PL25312B1 - Sposób grupowania czasteczek srebra przez fotograficzne wywolywanie swiatloczulych warstw chlorowcosrebrowych. - Google Patents

Sposób grupowania czasteczek srebra przez fotograficzne wywolywanie swiatloczulych warstw chlorowcosrebrowych. Download PDF

Info

Publication number
PL25312B1
PL25312B1 PL25312A PL2531233A PL25312B1 PL 25312 B1 PL25312 B1 PL 25312B1 PL 25312 A PL25312 A PL 25312A PL 2531233 A PL2531233 A PL 2531233A PL 25312 B1 PL25312 B1 PL 25312B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
bath
layer
development
baths
possibly
Prior art date
Application number
PL25312A
Other languages
English (en)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of PL25312B1 publication Critical patent/PL25312B1/pl

Links

Description

Wynalazek dotyczy wytwarzania siatki w swiatloczulej warstwie zawierajacej zwiazki srebra z chlorowcami.Znane sa siatki o krzyzowym ukladzie linii, który moze byc wytworzony w ten sposób, ze kopiuje sie obraz fotograficznie na druga plyte, przy czym na drodze pro¬ mieni swietlnych ustawia sie plyty, z któ¬ rych kazda posiada wiazke linii w jednym z kierunków linii siatki. Krzyzujace sie wiazki linii zostaja zatem na drugiej ply¬ cie zwiazane fotograficznie z obrazem. To fotografowanie posrednie zwieksza koszty oraz powoduje ponadto zmniejszenie wyra¬ zistosci obrazu, poniewaz mokra plyta o- trzymuje obraz zasloniety siatka linii. Li¬ nie siatki nie sa dostosowane nalezycie do odcieni obrazu, niszcza jego kontrasty oraz czynia go nienaturalnym wskutek swego scisle geometrycznego ukladu.Wedlug wynalazku siatka zostaje u- tworzona w samej warstwie. Metalowe skladniki warstwy, zwlaszcza czasteczki srebra, mozna ugrupowac w taki sposób, ze wiaza sie one w linie przewaznie krzywe, które moga byc ciagle, jak widac, na fig. 1, lub przerywane w postaci linij z krótkimi odgalezieniami, jak widac na fig. 2. Kreski moga byc takze równomiernie rozproszone w róznych kierunkach. Figury na rysunkuuwidoczniaja siatkowanie mnie) wiecej w osmiokrotnym powiekszeniu.Okazalo sie, ze^te nieregularne i na po- *zór ztipelnie dowolnie powstajace uklady linij, kresek i punktów, które beda nazy¬ wane w dalszym ciagu ocisu siatka natu¬ ralna, nadaja sie znacznie lepiej od siatek utworzonych z krzyzujacych sie linii, po¬ niewaz zmiennosc ich kierunku i grubosci mniej zmienia rysunek niz uklad scisle ge¬ ometryczny.Zaleta tej siatki jest to, ze jest ona do¬ stosowana do róznych odcieni obrazu, po¬ niewaz jest wytworzona z wydzielanego srebra, które oczywiscie w ciemnych miej- sjcack obrazu znajduje sie w ilosciach wiek¬ szych niz w miejscach pólzacienionych lub jasnych. Miejsca jasne w siatce wedlug wynalazku pozostaja prawie zupelnie bia¬ le, podczas gdy przy uzyciu siatki krzyzo¬ wej siatka taka zaciemniala miejsca najjas¬ niejsze i niszczyla kontrasty.Z mgly srebra pierwotnego obrazu srebrnego tworzy sie wiec ciemniejsza siatka, wskutek czego obraz staje sie po¬ dobny do rysunku kreskowego. Przy sto¬ sowaniu siatki naturalnej mozna bezposred¬ nio naswietlac plyte cynkowa i wytrawiac w jednym procesie wytrawiania zamiast kosztownego wytrawiania kilkakrotnego.Wytrawianie moze byc o wiele glebsze niz przy kilkakrotnym procesie wytrawiania.Odbitki otrzymane z tak wytrawionej warstwy metalowej sa znacznie obfitsze w kontrasty, sprawiaja wrazenie dziel sztuki i sa bardziej podobne do sztychów. Wsku¬ tek tego mozna drukowac takze na porce¬ lanie, fajansie, kamionce, materialach ce¬ ramicznych, papierze szorstkim, tekturze, metalu, drzewie, celulozie, celuloidzie, sztucznych materialach z zywic lub podob¬ nych substancji, plótnie, jedwabiu lub po¬ dobnych materialach, co dotychczas bylp, mozliwe tylko przy uzyciu kosztownej pra¬ cy recznej.Szczególny postep osiaga sie przy bez¬ posrednim drukowaniu warstw fotograficz¬ nych. Gdy pracuje sie z rastrem natural¬ nym (siatka) wspomnianego rodzaju sto¬ sujac warstwy fotograficzne, przygotowa¬ ne w znany sposób jako plyty do druku, otrzyniujc sie doskonale odbitki. Oczywis¬ cie to samo odnosi sie takze do odbitek galwanoplastycznych, które zdejmuje sie bezposrednio z takich warstw fotograficz¬ nych. Sposób wytwarzania siatki natural¬ nej polega na tym, ze warstwy swiatloczu¬ le sa poddawane w odpowiedniej kolejno¬ sci dzialaniu suchego lub wilgotnego powie¬ trza ogrzanego wzglednie kapieli o róznych temperaturach przy uzyciu odpowiednich kwasów. Mozna w latwy sposób powodo¬ wac powstawanie siatki twardej lub miek¬ kiej, grubej lub drobnej. Ponizej opisano kilka przykladów.Gdy jako warstwy swiatloczulej uzyWa sie warstwy zelatynowej z dodatkiem ma¬ terialów stezajacych zelatyne i mozliwie przepuszczajacych swiatlo, np. krochmalu lub kredy, to zanurza sie naswietlona i wywolana warstwe na kilka minut w gora¬ ca wode o temperaturze np. 30° — 36°.Siatka powstaje przy tym samorzutnie.Pod okresleniem „stezajace zelatyne" na¬ lezy rozumiec traktowanie, po którym warstwa wytrzymuje kapiel w wodzie go¬ racej bez rozpuszczania sie. Ewentualne oslabianie lub wzmacnianie negatywu na¬ stepuje po kapieli siatkujacej. Wysuszona warstwe mozna powlec lakierem, aby po¬ wiekszyc róznice miedzy miejscami ciem¬ nymi i jasnymi. Mozna ulatwic tworzenie sie siatki przez zastosowanie silnego wywo¬ lywacza, aby wywolywanie moglo byc u- konczone w ciagu jednej minuty lub w jeszcze krótszym czasie. Jeszcze lepsze wyniki daje ponizej opisane traktowanie warstwy zawierajacej zwiazek srebra z chlorowcami, przy czym nie potrzeba sto¬ sowac dodatków materialów rozproszonych — 2 —w warstwie, ani tez silnego wywolywa- c$ar , Naswietlona plyta zostaje albo umiesz¬ czona w kapieli z cieplej wody o tempera¬ turze okolo 25°, albo jeszcze lepiej przez „$uche" ogrzanie, np. do 50°, zostaje uwol¬ niona calkowicie lub czesciowo od wody. i .W niejszego plyta ogrzana zostaje slabiej lub silflijej ochlodzona, a bezposrednio potem umieazczona w kapieli wywolujacej o temperaturze 22° — 25°, lub najpierw u- m^eazczona w kapieli wodnej o temperatu¬ rze 8° — 10°, a nastepnie w kapieli wodnej o ^temperaturze 22° — 25°. W pewnych przypadkach powtarza sie kilkakrotnie na zmiane te kapiele, a nastepnie plyte wy¬ woluje sie.Mozna równiez plyte wprowadzic naj¬ pierw do kapieli wywolujacej, a potem ewentualnie do kapieli zmiennych.Wywolywanie odbywa sie bardzo szyb¬ ko, w przypadku zas umieszczania plyty najpierw w kapieli wodnej o temperaturze 8° — 10°, a nastepnie 0 temperaturze 22° — 25° nastepuje blyskawicznie.Po wywolaniu plyte wprowadza sie do kapieli utrwalajacej o temperaturze okolo 18 — 23°, najlepiej niekwasnej, a po tym plyta zostaje umieszczona w kapieli wod¬ nej, tak zwanej naturalnie siatkujacej o temperaturze okolo 25°.W kapieli tej nastepuje tworzenie sie czesciowo rozproszonej siatki naturalnej.Plyte wyjmuje sie, gdy utworzy sie siatka odpowiednia do danego celu.Plyte po kapieli siatkujacej mozna równiez w pewnych przypadkach poddac dzialaniu jednej lub kilku kapieli wodnych o temperaturach 8° — 10° i okolo 25°. W ten sposób osiaga sie zaostrzenie sie linii siatki.Ponadto mozna plyte wysuszyc, a na¬ stepnie powtórzyc kapiel wodna o tempe¬ raturze 30°, ewentualnie z nastepujaca po¬ tem kapiela zmfeiina* W ten sposób ttt&aga sie siatke delikatnie«z4. - Wtedy plyte wprowadza sie do kapieli z czerwonego zelazicyjaiikia potasowego w celu wyjasnienia wzglednie wybielenia Ofc bok Ciemnych linii $iatki nowo wybielonych linii tla siatki, co jest szczególnie wazhe do celów fotomechaniki.Postepowanie takic zapewnia skuteczne wybielenie znajdujacych sie zawsze obok ciemniejszych linii siatki jasniejszych linii tla siatki i umozliwia pózniej, przy trawie¬ niu metalu nawet stosowanie mocnych kwasów stosowanych do wytrawiania obra¬ zów kreskowych; W teki sposób staja sie mozliwe powielania, które pod wzgledem wybitnosci kontrastów* bez sktracfenia cha*- rakteru pólcienioWych odbitek/nie ustepu¬ ja lecz nawet przewyzszaja odbitki osiaga¬ ne dotychczas tylko z rysuttków.Gdy pozadane jest wzmocnienie obrazu stosuje sie wzmacniacz rteciowy. Równiez w tym przypadku skutek jest iriny, jak zwykle, poniewaz rtec wztoaenia aatych- miast znacznie miejsca obfite w srebro, natomiast miejsca ubogie w srebro zostaja zaatakowane znacznie póziriej i dzieki te¬ mu moga byc przeciw tókiertiu dzialaniu zabezpieczone, W kapielach zmiennych mozna zihma i ciepla wode zastapic zimnym lub (Aeplyik amoniakiem, a potem stosowac kapiel z zelazicyjanku potasowego. Zwlaszcza pfzy stosowaniu zimnej kapieli amoniakalnej na przemian z ciepla kapiela wodna nastepu¬ je prawie nieodksztalcone ujawnienia linij rysunku w przeciwienstwie do siatki linio¬ wej.Mozna takze po cieplej kapieli wywo¬ lujacej stosowac zimna kapiel amoniakal¬ na.Naturalne siatkowanie moze byc takze przeprowadzone w oleju cieplym, a za¬ miast siatkowania w kapieli rfiozna wydu¬ szona plyte poddac dzialaniu pa#y — 3 —Przy wytrawianiu metali mozna podda¬ wac gotowe plyty dzialaniu kapieli urano¬ wej wzmacniajacej kontrasty. Gdy przez taka plyte naswietla sie warstwe chromia- nowa wytrawianej plyty metalowej, miej¬ sca szare dzialaja wskutek zaczerwienienia jak czarne.Mozna takze kazda sucha plyte szara poddac dzialaniu siatkujacemu przez wpro¬ wadzenie jej do kapieli wodnej o tempe¬ raturze wynoszacej okolo 25°. W celu o- siagniecia szczególnie dobrych wyników o- grzewa sie poprzednio warstwy na sucho do 50°.Tworzenie siatki naturalnej zostaje znacznie ulatwione, gdy stosuje sie wywo¬ lywacz stary lub dlugo gotowany. Wywo¬ lywacz gotuje sie trzymajac skosnie miske emaliowana nad plomieniem spirytusowym lub gazowym. Wywolywacz ten stosuje sie w temperaturze okolo 26°.Opisane postepowanie ma na celu tylko ujawnienie zasadniczego sposobu i moze byc zmieniane dowolnie.Przy traktowaniu struktury warstw po¬ laczen srebra z chlorowcami moga po¬ wstawac takze inne siatki niz wymienione.Zalezy to od skladu warstw i ich grubo¬ sci, od temperatur, od stezenia kwasów i od rodzajów kwasów. Wszystkie takie siat¬ ki nalezy uwazac za siatki naturalne i ma¬ ja one te same zalety.Wynalazek niniejszy umozliwia wlasci¬ wa autotypie.Chociaz dotychczas byla mowa tylko o plytach, odnosi sie wszystko takze do fil¬ mów i papierów, poniewaz wynalazek do¬ tyczy tylko warstwy swiatloczulej zawie¬ rajacej zwiazki srebra z chlorowcami nie¬ zaleznie od podkladu. PL

Claims (2)

  1. Zastrzezenia patentowe. 1. Sposób grupowania czasteczek sre¬ bra przez fotograficzne wywolywanie swia¬ tloczulych warstw chlorowcosrebrowych, wskutek czego osiaga sie dla obrazu wy¬ glad rysunku kreskowego albo sztychu, do powielania zas drukarskiego wyglad siatki, znamienny tym, ze ewentualnie utwardzo¬ na warstwe swiatloczula zmiekcza sie po naswietleniu i wywolaniu w takim stopniu i tak dlugo za pomoca cieplych kapieli ewentualnie o zmiennej temperaturze, az mgla srebrna sie rozdzieli i utworzy linie, obok których powstaja jasniejsze linie tla, przy czym zmienia sie ewentualnie kontrast miedzy tymi liniami siatki za pomoca ósla- biaczy lub wzmacniaczy. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamien¬ ny tym, ze jako warstwe stosuje sie war¬ stwe zelatyny z rozproszonymi w niej ma¬ terialami stezajacymi zelatyne, np. kreda, krochmalem. 3. Sposób wedlug zastrz. 1 i 2, zna¬ mienny tym, ze wywolywanie skraca sie do jednej minuty lub jeszcze bardziej przez zastosowanie silnego wywolywacza. 4. Sposób wedlug zastrz. 1, znamien¬ ny tym, ze zwykle oslabianie lub wzmac¬ nianie negatywu niewlasciwie naswietlonego uskutecznia sie po traktowaniu go ciepla woda. 5. Sposób wedlug zastrz. 1 — 4, zna¬ mienny tym, ze wysuszona warstwe nega¬ tywu powleka sie lakierem. 6. Odmiana sposobu wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze naswietlona warstwe przed wywolaniem umieszcza sie w kapieli wodnej o temperaturze 25°, po wywolaniu zas i utrwaleniu ponownie zanurza sie w cieplej wodnej kapieli siatkujacej. 7. Odmiana sposobu wedlug zastrz. 6, znamienna tym, ze naswietlona warstwe przed wywolaniem uwalnia sie przez ogrze¬ wanie na sucho calkowicie lub czesciowo od wody, po wywolaniu zas i utrwaleniu zanurza sie w cieplej kapieli wodnej. 8. Sposób wedlug zastrz. 7, znamien¬ ny tym, ze naswietlona i ogrzana warstwe, — 4 -+ewentualnie po czesciowym ochlodzeniu, przed wywolaniem wzglednie po nim, lecz przed utrwaleniem, ewentualnie po kapieli siatkujacej, poddaje sie dzialaniu wodnych kapieli zmiennych o róznej temperaturze, 9. Sposób wedlug zastrz. 6, znamien¬ ny tym, ze naswietlana warstwe po wywo¬ laniu, lecz przed utrwaleniem, oraz ewen¬ tualnie po zastosowaniu kapieli siatkujacej poddaje sie dzialaniu wodnych kapieli zmiennych o róznej temperaturze. 10. Sposób wedlug zastrz. 1, znamien¬ ny tym, ze warstwe swiatloczula przed e- wentualnym wzmocnieniem umieszcza sie w kapieli zelazicyjanku potasowego zada¬ nej w znany sposób sola utrwalajaca. 11. Sposób wedlug zastrz, 1, znamien¬ ny tym, ze warstwe z utworzona siatka pod¬ daje sie ponownie wyzarzaniu, a nastepnie umieszcza w cieplej kapieli wodnej o tem¬ peraturze do 25°. 12. Sposób wedlug zastrz. 10, zna¬ mienny tym, ze po kapieli z zelazicyjanku potasu stosuje sie jeszcze raz kapiele siat¬ kujace. 13. Sposób wedlug zastrz. 1, znamien¬ ny tym, ze w celu wzmocnienia ostrosci siatki stosuje sie wzmacniacze lub oslabia- cze, przy czym kazdy z nich tylko przez tak krótki okres czasu, iz wzmacniacz mo¬ ze dzialac tylko na linie siatki, a oslabiacz tylko na tlo. 14. Sposób wedlug zastrz. 1, znamien¬ ny tym, ze zamiast moczyc warstwe w ka¬ pieli siatkujacej poddaje sie ja dzialaniu pary wodnej. 15. Odmiana sposobu wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze jako kapiel siatkujaca stosuje sie ogrzany olej* 16. Sposób wedlug zastrz. 1, znamien¬ ny tym, ze przy stosowaniu kapieli zmien¬ nych zimna kapiel wodna albo tez ciepla kapiel wodna zastepuje sie zimnym lub cieplym amoniakiem. 17. Sposób wedlug zastrz* 1, znamien¬ ny tym, ze wywolywanie uskutecznia sie za pomoca starego lub gotowanego wywo¬ lywacza. 18. Sposób wedlug zastrz. 1, znamien¬ ny tym, ze gotowa plyte poddaje sie dzia¬ laniu kapieli uranowej, Emil Eduard Eckardt. Zastepca: Inz. F. Winnicki, rzecznik patentowy.Do opisu patentowego Nr 25312. Ark. 1. FiatDo opisu patentowego Nr 25312. Ark. 2. Fio
  2. 2. Druk L. Boguslawskiego i Ski, Warszawa. / PL
PL25312A 1933-02-22 Sposób grupowania czasteczek srebra przez fotograficzne wywolywanie swiatloczulych warstw chlorowcosrebrowych. PL25312B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL25312B1 true PL25312B1 (pl) 1937-09-30

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL25312B1 (pl) Sposób grupowania czasteczek srebra przez fotograficzne wywolywanie swiatloczulych warstw chlorowcosrebrowych.
DE1007624B (de) Verfahren zur Herstellung von Positiven unmittelbar von Originalen mittels eines Umkehrverfahrens, insbesondere fuer photomechanische Zwecke
DE2439730A1 (de) Verfahren zum herstellen einer lichtempfindlichen offset-druckplatte
DE433044C (de) Verfahren zur Herstellung von Kopiervorlagen zur Anfertigung von lithographischen Druckformen
US1477866A (en) Producing printing surfaces
DE367015C (de) Verfahren zur gleichzeitigen Aufnahme und Wiedergabe von Lichtbildern und Schallwellen
DE360550C (de) Verfahren zur Herstellung von hydrotypischen Druckplatten
DE593965C (de) Verfahren zum Herstellen von Auswaschreliefbildern
DE522636C (de) Verfahren zur Herstellung von Gerbbildern, die durch Bichromat oder aehnlich wirkende Stoffe hervorgerufen werden
US1532188A (en) Lithographic printing plate and process of preparing the same
DE582831C (de) Verfahren zur Herstellung von naturecht wirkenden Mustern auf Leder, Kunstleder, Wachstuch und aehnlichen Faserstoffen
AT123985B (de) Verfahren zur Herstellung von Tonfilmen in natürlichen Farben.
DE645626C (de) Verfahren zur Herstellung von Mehrfarbenpositiven nach beliebigen Negativen mit Hilfe von Mehrschichtenfilmen und direkten Farbentwicklern
DE707461C (de) Verfahren zur Erzeugung von Bildern mittels oertlicher Belichtung einer mit einer Diazoniumverbindung lichtempfindlich gemachten Schicht
DE503313C (de) Verfahren zur Herstellung von Bildern auf photographischem Wege
AT159436B (de) Verfahren zur Stabilisierung latenter Bilder auf Mehrschichtenfilmen.
DE568183C (de) Verfahren zur Herstellung von Rasterkopien
DE413886C (de) Verfahren zur Herstellung von Lichtdruckformen
DE768099C (de) Verfahren zur fotografischen Herstellung von Strichzeichnungen, Skalen, Gittern, geometrischen Funktionskeilen in Gestalt eines Strichzaunes u. dgl. fuer optische Geraete oder Messgeraete, insbesondere fuer Fotorechner
AT119484B (de) Verfahren zur Herstellung von Druckformen für mehrfarbige Bilder.
DE630939C (de) Verfahren zum Herstellen von Kolloidreliefs, von denen durch Abformen Hochdruckformen erzeugt werden
DE382728C (de) Verfahren zur Herstellung von Gelatine-Tiefdruckformen
AT106465B (de) Verfahren zur Behandlung mehrlägiger Films.
DE640005C (de) Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Zurichtereliefs
SU131617A1 (ru) Способ изготовлени целлулоидных шаблонов