PL209875B1

PL209875B1 - Nośnik pokryty powłoką na bazie chitosanu i sposób jego wytwarzania

Info

Publication number: PL209875B1
Application number: PL371500A
Authority: PL
Inventors: Alain Domard; Eliane Espuche; Severine Despond; Noel Cartier
Original assignee: Ahlstroem Oy; Ahlstrom Corporation; Ahlstrom Research & Services; Ahlstrom Research And Services
Priority date: 2002-04-02
Filing date: 2003-03-12
Publication date: 2011-10-31
Also published as: RU2004131855A; EP1490446A1; RU2293751C2; PL371500A1; MXPA04009565A; IL164288A0; AU2003229861A1; NO20044730L; CN1646645A; ZA200407849B; CN1293155C; JP2005527710A; CA2480643A1; BR0308991A; KR20040106312A; WO2003082995A1; FR2837829B1; US7241498B2; FR2837829A1; US20050084677A1

Description

Opis wynalazku

Przedmiotem wynalazku jest nośnik na bazie organicznych i/lub nieorganicznych włókien pokrytych na co najmniej jednej z ich powierzchni warstwą na bazie chitosanu oraz sposób wytwarzania nośnika.

W pozostają cej części opisu, wyraż enie „organiczne i/lub nieorganiczne wł ókna dotyczy włókien organicznych, zwłaszcza celulozowych, włókien syntetycznych jak np. poliestrowych, polietylenowych, polipropylenowych, poliamidowych i poli(chlorku winylu); włókien sztucznych (jak np. wiskoza, octan celulozy); włókien naturalnych (jak np. bawełna, wełna, pulpa drzewna); włókien węglowych (ewentualnie aktywnych), a spośród włókien nieorganicznych, zwłaszcza włókien mineralnych (np. włókno szklane, włókno ceramiczne). Zależnie od własności wybranych włókien, nośnik może występować w postaci papieru, płyty, włókniny lub nawet tkaniny.

W zgłoszeniu WO 97/23390 opisano kompleks skł adają cy się z nośnika papierowego pokrytego, na obu powierzchniach, warstwą polietylenu, przy czym nośnik jest oddzielony od warstwy polietylenu warstwą na bazie chitosanu. Dokładniej, warstwa na bazie chitosanu powstaje z mieszaniny chitosanu z poli(alkoholem winylowym) i środka sieciującego, przy czym chitosan stosuje się w celu uzyskania elastyczności wytwarzanego nośnika. Udział chitosanu w warstwie wynosi co najmniej 50% wagowo, a uzupełnienie do 100% stanowi środek sieciujący i poli(alkohol winylowy). Według załączonych dla ilustracji przykładów, chitosan wprowadza się do mieszaniny w stężeniu 1% wagowo. O ile chitosan może występować nawet do 50% wagowo i jak to wskazano całkowita masa tej warstwy wynosi pomiędzy 1 i 10 g chitosanu na 1 m² to można wnosić, że masa brutto osadzonego chitosanu wynosi 5 g/ m². Nie podano informacji na temat masy cząsteczkowej chitosanu.

W japoń skim zgł oszeniu JP-07082690 opisano papier do opakowań, w którym noś nik na bazie włókien celulozowych pokryty jest kwasowym roztworem chitosanu i poli(alkoholem winylowym) (PVA). Chitosan stosowany jest w ilości pomiędzy 0,05 i 3% wagowo, ze wskazaniem, że po przekroczeniu stężenia 3%, występują problemy związane z lepkością, co utrudnia aplikację warstwy na nośnik. Nie podano informacji na temat masy cząsteczkowej chitosanu.

Dokumenty te, jak i ogólnie informacje ze stanu techniki, znane zgłaszającemu wskazują, że niemożliwe wydaje się, ze względu na lepkość chitosanu, powlekanie nośnika z zastosowaniem większych stężeń chitosanu (w praktyce powyżej 3%), w celu osiągnięcia osadzenia chitosanu w wystarczającej ilości (w praktyce powyżej 5 g/m²), dla wytworzenia ciągłej warstwy na powierzchni nośnika.

Pomimo to, w japońskim zgłoszeniu JP-02127596 opisano sposób wytwarzania nośnika papierowego powlekanego chitosanem lub chityną w stężeniach pomiędzy 1 i 20% wagowo, w celu otrzymywania masy osadzanego chitosanu pomiędzy 0,5 i 30 g chitosanu na 1 m². Biorąc pod uwagę średnią masę cząsteczkową stosowanego chitosanu, która wynosi pomiędzy 200 000 i 500 000 g/mol, nadal wydaje się niemożliwe powlekanie przy większych stężeniach chitosanu tak, aby lepkość była stosowna dla procesu powlekania. W praktyce, lepkości wynoszą od 100 do 3000 mPa^s (cps) przy szybkości ścinania 100 s^-1 (warunki standardowe). Jednakże, w tym dokumencie nie podano żadnych informacji na temat lepkości.

Na dowód tego wystarczy zbadać podane dla ilustracji przykłady, które reprezentują wynalazek tylko w ograniczonym zakresie, co uwidacznia następująca tablica.

	Przykł. 1	Przykł. 2	Przykł. 3	Przykł. 4	Przykł. 5
Stężenie chitosanu lub chityny w % wagowo	1	1	1	2	1
Masa osadzonego chitosanu w g/m²	1	1	5	10	5

Tablica ta wskazuje, że najwyższe zilustrowane stężenie chitosanu wynosi 2% przy masie osadzonego chitosanu 10 g/m m².

Na podstawie danych z tej tablicy można wysnuć dwa następujące wnioski. Z jednej strony, opisanego tu sposobu nie można traktować jako powtarzalny w całym zakresie do wartości stężenia 2% przy 10 g/m², z drugiej strony jeśli, jak to wskazano w tym dokumencie, możliwe jest osiągnięcie warstwy chitosanu 10 g/m² z zastosowaniem roztworu chitosanu o stężeniu 2% albo 5 g/m²przy stężeniu 1%, można osiągnąć jedynie w kilku stopniach, tj. w wyniku co najmniej pięciu koPL 209 875 B1 lejnych powlekań. Właściwie, stężenie chitosanu 1% odpowiada w zasadzie masie osadzanego chitosanu 1 g/m².

Oczywiste jest zatem, że proces nie jest dogodny do zastosowania w skali przemysłowej, o ile noś nik musi być powlekany kilkoma warstwami chitosanu w celu osią gnię cia wystarczają cej ilości chitosanowej warstwy. W efekcie, końcowy produkt staje się zbyt drogi z uwagi na taki sposób wytwarzania.

W zgłoszeniu patentowym St. Zjedn. Ameryki nr A-5900479 opisano sposób wytwarzania warstwy chitynowej z roztworu chitosanu. Masa cząsteczkowa stosowanego chitosanu wynosi pomiędzy 10⁴ i 10⁶, nawet jeśli nie ilustruje tego jakikolwiek konkretny przykład. Nie podano także żadnej informacji na temat lepkości chitosanu.

W konsekwencji problem, którego rozwią zanie proponuje ten wynalazek dla powleczenia chitosanem w ilości co najmniej 6 g/m², który można przeprowadzić sposobem powlekania chitosanem, został zrealizowany z zastosowaniem ograniczonej liczby etapów.

Przedmiotem wynalazku jest nośnik na bazie organicznych i/lub nieorganicznych włókien, pokryty na co najmniej jednej z ich powierzchni warstwą na bazie chitosanu, charakteryzujący się tym, że warstwę otrzymano przez powlekanie wodnym roztworem na bazie chitosanu, który został wcześniej poddany hydrolizie, o średniej masie molowej poniżej 130 000 g/mol i stężeniu pomiędzy 6 i 30% wagowo.

Korzystnie, chitosan osadzono w ilości od 6 do 15 g chitosanu na 1 m² nośnika.

W korzystnym rozwią zaniu warstwa wystę puje w postaci cią g ł ej warstwy.

Korzystnie, chitosan ma średnią masę molową pomiędzy 15 000 i 40 000 g/mol.

Korzystnie, chitosan występuje w roztworze w stężeniu pomiędzy 7 i 12% wagowo.

Korzystnie, chitosan rozpuszczono w roztworze wodnym w obecności kwasu cytrynowego.

Korzystnie, warstwa na bazie chitosanu zawiera co najmniej 80% wagowo chitosanu.

Najkorzystniej, chitosan osadzano w ilości 7 g chitosanu na 1 m² nośnika.

Korzystnie, warstwę na bazie chitosanu pokryto warstwą wosku.

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania nośnika na bazie organicznych i/lub nieorganicznych włókien, pokrytego na co najmniej jednej z jego powierzchni warstwą na bazie chitosanu, charakteryzujący się tym, że nośnik powleka się wodnym roztworem na bazie chitosanu, który został wcześniej poddany hydrolizie, o średniej masie molowej poniżej 130 000 g/mol i stężeniu pomiędzy 6 i 30% wagowo.

Korzystnie, chitosan osadza się w ilości od 6 do 15 g chitosanu na 1 m² nośnika.

Korzystnie, warstwa występuje w postaci ciągłej warstwy.

Korzystnie, stosuje się chitosan o średniej masie molowej pomiędzy 15 000 i 40 000 g/mol.

Korzystnie, chitosan rozpuszcza się w roztworze wodnym w obecności kwasu cytrynowego.

Korzystnie, chitosan osadza się w ilości 7 g chitosanu na 1 m² nośnika.

Korzystnie, warstwę na bazie chitosanu pokrywa się warstwą wosku.

Korzystnie, powlekanie wodnym roztworem przeprowadza się tylko w jednym etapie.

Korzystnie, powlekanie przeprowadza się belką lub ostrzem Meyer'a, metodą kontrolowanego zaklejania powierzchniowego, metodą bezpośredniego powlekania walcem do rytowania, powlekania powłoką lub rewersem warstwy, przez polewanie lub prasowanie wymiarowe.

Korzystnie, do roztworu chitosanu wosk wprowadza się w postaci wodnego roztworu, zawierającego pomiędzy 0,1 i 20% wagowo chitosanu.

W pozostają cej części opisu i w zastrzeż eniach patentowych, wartoś ci lepkoś ci wskazano dla szybkości ścinania, w zasadzie równe 100 s^-1. Także, średnie masy molowe wyrażono jako masę (Mw).

Innymi słowy, według wynalazku stosowano chitosan o małej średniej masie molowej wyrażonej jako masa (Mw) mniejszej niż 130000 g/mol, co umożliwiało zatem zwiększenie stężenia roztworu chitosanu bez zwiększania lepkości, zapewniając tym samym osadzenie znacznej ilości chitosanu.

Wybór masy cząsteczkowej chitosanu nie jest oczywisty.

Właściwie, masa cząsteczkowa musi być dostatecznie duża, do wytworzenia warstwy odpowiedniej do osiągnięcia właściwości zapewniającej efektywną barierę (dla gazu, pary) i jedno4

PL 209 875 B1 cześnie wystarczająco mała, aby nadać roztworowi taką lepkość, by nadawał się do nakładania kilku powłok.

Chitosan o małej masie cząsteczkowej można otrzymać w skali laboratoryjnej w wyniku hydrolizy. W tym przypadku, hydrolizę chitosanu prowadzi się za pomocą azotynu sodu według metody opisanej przez Allan'a i Peyrou'ego, 1989, dokument załączono tu na zasadzie odsyłacza.

Proces ten jest korzystny w porównaniu z typową hydrolizą kwasową, gdyż nie barwi nośnika. Istotne jest to, że proces ten polega na przygotowaniu roztworu chitosanu w środowisku buforu, w praktyce 0,2M CH3COOH (AcOH)/0,1M CH3COONa (AcONa). Po wymieszaniu, do mieszaniny dodaje się azotyn sodu, co umożliwia rozpoczęcie hydrolizy. Po upływie wstępnie określonego okresu czasu, hydrolizę zatrzymuje się przez dodanie roztworu amoniaku, a w praktyce stężenie 16,5N wywołuje wytrącanie chitosanu. Osad następnie przemywa się do otrzymania klarownej cieczy, której pH w praktyce wynosi około 6,5.

Hydrolizę chitosanu uzyskuje się z uwagi na powstawanie kationu nitrozylowego z azotynu sodu, kation nitrozylowy atakuje grupy aminowe chitosanu z wytworzeniem soli N-nitroamoniowej. Na koniec, nitrozoaminy rozkłada się w celu otrzymywania polimerów o niższym stopniu polimeryzacji.

Jak już wspomniano, wybór średniej masy molowej stosowanego chitosanu umożliwia uzyskanie stężenia chitosanu w roztworze do powlekania pomiędzy 6 i 30%, korzystnie pomiędzy 7 i 12%, korzystnie 10%, wagowo. W praktyce, chitosan rozpuszcza się w wodnym roztworze w obecności organicznego lub nieorganicznego kwasu wybranego np. spoś ród takich jak kwas mlekowy, octowy, chlorowodorowy, azotowy, korzystnie cytrynowy, przy czym ta lista nie jest wyczerpująca.

Nieoczekiwanie zgłaszający stwierdził, że wybór kwasu wpływa na płynność wodnego roztworu chitosanu. Tak więc wskazano, że dla danego stężenia chitosanu, o określonej masie molowej, lepkość zmieniała się w zależności od wybranego kwasu. W szczególności kwas cytrynowy umożliwia większe obniżenie lepkości w porównaniu z innymi kwasami.

W konsekwencji i w innym korzystnym rozwią zaniu, chitosan rozpuszcza się w obecnoś ci kwasu cytrynowego.

Według innej charakterystyki, warstwa na bazie chitosanu zawiera co najmniej 80% wagowo chitosanu w postaci soli (chitosan + kwas), korzystnie 100% wagowo chitosanu.

W korzystnym rozwią zaniu, chitosan osadzano w iloś ci 7 g chitosanu na 1 m² noś nika.

W praktyce, noś nik jest nośnikiem na bazie uprzednio opisanych, organicznych i/lub nieorganicznych włókien, o masach pomiędzy 15 i 200 g/m², korzystnie pomiędzy 25 i 100 g/m².

Nośnik według wynalazku wykazuje pewne właściwości, które zostaną lepiej opisane w następujących przykładach. Szczególnie, i w pewnych warunkach, pokryty nośnik tworzy doskonałą barierę dla gazów (O2, CO2 i dla środków aromatycznych), dla pary wodnej i dla mikroorganizmów.

Dokładniej, nośnik pokryty chitosanem według wynalazku tworzy doskonałą barierę dla gazów O2 i CO2, gdy względna wilgotność jest mniejsza niż 80%. Z drugiej strony, tworzy on doskonałą barierę dla pary wodnej przy względnej wilgotności poniżej 40%.

Nośnik według wynalazku można wykorzystywać w kilku zastosowaniach takich jak filtracja, pakowanie żywności lub inne, takie jak opatrunki, nośniki kosmetyczne oraz farmaceutyczne itp.

W celu zwię kszenia własności barierowych dla gazu i pary wodnej w wilgotnej atmosferze, warstwa chitosanu zgodnie z definicją hydrofobowości pokryta jest woskiem, korzystnie roślinnym.

W korzystnym rozwią zaniu, wosk do roztworu chitosanu wprowadza się w postaci wodnej emulsji, wosk zawiera pomiędzy 0,1 i 20% wagowo chitosanu.

W praktyce, stosuje się wosk roś linny wybrany spoś ród takich, jak wosk candelila i wosk karnauba, co nie wyczerpuje tego zestawienia. Te dwa woski są doskonale znane w dziedzinie, pierwszy otrzymuje się z krzewu Euphorbia Cerifera, a drugi z palmy Copernica Cerifera.

Taki nośnik można w szczególności stosować jako materiał do pakowania żywności, o ile chitosan lub wosk roślinny nie przenika do żywności. Ponadto, spożycie tych dwóch składników jest nietoksyczne. Nastę pnie, układ celuloza-chitosan w tym przypadku tworzy całkowicie biodegradowalną i biowchłanialny układ nie wpływający na środowisko.

Wynalazek dotyczy także sposobu wytwarzania uprzednio opisanego nośnika. W szczególnym rozwiązaniu, powlekanie wodnym roztworem chitosanu przeprowadza się tylko w jednym etapie.

PL 209 875 B1

Oczywiście, osadzanie roztworu chitosanu w postaci ciągłej warstwy lub nieciągłej, na nośniku można przeprowadzać z zastosowaniem wszystkich technik znanych w dziedzinie, takich jak metoda powlekania prętem i ostrzem Meyer'a, kontrolowanego zaklejania powierzchniowego (size-press), bezpośredniego powlekania walcem do rytowania, powlekania powłoką lub rewersem warstwy, powlekania przez polewanie, zaklejania powierzchniowego itp.

W celu zapewnienia, że warstwa na bazie chitosanu na noś niku został a dobrze rozprowadzona, jej lepkość powinna wynosić od 100 do 3000 mPa-s (cps), korzystnie od 200 do 1500 mPa-s (cps), przy szybkości ścinania 100 s^-1, biorąc pod uwagę, że lepkość zależy bezpośrednio od wybranego kwasu w wodnym roztworze chitosanu.

Powlekanie można prowadzić w sposób przerywany, autonomiczny lub korzystnie w sposób ciągły, bezpośredni a zwłaszcza z zastosowaniem maszyny papierniczej.

Gdy warstwa chitosanu jest pokryta woskiem roślinnym, stosuje się wosk w postaci emulsji jako mieszaniny z chitosanem, lub jako sam wosk nakładany na pierwszą warstwę na bazie chitosanu według uprzednio opisanych typowych sposobów powlekania.

Wynalazek i wynikające z niego korzyści staną się bardziej oczywiste w odniesieniu do następujących przykładów oraz załączonych schematów.

Fig. 1 ilustruje schemat urządzenia umożliwiającego oszacowanie przenikania pary wodnej, charakteryzującego nośnik według wynalazku.

Fig. 2 ilustruje przenikanie pary wodnej, charakteryzujące nośnik według wynalazku według czterech różnych rozwiązań (warstwa chitosanu - papier/chitosan/wosk -papier - papier pokryty chitosanem (7 g chitosanu na 1 m² nośnika)).

Fig. 3 ilustruje przeciwbakteryjną efektywność nośnika według wynalazku, gdy stosuje się go w opakowaniu żywności (aktywnego przeciwbakteryjnie). Nośnik umożliwia ograniczenie rozwoju zwykłych zanieczyszczeń żywności i w konsekwencji zwiększa jej trwałość.

Fig. 4 ilustruje przeciwbakteryjną skuteczność nośnika według wynalazku stosowanego jako ochronne opakowanie ograniczające dostęp zewnętrznych mikroorganizmów.

P r z y k ł a d 1: Wytwarzanie pokrytego nośnika według wynalazku

1. Wstępna hydroliza chitosanu

Roztwór chitosanu, o średniej masie molowej wynoszącej 200 000 g/mol, wytwarza się w roztworze buforowym 1% kwasu octowego. Tak wytworzony roztwór miesza się przez 12 godzin.

Następnie dodaje się azotyn sodu w ilości takiej jak:

azotyn sodu chitosan podstawiony grupą aminową

0,02

Hydrolizę prowadzi się przez okres 24 godzin. Na koniec, hydrolizę zatrzymuje się dodając 16,5N roztwór amoniakalny. Osad chitosanu przemywa się do otrzymania klarownej cieczy o pH zbliżonym do 6,5.

Średnia masa molowa otrzymanego zhydrolizowanego chitosanu określona jako masa (Mw) wynosi 25 000 g/mol.

2. Wytwarzanie pokrytego nośnika

8% wagowo roztwór chitosanu, o średniej masie molowej określonej jako masa (Mw) 35 000 g/mol, wytwarza się w obecności trzech różnych kwasów w stechiometrycznej ilości.

Lepkości roztworu chitosanu przedstawiono w poniższej tablicy według własności kwasów.

Stosowany kwas 8% wagowo roztwór chitosanu (35 000 g/mol)	Lepkość mPa-s (cps) przy szybkości ścinania 100 sek^-1
Kwas octowy	374
Kwas cytrynowy	257
Kwas masłowy	1150
Należy zwrócić uwagę, że dla takiego samego stężenia chitosanu, rodzaj kwasu ma wpływ na lepkości otrzymanych roztworów. Tak więc, kwas cytrynowy umożliwia otrzymywanie roztworu o mniejszej lepkości o takim samym stężeniu chitosanu.

PL 209 875 B1

Ten roztwór następnie pokrywa się belką Meyer'a na nośniku papierowym typu pergaminu roślinnego 35 g/m². Tak więc, ciągłą warstwę otrzymuje się na powierzchni papieru. Kompleks osusza się w temperaturze 100°C. Masa osadzanego chitosanu wynosi 7 g na 1 m² nośnika.

P r z y k ł a d 2: Właściwości

Przeprowadza się różne testy z nośnikiem pokrytym roztworem chitosanu w kwasie octowym.

1. Przewodność magnetyczna w stanie bezwodnym

	Masa osadzana (g/m²)	Bariera dla Pe(CO2)	Bariera dla Pe(O2)
Papier (roślinny pergamin 35 g/m²)		1640	651
Papier pokryty chitosanem (200 000 g/mol) z roztworem 1%	0,9	820	588
Papier pokryty chitosanem (200 000 g/mol) z roztworem 2%	1,5	594	231
Papier pokryty zhydrolizowanym chitosanem (60 000 g/mol) z roztworem 4%	3	75	36

Papier pokryty 2 razy zhydrolizowanym chitosanem (60 000 g/mol) z roztworem 4%	4,5	3,1	3,3
Papier pokryty zhydrolizowanym chitosanem (25 000 g/mol) z roztworem 10%	7	0,28	0,12
Cienka 2 μιτι warstwa chitosanu (200000 g/mol)		0,3	0,24

Pe: przepuszczalność

Zgodnie z otrzymanymi wynikami, własności bariery gazowej są takie same, jak dla 2 μm warstwy chitosanu, gdy co najmniej 7 g/m² roztwór chitosanu osadzi się na nośniku, a powlekanie umożliwia odpowiedni wybór kwasu oraz masy cząsteczkowej chitosanu.

2. Przenikanie pary wodnej

Test przeprowadza się na trzech różnych nośnikach:

- papier pergaminowy 35 g/m²

- papier pokryty roztworem chitosanu według przykładu 1.2,

- warstwa chitosanu o 200 000 g/mol o grubości 2 μm.

Pomiary przepuszczalności prowadzono w urządzeniu przedstawionym schematycznie na Fig. 1.

W celu uzyskania siły napędowej dla dyfuzji stosuje się gradient stężenia dyfuzyjnego z obu stron błony (1) odpowiedni dla próbki poddanej analizie.

Naczynie pomiarowe (2) umieszcza się w osłonie (3), której temperaturę reguluje się za pomocą termostatu do temperatury 22°C. Odparowanie badanej cieczy (w tym przypadku wody) osiąga się za pomocą balonu zanurzonego w łaźni (4), o temperaturze dokładnie 15°C tak, aby ciśnienie pary P2 występujące w przedniej komorze było stałe podczas całego testu.

Omawiana wartość ciśnienia P2, właściwie względnego ciśnienia wynosi:

P — = 0,65

P przy czym P0 oznacza ciśnienie pary odpowiednie dla temperatury 22°C. Użyteczna powierzchnia błony wynosi 10 cm². Objętość V w tylnej komorze (5) jest regulowana stosownie do przenikania płynów, co mierzy się czujnikiem typu DATAMETRIX 100 torrów.

Na Fig. 2 przedstawiono przenikanie pary wodnej w funkcji czasu dla trzech nośników: chitosan jako taki, papier jako taki, papier/chitosan (7 g/m²).

Powleczenie papieru warstwą 7 g/m² umożliwia dwukrotne zmniejszanie przepływu wody w odniesieniu do samego papieru przy ciśnieniu cząstkowym 0,65. Przepływ wody przez pokryty papier jest tego samego rzędu, jak dla warstwy chitosanu.

3. Przeciwbakteryjne właściwości nośnika według wynalazku

- Symulacja zanieczyszczenia żywności

PL 209 875 B1

W tym teście zawiesinę grzybów umieszcza się na płytce Petri'ego, pomiędzy noś nikiem według wynalazku i gelose SABOURAUD.

Nośnik jest nośnikiem papierowym typu pergaminowego przy 35 g/m² i jest pokryty 0, następnie 4 i 7 g/m² chitosanu według przykładu 1.2.

Otrzymane wyniki przedstawiono na Fig. 3 wobec kolonii Aspergillus Flavus, Botrytis cinerea i Penicillium italicum. Jak pokazano, pokryty nośnik hamuje wzrost grzybów, a najbardziej zadowalaj ące wyniki uzyskano dla warstwy chitosanu 7 g/m².

- Symulacja zewnę trznego zanieczyszczenia

W tym teście, pokryty nośnik według wynalazku umieszcza się pomiędzy gelose i zawiesiną grzybów. Hodowlę utrzymuje się w temperaturze 25°C przez 96 godzin. Otrzymane wyniki przedstawiono na Fig. 4. Jak wynika z tego rysunku, mikroorganizm rozrasta się bez bezpośredniego kontaktu z chitosanem.

P r z y k ł a d 3

Warstwa wosku karnauba jest pokryta za pomocą belki Meyer'a na powierzchni kompleksu ₂ otrzymanego w przykładzie 1.2, powlekanie warstwy wosku przeprowadzono w ilości 1 g/m².

P r z y k ł a d 4: Właściwości pary wodnej kompleksu według przykładu 3

Stosuje się taką samą technikę jak dla przykładu 2.

Jak widać z Fig. 2, powlekanie chitosanem oraz następnie woskiem zmniejsza dziesięciokrotnie przepływ wody w odniesieniu do samego papieru.

Claims

1. Nośnik na bazie organicznych i/lub nieorganicznych włókien, pokryty na co najmniej jednej z ich powierzchni warstwą na bazie chitosanu, znamienny tym, ż e warstwę otrzymano przez powlekanie wodnym roztworem na bazie chitosanu, który został wcześniej poddany hydrolizie, o średniej masie molowej poniżej 130 000 g/mol i stężeniu pomiędzy 6 i 30% wagowo.

2. Nośnik według zastrz. 1, znamienny tym, że chitosan osadzono w ilości od 6 do 15 g chitosanu na 1 m² nośnika.

3. Nośnik według zastrz. 1, znamienny tym, ż e warstwa występuje w postaci ciągłej warstwy.

4. Nośnik według zastrz. 1, znamienny tym, że chitosan ma średnią masę molową pomiędzy 15 000 i 40 000 g/mol.

5. Nośnik według zastrz. 1, znamienny tym, ż e chitosan występuje w roztworze w stężeniu pomiędzy 7 i 12% wagowo.

6. Noś nik wedł ug zastrz. 1, znamienny tym, ż e chitosan rozpuszczono w roztworze wodnym w obecnoś ci kwasu cytrynowego.

7. Nośnik według zastrz. 1, znamienny tym, że warstwa na bazie chitosanu zawiera co najmniej 80% wagowo chitosanu.

8. Nośnik według zastrz. 1, znamienny tym, że chitosan osadzano w ilości 7 g chitosanu na 1 m² noś nika.

9. Nośnik według zastrz. 1, znamienny tym, że warstwę na bazie chitosanu pokryto warstwą wosku.

10. Sposób wytwarzania nośnika na bazie organicznych i/lub nieorganicznych włókien, pokrytego na co najmniej jednej z jego powierzchni warstwą na bazie chitosanu, znamienny tym, że nośnik powleka się wodnym roztworem na bazie chitosanu, który został wcześniej poddany hydrolizie, o średniej masie molowej poniżej 130 000 g/mol i stężeniu pomiędzy 6 i 30% wagowo.

11. Sposób według zastrz. 10, znamienny tym, że chitosan osadza się w ilości od 6 do 15 g chitosanu na 1 m² nośnika.

12. Sposób według zastrz. 10, znamienny tym, że warstwa występuje w postaci ciągłej warstwy.

13. Sposób według zastrz. 10, znamienny tym, że stosuje się chitosan o średniej masie molowej pomiędzy 15 000 i 40 000 g/mol.

14. Sposób według zastrz. 10, znamienny tym, że chitosan występuje w roztworze w stężeniu pomiędzy 7 i 12% wagowo.

15. Sposób według zastrz. 10, znamienny tym, że chitosan rozpuszcza się w roztworze wodnym w obecności kwasu cytrynowego.

PL 209 875 B1

16. Sposób według zastrz. 10, znamienny tym, że warstwa na bazie chitosanu zawiera co najmniej 80% wagowo chitosanu.

17. Sposób według zastrz. 10, znamienny tym, że chitosan osadza się w ilości 7 g chitosanu na 1 m² nośnika.

18. Sposób według zastrz. 10, znamienny tym, że warstwę na bazie chitosanu pokrywa się warstwą wosku.

19. Sposób wytwarzania według zastrz. 10, znamienny tym, że powlekanie wodnym roztworem przeprowadza się tylko w jednym etapie.

20. Sposób wytwarzania według zastrz. 19, znamienny tym, że powlekanie przeprowadza się belką lub ostrzem Meyer'a, metodą kontrolowanego zaklejania powierzchniowego, metodą bezpośredniego powlekania walcem do rytowania, powlekania powłoką lub rewersem warstwy, przez polewanie lub prasowanie wymiarowe.

21. Sposób wytwarzania według zastrz. 10 albo 20, znamienny tym, że do roztworu chitosanu wosk wprowadza się w postaci wodnego roztworu, zawierającego pomiędzy 0,1 i 20% wagowo chitosanu.