KR20040106312A - 키토산 베이스 코팅으로 커버된 지지물 및 그의 제조 공정 - Google Patents

키토산 베이스 코팅으로 커버된 지지물 및 그의 제조 공정 Download PDF

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KR20040106312A
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알레인 도마르
엘리안느 에스푸치
세버린 데스폰드
노엘 까르띠에
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알스트롬 코포레이션
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Abstract

키토산-베이스층은 키토산-베이스 수용액으로 코팅함으로써 얻어지고, 그의 평균 몰 매스는 130 000 g/mol 이하의 매스를 갖고, 그의 농도는 6 내지 30중량%이고, 그의 점도는 100 내지 3000cps인 것을 특징으로 하는, 그의 대향면들 중의 적어도 하나 상에 키토산-베이스층으로 커버된 유기 및/또는 무기 섬유들에 기초한 지지물이 개시된다.

Description

키토산 베이스 코팅으로 커버된 지지물 및 그의 제조 공정{SUPPORT COVERED WITH A CHITOSAN-BASED COATING AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF}
명세서의 나머지 부분에서, "유기 및/또는 무기 섬유들"이라는 표현은 유기 섬유들 중에서, 특히 셀룰로스 섬유들, 합성 섬유들, 예를 들면 폴리에스테르, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리아미드 및 폴리비닐 클로라이드 타입; 인공 섬유들(예, 비스코스, 셀룰로스 아세테이트); 천연 섬유들(예, 면, 모, 모 펄프); 탄소 섬유들(가능하게는 활성) 및 무기 섬유들 중에서, 특히 무기 섬유들(예, 유리 섬유들, 세라믹 섬유들)을 나타낸다. 선택된 섬유들의 특성에 기초하여, 지지물은 페이퍼, 보드, 부직포 또는 심지어 직물의 형태일 수 있다.
본 발명은 그의 대향면들 중의 적어도 하나 상에 키토산 베이스층으로 코팅된 유기 및/또는 무기 섬유들에 기초한 지지물의 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명 및 그의 장점들은 첨부된 도면들에 의해 지원되는 다음 예시적인 실시예들로부터 보다 명백해질 것이다.
도 1은 본 발명의 지지물의 수증기 투과 특성들의 평가를 허용하는 디바이스의 개략적 예시도.
도 2는 4개의 상이한 실시예들(키토산 필름-페이퍼/키토산/왁스-페이퍼 자체-키토산으로 코팅된 페이퍼(7 g/m2))에 따른 본 발명의 지지물의 수증기 투과 특성들을 예시하는 도면.
도 3은 활성의 음식물 패키지로서 사용될 때 본 발명의 지지물의 항미생물 효능을 예시하는 도면(이 지지물은 음식물의 통상적인 오염이 진행되는 것을 제한하고 결과적으로 그의 보존 수명을 증가시킴).
도 4는 외부 미생물들의 침투를 제한하기 위해 보호성 포장지로서 사용되는 본 발명의 지지물의 항미생물 효능을 예시하는 도면.
문헌 제WO97/23390호는 키토산-베이스층에 의해 폴리에틸렌층으로부터 분리된 지지물인, 그의 대향면들 양쪽 상에 폴리에틸렌층으로 코팅된 페이퍼 지지물로 구성된 착물을 개시한다. 보다 정확해지기 위해, 키토산-베이스층은 폴리비닐 알콜 및 가교제와 키토산의 혼합물로부터 초래되고, 이 키토산은 얻어진 지지물에 특정 가요성을 부여하기 위해 사용된 것이다. 상기 층 내의 키토산의 비율은 기껏 50중량%이고, 가교제 및 폴리비닐 알콜로 100%를 구성하여 밸런스에 이른다. 예시적인 실시예들에 따라, 키토산은 1중량%의 농도로 혼합물 내로 도입된다. 키토산이 심지어 50중량% 농도로 나타날 수 있고, 상기 층의 전체 중량이 1 내지 10g/m2내로 지시되는 한, 침착된 키토산의 순수 중량은 5g/m2이다. 키토산의 분자량에 관한 어떠한 정보도 주어져 있지 않다.
문헌 제JP-07082690호는 셀룰로스 섬유 상의 기재 지지물이 키토산 및 PVA의 산용액으로 코팅되는 포장지를 개시한다. 사용된 키토산의 농도는 0.05 내지 3중량%이고, 단 그 농도가 3%를 초과할 때, 우리가 지지물 상의 층의 도포를 방지하는 점도 문제점들과 직면하게 되는 것을 지시한다. 키토산의 분자량에 관한 어떠한 정보도 주어져 있지 않다.
이들 문헌들 및 본 출원인이 알고 있는 보다 일반적인 선행 기술은 키토산의 높은 점도로 인해, 지지물의 표면 상에 연속적인 필름을 얻기 위해 충분한 양의 침착된 키토산(실제로 5 g/m2이상)을 얻을 의도로 높은 농도의 키토산(실제로 3% 이상)으로 지지물을 코팅하는 것이 불가능해 보임을 지시한다.
이런 점에도 불구하고, 문헌 제JP-02127596호는 0.5 내지 30 g/m2의 침착된 키토산의 매스를 얻기 위해 1 내지 20중량%의 농도로 키토산 또는 키틴으로 코팅된 페이퍼 지지물의 제조 공정을 개시한다. 200 000 내지 500 000 g/mol인 사용된 키토산의 평균 몰 매스를 고려하면, 점도가 코팅 공정에 적합할 수 있도록 높은 농도의 키토산을 코팅하는 것은 불가능한 것으로 판명된다. 실제로, 점도는 100s-1(표준 조건)의 전단 속도에서 100 내지 3000 cps이다. 그러나, 점도에 관한 어떠한 정보도 이 문헌에 주어져 있지 않다.
이러한 증거로, 다음 표에서 알 수 있듯이, 제한된 분야에서만 본 발명을 나타내는 예시적인 실시예들을 조사하는 것이 충분하다.
Ex.1 Ex.2 Ex.3 Ex.4 Ex.5
중량%의 키토산 또는 키틴 농도 1 1 1 2 1
g/m2의 양으로 침착된 키토산 매스 1 1 5 10 5
이 표는 예시된 최고 키토산 농도가 2%로 설정되고, 이것은 10g/m2의 침착된 키토산 매스에 대한 것임을 보여준다. 따라서, 다음 2개의 기본 소자들은 이 표로부터 연역될 수 있다. 한편, 그와 같이 기재된 공정은 예시된 최고 값들이 10g/m2에 대해 2% 농도인 한 완전한 요구 범위 내에서 재생될 수 있는 것으로서 고려될 수 없다. 다른 한편, 이 문헌에 지시된 바와 같이, 2% 농도의 키토산 용액으로 10g/m2의 키토산 코팅을 얻거나 또는 1% 농도의 용액으로 5g/m2의 코팅을 얻을 수 있다면, 이는 단지 여러 단계들에서 이루어질 수 있고, 즉 적어도 5개의 연속적인 코팅들에서 이루어질 수 있다. 사실상, 1%의 키토산 농도는 특히 1g/m2의 침착된키토산 매스에 대응한다.
따라서, 이 공정은 지지물이 만족스러운 양의 침착된 키토산을 얻기 위해 여러 층의 키토산으로 코팅될 필요가 있는 한 공업화될 수 없다는 불편함을 갖는 것이 명백하다. 결과로써, 최종 제품은 제조 공정들로 인해 너무 비싸지게 된다.
문헌 제US-A-5 900 479호는 키토산 용액으로부터 키틴 필름의 제조 공정을 개시한다. 사용된 키토산의 분자량은 어떠한 특정 실시예도 예시되지 않은 경우조차 104내지 106이다. 더욱이, 키토산 용액의 점도에 관한 어떠한 정보도 주어져 있지 않다.
결과적으로, 본 발명이 해결하고자 제안하는 문제는 적어도 6g/m2이상의 양으로 키토산으로 코팅된 지지물을 어떻게 개발할까 하는 것이고, 이는 키토산의 코팅이 제한된 수의 단계들에 의해 수행되는 공정으로 제조될 수 있다.
이를 위해, 본 발명은 그의 대향면들 중의 적어도 하나 상에 키토산-베이스 층으로 커버된 지지물을 제안하고, 키토산은 건조 상태로 6 내지 15g/m2의 양으로 유리하게 코팅된 것이다.
이러한 지지물은 그 층이 키토산-베이스 수용액에 의한 코팅을 수행함으로써 얻어지고, 그의 평균 몰 매스는 130 000 g/mol 미만의 매스(Mw), 바람직하게는 10 000 내지 100 000, 유리하게는 15 000 내지 40 000이고, 그의 농도는 6 내지 30중량%, 유리하게는 6 내지 25 중량%이고, 그의 점도는 100 내지 3000cps인 것을 특징으로 한다.
유리한 실시예에서, 이 층은 연속 필름의 형태이다.
명세서의 나머지 부분 및 특허 청구의 범위에서, 점도 값들은 표준 전단 속도들에 대해 지시되고, 주로 100s-1이다. 또한, 평균 분자 매스들은 매스(Mw)로 표현된다.
다시 말하자면, 본 발명은 130 000 g/mol보다 열악한 매스(Mw)를 갖는 낮은 평균 몰 매스를 갖는 키토산을 사용하고, 따라서 점도의 증가 없이 용액의 키토산 농도를 증가시키고, 따라서 상당한 양의 키토산을 침착시키는 것을 허용한다.
키토산의 분자 매스의 선택은 명확하지 않다. 사실상, 분자량은 효율적인 배리어(가스, 스팀)를 보장하기 위해 허용되는 적절한 필름-형성 캐릭터를 필름에 제공하기에 충분히 높아야 하는 한편, 소수의 코팅에 적용될 수 있는 그러한 점도를 용액에 제공하기 위해 여전히 충분히 낮게 남아있다.
적은 분자 매스의 키토산은 가수 분해에 의해 실험실 규모로 얻어질 수 있다. 이러한 경우에, 키토산의 가수 분해는 1989년 Allan 및 Peyrou가 개시한 공정에 따라 질산 나트륨의 보조 하에 수행되고, 이 문헌은 참고 문헌으로서 본원에 인용한다.
이러한 공정은 종래의 산 가수 분해에 비교한 바, 지지물의 착색을 유발하지 않는 점에서 유리하다. 필수적인 것은 이러한 공정이 완충 환경에서, 실제로 0.2M AcOH/0.1M AcONa 중의 키토산 용액을 제조하는 것으로 구성된다는 것이다. 교반후, 질산 나트륨이 혼합물에 부가되고, 이는 가수 분해를 개시하게 한다. 소정의 시간 후에, 가수 분해는 암모니아 용액을 부가함으로써 종료되고, 특히 16.5N은 키토산의 침전을 유발한다. 이어서, 침전물은 상층액이 얻어질 때까지 세척되고, 그의 pH는 실제로 약 6.5이다.
키토산의 가수분해는 질산 나트륨으로부터 니트로실 양이온의 형성으로 인해 얻어지고, 이 니트로실 양이온은 N-니트로암모늄 염을 형성하도록 키토산의 아민들을 공격한다. 마지막으로, 니트로사민들은 보다 낮은 중합도를 갖는 폴리머들을 얻도록 분해된다.
이미 언급한 바와 같이, 사용된 키토산의 평균 몰 매스의 선택은 6 내지 30중량%, 바람직하게는 7 내지 12 중량%, 유리하게는 10중량%인 코팅 용액 중의 키토산 농도를 얻을 수 있게 한다. 실제로, 키토산은 예를 들면 젖산, 아세트산, 염소산, 질산, 유리하게는 시트르산으로 구성된 군으로부터 선택된 유기산 또는 무기산의 존재 하에 수용액 중에 용해되고, 이러한 리스트는 제한되지 않는다.
매우 놀랍게도, 본 출원인은 산의 선택이 키토산 수용액의 유동성에 영향을 미친다는 것을 발견하였다. 따라서, 본 출원인은 결정된 몰 매스의 주어진 농도의 키토산에 대해, 산의 선택에 의존하여 변화하는 점성이 얻어졌음을 보여주었다. 특히, 시트르산은 다른 산에 비해 점성을 낮추었다.
결과적으로, 다른 바람직한 실시예에서, 키토산은 시트르산의 존재 하에 용해된다.
다른 특징에 따라, 키토산-베이스층은 염 형태의 키토산(키토산 + 산)을 적어도 80중량%, 유리하게는 키토산 100중량%를 함유한다.
유리한 실시예에서, 키토산은 건조 중량으로 7g/m2의 양으로 침착된다.
실제로, 이 지지물은 이미 기재된 유기 및/또는 무기 섬유들에 기초한 지지물이고, 그의 매스는 15 내지 200g/m2, 유리하게는 25 내지 100g/m2이다.
본 발명의 지지물은 다음 예시적인 실시예들에 보다 상세히 기재하게 될 특정 양의 특성들을 갖는다. 특히, 특정 조건들에서, 코팅된 지지물은 가스들(O2, CO2및 아로마), 수증기, 미생물들에 대한 우수한 배리어를 형성한다.
보다 정확히, 본 발명의 키토산-코팅된 지지물은 상대 습도가 80% 미만일 때 O2및 CO2에 대한 우수한 배리어를 형성한다. 다른 한편, 40% 미만의 상대 습도에 대해, 그 지지물은 수증기에 대한 우수한 배리어를 형성한다.
본 발명의 지지물은 여과, 음식물 패키징 등의 여러 용도들 또는 패치들, 화장품 및 제약 지지물 등의 기타 용도에 사용될 수 있다.
습한 분위기에서 가스 및 수증기에 대한 배리어 특성들을 증진시키기 위해, 키토산층은 왁스로, 유리하게는 식물성 왁스로 커버되어 소수성으로 정의된다.
유리한 실시예에서, 왁스는 수성 에멀젼의 형태로 키토산 용액 중에 도입되고, 이 왁스는 키토산의 0.1 내지 20중량%를 나타낸다.
실제로, 사용된 식물 왁스는 캔델릴라 왁스 및 카르나우바 왁스를 포함하는 군으로부터 선택되고, 이러한 리스트는 배타적이지 않다. 이들 2가지 왁스는 당업계의 숙련자들에게 완전히 공지되어 있고, 첫번째 것은 유포비아 세리페라 (Euphobia Cerifera)의 덤불에서 얻어지고, 두번째 것은 야자수 코페르니카 세리페라 (Copernica Cerifera)로부터 얻어진다.
그러한 지지물은 키토산 또는 식물 왁스가 음식물 쪽으로 이동할 수 없는 한 음식물 패키징 물질로서 특히 사용될 수 있다. 더욱이, 이들 2 성분들의 섭취는 무독성이다. 더욱이, 이러한 경우에, 셀룰로스-키토산 어셈블리는 환경적 영향 없이 완전히 생분해성이고, 생체 재흡수 가능한 어셈블리를 형성한다.
또한, 본 발명은 이미 기재된 바의 지지물의 제조 공정에 관한 것이다. 특정 실시예에서, 키토산 수용액에 의한 코팅은 단지 일 단계로 수행된다.
물론, 지지물 상에 연속적이거나 또는 그렇지 않은 필름 형태의 키토산-베이스 용액의 침착은 Meyer 바 또는 블레이드 타입 코팅, 미터링 사이즈-프레스, 직접 코팅에 의해 새겨진 실린더에 의한 코팅, 전이 코팅 또는 역 코팅에 의해, 커튼 코팅, 사이즈-프레스 등의 당업계의 숙련자들에게 공지된 모든 기술에 의해 수행될 수 있다.
지지물 상의 키토산-베이스층의 양호한 스프레딩을 보장하기 위해, 100s-1의 전단 속도에서 100 내지 3000cps, 유리하게는 200 내지 1500cps의 점도를 갖고, 그 점도는 키토산 수용액 중의 산의 선택에 직접적으로 의존하는 것을 유념해야 한다.
코팅은 불연속적으로, 오프-라인으로, 또는 바람직하게는, 연속적으로, 온-라인으로, 특히 페이퍼 머신 상에서 수행될 수 있다.
키토산 층이 식물 왁스로 커버될 때, 그 왁스는 상기한 것들과 같은 표준 코팅 공정들에 따라 키토산과의 혼합물로서 에멀젼의 형태로, 또는 그 자체로 제1 키토산-베이스층 상에 도포된다.
실시예 1: 본 발명의 코팅된 지지물의 제조
1.키토산의 예비 가수분해
평균 몰 매스가 200 000 g/mol인 키토산 용액을 1% 아세트산 완충 용액 중에서 제조한다. 이와 같이 제조된 용액은 12 시간 동안 진탕 유지된다.
이어서, 질산 나트륨이 다음과 같은 양으로 부가된다
R = 질산 나트륨/키토산의 아민 관능기 = 0.02
가수분해는 24시간의 기간 동안 수행된다. 마지막으로, 가수분해는 16.5N 암모니아 용액을 부가함으로써 종료된다. 침전된 키토산은 6,5에 근접한 pH를 갖는 상층액이 얻어질 때까지 세척된다.
얻어진 가수분해된 키토산의 평균 몰 매스는 25 000 g/mol의 매스(Mw)를 갖는다.
2.코팅된 지지물의 제조
평균 몰 매스가 35 000 g/mol의 매스(Mw)를 갖는 8중량%의 키토산 용액이 화학양론적 양의 3가지 상이한 산들의 존재 하에 제조된다.
키토산 용액의 점도들은 산들의 특성에 따라 다음 표에 나타낸다.
---------------------------------------------------------------------
8%w/w의 사용된 키토산 용액 100 sec-1의 전단 속도에서
(35 000 g/mol) 점도(Cps)
---------------------------------------------------------------------
아세트산 374
시트르산 257
부티르산 1150
---------------------------------------------------------------------
동일한 키토산 농도에 대해, 산이 얻어진 용액들의 점도에 영향을 미치는 것이 주시된다. 따라서, 시트르산은 동일한 키토산 농도를 갖는 낮은 점성의 수용액을 얻는 것을 허용한다.
이어서, 이러한 용액은 35g/m2식물성 양피지 타입의 지지물 페이퍼 상에 Meyer 바로 코팅된다. 따라서, 연속 필름은 페이퍼의 표면 상에서 얻어진다. 착물은 100℃에서 건조된다. 침착된 키토산의 매스는 7 g/m2이다.
실시예 2: 특성들
상이한 시험들이 아세트산 중의 키토산 용액으로 코팅된 지지물에 의해 수행된다.
1.수성 상태에서의 침투
침착된 매스(g/m2) Pe(CO2) 배리어 Pe(O2) 배리어
페이퍼 자체(35g/m2의 식물성 양피지) 1640 651
1% 용액의 키토산(200 000g/mol)으로 코팅된 페이퍼 0.9 820 588
2% 용액의 키토산(200 000g/mol)으로 코팅된 페이퍼 1.5 594 231
4% 용액의 가수분해된 키토산(60 000g/mol)으로 코팅된 페이퍼 3 75 36
4% 용액의 가수분해된 키토산(60 000g/mol)으로 2회 코팅된 페이퍼 4.5 3.1 3.3
10% 용액의 가수분해된 키토산(25 000g/mol)으로 코팅된 페이퍼 7 0.28 0.12
25㎛ 두께의 키토산 필름 (200 000g/mol) 0.3 0.24
Pe: 투과성
이들 결과로부터 알 수 있듯이, 2㎛ 키토산 필름의 그것들과 동일한 가스 배리어 특성들은 키토산 용액 적어도 7g/m2가 지지물 상에 침착될 때 얻어지고, 이러한 코팅은 키토산의 분자량 및 산을 선택함으로써 이루어질 수 있는 것이다.
2.수증기 투과
시험은 다음 3가지 상이한 지지물들 상에서 수행된다:
- 35g/m2에서 양피지화된 페이퍼
- 실시예 1.2에 따라 키토산 용액으로 코팅된 페이퍼
- 2㎛ 두께를 갖는 200 000 g/mol의 키토산 필름
투과성 측정들은 도 1에 개략된 디바이스 내에서 수행되었다.
확산 농도 구배는 분석되어야 할 시료에 대응하는 막(1)의 양 측면들로부터 인가되고, 확산의 구동력을 형성한다.
측정 셀(2)은 하우징(3) 내에 위치하고, 그의 온도는 써모셋에 의해 22℃로 설정된다. 연구해야 할 액체의 증발(이 경우 물)은 배쓰(4) 내에 침지된 벌룬을 통해 이루어지고, 그의 온도는 15℃로 정확히 조절됨으로써 상류 격벽에 부과된 증기 P1의 장력은 전체 시험 중에 일정할 수 있었다
문제의 압력은 사실상 상대 압력이다:
여기서, P0는 22℃의 온도에 대응하는 증기의 장력이다.
멤브레인의 유용한 표면은 10cm2이다.
하류 격벽(5)의 부피(V2)는 측정되어야 할 투과 흐름들에 따라 조절될 수 있고, 사용된 장력은 100torrs의 DATAMETRIX 타입이다.
도면 2에서 3가지 지지물들: 즉 키토산 자체, 페이퍼 자체, 페이퍼/키토산(7g/m2)에 대한 시간의 함수로서 수증기 투과를 나타내고 있다.
페이퍼 상의 7g/m2코팅은 0.65의 부분 압력에서 페이퍼 자체에 관련하여 물 흐름들의 인자 2에 의한 감소를 허용한다. 코팅된 페이퍼에 대한 물 흐름들은 키토산 필름에 대해 동일한 치수의 크기이다.
3.본 발명의 지지물의 항미생물 특성
- 음식물 오염 자극
이 시험에서 진균의 현탁액이 본 발명의 지지물과 SAVOURAUD 겔로스 사이의 페트리 접시에 삽입된다.
이 지지물은 35g/m2로 양피지화된 타입의 페이퍼 지지물이고 실시예 1.2에 따른 키토산 0, 이어서 4 및 7g/m2으로 코팅된다.
얻어진 결과는 도 3에서 마주 보는 군락들 애스퍼질러스 플래버스 (Aspergillus Flavus), 보이트리티스 시네리아 (Botrytis cinerea) 및 페니실리움이탤리쿰 (Penicillium italicum)으로 나타내었다. 도시된 바와 같이, 코팅된 지지물은 진균의 성장을 억제하고, 가장 만족스러운 결과들은 7g/m2의 키토산 코팅에 대해 얻어진 것이다.
- 외부 오염 자극
이 시험에서, 본 발명의 코팅된 지지물이 겔로스와 진균 현탁액 사이에 삽입된다. 배양물은 96시간 동안 25℃에서 유지된다. 얻어진 결과들은 도 4에 나타낸다. 이러한 도면으로부터 알 수 있듯이, 미생물은 키토산과의 직접적인 접촉을 피하도록 하는 높이로 증가한다.
실시예 3
카마우바 왁스의 층은 실시예 1, 2에서 얻어진 착물의 표면 상에 Meyer 바로 코팅되고, 그 왁스층의 코팅은 1g/m2의 양으로 제조된 것이다.
실시예 4: 실시예 3의 착물 대상물의 수증기 특성들
동일한 기술이 실시예 2에 대해서와 같이 사용된다.
도 2로부터 알 수 있듯이, 키토산 코팅 및 그 후의 왁스는 페이퍼 자체에 관련하여 10의 인자만큼 물의 흐름을 감소시킨다.

Claims (15)

  1. 키토산-베이스층은 키토산-베이스 수용액으로 코팅함으로써 얻어지고, 그의 평균 몰 매스는 130 000 g/mol 이하의 매스를 갖고, 그의 농도는 6 내지 30중량%이고, 그의 점도는 100 내지 3000cps인 것을 특징으로 하는, 그의 대향면들 중의 적어도 하나 상에 키토산-베이스층으로 커버된 유기 및/또는 무기 섬유들에 기초한 지지물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 키토산은 6 내지 15g/m2의 양으로 침착되는 것을 특징으로 하는 지지물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 층은 연속 필름의 형태인 것을 특징으로 하는 지지물.
  4. 제1항에 있어서, 상기 키토산 평균 몰 매스는 15 000 내지 40 000 g/mol의 매스를 갖는 것을 특징으로 하는 지지물.
  5. 제1항에 있어서, 상기 용액 중의 상기 키토산 농도는 7 내지 12중량%, 유리하게는 10중량%인 것을 특징으로 하는 지지물.
  6. 제1항에 있어서, 상기 키토산은 시트르산의 존재 하에 수용액에 용해되는 것을 특징으로 하는 지지물.
  7. 제1항에 있어서, 상기 키토산-베이스층은 키토산 적어도 80중량%, 유리하게는 키토산 100중량%를 함유하는 것을 특징으로 하는 지지물.
  8. 제1항에 있어서, 상기 침착된 키토산의 양은 7g/m2인 것을 특징으로 하는 지지물.
  9. 제1항에 있어서, 상기 키토산-베이스 수용액의 상기 점도는 200 내지 1500 cps인 것을 특징으로 하는 지지물.
  10. 제1항에 있어서, 상기 키토산-베이스층은 왁스층으로 커버되는 것을 특징으로 하는 지지물.
  11. 제10항에 있어서, 상기 왁스는 1 내지 3g/m2, 유리하게는 2g/m2의 양으로 코팅되는 것을 특징으로 하는 지지물.
  12. 제1항 내지 제11항중 임의의 항의 지지물 대상물의 제조 공정.
  13. 제12항에 있어서, 상기 수용액에 의한 코팅은 단지 하나의 단계로 수행되는 것을 특징으로 하는 제조 공정.
  14. 제13항에 있어서, 상기 코팅은 Meyer 바 또는 블레이드 타입 코팅, 미터링 사이즈-프레스, 직접 코팅에 의해 새겨진 실린더에 의한 코팅, 전이 코팅 또는 역 코팅에 의해, 커튼 코팅, 사이즈-프레스에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 제조 공정.
  15. 제12항 또는 제14항에 있어서, 상기 왁스는 키토산 용액 중의 수용액의 형태로 도입되고, 이 왁스는 키토산의 0.1 내지 20 중량%를 나타내는 것을 특징으로 하는 제조 공정.
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