oraz 300—700 ml rozpuszczalnika, zwlaszcza nafty, te- traliny lub dwuetylobenzenu.Dzialanie mieszaniny wedlug wynalazku nie zo¬ stalo dostatecznie wyjasnione. Prawdopodobnie z czasteczek zwiazku sulfonowego i rozpuszczalnika tworzy sie hydrofobowa blonka, chroniaca przed dzialaniem kwasu azotowego boczne scianki ele¬ mentów drukujacych plyty, na które podrzucany mieszadlem kwas azotowy uderza nieco slabiej, niz na poziome powierzchnie trawione plyty.Przyklad. Sporzadzono mieszanine, skladaja¬ ca sie z: 1200 ml dwuetylobenzenu, 700 ml sulforycynianu sodowego i 100 ml sulfonowanego kwasu oleinowego.Mieszanine te wlano do 86 litrów kwasu azoto¬ wego o stezeniu 10% wagowych, znajdujacego sie we wspomnianym wyzej, znanym urzadzeniu do wytrawiania. Proces wytrawiania trwal nieprzer¬ wanie okolo 10 minut i nie stwierdzono podtra- wiania elementów drukujacych. io PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Sposób zabezpieczania boków elementów druku¬ jacych chemigraficznych plyt drukarskich przed podtrawianiem podczas wytrawiania plyt kwasem 15 azotowym, uzytym w mieszaninie z rozpuszczal¬ nikiem organicznym z dodatkiem srodka zwilza¬ jacego, znamienny tym, ze do wodnego roztworu kwasu azotowego dodaje sie 1—5% objetosciowych mieszaniny, skladajacej sie z 30—70% objetoscio- 20 wych organicznego rozpuszczalnika, zwlaszcza naf¬ ty, tetraliny lub dwuetylobenzenu oraz substancji powierzchniowo czynnych w postaci sulforycynia¬ nu sodowego w ilosci 20—40% objetosciowych i sul¬ fonowanego kwasu oleinowego w ilosci 3—10% 25 objetosciowych. (BIBLIOTEKA) W*&*dv S*\a ilowego! ZG „Ruch" W-wa, zam. 1776-64 naklad 250 egz. PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL49091B1 true PL49091B1 (pl) | 1964-12-15 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2744027C2 (de) | Organisches Ausstreifmittel | |
| DE69820397T2 (de) | Ätzmittel und ihre Verwendung | |
| DE2501187C2 (de) | Entschichtungsmittel und dessen Verwendung | |
| DE3723402A1 (de) | Verfahren zum spuelen eines substrats | |
| US2640765A (en) | Etching | |
| PL49091B1 (pl) | ||
| US2979387A (en) | Etching | |
| DE1232984B (de) | AEtzmittel und Verfahren zum AEtzen von Kupfertiefdruckformen | |
| US2763536A (en) | Etching | |
| US2846295A (en) | Etching bath | |
| US2846294A (en) | Etching bath | |
| DE2410466A1 (de) | Aetzfluessigkeit fuer magnesium-hochdruckformen | |
| GB1586471A (en) | Compositions for cleaning surfaces | |
| DE69911928T2 (de) | Entfernung von Rückständen des verlorenen Giessmodells von einem Gussstück | |
| DE1521931A1 (de) | Verfahren zum pulverlosen AEtzen und AEtzbad zur Anwendung beim pulverlosen AEtzen von Kupfer,Kupferlegierungen und Nickellegierungen | |
| DE2919666A1 (de) | Loesungsmittelgemisch zur entfernung von photoresist von einem anorganischen substrat und dessen verwendung | |
| KR20050028523A (ko) | 유리표면 처리방법 | |
| DE2657900A1 (de) | Verfahren zum aetzen und praeparieren von offsetdruckplatten | |
| DE893147C (de) | Verfahren und Apparat zur Tiefaetzung, vorzugsweise von Klischees | |
| JPS5498235A (en) | Photographic material | |
| US3239466A (en) | Powderless etching | |
| DE1937272A1 (de) | Halogenierte Kohlenwasserstoff-Stoffzusammensetzungen | |
| DE2306509A1 (de) | Zusatzmittel fuer baeder zum puderlosen aetzen, aetzbaeder und ihre verwendung zum puderlosen aetzen | |
| SU44520A1 (ru) | Устройство дл промыва песков, содержащих благородные металлы | |
| DE1034552B (de) | Verfahren zur Beseitigung von auf Wasseroberflaechen schwimmenden OElen oder OElresten aller Art |