PL207569B1 - Sposób wytwarzania charakteryzujących się małą lepkością, utwardzających się pod wpływem promieniowania uretanoakrylanów i ich zastosowanie - Google Patents
Sposób wytwarzania charakteryzujących się małą lepkością, utwardzających się pod wpływem promieniowania uretanoakrylanów i ich zastosowanieInfo
- Publication number
- PL207569B1 PL207569B1 PL368501A PL36850102A PL207569B1 PL 207569 B1 PL207569 B1 PL 207569B1 PL 368501 A PL368501 A PL 368501A PL 36850102 A PL36850102 A PL 36850102A PL 207569 B1 PL207569 B1 PL 207569B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- urethane acrylates
- acid
- mixture
- polyol
- radiation
- Prior art date
Links
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 29
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 title claims description 14
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 title claims description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 26
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000009408 flooring Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 claims description 15
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 claims description 15
- 229920005628 alkoxylated polyol Polymers 0.000 claims description 14
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims description 14
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 6
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 claims description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 239000002023 wood Substances 0.000 claims description 4
- 239000011111 cardboard Substances 0.000 claims description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 3
- 239000010985 leather Substances 0.000 claims description 3
- 239000000123 paper Substances 0.000 claims description 3
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 claims description 3
- 239000004753 textile Substances 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract description 11
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 abstract description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- -1 2-hydroxypropyl (meth) acrylic acid esters Chemical class 0.000 description 16
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 16
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 12
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 10
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 8
- 238000007046 ethoxylation reaction Methods 0.000 description 7
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 6
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 5
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 5
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 5
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 5
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 4
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 4
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 4
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 3
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 3
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 2
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 2
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N phenylhydrazine Chemical compound NNC1=CC=CC=C1 HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 150000004072 triols Chemical group 0.000 description 2
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 2
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- OFOLOJQCCJFHNG-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(isocyanatomethyl)-4-methylcyclohexane Chemical class N(=C=O)CC1(CCC(CC1)C)CN=C=O OFOLOJQCCJFHNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGKKXKRXUOBKGI-UHFFFAOYSA-N 1,2,9-triisocyanatononane Chemical compound O=C=NCCCCCCCC(N=C=O)CN=C=O NGKKXKRXUOBKGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHXZXKMYCGVFA-UHFFFAOYSA-N 1,3-diazetidine-2,4-dione Chemical compound O=C1NC(=O)N1 PCHXZXKMYCGVFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-5,5-dimethylimidazolidine-2,4-dione Chemical compound CC1(C)N(Cl)C(=O)N(Cl)C1=O KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 1,3-dinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=C(N=C=O)C=C1 ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobutane Chemical compound O=C=NCCCCN=C=O OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDMDQYCEEKCBGR-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatocyclohexane Chemical compound O=C=NC1CCC(N=C=O)CC1 CDMDQYCEEKCBGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 1,5-Naphthalene diisocyanate Chemical compound C1=CC=C2C(N=C=O)=CC=CC2=C1N=C=O SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-5,6-dimethylheptane Chemical compound O=C=NC(C)(C)C(C)CCCCN=C=O VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFDXQGNDWIPXQL-UHFFFAOYSA-N 1-cyclooctyldiazocane Chemical compound C1CCCCCCC1N1NCCCCCC1 NFDXQGNDWIPXQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 1-heptanol Chemical class CCCCCCCO BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- MKZPMOFOBNHBSL-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-1-methylcyclohexane Chemical compound O=C=NC1(C)CCCCC1 MKZPMOFOBNHBSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOOUABSDMRIFDS-UHFFFAOYSA-N 1-n'-phenylethane-1,1-diamine Chemical compound CC(N)NC1=CC=CC=C1 DOOUABSDMRIFDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 2,2,4-trimethylpentane-1,3-diol Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)CO JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQYKKQQLTKPGSG-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylhexane-1,6-diol Chemical compound OCC(C)CCC(C)CO OQYKKQQLTKPGSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWLALWYNXFYRGW-UHFFFAOYSA-N 2-Ethyl-1,3-hexanediol Chemical compound CCCC(O)C(CC)CO RWLALWYNXFYRGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQIIXKFBUWKNQG-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzenesulfonic acid;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1C=C XQIIXKFBUWKNQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVQHODUGKTXKQF-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-methylhexane-1,1-diol Chemical compound CCCCC(C)(CC)C(O)O WVQHODUGKTXKQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUGOPULVANEDRX-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexane-1,1-diol Chemical compound CCCCC(CC)C(O)O IUGOPULVANEDRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical class CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRXSIZPUSNRUGA-UHFFFAOYSA-N 2-phenylundecan-2-ol Chemical compound CCCCCCCCCC(C)(O)C1=CC=CC=C1 WRXSIZPUSNRUGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJMDLNIAGSYXLA-UHFFFAOYSA-N 6-iminooxadiazine-4,5-dione Chemical group N=C1ON=NC(=O)C1=O PJMDLNIAGSYXLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMEWLCATCRTSGF-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethyl-4-nitrosoaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=C(N=O)C=C1 CMEWLCATCRTSGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical class CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBUCNCOMADRQHX-UHFFFAOYSA-N N-Nitrosodiphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1N(N=O)C1=CC=CC=C1 UBUCNCOMADRQHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical class CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHHGXPLMPWCGHP-UHFFFAOYSA-N Phenethylamine Chemical compound NCCC1=CC=CC=C1 BHHGXPLMPWCGHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N biuret Chemical compound NC(=O)NC(N)=O OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000009614 chemical analysis method Methods 0.000 description 1
- AOGYCOYQMAVAFD-UHFFFAOYSA-N chlorocarbonic acid Chemical compound OC(Cl)=O AOGYCOYQMAVAFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N chlorosulfonic acid Substances OS(Cl)(=O)=O XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N cis-4-Hydroxy-L-proline Chemical compound O[C@@H]1CN[C@H](C(O)=O)C1 PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-dicarboxylate;hydron Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCCC1 QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical class OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-PTQBSOBMSA-N cyclohexanol Chemical class O[13CH]1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-PTQBSOBMSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- JQZRVMZHTADUSY-UHFFFAOYSA-L di(octanoyloxy)tin Chemical compound [Sn+2].CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC([O-])=O JQZRVMZHTADUSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012973 diazabicyclooctane Substances 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJXOOPBZYCWYIF-UHFFFAOYSA-N dimethylcarbamodithioic acid;sodium Chemical compound [Na].CN(C)C(S)=S MJXOOPBZYCWYIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N diphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(O)=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- PLONEVHFXDFSLA-UHFFFAOYSA-N ethyl hexanoate;tin(2+) Chemical compound [Sn+2].CCCCCC(=O)OCC PLONEVHFXDFSLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical class CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- DCUFMVPCXCSVNP-UHFFFAOYSA-N methacrylic anhydride Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(=O)C(C)=C DCUFMVPCXCSVNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODUCDPQEXGNKDN-UHFFFAOYSA-N nitroxyl Chemical class O=N ODUCDPQEXGNKDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWRUINPWMLAQRD-UHFFFAOYSA-N nonan-1-ol Chemical class CCCCCCCCCO ZWRUINPWMLAQRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006384 oligomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000399 optical microscopy Methods 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- 229940067157 phenylhydrazine Drugs 0.000 description 1
- OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N picric acid Chemical compound OC1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N piperidine-4-carbonitrile Chemical compound N#CC1CCNCC1 FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- AZIQALWHRUQPHV-UHFFFAOYSA-N prop-2-eneperoxoic acid Chemical class OOC(=O)C=C AZIQALWHRUQPHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 229940005657 pyrophosphoric acid Drugs 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- JVBXVOWTABLYPX-UHFFFAOYSA-L sodium dithionite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)S([O-])=O JVBXVOWTABLYPX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M sodium hydrosulfide Chemical compound [Na+].[SH-] HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 235000015096 spirit Nutrition 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical compound CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002447 thiram Drugs 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005829 trimerization reaction Methods 0.000 description 1
- AVWRKZWQTYIKIY-UHFFFAOYSA-N urea-1-carboxylic acid Chemical compound NC(=O)NC(O)=O AVWRKZWQTYIKIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/67—Unsaturated compounds having active hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F299/00—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
- C08F299/02—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates
- C08F299/06—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates from polyurethanes
- C08F299/065—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates from polyurethanes from polyurethanes with side or terminal unsaturations
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
- C08F290/06—Polymers provided for in subclass C08G
- C08F290/067—Polyurethanes; Polyureas
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/67—Unsaturated compounds having active hydrogen
- C08G18/68—Unsaturated polyesters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D175/00—Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D175/04—Polyurethanes
- C09D175/14—Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds
- C09D175/16—Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds having terminal carbon-to-carbon unsaturated bonds
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
Description
Opis wynalazku
Wynalazek dotyczy sposobu wytwarzania nowych, charakteryzujących się małą lepkością utwardzających się pod wpływem promieniowania uretanoakrylanów, z utworzeniem powłok o polepszonej odporności na ścieranie, jak również ich zastosowania jako kompozycji powłokowych, w szczególnoś ci na materiał y do wykł adania podł óg.
Utwardzające się pod wpływem promieniowania kompozycje powłokowe oparte na produktach reakcji zawierających hydroksylowe grupy funkcyjne estrów kwasu (met)akrylowego z diizocyjanianami, nazywane uretanoakrylanami, są znane, na przykład z opracowania „Chemistry & Technology of UV & EB Formulations for Coatings, Inks & Paints” (redaktor P. K. T. Oldring), tom 2., 1991, SITA Technology, Londyn, strony 73-123. Często stosuje się je do pokrywania parkietów i innych materiałów służących do wykładania podłóg. Tego rodzaju kompozycje powłokowe mają zwykle dużą lepkość dynamiczną, z reguły przekraczającą 10 000 MPa • s (w temperaturze 23°C); dlatego rozcieńcza się je małocząsteczkowymi akrylanami (reaktywnymi rozcieńczalnikami) i razem z wprowadzonymi fotoinicjatorami oraz ewentualnymi innymi dodatkami nanosi się rozmaitymi metodami, na przykład za pomocą wałków, na powlekane podłoża, po czym utwardza pod wpływem promieniowania UV. Rozcieńczenie uretanoakrylanów reaktywnymi rozcieńczalnikami często powoduje pogorszenie istotnych właściwości, takich jak odporność na ścieranie i lepkosprężystość. Jest zatem w szczególności wskazane stosowanie uretanoakrylanów o małej lepkości, po to aby ograniczyć ilość reaktywnego rozcieńczalnika. Jako łatwo dostępne w skali przemysłowej substraty w syntezie uretanoakrylanów na ogół służą w charakterze zawierających funkcyjne grupy hydroksylowe estrów kwasu (met)akrylowego akrylany i metakrylany 2-hydroksyetylu i 2-hydroksypropylu. Powstające z nich uretanoakrylany charakteryzują się jednak w stanie nie-rozcieńczonym dużą lepkością (patrz przykłady z europejskiego opisu patentowego nr 168 173).
W europejskim opisie patentowym nr 53 74 9 ujawniono wytwarzanie uretanoakrylanów o mał ej lepkości na podstawie diizocyjanianów lub poliizocyjanianów, zawierających funkcyjne grupy hydroksylowe estrów kwasu akrylowego z oksyalkilenowanym (zawierającym 3-4,5 ugrupowania oksyalkilenowe) trimetylolopropanem oraz, ewentualnie, akrylanu hydroksyalkilu. W zgłoszeniu tym przedstawiono wyniki prób porównawczych, według których nawet w przypadku stopnia oksyetylenowania wynoszącego 7 powstają produkty o niewystarczającej odporności na rozpuszczalniki polarne.
Celem niniejszego wynalazku było więc wytworzenie uretanoakrylanów o małej lepkości, odpornych na rozpuszczalniki i charakteryzujących się lepszą odpornością na ścieranie niż produkty znane ze stanu techniki.
Obecnie stwierdzono, że uretanoakrylany oparte na diizocyjanianach albo poliizocyjanianach i zawierających funkcyjne grupy hydroksylowe estrach kwasu (met)akrylowego z mieszaninami polioli o wysokim stopniu oksyalkilenowania i niskim stopniu oksyalkilenowania charakteryzują się małą lepkością, są odporne na rozpuszczalniki i są bardzo odporne na ścieranie. Trudno było tego oczekiwać, ponieważ nie można się było spodziewać wystąpienia istotnej różnicy pomiędzy uretanoakrylanami zawierającymi, na przykład, fragmenty triolu o wynoszącym 7 stopniu oksyetylenowania a uretanoakrylanami z mieszaniną fragmentów trioli o wyższym i niższym stopniu oksyetylenowania, w której to mieszaninie średni stopień oksyetylenowania trioli wynosi 7.
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania charakteryzujących się małą lepkością, utwardzających się pod wpływem promieniowania uretanoakrylanów, polegający na tym, że w pierwszym etapie częściowo estryfikuje się mieszaninę oksyalkilenowanych polioli kwasem akrylowym i/lub kwasem metakrylowym [zwanymi w niniejszym opisie kwasem (met)akrylowym], w temperaturze 60-140°C i w drugim etapie otrzymany produkt poddaje się je reakcji z diizocyjanianem i/lub poliizocyjanianem, w temperaturze 20-100°C, przy czym mieszanina oksyalkilenowanych polioli skł ada się w 25-75% molowych poliolu o stopniu oksyalkilenowania zawartym w przedziale 3-5 i z 75-25% molowych poliolu o stopniu oksyalkilenowania zawartym w przedziale 8-25.
Korzystnie, mieszanina oksyalkilenowanych polioli składa się z 30-45% molowych poliolu o stopniu oksyalkilenowania zawartym w przedziale 3-5 i z 70-55% molowych poliolu o stopniu oksyalkilenowania zawartym w przedziale 8-15.
Korzystnie, stosuje się mieszaninę alifatycznych i aromatycznych diizocyjanianów i/lub poliizocyjanianów.
PL 207 569 B1
Przedmiotem wynalazku jest również zastosowanie uretanoakrylanów wytworzonych powyższym sposobem jako składnika kompozycji powłokowych, które utwardzają się pod wpływem wysokoenergetycznego promieniowania.
Przedmiotem wynalazku jest również zastosowanie uretanoakrylanów wytworzonych powyższym sposobem do powlekania papieru, kartonu (tektury), skóry, materiałów włókienniczych, szkła, metalu i tworzyw sztucznych.
Przedmiotem wynalazku jest również zastosowanie uretanoakrylanów wytworzonych powyższym sposobem do powlekania drewnianych materiałów podłogowych, materiałów podłogowych z PVC [poli(chlorku winylu)] oraz wykonanych z drewna i tworzyw sztucznych materiałów parkietowych (posadzkowych).
Jako podstawa oksyalkilenowanych polioli służą alkohole trój wodorotlenowe i z większą liczbą grup wodorotlenowych, o ciężarze cząsteczkowym od 92 do 254, na przykład gliceryna, trimetylolopropan, pentaerytryt, ditrimetylolopropan, dipentaerytryt lub sorbit, jak również ich mieszaniny; korzystne alkohole to gliceryna i trimetylolopropan. Oksyalkilenowanie prowadzi się metodami znanymi jako takie w syntezie polieterów. W związku z tym w charakterze monomerów stosuje się tlenek etylenu, tlenek propylenu i tetrahydrofuran, korzystnie tlenek etylenu i/lub tlenek propylenu, aczkolwiek można też używać mieszanin monomerów i/lub kolejno po sobie różnych monomerów (otrzymywanie „bloków”). Określenie „stopień oksyalkilenowania” odnosi się do ilości oksyalkilenującego monomeru w przeliczeniu na ilość oksyalkilenowanego alkoholu (np. 7,0 moli tlenku etylenu na mol trimetylolopropanu odpowiada stopniowi oksyalkilenowania wynoszącemu 7,0).
Jest istotne wykorzystywanie dwóch różnie oksyalkilenowanych polioli. Stosuje się mianowicie 25-75% molowych, korzystnie 30-45% molowych poliolu o stopniu oksyalkilenowania zawartym w przedziale 3-5 oraz w uzupełnieniu do 100% molowych wprowadza się 75-25% molowych, korzystnie 70-55% molowych poliolu o stopniu oksyalkilenowania zawartym w przedziale 8-25, korzystnie 8-15, zwłaszcza korzystnie 10-13.
Mieszaninę oksyalkilenowanych polioli estryfikuje się kwasem (met)akrylowym znanymi jako takie metodami, korzystnie zgodnie z jednym z procesów, według których wodę reakcyjną usuwa się w wyniku destylacji z rozpuszczalnikiem tworzącym z wodą mieszaninę azeotropową (czyli z czynnikiem azetropującym). Można też oddzielnie estryfikować różne oksyalkilenowane poliole oraz wówczas zmieszać estry i/lub zmieszać je dopiero przed dalszą reakcją z poliizocyjanianami. Ewentualnie, po estryfikacji można też przeprowadzić reakcję pozostałych ilości kwasu ze związkami epoksydowymi. Taki sposób jest przedstawiony, na przykład, w europejskich opisach patentowych nr 54 105, 126 341 i 900 778.
Kwas akrylowy i/lub kwas metakrylowy stosuje się w takich ilościach, aby stosunki równoważnikowe grup kwasowych do grup hydroksylowych w oksyalkilenowanych poliolach wynosiły od 1-1,1 do 1-2,4, korzystnie od 1-1,2 do 1-1,8, zwłaszcza korzystnie od 1-1,3 do 1-1,5 w przeliczeniu na grupy hydroksylowe. Zamiast czystych kwasów można też wprowadzać - o ile tylko są dostępne - ich bezwodniki albo produkty oligomeryzacji, takie jak bezwodnik metakrylowy lub dimeryczny kwas akrylowy.
Odpowiednie czynniki azeotropujące stanowią węglowodory oraz ich chlorowcowane bądź nitrowane pochodne, a także inne rozpuszczalniki, które ani nie reagują z reagentami, ani nie są podatne na działanie kwaśnych katalizatorów. Korzystne jest stosowanie niepodstawionych węglowodorów. Jako przykłady można wymienić następujące węglowodory: węglowodory alifatyczne, takie jak heksan, heptan, oktan i frakcje z destylacji benzyny łąkowej różniące się przedziałem temperatury wrzenia, węglowodory cykloalifatyczne, takie jak cyklopentan, cykloheksan i metylocykloheksan albo węglowodory aromatyczne, takie jak benzen, toluen oraz izomeryczne ksyleny. Korzystnie stosuje się rozpuszczalniki o temperaturze wrzenia zawartej w przedziale 70-120°C. W szczególności można wymienić w związku z tym cykloheksan, toluen lub frakcje z destylacji benzyny łąkowej o temperaturze wrzenia zawartej w przedziale 70-120°C. Niemieszający się z wodą rozpuszczalnik może też stanowić mieszaninę wymienionych substancji. Rozpuszczalnik stosuje się w ilości 10-100% wagowych, korzystnie 15-50% wagowych, zwłaszcza korzystnie 20-40% wagowych w przeliczeniu na ciężar ulegających estryfikacji reagentów.
Jako kwaśny katalizator estryfikacji można tu użyć nieorganicznych albo organicznych kwasów w ilości 0,1-3,0% wagowych, korzystnie 0,5-1,5% wagowych w przeliczeniu na ilość estryfikowanych reagentów. Przykłady tego rodzaju katalizatorów estryfikacji to kwas siarkowy, kwas fosforowy, kwas pirofosforowy, kwas p-toluenosulfonowy, kwas styrenowodiwinylobenzenowosulfonowy, kwas chlorosulfonowy, kwas chloromrówkowy, korzystnie kwas siarkowy i kwas p-toluenosulfonowy. Ponadto,
PL 207 569 B1 można też wykorzystać kwasowe katalizatory związane ze stałymi żywicami, na przykład wymieniacze jonowe.
Reakcję można prowadzić w obecności jednego albo kilku inhibitorów polimeryzacji użytych w iloś ci 0,01-1% wagowych, korzystnie 0,1-0,5% wagowych w przeliczeniu na ciężar estryfikowanej mieszaniny. Tego rodzaju inhibitory zostały opisane, na przykład, w serii Houben-Weyl „Methoden der Organischen Chemie”, 4. wydanie, tom XIV/1, Georg Thieme Verlag, Stuttgart 1961, strony 433 i dalsze. Jako ich przykłady mogą służyć następujące związki: ditionin sodu, wodorosiarczek sodu, siarka, hydrazyna, fenylohydrazyna, hydrazobenzen, N-fenylo-e-naftyloamina, N-fenyloetanolodiamina, dinitrobenzen, kwas pikrynowy, p-nitrozodimetyloanilina, difenylonitrozoamina, fenole, takie jak p-tert.-butylopirokatechina, 2,5-di-tert.-amylohydrochinon, związki nitroksylowe, p-alkoksyfenole, di-tert.-butylohydrochinon, disulfid tetrametylotiuramu, 2-merkaptobenzotiazol i sól sodowa kwasu dimetyloditiokarbaminowego. Ponadto, zgodnie z korzystnym wariantem realizacji sposobu, przez mieszaninę reakcyjną zawierającą rozpuszczalnik przepuszcza się gaz zawierający tlen, korzystnie powietrze.
Estryfikację kwasu (met)akrylowego prowadzi się w przedziale temperatury 60-140°C, korzystnie 70-120°C, zwłaszcza korzystnie w temperaturze wrzenia zastosowanego rozpuszczalnika. Rozpuszczalnik w sposób ciągły odprowadza się z mieszaniny reakcyjnej na drodze destylacji, skrapla poza naczyniem reakcyjnym w rozdzielaczu, oddziela od odebranej wody, po czym zawraca do mieszaniny reakcyjnej. Reakcję kończy się w chwili uzyskania ilości odebranej wody odpowiadającej wymaganemu stopniowi przereagowania albo wówczas, gdy liczba kwasowa mieszaniny reakcyjnej zmaleje do wartości odpowiadającej takiemu właśnie stopniowi przereagowania. Liczba kwasowa mieści się wówczas w przedziale 0,1-15 mg KOH, korzystnie 1-5 mg KOH na gram mieszaniny reakcyjnej. Następnie katalizator estryfikacji można ewentualnie zobojętnić, wytrącić i/lub odsączyć, w razie potrzeby oddestylować rozpuszczalnik i pozostały kwas poddać reakcji ze związkami epoksydowymi, które ewentualnie mogą zawierać grupy nienasycone. Zgodnie z korzystną postacią wykonania wynalazku, na mol pozostałego kwasu wprowadza się 0,8-1,5, korzystnie 0,9-1,1 moli metakrylanu glicydylu, po czym prowadzi reakcję w temperaturze 70-130°C, korzystnie 80-110°C, aż do osiągnięcia liczby kwasowej < 3 mg KOH, korzystnie < 1 mg KOH na gram mieszaniny reakcyjnej.
Jeżeli rozpuszczalnika nie oddestylowało się przed reakcją ze związkiem epoksydowym, to usuwa się go po tej reakcji. Korzystnie destylację prowadzi się pod zmniejszonym ciśnieniem, aż do chwili osiągnięcia przekraczającej 100°C temperatury zapłonu próbki.
Zgodnie z innym znanym w zasadzie wariantem, zamiast reakcji estryfikacji z udziałem kwasu i poliolu można też przeprowadzić reakcję transestryfikacji. Podstawa takiego procesu została przedstawiona, na przykład, w niemieckim opisie patentowym nr 4 019 788. W tym przypadku zamiast kwasu (met)akrylowego stosuje się jego estry z alkoholami o małym ciężarze cząsteczkowym, na przykład z metanolem lub etanolem. W reakcji tej powstaje nie woda, lecz alkohol o małym ciężarze cząsteczkowym, oddestylowany z mieszaniny reakcyjnej; pomija się tu więc stosowanie czynnika azeotropującego.
Otrzymywane zawierające funkcyjne grupy hydroksylowe częściowe estry różnie oksyalkilenowanych polioli i kwasu metakrylowego charakteryzują się na ogół lepkością dynamiczną < 1000 mPa • s w temperaturze 23°C; są to substancje przezroczyste, bezbarwne bądź słabo zabarwione. Na drugim etapie produkty te reagują z diizocyjanianem i/lub poliizocyjanianem, w dalszym tekście określanymi nazwą „poliizocyjanian”.
Oprócz zawierających funkcyjne grupy hydroksylowe częściowych estrów różnie oksyalkilenowanych polioli i kwasu (met)akrylowego można, ewentualnie, zastosować inne związki reaktywne w stosunku do izocyjanianów. Ilość takich związków w przypadku uretanoakrylanów według wynalazku jest jednak ograniczona i powinna być mniejsza niż 0,4 równoważnika, korzystnie mniejsza niż 0,2 równoważnika innego związku reaktywnego w stosunku do izocyjanianów w przeliczeniu na równoważnik grup izocyjanianowych.
Tego rodzaju związki mogą obejmować zawierające wolne grupy hydroksylowe akrylany albo metakrylany alkoholi dwuwodorotlenowych, na przykład (met)akrylan 2-hydroksyetylu, (met)akrylan 2- lub 3-hydroksypropylu bądź (met)akrylan 2-, 3- lub 4-hydroksybutylu, jak również produkty ich reakcji z laktonami, na przykład z kaprolaktonem, albo dowolne mieszaniny tych związków, a także (cyklo)alkanodiole [czyli alkohole dwuwodorotlenowe z (cyklo)alifatycznie związanymi grupami hydroksylowymi] o ciężarze cząsteczkowym zawartym w przedziale 62-286, takie jak np. etanodiol, 1,2- i 1,3-propanodiol, 1,2-, 1,3- i 1,4-butanodiol, 1,5-pentanodiol, 1,6-heksanodiol, glikol neopentylowy, 1,4-cykloheksanodimetanol, 1,2- i 1,4-cykloheksanodiol, 2-etylo-2-butylopropanodiol, 2-dietylo-1,3-propanodiol, 2,2-dimetylo-1,3-propanodiol, 2-etylo-1,3-heksanodiol, 2,5-dimetylo-1,6-heksanodiol,
PL 207 569 B1
2,2,4-trimetylo-1,3-pentanodiol, 3-hydroksy-2,2-dimetylopropionian-3-hydroksy-2,2-dimetylopropylu, diole zawierające atomy tlenu typu eterowego, na przykład glikol dietylenowy, glikol trietylenowy, glikol tetraetylenowy, glikol dipropylenowy, glikol tripropylenowy oraz glikole polioksyetylenowe, polioksypropylenowe i polioksybutylenowe o ciężarze cząsteczkowym nieprzekraczającym około 2000, korzystnie około 1000, zwłaszcza korzystnie 500. W charakterze dioli można też wykorzystać produkty reakcji wymienionych dioli z 8-kaprolaktonem albo innymi laktonami. Można także zastosować znane jako takie poliestrodiole utworzone z powyższych dioli oraz aromatycznych i/lub korzystnie (cyklo)alifatycznych kwasów dikarboksylowych i/lub ich bezwodników, takich jak, na przykład, kwas ftalowy, bezwodnik ftalowy, kwas izoftalowy, kwas tetrahydroftalowy, bezwodnik tetrahydroftalowy, kwas heksahydroftalowy, bezwodnik heksahydroftalowy, kwas cykloheksanodikarboksylowy, bezwodnik maleinowy, kwas fumarowy, kwas malonowy, kwas bursztynowy, bezwodnik bursztynowy, kwas glutarowy, kwas adypinowy, kwas pimelinowy, kwas korkowy, kwas sebacynowy, kwas dodekanodikarboksylowy i uwodornione dimeryczne kwasy tłuszczowe. Jednakże zwłaszcza korzystne jest pominięcie wymienionych powyżej innych związków reaktywnych w stosunku do izocyjanianów.
Odpowiednimi poliizocyjanianami są dowolne organiczne poliizocyjaniany znane jako takie w chemii poliuretanów o alifatycznie, cykloalifatycznie i/lub aromatycznie zwi ą zanych grupach izocyjanianowych i korzystnie o ciężarze cząsteczkowym 144-1000, korzystniej 168-300. Odpowiednie poliizocyjaniany to, na przykład, diizocyjanian butylenu, diizocyjanian heksametylenu (HTI), diizocyjanian izoforonu (IPDI), izocyjanian 3(4)-izocyjanianometylo-metylocykloheksylu (IMCI), diizocyjanian trimetyloheksametylenu (czyli diizocyjanian 2,2,4- i/lub 2,4,4-trimetyloheksametylenu), izomeryczne bis (4,4'-izocyjanianocykloheksylometany) (H12MDI), izomeryczne bis(izocyjanianometylo)-metylocykloheksany, 1,8-diizocyjanianoizocyjanianometylooktan, 1,4-diizocyjanian cykloheksylenu, 1,4-diizocyjanian fenylenu, 2,4- i/lub 2,6-diizocyjanian toluilenu (TDI), 1,5-diizocyjanian naftylenu, 2,4'- i/lub 4,4'-diizocyjanianodifenylometan (MDI), 4,4',4-triizocyjanianotrifenylometan bądź ich pochodne z ugrupowaniami uretanowymi, izocyjanurowymi, allofanianowymi, biuretowymi, uretodionowymi i iminooksadiazynodionowymi i/lub ich mieszaniny, jak również mieszaniny alifatycznych i aromatycznych diizocyjanianów i/lub poliizocyjanianów. Średni ciężar cząsteczkowy tych pochodnych z reguły nie przekracza około 1000; ich wytwarzanie jest przedstawione, na przykład, w opisach patentowych St. Zjedn. Am. nr 3 124 605, 3 183 112, 3 919 218 i 4 324 879 albo w europejskim opisie patentowym nr 798 299.
Korzystnie stosuje się HDI, IPDI, TDI, H12MDI i/lub zawierające grupy izocyjanianowe poliizocyjaniany otrzymane w wyniku trimeryzacji HDI, TDI albo IPDI. Zwłaszcza korzystne są HDI i IPDI oraz ich mieszaniny.
Poliizocyjaniany stosuje się w takiej ilości, aby równoważnikowy stosunek grupy izocyjanianowe:grupy hydroksylowe wynosił od 1:1 do 1:3, korzystnie od 1:1 do 1:2, zwłaszcza korzystnie od 1:1 do 1:1,5. Konwersję śledzi się na ogół na podstawie wyników oznaczania zawartości grup izocyjanianowych w mieszaninie reakcyjnej. Do tego celu służą zarówno pomiary spektroskopowe (widmo w podczerwieni lub bliskiej podczerwieni), jak i metody analizy chemicznej (miareczkowanie) próbek. Reakcję korzystnie prowadzi się do osiągnięcia zawartości grup izocyjanianowych < 0,2%. Temperaturę reakcji utrzymuje się na poziomie 20-100°C, zwłaszcza korzystnie na poziomie 50-80°C. Wyjściowe składniki mieszaniny reakcyjnej można poddawać reakcji w dowolnej kolejności. Reakcja jest korzystnie realizowana w obecności katalizatorów odpowiednich w syntezie uretanów, na przykład wobec oktanianu cyny(II), dilaurynianu dibutylocyny albo amin trzeciorzędowych, takich jak diazabicyklooktan.
Wytworzone w taki sposób uretanoakrylany korzystnie stosuje się jako główny składnik kompozycji powłokowych. Te kompozycje powłokowe mogą ponadto zawierać substancje dodatkowe i substancje pomocnicze, na przykład inicjatory znane jako takie z tego, że mogą zapoczątkować polimeryzacje rodnikową po napromienieniu wysokoenergetycznym promieniowaniem, np. światłem UV. Tego rodzaju fotoinicjatory zostały, opisane na przykład w opracowaniu „Chemistry & Technology of UV & EB Formulations for Coatings, Inks & Paints” (redaktor P. K. T. Oldring), tom 3., 1991, SITA Technology, Londyn, strony 61-325. Jako ich przykłady można wymienić keton 1-hydroksycykloheksylowofenylowy, ketale benzylu, np. dimetyloketal benzylu, tlenki acylofosfiny, np. tlenek bis(2,4,6-trimetylobenzoilo)-fenylofosfiny, tlenki diacylofosfiny, benzofenon i jego pochodne. Stosuje się je pojedynczo bądź w mieszaninie, ewentualnie razem z innymi przyspieszaczami i koinicjatorami jako dodatkami, w ilości (obliczonej w przeliczeniu na zawartość substancji stałej w układzie powłokowym) wynoszącej 0,1-10 części wagowych, korzystnie 2-7 części wagowych, zwłaszcza korzystnie 3-4 części wagowych. Fotopolimeryzację można też prowadzić w atmosferze gazu obojętnego; wówczas ilość fotoinicjatorów dobiera się tak, aby była ona znacznie mniejsza niż w przypadku utwardzania w atmosferze
PL 207 569 B1 powietrza. Fotoinicjatorów można nie używać wówczas, gdy kompozycje powłokowe utwardza się pod wpływem wiązki elektronów.
Kompozycje powłokowe można mieszać z rozcieńczalnikami stanowiącymi dodatki które także ulegają (ko)polimeryzacji w procesie utwardzania pod wpływem UV. Takie reaktywne rozcieńczalniki są opisane w opracowaniu „Chemistry & Technology of UV & EB Formulations for Coatings, Inks & Paints” (redaktor P. K. T. Oldring), tom 2., 1991, SITA Technology, Londyn, strony 237-285. Jako przykłady można wymienić estry kwasu akrylowego lub kwasu metakrylowego, korzystnie kwasu akrylowego, i następujących alkoholi: alkoholi jednowodorotlenowych z włączeniem izomerycznych butanoli, pentanoli, heksanoli, heptanoli, oktanoli, nonanoli i dekanoli, jak również alkoholi cykloalifatycznych, takich jak izoborneol, cykloheksanol i alkilowane cykloheksanole oraz dicyklopentanol, alkoholi aryloalifatycznych, takich jak fenoksyetanol i nonylofenyloetanol, oraz alkoholi tetrahydrofurylowych. Można także zastosować oksyalkilenowane pochodne takich alkoholi. Jako przykłady alkoholi dwuwodorotlenowych wymienia się glikol etylenowy, 1,2-propanodiol, 1,3-propanodiol, glikol dietylenowy, glikol dipropylenowy, izomeryczne butanodiole, glikol neopentylowy, 1,6-heksanodiol, 2-etyloheksandiol i glikol tripropylenowy, a także oksyalkilenowane pochodne tych alkoholi. Korzystne alkohole dwuwodorotlenowe to 1,6-heksanodiol, glikol dipropylenowy i glikol tripropylenowy. Alkohole trójwodorotlenowe obejmują glicerynę i trimetylolopropan oraz ich oksyalkilenowane pochodne. Korzystna jest oksypropylenowana gliceryna. Ponieważ uretanoakrylany według wynalazku mają względnie małą lepkość, to często w celu osiągnięcia określonej lepkości wymagane są tu mniej reaktywne rozcieńczalniki niż w przypadku uretanoakrylanów według stanu techniki.
Kompozycje powłokowe wytwarzane zgodnie z wynalazkiem można też mieszać z bardzo różnorodnymi substancjami pomocniczymi i dodatkami. Zalicza się do nich napełniacze, pigmenty, barwniki, środki wygładzające, środki matujące, środki odgazowujące, takie jak poliakrylany, środki sprzęgające, na przykład aminoalkilotrialkoksysilany i środki regulujące rozlewność, takie jak polisiloksany, które stosuje się w ilościach typowo używanych w technologii środków powłokowych. Aby polepszyć odporność na działanie czynników atmosferycznych, na przykład światła słonecznego, można wprowadzać w zwykłych ilościach stabilizatory świetlne, na przykład absorbery UV i aminy z zawadami przestrzennymi. Jeżeli używa się absorberów UV, to należy z reguły dobrać fotoinicjator absorbujący promieniowanie o dłuższej fali. Zastosowanie stabilizatorów świetlnych i różne ich typy są opisane, na przykład, w książce A. Valeta „Lichtschutzmittel fur Lacke”, Vincentz Verlag, Hanover, 1996. Można także wykorzystywać rozpuszczalniki obojętne w procesie polimeryzacji rodnikowej i następnie usuwać je pomiędzy operacjami powlekania i utwardzania, ewentualnie przy użyciu ciepła.
Kompozycje powłokowe zawierające uretanoakrylany według wynalazku są przydatne w wytwarzaniu wysokojakościowych powłok, pokryć i błon lakierowych na rozmaitych podłożach, na przykład na papierze, kartonie (tekturze), skórze, materiałach włókienniczych, szkle, tworzywach sztucznych, metalach, np. na arkuszach aluminiowych albo stalowych, które ewentualnie można poddawać obróbce wstępnej, jak również na metalach w postaci tak zwanych „zwojów”, na drewnie, w szczególności na materiałach posadzkowych albo budulcowych, takich jak, na przykład, pośredniej grubości płyty pilśniowe, na materiałach tworzywowych, np. na arkuszach z poliwęglanu lub poli(chlorku winylu) (PVC), na materiałach nieorganicznych, takich jak cement, gliny, minerały, ceramika, bądź na takich podłożach wytworzonych z wymienionych materiałów, które zostały już pokryte, na przykład na samochodach bądź częściach samochodowych. Powlekać można też podłoża złożone z kilku wymienionych materiałów. Kompozycje powłokowe według wynalazku są zwłaszcza przydatne do nakładania odpornych na ścieranie powłok na materiałach służących do otrzymywania podłóg, w szczególności takich jak drewno posadzkowe oraz arkusze PVC.
Kompozycję powłokową nakłada się na powlekany materiał typowymi metodami znanymi w technologii lakierów, na przykł ad na drodze wyciskania, nanoszenia za pomocą rakla, wałków, metodą zalewania, zanurzania, odlewania wirowego i natryskiwania pod zmniejszonym ciśnieniem. Ciekłą kompozycję powłokową utwardza się pod wpływem napromieniania światłem nadfioletowym albo wiązką elektronów. W tym celu powleczony materiał przesuwa się na przykład pod średniociśnieniowym promiennikiem rtęciowym. Utwardzanie światłem UV prowadzi się w znany sposób; operacja ta jest opisana np. w opracowaniu „Chemistry & Technology of UV & EB Formulations for Coatings, Inks & Paints” (redaktor P. K. T. Oldring), tom 1., 1991, SITA Technology, Londyn, strony 167-269.
P r z y k ł a d y
Częściowy ester oksyalkilenowanego poliolu i kwasu akrylowego
PL 207 569 B1
A) Do reaktora wyposażonego w oddzielacz wody, mieszadło, doprowadzenie gazu i termometr odważa się 860,6 g otrzymanego z zastosowaniem trimetylolopropanu jako startera polieteru (liczba hydroksylowa 255, lepkość dynamiczna 265 mPa • s w temperaturze 23°C) o wynoszącym średnio 12 stopniu oksyetylenowania, 214,2 g otrzymanego z zastosowaniem trimetylolopropanu jako startera polieteru (liczba hydroksylowa 550, lepkość dynamiczna 505 mPa • s w temperaturze 23°C) o wynoszącym średnio 4 stopniu oksyetylenowania, 309,6 g kwasu akrylowego, 9,3 g kwasu 4-toluenosulfonowego, 3,9 g 4-metoksyfenolu, 0,3 g 2,5-di-tert.-butylohydrochinonu oraz 560,1 g izooktanu, przepuszczając przy tym przez reaktor powietrze (w ilości równej objętości reaktora w przeliczeniu na godzinę) i przepuszczając azot nad mieszaniną reakcyjną (w ilości równej dwukrotnej objętości reaktora w przeliczeniu na godzinę ). Mieszaninę reakcyjną ogrzewa się , mieszają c, do temperatury wrzenia (około 94-108°C) i utrzymuje w stanie intensywnego wrzenia aż do chwili, gdy liczba kwasowa osiągnie wartość < 4,5. W tym czasie oddestylowuje się około 77 g wody. Następnie mieszaninę reakcyjną chłodzi się do temperatury 50°C, w tej temperaturze powoli obniża się ciśnienie i oddestylowuje rozpuszczalnik, aż w temperaturze 90°C i pod ciśnieniem < 50 mbarów (< 50 hPa) przestanie on oddestylowywać. Wówczas mieszaninę reakcyjną odpowietrza się i dodaje w jednej porcji, mieszając, 26,3 g metakrylanu glicydylu. Całość miesza się w temperaturze 100°C w ciągu 1 godziny; liczba kwasowa produktu osiąga wówczas wartość < 2, a liczba hydroksylowa mieści się w przedziale 80-90.
B) Powtarza się próbę A) z tą różnicą, że zamiast otrzymanego wobec trimetylolopropanu jako startera polieteru o wynoszącym średnio 4 stopniu oksyetylenowania stosuje się 214,2 g otrzymanego wobec trimetylolopropanu jako startera polieteru (liczba hydroksylowa 550, lepkość dynamiczna 1800 mPa • s w temperaturze 23°C) o wynoszącym średnio 3 stopniu oksypropylenowania.
Uretanoakrylany
Zgodnie z tabelą 1, częściowy ester oksyalkilenowanego poliolu i kwasu akrylowego, a także 0,1% wagowych (w przeliczeniu na całkowity ciężar mieszaniny reakcyjnej) 2,6-di-tert.-butylo-4-metylofenolu oraz 0,05% wagowych (w przeliczeniu na całkowity ciężar mieszaniny reakcyjnej) etyloheksanianu cyny(II) odważa się w każdym przypadku do reaktora wyposażonego w mieszadło, doprowadzenie gazu i termometr, przepuszczając przy tym przez reaktor powietrze (w ilości równej objętości reaktora w przeliczeniu na godzinę) i przepuszczając azot nad mieszaniną reakcyjną (w ilości równej dwukrotnej objętości reaktora w przeliczeniu na godzinę). Układ ogrzewa się, mieszając, do temperatury 55°C i wkrapla odpowiednie izocyjaniany, tak aby temperatura podczas tej egzotermicznej reakcji utrzymywała się w przedziale 55-60°C. Po zakończeniu wprowadzania reagentów (około 1 godziny) temperaturę ustala się na poziomie 60°C i utrzymuje ją aż do chwili, gdy zawartość grup NCO stanie się mniejsza niż 0,1% (około 8 godzin).
T a b e l a 1
Wytwarzanie uretanoakrylanów | Ocena lakierów | ||||
nr przykładu | częściowy ester | izocyjanian | lepkość (23°C) | odporność na ścieranie | odporność chemiczna |
1 | A [450,9 g] | mieszanina TDI [25,0 g] i HDI [24,2 g] | 2600 mPa • s | 7900 cykli na 100 μιτι grubości powłoki | 1 (NaOH) 2 (etanol) |
2 | B [430,0 g] | IPDI [62,0 g] | 4300 mPa • s | 5600 | 1/3 |
3 | A [450,9 g] | najpierw HDI [24,2 g], potem TDI [25,0 gl | 3100 mPa • s | 10 100 | 1/2 |
4 | A [444,1 g] | IPDI [56,0 g] | 8000 mPa • s | 7300 | 1/1 |
5 | A [450,0 g] | TDI [50,0 g] | 5600 mPa • s | 7000 | 1/2 |
Porównanie: powtórzenie przykładu 6 z europejskiego opisu patentowego nr 53 749 | 4000 | 1/2 | |||
Porównanie: powtórzenie przykładu 3 z europejskiego opisu patentowego nr 53 749 | 4300 | 1/2 |
TDI - Desmodur® T80 firmy Bayer AG, Leverkusen, Niemcy; HDI - Desmodur® H firmy Bayer AG, Leverkusen, Niemcy; IPDI - Desmodur® I firmy Bayer AG, Leverkusen, Niemcy.
PL 207 569 B1
Na wytrawiona płytę pilśniową średniej gęstości (MDF) nanosi się za pomocą spiralnego urządzenia do powlekania typu rakla 85 części wagowych uretanoakrylanu w każdym przypadku razem z 16 częściami wagowymi diakrylanu glikolu dipropylenowego (firmy BASF AG, Ludwigshafen, Niemcy) oraz 2,5 częściami wagowymi fotoinicjatora Darocur® 1173 (firmy Ciba Spezialitatenchemie, Lampertheim, Niemcy) i utwardza z zastosowaniem światła UV [układ taśmowy, 1 promiennik, długość działania lampy 80 W/cm (promiennik CK, firmy IST, Metzingen, Niemcy)]. Powłoki do oceny odporności na ścieranie sporządza się w następujący sposób: powlekanie jednokrotne ręcznym przyrządem do powlekania #2 (około 18 μm), dwukrotne przejście z szybkością paska 15 m/min, po czym dwukrotne powlekanie za pomocą ręcznego przyrządu do powlekania #3 (około 30 μτη) i wreszcie jednokrotne przejście z szybkością paska 5 m/min. Grubość tak uzyskanej warstwy określa się mikroskopowo (mikroskopia świetlna, czyli optyczna). Odporność chemiczną bada się z zastosowaniem powłok grubości około 120 μm naniesionych na MDF za pomocą spiralnego urządzenia do powlekania typu rakla; utwardza się je w wyniku jednokrotnego przejścia z szybkością paska 5 m/min.
Pomiary odporności na ścieranie realizuje się za pomocą aparatów Taber Abraser Model 5130 oraz Taber Abraser Grip Feeder (typ podajnika zaciskowego) Model 155, obydwa firmy Erichsen, używając tlenku glinu (Alodur® EPL firmy Treibacher Schleifmittel, Villach, Austria), który przesiewa się (oczka sita 200 μm) i suszy (1 godzina w temperaturze 80°C). Próbę ścierania prowadzi się zgodnie z opublikowaną przez firmę Erichsen instrukcją BA 155/D-VI/1995, stosując obciążenie 1000 g na oś i liczbę rozrzutu 85 (co odpowiada 34 g na 100 obrotów). Do kalibrowania stosuje się arkusz akrylowy. Ścieralność wynosi 142 mg na 2000 obrotów (wartość pożądana to 127±18 mg). W każdym badaniu mierzy się liczbę cykli aż do zniszczenia powłok. Rejestruje się liczbę cykli na 100 μm grubości powłoki wraz ze zmierzoną grubością powłoki.
Do badania odporności chemicznej stosuje się 48-procentowy wodny etanol i 16-procentowy wodorotlenek sodu. W każdym przypadku na powłokach umieszcza się nasycone daną cieczą tampony bawełniane na okres 16 godzin, tak aby przykryły one powłokę. Następnie powierzchnie wyciera się suchą, miękką tkaniną i wizualnie ocenia ich wygląd. Wyniki zapisuje się w postaci ocen w skali od 0 (bez zmian) do 5 (zniszczenie).
Claims (6)
1. Sposób wytwarzania charakteryzujących się małą lepkością, utwardzających się pod wpływem promieniowania uretanoakrylanów, znamienny tym, że w pierwszym etapie częściowo estryfikuje się mieszaninę oksyalkilenowanych polioli kwasem akrylowym i/lub kwasem metakrylowym, w temperaturze 60-140°C i w drugim etapie otrzymany produkt poddaje się je reakcji z diizocyjanianem i/lub poliizocyjanianem, w temperaturze 20-100°C, przy czym mieszanina oksyalkilenowanych polioli składa się w 25-75% molowych poliolu o stopniu oksyalkilenowania zawartym w przedziale 3-5 i z 75-25% molowych poliolu o stopniu oksyalkilenowania zawartym w przedziale 8-25.
2. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że mieszanina oksyalkilenowanych polioli składa się z 30-45% molowych poliolu o stopniu oksyalkilenowania zawartym w przedziale 3-5 i z 70-55% molowych poliolu o stopniu oksyalkilenowania zawartym w przedziale 8-15.
3. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że stosuje się mieszaninę alifatycznych i aromatycznych diizocyjanianów i/lub poliizocyjanianów.
4. Zastosowanie uretanoakrylanów wytworzonych sposobem określonym w zastrz. 1 jako składnika kompozycji powłokowych, które utwardzają się pod wpływem wysokoenergetycznego promieniowania.
5. Zastosowanie uretanoakrylanów wytworzonych sposobem określonym w zastrz. 1 do powlekania papieru, kartonu (tektury), skóry, materiałów włókienniczych, szkła, metalu i tworzyw sztucznych.
6. Zastosowanie uretanoakrylanów wytworzonych sposobem określonym w zastrz. 1 do powlekania drewnianych materiałów podłogowych, materiałów podłogowych z PVC [poli(chlorku winylu)] oraz wykonanych z drewna i tworzyw sztucznych materiałów parkietowych (posadzkowych).
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10143630A DE10143630A1 (de) | 2001-09-06 | 2001-09-06 | Strahlenhärtende Beschichtungsmittel |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
PL368501A1 PL368501A1 (pl) | 2005-04-04 |
PL207569B1 true PL207569B1 (pl) | 2011-01-31 |
Family
ID=7697883
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL368501A PL207569B1 (pl) | 2001-09-06 | 2002-08-26 | Sposób wytwarzania charakteryzujących się małą lepkością, utwardzających się pod wpływem promieniowania uretanoakrylanów i ich zastosowanie |
Country Status (18)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6753394B2 (pl) |
EP (1) | EP1456273B1 (pl) |
JP (1) | JP4253584B2 (pl) |
KR (1) | KR100897985B1 (pl) |
CN (1) | CN1258548C (pl) |
AT (1) | ATE493455T1 (pl) |
BR (1) | BR0212331B1 (pl) |
CA (1) | CA2459358C (pl) |
DE (2) | DE10143630A1 (pl) |
DK (1) | DK1456273T3 (pl) |
ES (1) | ES2356731T3 (pl) |
HK (1) | HK1071763A1 (pl) |
HU (1) | HU228390B1 (pl) |
MX (1) | MX246814B (pl) |
PL (1) | PL207569B1 (pl) |
PT (1) | PT1456273E (pl) |
TW (1) | TWI238179B (pl) |
WO (1) | WO2003022902A1 (pl) |
Families Citing this family (46)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10259673A1 (de) * | 2002-12-18 | 2004-07-01 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von strahlungshärtbaren Urethan(meth)acrylaten |
DE10340609A1 (de) * | 2003-08-29 | 2005-04-07 | Infineon Technologies Ag | Polymerformulierung und Verfahren zur Herstellung einer Dielektrikumsschicht |
DE10340608A1 (de) * | 2003-08-29 | 2005-03-24 | Infineon Technologies Ag | Polymerformulierung und Verfahren zur Herstellung einer Dielektrikumsschicht |
EP1722765A2 (en) * | 2004-01-28 | 2006-11-22 | The Regents of The University of Michigan | Osteoblast factor(s) that regulates human prostate cancer migration to and invasion of bone |
US7268172B2 (en) * | 2004-10-15 | 2007-09-11 | Bayer Materialscience Llc | Radiation curable compositions |
DE102004053186A1 (de) * | 2004-11-04 | 2006-05-11 | Bayer Materialscience Ag | Niederviskose, wässrige, strahlenhärtbare Urethan-Bindemitteldispersionen mit hohen Festkörpergehalten |
US7498061B2 (en) * | 2004-12-17 | 2009-03-03 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method for reducing face checking of a wood product |
JP4684939B2 (ja) * | 2005-06-03 | 2011-05-18 | キヤノン株式会社 | シート材識別装置、および画像形成装置 |
US8202578B2 (en) | 2005-11-15 | 2012-06-19 | Valspar Sourcing, Inc. | Crush resistant latex topcoat composition for fiber cement substrates |
CN101374787B (zh) * | 2006-01-31 | 2013-12-11 | 威士伯采购公司 | 涂布水泥纤维板制品的方法 |
WO2007089913A1 (en) | 2006-01-31 | 2007-08-09 | Valspar Sourcing, Inc. | Coating system for cement composite articles |
CN101379007B (zh) * | 2006-01-31 | 2013-03-27 | 威士伯采购公司 | 用于水泥复合制品的涂布系统 |
US9783622B2 (en) | 2006-01-31 | 2017-10-10 | Axalta Coating Systems Ip Co., Llc | Coating system for cement composite articles |
CN101405339B (zh) * | 2006-03-17 | 2010-08-25 | 木本股份有限公司 | 聚酯系薄膜用粘合剂组合物及使用其的光学薄膜 |
EP2032664B1 (en) * | 2006-05-19 | 2017-11-08 | Valspar Sourcing, Inc. | Coating system for cement composite articles |
US7812090B2 (en) | 2006-06-02 | 2010-10-12 | Valspar Sourcing, Inc. | High performance aqueous coating compositions |
CA2655125C (en) * | 2006-06-02 | 2014-10-14 | Valspar Sourcing, Inc. | High performance aqueous coating compositions |
WO2008006109A1 (en) | 2006-07-07 | 2008-01-10 | Valspar Sourcing, Inc. | Coating systems for cement composite articles |
JP2008074891A (ja) * | 2006-09-19 | 2008-04-03 | Daicel-Cytec Co Ltd | 熱硬化性または活性エネルギー線硬化性の組成物およびフィルム |
DE102006045041A1 (de) * | 2006-09-25 | 2008-03-27 | Evonik Degussa Gmbh | Strahlenhärtbare Formulierung, die zu flexiblen Beschichtungen mit erhöhtem Korrosionsschutz auf Metalluntergründen führt |
EP2083116B1 (en) * | 2006-12-01 | 2013-06-12 | DIC Corporation | Leather-like sheet |
MX2008002220A (es) * | 2007-02-16 | 2009-02-25 | Valspar Sourcing Inc | Tratamiento para articulos compuestos de cemento. |
JP2010523775A (ja) * | 2007-04-11 | 2010-07-15 | バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト | イミノオキサジアジンジオンを含む放射線架橋性および熱架橋性のpu系 |
DE102007037140A1 (de) * | 2007-08-07 | 2009-02-12 | Bayer Technology Services Gmbh | Verfahren zur heterogen katalysierten Veresterung von (Meth)Acrylsäure mit oxyalkylierten Polyolen |
US20090130314A1 (en) * | 2007-11-20 | 2009-05-21 | Bauman Bernard D | System for adhesion treatment, coating and curing of wood polymer composites |
US20090169872A1 (en) * | 2007-12-27 | 2009-07-02 | Baxter International Inc. | Radiation curable coatings |
US20090176907A1 (en) | 2008-01-08 | 2009-07-09 | Ramesh Subramanian | Direct-to-metal radiation curable compositions |
CA2732835C (en) * | 2008-08-15 | 2016-05-24 | Valspar Sourcing, Inc. | Self-etching cementitious substrate coating composition |
US8304421B2 (en) * | 2008-09-30 | 2012-11-06 | Vanderbilt University | Indole compounds and their use as radiation sensitizing agents and chemotherapeutic agents |
AU2009316285A1 (en) | 2008-11-24 | 2010-05-27 | Valspar Sourcing, Inc. | Coating system for cement composite articles |
WO2010114883A1 (en) | 2009-04-03 | 2010-10-07 | Ashland Licensing And Intellectual Property, Llc | Ultraviolet radiation curable pressure sensitive acrylic adhesive |
EP2571948A4 (en) | 2010-05-21 | 2014-09-03 | Allnex Ip S R L | LOW-GLOW RADIATION-CURABLE COMPOSITIONS |
CA2824945A1 (en) | 2011-01-20 | 2012-07-26 | Bayer Materialscience Llc | Non-aqueous polyurethane coating compositions |
EP2581396B1 (de) | 2011-10-14 | 2014-07-02 | Allnex IP S.à.r.l. | Verfahren zur Herstellung von niedrigviskosen, wasserverdünnbaren Urethan(meth)acrylaten |
ES2532028T3 (es) | 2011-10-14 | 2015-03-23 | Allnex Ip S.À.R.L. | Procedimiento para la preparación de (met)acrilatos de uretano de baja viscosidad, diluibles en agua |
PL2613318T3 (pl) | 2012-01-05 | 2014-12-31 | Bayer Ip Gmbh | Struktura warstwowa z warstwą ochronną i naświetloną warstwą fotopolimerową |
TWI640428B (zh) | 2013-02-27 | 2018-11-11 | 拜耳材料科學股份有限公司 | 以丙烯酸酯為基底之保護塗層與黏著劑 |
FR3003255B1 (fr) | 2013-03-14 | 2015-10-02 | Vencorex France | Allophanate polyacrylate |
US10100223B2 (en) * | 2013-03-14 | 2018-10-16 | Allnex Netherlands B.V. | Methods for making elastomers, elastomer compositions and related elastomers |
WO2014160762A1 (en) | 2013-03-29 | 2014-10-02 | Ashland Licensing And Intellectual Property Llc | Ultraviolet curable pressure sensitive adhesives |
PL3015485T3 (pl) * | 2014-10-28 | 2017-09-29 | Basf Se | Technologia produkcji metakrylanu uretanowego utwardzalnego za pomocą promieniowania |
FR3043087B1 (fr) * | 2015-11-02 | 2018-04-27 | Arkema France | Composition d'additif diamide gras pre-concentree et pre-activee dans un diluant reactif |
CN105441049B (zh) * | 2015-12-02 | 2018-07-10 | 四川安东油气工程技术服务有限公司 | 油气井压裂用可溶性暂堵材料、暂堵剂、压裂液及其制备方法 |
EP3184565A1 (en) * | 2015-12-22 | 2017-06-28 | Allnex IP S.à.r.l. | Radiation-curable urethane (meth)acrylates with residual isocyanate groups |
KR101979784B1 (ko) | 2017-07-05 | 2019-05-20 | 전남대학교산학협력단 | Uv 경화용 코팅제 및 그 제조방법 |
EP3743474A4 (en) * | 2018-01-23 | 2021-10-13 | Stepan Company | POLYOLS FOR LOW VOLATILE POLYURETHANE APPLICATIONS |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3045788A1 (de) * | 1980-12-04 | 1982-07-08 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Strahlenhaertbare urethangruppenhaltige acrylsaeureester und ihre verwendung |
US4607084A (en) | 1984-06-11 | 1986-08-19 | Celanese Specialty Resins, Inc. | Radiation curable acrylated polyurethane oligomer compositions |
DE4232013A1 (de) * | 1992-09-24 | 1994-03-31 | Bayer Ag | Acryloylgruppen aufweisende Polyurethane, ein Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung als Bindemittel für Überzugsmassen |
-
2001
- 2001-09-06 DE DE10143630A patent/DE10143630A1/de not_active Withdrawn
-
2002
- 2002-08-26 PL PL368501A patent/PL207569B1/pl unknown
- 2002-08-26 CA CA2459358A patent/CA2459358C/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-08-26 DE DE50214841T patent/DE50214841D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-08-26 KR KR1020047003340A patent/KR100897985B1/ko active IP Right Grant
- 2002-08-26 EP EP02797924A patent/EP1456273B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-08-26 DK DK02797924.4T patent/DK1456273T3/da active
- 2002-08-26 ES ES02797924T patent/ES2356731T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2002-08-26 AT AT02797924T patent/ATE493455T1/de active
- 2002-08-26 HU HU0402239A patent/HU228390B1/hu not_active IP Right Cessation
- 2002-08-26 MX MXPA04002119 patent/MX246814B/es active IP Right Grant
- 2002-08-26 WO PCT/EP2002/009500 patent/WO2003022902A1/de active Application Filing
- 2002-08-26 PT PT02797924T patent/PT1456273E/pt unknown
- 2002-08-26 JP JP2003526973A patent/JP4253584B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-08-26 CN CNB02817447XA patent/CN1258548C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2002-08-26 BR BRPI0212331-2A patent/BR0212331B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2002-09-04 US US10/234,555 patent/US6753394B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-09-04 TW TW091120114A patent/TWI238179B/zh not_active IP Right Cessation
-
2005
- 2005-05-27 HK HK05104459A patent/HK1071763A1/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1258548C (zh) | 2006-06-07 |
US6753394B2 (en) | 2004-06-22 |
MXPA04002119A (es) | 2004-09-08 |
JP4253584B2 (ja) | 2009-04-15 |
TWI238179B (en) | 2005-08-21 |
BR0212331B1 (pt) | 2012-12-25 |
HUP0402239A2 (hu) | 2005-01-28 |
DK1456273T3 (da) | 2011-04-18 |
PL368501A1 (pl) | 2005-04-04 |
EP1456273B1 (de) | 2010-12-29 |
KR20040033020A (ko) | 2004-04-17 |
CN1551894A (zh) | 2004-12-01 |
EP1456273A1 (de) | 2004-09-15 |
HK1071763A1 (en) | 2005-07-29 |
MX246814B (es) | 2007-06-29 |
HUP0402239A3 (en) | 2008-06-30 |
US20030050390A1 (en) | 2003-03-13 |
BR0212331A (pt) | 2004-09-21 |
JP2005502749A (ja) | 2005-01-27 |
HU228390B1 (en) | 2013-03-28 |
KR100897985B1 (ko) | 2009-05-18 |
WO2003022902A1 (de) | 2003-03-20 |
DE10143630A1 (de) | 2003-03-27 |
ES2356731T3 (es) | 2011-04-12 |
PT1456273E (pt) | 2011-02-25 |
CA2459358C (en) | 2010-11-02 |
DE50214841D1 (de) | 2011-02-10 |
CA2459358A1 (en) | 2003-03-20 |
ATE493455T1 (de) | 2011-01-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
PL207569B1 (pl) | Sposób wytwarzania charakteryzujących się małą lepkością, utwardzających się pod wpływem promieniowania uretanoakrylanów i ich zastosowanie | |
JP5466658B2 (ja) | ポリイソシアネートと活性化二重結合を含むアルコールaとから誘導される化合物 | |
US9631117B2 (en) | Process for the preparation of low-viscosity, water-dilutable urethane (meth)acrylates | |
US8932722B2 (en) | Process for the preparation of low-viscosity, water-dilutable urethane (meth)acrylates | |
JP2003510432A (ja) | Uv線で硬化可能および熱的に硬化可能な水性ポリウレタン分散液ならびに該分散液の使用 | |
JP2009516058A (ja) | 低表面エネルギーエチレン性不飽和ポリイソシアネート付加化合物および被覆組成物におけるそれらの使用 | |
US20050124714A1 (en) | Coating compositions | |
JP2009516057A (ja) | 低表面エネルギーエチレン性不飽和ポリイソシアネート付加化合物および被覆組成物におけるそれらの使用 | |
US20060116502A1 (en) | Blocked polyisocyanates and their use in dual-cure coating compositions | |
CA2326370C (en) | Radiation-curable urethane acrylates containing isocyanate groups and their use | |
EP1678094B1 (de) | Strahlungshärtbares beschichtungsmittel, enthaltend ein aliphatisches urethan(meth)acrylat | |
KR101106421B1 (ko) | 경화제 | |
US8957176B2 (en) | Blocked polyisocyanates curing free from elimination products for dualcure systems | |
CN111825834B (zh) | 一种低粘度紫外光固化改性聚酯丙烯酸酯及制备方法 | |
WO1995011927A1 (en) | Polyester-modified polydiene/acrylourethane oligomers | |
TW201333061A (zh) | 低黏度且水可稀釋之(甲基)丙烯酸聚胺基甲酸酯的製備方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RECP | Rectifications of patent specification |