PL224014B1 - Sposób regeneracji kąpieli trawiącej w procesie usuwania powłoki miedzi z podłoża stalowego - Google Patents
Sposób regeneracji kąpieli trawiącej w procesie usuwania powłoki miedzi z podłoża stalowegoInfo
- Publication number
- PL224014B1 PL224014B1 PL414804A PL41480413A PL224014B1 PL 224014 B1 PL224014 B1 PL 224014B1 PL 414804 A PL414804 A PL 414804A PL 41480413 A PL41480413 A PL 41480413A PL 224014 B1 PL224014 B1 PL 224014B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- solution
- copper
- steel substrate
- bath
- ammonia
- Prior art date
Links
- 239000010949 copper Substances 0.000 title claims description 56
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title claims description 53
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 52
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 49
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 title claims description 21
- 239000010959 steel Substances 0.000 title claims description 21
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 17
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 10
- 238000005554 pickling Methods 0.000 title claims description 4
- 238000011084 recovery Methods 0.000 title description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 5
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 42
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 9
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 8
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940009662 edetate Drugs 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 4
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- XKMRRTOUMJRJIA-UHFFFAOYSA-N ammonia nh3 Chemical compound N.N XKMRRTOUMJRJIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 3
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical class [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N Ammonium bicarbonate Chemical compound [NH4+].OC([O-])=O ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001099 ammonium carbonate Substances 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 229960001484 edetic acid Drugs 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 2
- 229910000069 nitrogen hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000013 Ammonium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJDHPAQEFDMEMC-UHFFFAOYSA-N N#C[Cu]C#N Chemical class N#C[Cu]C#N OJDHPAQEFDMEMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 235000012538 ammonium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 235000012501 ammonium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001166 ammonium sulphate Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000000711 cancerogenic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005255 carburizing Methods 0.000 description 1
- 231100000315 carcinogenic Toxicity 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 150000001845 chromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- LEKPFOXEZRZPGW-UHFFFAOYSA-N copper;dicyanide Chemical compound [Cu+2].N#[C-].N#[C-] LEKPFOXEZRZPGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000029087 digestion Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005363 electrowinning Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- -1 ferrous metals Chemical class 0.000 description 1
- 231100001261 hazardous Toxicity 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009854 hydrometallurgy Methods 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000797 iron chelating agent Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000009738 saturating Methods 0.000 description 1
- 239000002910 solid waste Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób regeneracji kąpieli trawiącej w procesie usuwania powłoki miedzi z podłoża stalowego podczas chemicznego roztrawiania w roztworze bezchromowym.
Powłoki miedziane stosowane są w technice zarówno jako powłoki antykorozyjne stanowiące trwałe zabezpieczenie podłoża stalowego przed korozją i jako powłoki technologiczne. W przypadku zastosowania antykorozyjnego powłoka miedziana stanowi integralny element wykonywanego przedmiotu, zapewniając spełnienie jego wymagań funkcjonalnych w użytkowaniu, zwykle jako podwarstwa przed nałożeniem innej powłoki np. niklowej albo jako bezpośrednia powłoka użytkowa. W procesach technologicznych miedź jest stosowana jako zabezpieczenie maskujące wybranych powierzchni w procesach obróbki cieplno-chemicznej (nawęglanie, azotowanie, azoto-nawęglanie) przedmiotów stalowych stanowiąc barierę przed wydzielaniem i dyfuzją pierwiastka nasycającego w głąb obrabianego przedmiotu, a także w procesach obróbki cieplnej jako warstwa zabezpieczająca obrabianą cieplnie stal przed zubożeniem warstwy powierzchniowej w węgiel. Powłoka miedziana stosowana jako zabezpieczenie maskujące podłoże stalowe musi zostać usunięta po zakończeniu operacji obróbki cieplno-chemicznej bez jakiegokolwiek negatywnego wpływu na materiał podłoża stalowego, z którego jest wykonany przedmiot produkcyjny. Znane są sposoby elektrochemicznego roztwarzania miedzi i jej wydzielania na katodzie, wykorzystujące ten sam roztwór w procesie anodowym i katodowym, jak ma to miejsce w procesie elektrorafinacji miedzi lub galwanicznego miedziowania. W procesach tych nie dochodzi jednak do bezpośredniego kontaktu roztworu ze stalą oprócz spolaryzowanej katodowo stali w procesie miedziowania cyjankowego (F. Łętowski, podstawy hydrometalurgii, WNT, Warszawa 1975, M. Kucharski, Recykling metali nieżelaznych, Wydawnictwa AGH, Kraków 2010, praca zbiorowa, Poradnik galwanotechnika, WNT, Warszawa 2002). Odzysk miedzi z pomiedziowanych przedmiotów stalowych bez uszkodzeń korozyjnych podłoża stalowego metodą elektrolityczną jest możliwy jedynie z wykorzystaniem roztworów cyjankowych, ponieważ cyjanki miedzi nie wywierają korozyjnego wpływu na stal.
Znane są też chemiczne i elektrochemiczne sposoby usuwania powłok miedzianych z przedmiotów stalowych polegające na roztwarzaniu miedzi w zakwaszonym kwasem siarkowym(VI) roztworze kwasu chromowego(VI). W procesie tym stosowane są związki chromu na szóstym stopniu utlenienia, które są bardzo niebezpieczne dla środowiska i są kancerogenne dla ludzi. Po usunięciu powłoki miedzianej, z której miedź przechodzi w formę rozpuszczalną gromadząc się w roztworze w postaci odpowiednich soli, przedmioty stalowe płukane są w wodzie zdemineralizowanej i suszone. Wadą tego sposobu są duże ilości toksycznych odpadów stałych i ścieków niebezpiecznych dla środowiska naturalnego ze względu na obecność w nich soli chromu trójwartościowego i resztek soli chromu sześciowartościowego. Z uzyskanego roztworu można wytrącać wodorotlenki odpowiednich soli lub można uzyskany roztwór poddać procesowi regeneracji. Regenerację roztworu trawiącego można prowadzić drogą elektrolitycznego odmiedziowania w wannach elektrolitycznych ze swobodnym przepływem roztworu elektrolitu, gdzie anodami są płyty metalowe a katodami blachy miedziane z miedzi elektrolitycznej. Niezbędne są jednak specjalne sposoby utleniania soli chromu trójwartościowego do soli chromu sześciowartościowego w elektrolizerze diafragmowym lub dosycanie roztworu solami chromu sześciowartościowego. Z polskiego opisu patentowego, nr 154398, znany jest sposób usuwania powłok miedzianych z podłoża stalowego metodą elektrolityczną, w którym jako roztwór 3 trawiący stosuje się roztwór siarczanowo-amonowy składający się z 5-150 g/dm siarczanu amonu i 2-50 cm3/dm3 wody amoniakalnej (25%). Proces jest prowadzony jest w temperatu rze 278-353 K 2 przy intensywnym mieszaniu roztworu i przy anodowej gęstości prądu wynoszącej od 50-500 A/m2. Umożliwia on nie tylko usunięcie miedzi z powierzchni stalowych ale także jej odzyskanie na katodzie, dzięki czemu proces jest bezściekowy. Z jeszcze innego polskiego opisu patentowego, opis nr 159819, znany jest sposób usuwania powłok miedzianych z podłoża stalowego, który polega na zanurzeniu przedmiotu pokrytego miedzią w roztworze sporządzonym z 40-200 g mieszaniny węglanu amonu i wodorowęglanu amonu z dodatkiem 3-25 g miedzi w postaci jonowej jako katalizatora 3 procesu, rozpuszczonych w 1 dm3 wody, przy czym proces prowadzi się w temperaturze 278-353 K przy intensywnym wprowadzaniu do układu powietrza lub tlenu gazowego pod ciśnieniem 0,01 do 0,5 MPa. Po usunięciu miedzi roztwór poddawany jest regeneracji i wraca ponownie do procesu, przez co proces ten jest także bezściekowy, a miedź roztworzoną w roztworze trawiącym odzyskuje się całkowicie w procesie katodowym.
PL 224 014 B1
Natomiast w amerykańskim opisie patentowym nr 4443268 przedstawiony jest proces, w którym do usuwania powłok miedzianych z powierzchni metalowych zostały wykorzystane wodne roztwory alkaliczne zawierające chelaty żelaza kwasów polikarboksylowo-alkylenopolyamidowych (np. chelat żelaza z EDTA - zwany wersenianem żelaza). Proces trawienia poprawia się przez dodanie wodnego roztworu nadtlenku wodoru do roztworu stosowanego w tym procesie. Nadtlenek wodoru powoduje szybsze usuwanie warstwy miedzi i tlenku miedzi z powierzchni metali.
Sposób regeneracji roztworu zużytego w procesie trawienia powierzchni miedziowych jest znany z polskiego opisu patentowego nr 108581. Sposób ten wykazuje jednak pewne ograniczenia szczególnie, gdy stosuje się kąpiel amoniakalną lub chlorkową. Ponadto, z polskiego opisu patentowego nr 143519 jest znany sposób regeneracji kąpieli trawiącej powierzchnie miedziowe, w którym zużytą kąpiel trawiącą prowadzi się przez przestrzeń katodową elektrolizera oddzieloną przeponą od przestrzeni anodowej a następnie przez przestrzeń anodową elektrolizera oddzieloną przeponą od przestrzeni katodowej. Następnie roztwór poddaje się ciągłemu procesowi pomocniczej regeneracji wraz z niezużytą kąpielą trawiącą polegającemu na kontroli i regulacji pH oraz kontroli i regulacji gęstości regenerowanego roztworu, po czym zregenerowany i skorygowany roztwór podaje się do procesu trawienia.
Istota wynalazku polega na tym, że roztwór potrawienny po wydzieleniu miedzi w procesie elektrolizy miesza się z popłuczynami po operacji płukania przedmiotów po odmiedziowaniu, utrzymuje się stałą proporcję roztworu do popłuczyn i poddaje się procesowi destylacji. Po destylacji otrzymany roztwór NH3-EDTA zatęża się oraz schładza i razem z mieszaniną pary wodnej oraz amoniaku NH3 poddaje się procesowi absorpcji. Następnie otrzymany roztwór EDTA i wodny roztwór amoniaku [25% NH3^aq] kieruje się do sporządzania kąpieli trawiącej, a wodę H2O uzyskaną w wyniku zatężania roztworu kieruje się do operacji płukania przedmiotów po odmiedziowaniu.
Sposób według wynalazku umożliwia ciągłe sterowanie przebiegiem procesu i uzyskiwanie szybkości tego procesu większej niż w znanych roztworach na bazie kwasu chromowego. Główną zaletą sposobu według wynalazku jest to, że jest on bezściekowy, ponieważ roztwór potrawienny podlega całkowitej regeneracji a rozpuszczoną miedź odzyskuje się całkowicie na katodzie co powoduje że proces jest bezodpadowy i może odbywać się w obiegu zamkniętym.
Sposób regeneracji kąpieli w procesie usuwania powłoki miedzi z podłoża stalowego jest pokazany w przykładzie wykonania na rysunku.
3
Wannę galwaniczną (1) napełnia się wodą zdemineralizowaną w ilości 300 dm3 do której dodaje 3 się 200 kg kwasu wersenowego EDTA i 160 dm3 25% wodnego roztworu amoniaku NH3. Po rozpusz3 czeniu się kwasu wersenowego otrzymany roztwór uzupełnia się wodą zdemineralizowaną do 750 dm3, dodaje się 40 kg siarczanu amonu (NH4)2SO4, miesza się i chłodząc doprowadza się temperaturę roztworu do zakresu 288-298K. Następnie programuje się dozownik (2) wodnego roztworu amoniaku [25% NH3^aq] zgromadzonego w zbiorniku (3) na wartość pH w zakresie 9,6-9,7 a dozownik (4) wodnego roztworu nadtlenku wodoru [30% H2O2] zgromadzonego w zbiorniku perhydrolu (5), na wartość rH w zakresie 260-280 mV. Dozownik (2) wodnego roztworu amoniaku [25% NH3 aq] jest sterowany poprzez pomiar pH elektrodą szklaną kombinowaną (6) a dozownik (4) wodnego roztworu nadtlenku wodoru [30% H2O2] jest sterowany poprzez pomiar rH ogniwem (7) składającym się z miedzianej elektrody wskaźnikowej (8) i chlorosrebrowej elektrody porównawczej (9). Po włączeniu dozowania wodnego roztworu amoniaku [25% NH3^aq] i wodnego roztworu nadtlenku wodoru [30% H2O2] przy ciągłym mieszaniu kąpieli i utrzymaniu jej temperatury w zakresie 288-298K doprowadza się pH i rH roztworu trawiącego do zaprogramowanych wartości. Po uzyskaniu tych parametrów roztwór nadaje się do rozpuszczania powłoki miedzi. Do tak przygotowanej kąpieli zanurza się w wannie galwanicznej (1) pomiedziowane przedmioty stalowe aż do chwili całkowitego rozpuszczenia warstwy miedzi. Po usunięciu warstwy miedzi przedmioty stalowe poddawane są operacji płukania wodą zdemineralizo2+ 3 waną w płuczce (13). Gdy stężenie miedzi w kąpieli osiągnie poziom 25 g - 30 g Cu2+dm3 Cu roztwór jest kierowany do regeneracji, w trakcie której jest poddawany procesowi elektrolitycznego wydziela2+ 3 nia miedzi, w wyniku którego stężenie miedzi stopniowo obniża się do 5-8 g Cu2+dm3, przy czym stężenie wersenianu amonu i stężenie amoniaku pozostają bez zmian, a ponadto następuje rozkład resztek nadtlenku wodoru. Wydzielenie miedzi z roztworu potrawiennego realizuje się przy użyciu elektrolizera (10) wyposażonego w anody tytanowe (11) pokryte platyną oraz katody miedziane (12) wykonane z miedzi elektrolitycznej na których wydziela się miedź elektrolityczna, przy katodowej gęstości 2 prądu wynoszącej 0,5-2,5 A/dm2. Po wydzieleniu zasadniczej ilości miedzi roztwór ten oraz popłuczyny z płuczki (13) doprowadzane są do zbiornika buforowego (14) w którym utrzymywana jest stała
PL 224 014 B1 proporcja kąpieli do popłuczyn. Uzyskany, wymieszany roztwór kierowany jest do kolumny destylacyjnej (15), gdzie poddawany jest procesowi destylacji (desorpcji) amoniaku w temperaturze ok. 90°C, co powoduje oddestylowanie amoniaku wraz z parą wodną, w wyniku czego uzyskuje się fazę ciekłą, to jest roztwór wersenianu amonu NH3-EDTA oraz fazę gazową, to jest mieszaninę pary wodnej i amoniaku NH3. Oba te produkty po opuszczeniu kolumny destylacyjnej (15) mają temperaturę ok. 90°C, przy czym wstępnie zatężony roztwór kierowany jest do wyparki próżniowej (16) w celu dalszego zatężenia do poziomu wymaganego stężenia wersenianu amonu. Roztwór po wyparce próżniowej (16) jest schładzany do temperatury ok. 10°C i kierowany od góry do zasilania kolumny absorpcyjnej (17), do której od dołu doprowadzana jest faza gazowa z kolumny destylacyjnej (15), to jest oddestylowywany w kolumnie destylacyjnej (15) amoniak NH3 wraz z parą wodną o temperaturze ok. 90°C, który pochłaniany jest w roztworze zasilającym kolumnę absorpcyjną (17). Uzyskany w wyniku absorpcji roztwór EDTA kierowany jest do wanny galwanicznej (1) a 25% wodny roztwór amoniaku [25% NH3^aq] kierowany jest do zbiornika (3). Czysta woda H2O z wyparki próżniowej (16), będąca produktem nadmiarowym z rozkładu perhydrolu, kierowana jest do płuczki (13), w której płukane są przedmioty po odmiedziowaniu. Uzyskana po ostatecznym skorygowaniu składu chemicznego, na podstawie analizy stężenia głównych składników roztworu trawiącego i poziomu zanieczyszczeń kąpiel trawiąca, jest używana ponownie w procesie usuwania powłok miedzianych.
Wykaz oznaczeń:
1. Wanna galwaniczna do trawienia miedzi
2. Dozownik wodnego roztworu amoniaku [25% NH3^aq]
3. Zbiornik wodnego roztworu amoniaku [25% NH3^aq]
4. Dozownik Perhydrolu [30% H2O2]
5. Zbiornik Perhydrolu [30% H2O2]
6. Elektroda szklana kombinowana
7. Ogniwo
8. Miedziana elektroda wskaźnikowa
9. Chlorosrebrowa elektroda porównawcza
10. Elektrolizer
11. Anoda tytanowa
12. Katoda miedziana
13. Płuczka
14. Zbiornik buforowy
15. Kolumna destylacyjna
16. Wyparka próżniowa
17. Kolumna absorpcyjna
Claims (1)
- Sposób regeneracji kąpieli trawiącej w procesie usuwania powłoki miedzi z podłoża stalowego, znamienny tym, że roztwór potrawienny po wydzieleniu miedzi w procesie elektrolizy miesza się z popłuczynami po operacji płukania przedmiotów po odmiedziowaniu, utrzymuje się stałą proporcję roztworu do popłuczyn i poddaje się procesowi destylacji, po którym otrzymany roztwór NH3-EDTA zatęża się oraz schładza i razem z mieszaniną pary wodnej oraz amoniaku NH3 poddaje się procesowi absorpcji, po którym otrzymany roztwór EDTA i wodny roztwór amoniaku [25% NH3^aq] kieruje się do sporządzania kąpieli trawiącej, a wodę H2O uzyskaną w wyniku zatężania roztworu kieruje się do operacji płukania przedmiotów po odmiedziowaniu.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL40563813A PL405638A1 (pl) | 2013-10-14 | 2013-10-14 | Sposób usuwania powłoki miedzi z podłoża stalowego |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL414804A1 PL414804A1 (pl) | 2016-03-14 |
| PL224014B1 true PL224014B1 (pl) | 2016-11-30 |
Family
ID=52987738
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL40563813A PL405638A1 (pl) | 2013-10-14 | 2013-10-14 | Sposób usuwania powłoki miedzi z podłoża stalowego |
| PL414804A PL224014B1 (pl) | 2013-10-14 | 2013-10-14 | Sposób regeneracji kąpieli trawiącej w procesie usuwania powłoki miedzi z podłoża stalowego |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL40563813A PL405638A1 (pl) | 2013-10-14 | 2013-10-14 | Sposób usuwania powłoki miedzi z podłoża stalowego |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (2) | PL405638A1 (pl) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT202300023049A1 (it) * | 2023-11-02 | 2025-05-02 | St Microelectronics Int Nv | Procedimento per il trattamento di articoli e corrispondente apparecchiatura |
-
2013
- 2013-10-14 PL PL40563813A patent/PL405638A1/pl unknown
- 2013-10-14 PL PL414804A patent/PL224014B1/pl unknown
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT202300023049A1 (it) * | 2023-11-02 | 2025-05-02 | St Microelectronics Int Nv | Procedimento per il trattamento di articoli e corrispondente apparecchiatura |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL414804A1 (pl) | 2016-03-14 |
| PL405638A1 (pl) | 2015-04-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0117068B1 (en) | Method and apparatus for etching copper | |
| CN102452743A (zh) | 含络合物镀镍废水的处理方法 | |
| RS56991B1 (sr) | Ponovno dobijanje olova iz mešovitog oksidovanog materijala | |
| CN107245732B (zh) | 一种在304或316l不锈钢表面电镀高强度耐腐蚀镉锡钛合金的方法 | |
| US20170167040A1 (en) | Continuous trivalent chromium plating method | |
| Zheng et al. | Separation and recovery of Cu and As from copper electrolyte through electrowinning and SO2 reduction | |
| JP2002322593A (ja) | 電解リン酸塩化成処理方法 | |
| TW201407004A (zh) | 電解退鍍液及應用該電解退鍍液進行退鍍的方法 | |
| KR20200047446A (ko) | 전극 및 그의 제조 방법 그리고 재생 전극의 제조 방법 | |
| CN100999819A (zh) | 一种锌压铸件无氰碱性浸镀铜的方法 | |
| Diban et al. | Zinc recovery and waste sludge minimization from chromium passivation baths | |
| CN102787346B (zh) | 清洁环保型镀膜前的等离子体清洗工艺 | |
| PL224014B1 (pl) | Sposób regeneracji kąpieli trawiącej w procesie usuwania powłoki miedzi z podłoża stalowego | |
| CN107208298B (zh) | 镀Sn钢板和化学转化处理钢板以及它们的制造方法 | |
| US10087502B2 (en) | Decoating of coated materials | |
| US2436244A (en) | Metalworking and strippingplating process | |
| US2241585A (en) | Process for removing metallic coatings from metallic parts | |
| JPS6117913B2 (pl) | ||
| EP3191616B1 (en) | Metal connector or adaptor for hydraulic or oil dynamic application at high pressure and relative galvanic treatment for corrosion protection | |
| RU2723177C1 (ru) | Регенерация кислых хроматных растворов методом мембранного электролиза | |
| WO2022070119A1 (en) | Process to electrochemically extract dissolved metals and an apparatus thereof | |
| JP2023512703A (ja) | 固体冶金廃棄物から金属亜鉛を回収するための方法 | |
| Kruglikov et al. | The Use of Immersed Electrochemical Modules in Plating Shops for the Regeneration of Process Solutions and Purification of Water in Reclaim Tanks. | |
| CN107513739A (zh) | 一种镁合金的镀镍前处理工艺 | |
| Cifuentes et al. | Recovering scrap anode copper using reactive electrodialysis |