PL207186B1 - Sposób wytwarzania pochodnej benzyloaminowej i pochodnej karbaminianowej oraz pochodna acylobenzyloaminowa - Google Patents
Sposób wytwarzania pochodnej benzyloaminowej i pochodnej karbaminianowej oraz pochodna acylobenzyloaminowaInfo
- Publication number
- PL207186B1 PL207186B1 PL377143A PL37714303A PL207186B1 PL 207186 B1 PL207186 B1 PL 207186B1 PL 377143 A PL377143 A PL 377143A PL 37714303 A PL37714303 A PL 37714303A PL 207186 B1 PL207186 B1 PL 207186B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- group
- acyl group
- general formula
- alicyclic
- derivative
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 70
- 150000003939 benzylamines Chemical class 0.000 title claims abstract description 39
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 139
- -1 haloacyl compound Chemical class 0.000 claims abstract description 50
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 25
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 13
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 claims abstract description 11
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 73
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 64
- AKZWRTCWNXHHFR-PDIZUQLASA-N [(3S)-oxolan-3-yl] N-[(2S,3S)-4-[(5S)-5-benzyl-3-[(2R)-2-carbamoyloxy-2,3-dihydro-1H-inden-1-yl]-4-oxo-3H-pyrrol-5-yl]-3-hydroxy-1-phenylbutan-2-yl]carbamate Chemical compound NC(=O)O[C@@H]1Cc2ccccc2C1C1C=N[C@](C[C@H](O)[C@H](Cc2ccccc2)NC(=O)O[C@H]2CCOC2)(Cc2ccccc2)C1=O AKZWRTCWNXHHFR-PDIZUQLASA-N 0.000 claims description 43
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 26
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 24
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 16
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 15
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 10
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000006701 (C1-C7) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000440 benzylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 51
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 9
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 abstract description 6
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 abstract description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Natural products CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 50
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 46
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 32
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 30
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 28
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 21
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 21
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 15
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 13
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 11
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002585 base Substances 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 150000003613 toluenes Chemical class 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- TUCNEACPLKLKNU-UHFFFAOYSA-N acetyl Chemical compound C[C]=O TUCNEACPLKLKNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 7
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 6
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 6
- BBEPOOPYAPLWLR-UHFFFAOYSA-N 1-[3-(aminomethyl)-4-chlorophenyl]ethanone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(Cl)C(CN)=C1 BBEPOOPYAPLWLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 5
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 5
- 125000001584 benzyloxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 5
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 5
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 5
- IJSZSFYDVDTMTQ-UHFFFAOYSA-N methyl n-[(5-acetyl-2-chlorophenyl)methyl]carbamate Chemical compound COC(=O)NCC1=CC(C(C)=O)=CC=C1Cl IJSZSFYDVDTMTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- TZBRNIWZOAPBHV-UHFFFAOYSA-N n-[(2-chlorophenyl)methyl]acetamide Chemical compound CC(=O)NCC1=CC=CC=C1Cl TZBRNIWZOAPBHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- MJMIGDBUTJOMJE-UHFFFAOYSA-N n-[(5-acetyl-2-chlorophenyl)methyl]acetamide Chemical compound CC(=O)NCC1=CC(C(C)=O)=CC=C1Cl MJMIGDBUTJOMJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N aminomethyl benzene Natural products NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 4
- 230000002070 germicidal effect Effects 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 4
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 4
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1Cl RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001999 4-Methoxybenzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1OC([H])([H])[H])C(*)=O 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical class CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 3
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 3
- 125000006254 cycloalkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000006639 cyclohexyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000006638 cyclopentyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000006255 cyclopropyl carbonyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])C(*)=O 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 3
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 3
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 3
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- XMJHPCRAQCTCFT-UHFFFAOYSA-N methyl chloroformate Chemical compound COC(Cl)=O XMJHPCRAQCTCFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- GKKCIDNWFBPDBW-UHFFFAOYSA-M potassium cyanate Chemical compound [K]OC#N GKKCIDNWFBPDBW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 125000003774 valeryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical group NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical class OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 2
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Chemical class CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 2
- 238000003898 horticulture Methods 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Chemical class 0.000 description 2
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 2
- BWFCPQHLMPFBQH-UHFFFAOYSA-N n-[(2-bromophenyl)methyl]acetamide Chemical compound CC(=O)NCC1=CC=CC=C1Br BWFCPQHLMPFBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 2
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 2
- KDDNKZCVYQDGKE-UHFFFAOYSA-N (2-chlorophenyl)methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1Cl KDDNKZCVYQDGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMUKODJVMQOSAB-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbutanoyl chloride Chemical compound CCC(CC)C(Cl)=O SMUKODJVMQOSAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGMOBVGABMBZSB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropanoyl chloride Chemical compound CC(C)C(Cl)=O DGMOBVGABMBZSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOETUEMZNOLGDB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl carbonochloridate Chemical compound CC(C)COC(Cl)=O YOETUEMZNOLGDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUTKIHRNYUEGKB-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethylbutanoyl chloride Chemical compound CC(C)(C)CC(Cl)=O BUTKIHRNYUEGKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISULZYQDGYXDFW-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutanoyl chloride Chemical compound CC(C)CC(Cl)=O ISULZYQDGYXDFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKJPYSCBVHEWIU-UHFFFAOYSA-N N-[4-cyano-3-(trifluoromethyl)phenyl]-3-[(4-fluorophenyl)sulfonyl]-2-hydroxy-2-methylpropanamide Chemical compound C=1C=C(C#N)C(C(F)(F)F)=CC=1NC(=O)C(O)(C)CS(=O)(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LKJPYSCBVHEWIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXXACINHVKSMDR-UHFFFAOYSA-N acetyl bromide Chemical compound CC(Br)=O FXXACINHVKSMDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical group 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- HSDAJNMJOMSNEV-UHFFFAOYSA-N benzyl chloroformate Chemical compound ClC(=O)OCC1=CC=CC=C1 HSDAJNMJOMSNEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- NRDQFWXVTPZZAZ-UHFFFAOYSA-N butyl carbonochloridate Chemical compound CCCCOC(Cl)=O NRDQFWXVTPZZAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- DVECBJCOGJRVPX-UHFFFAOYSA-N butyryl chloride Chemical compound CCCC(Cl)=O DVECBJCOGJRVPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 1
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006193 diazotization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002168 ethanoic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 description 1
- RIFGWPKJUGCATF-UHFFFAOYSA-N ethyl chloroformate Chemical compound CCOC(Cl)=O RIFGWPKJUGCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 description 1
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YMWWMEDBKADUFH-UHFFFAOYSA-N n-[(2-bromophenyl)methyl]-2-methylbutanamide Chemical compound CCC(C)C(=O)NCC1=CC=CC=C1Br YMWWMEDBKADUFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRCKZGRFCIYDIN-UHFFFAOYSA-N n-[(2-bromophenyl)methyl]benzamide Chemical compound BrC1=CC=CC=C1CNC(=O)C1=CC=CC=C1 GRCKZGRFCIYDIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGXLEXDBURIQHW-UHFFFAOYSA-N n-[(2-bromophenyl)methyl]propanamide Chemical compound CCC(=O)NCC1=CC=CC=C1Br YGXLEXDBURIQHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANGFNGFNVGBRSF-UHFFFAOYSA-N n-[(2-chlorophenyl)methyl]-2-methylbutanamide Chemical compound CCC(C)C(=O)NCC1=CC=CC=C1Cl ANGFNGFNVGBRSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQHPDMWKOSRTGY-UHFFFAOYSA-N n-[(2-chlorophenyl)methyl]-2-methylpropanamide Chemical compound CC(C)C(=O)NCC1=CC=CC=C1Cl SQHPDMWKOSRTGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCWJFGIFOLHPEX-UHFFFAOYSA-N n-[(2-chlorophenyl)methyl]benzamide Chemical compound ClC1=CC=CC=C1CNC(=O)C1=CC=CC=C1 YCWJFGIFOLHPEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWQITZCUTMOZSZ-UHFFFAOYSA-N n-[(2-fluorophenyl)methyl]-2-methylbutanamide Chemical compound CCC(C)C(=O)NCC1=CC=CC=C1F IWQITZCUTMOZSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOUCHBXJUPPSRN-UHFFFAOYSA-N n-[(2-fluorophenyl)methyl]acetamide Chemical compound CC(=O)NCC1=CC=CC=C1F ZOUCHBXJUPPSRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STNBUNFECDXHCJ-UHFFFAOYSA-N n-[(2-fluorophenyl)methyl]benzamide Chemical compound FC1=CC=CC=C1CNC(=O)C1=CC=CC=C1 STNBUNFECDXHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOTOXAJWKRIGFH-UHFFFAOYSA-N n-[(2-fluorophenyl)methyl]propanamide Chemical compound CCC(=O)NCC1=CC=CC=C1F MOTOXAJWKRIGFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- XGISHOFUAFNYQF-UHFFFAOYSA-N pentanoyl chloride Chemical compound CCCCC(Cl)=O XGISHOFUAFNYQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005981 pentynyl group Chemical group 0.000 description 1
- UYWQUFXKFGHYNT-UHFFFAOYSA-N phenylmethyl ester of formic acid Natural products O=COCC1=CC=CC=C1 UYWQUFXKFGHYNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- IVRIRQXJSNCSPQ-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl carbonochloridate Chemical compound CC(C)OC(Cl)=O IVRIRQXJSNCSPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZWZRACFZGVKFM-UHFFFAOYSA-N propanoyl chloride Chemical compound CCC(Cl)=O RZWZRACFZGVKFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- QQKDTTWZXHEGAQ-UHFFFAOYSA-N propyl carbonochloridate Chemical compound CCCOC(Cl)=O QQKDTTWZXHEGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical class O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- FXMNVYBROILAKU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl n-[cyano(phenyl)methylidene]carbamate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)N=C(C#N)C1=CC=CC=C1 FXMNVYBROILAKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C231/00—Preparation of carboxylic acid amides
- C07C231/12—Preparation of carboxylic acid amides by reactions not involving the formation of carboxamide groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C209/62—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by cleaving carbon-to-nitrogen, sulfur-to-nitrogen, or phosphorus-to-nitrogen bonds, e.g. hydrolysis of amides, N-dealkylation of amines or quaternary ammonium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C211/00—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C211/01—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C211/26—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to acyclic carbon atoms of an unsaturated carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring
- C07C211/29—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to acyclic carbon atoms of an unsaturated carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring the carbon skeleton being further substituted by halogen atoms or by nitro or nitroso groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C233/00—Carboxylic acid amides
- C07C233/01—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
- C07C233/30—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by doubly-bound oxygen atoms
- C07C233/31—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by doubly-bound oxygen atoms with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by an acyclic carbon atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C269/00—Preparation of derivatives of carbamic acid, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
- C07C269/04—Preparation of derivatives of carbamic acid, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups from amines with formation of carbamate groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
- C07C271/06—Esters of carbamic acids
- C07C271/08—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C271/10—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
- C07C271/18—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by doubly-bound oxygen atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania pochodnej benzyloaminowej, sposób wytwarzania pochodnej karbaminianowej oraz pochodna acylobenzyloaminowa.
Pochodna benzyloaminowa służy jako związek pośredni użyteczny w wytwarzaniu środka bakteriobójczego opartego na karbaminianie stosowanego w rolnictwie i ogrodnictwie.
Znanym sposobem wytwarzania środka bakteriobójczego opartego na karbaminianie stosowanego w rolnictwie i ogrodnictwie jest, na przykład, (i) sposób wytwarzania środka bakteriobójczego, w którym pochodna karbaminianowa o wzorze ogólnym (6) opisanym póź niej, poddawana jest reakcji z hydroksyloamina lub jej pochodną (patrz Sposób Wytwarzania 1 w japoń skiej nie badanej publikacji patentowej (Kokai) No. 2001-106666 (Dokument Patentowy 1)); i (ii) sposób wytwarzania środka bakteriobójczego, w którym halogenuje się pochodną toluenu z wytworzeniem α-halo-podstawionej pochodnej toluenu, poddaje się ją reakcji z cyjanianem potasu z wytworzeniem karbaminianu pochodnej toluenu, wprowadza się grupę nitrową i przekształca się grupę nitrową w grupę aminową, a następnie diazotyzuje się i poddaje się dalszej reakcji ze związkiem oksymowym (patrz Chemiczny Wzór 11 i Sposób Wytwarzania 5 Dokumentu Patentowego 1).
Uważa się, że spośród sposobów (i) i (ii), sposób (i) jest korzystniejszy w wytwarzaniu przemysłowym z punktu widzenia bezpieczeństwa, ponieważ prowadzi się go bez diazotyzacji, a ponadto z punktu widzenia wydajności, bezpieczeństwa reakcji i łatwości pracy i operacji (patrz Przykład Wytwarzania 3 i 6 Dokumentu Patentowego 1).
Pochodną karbaminianową o ogólnym wzorze (6) stosowaną w sposobie (i) wytwarza się w znany sposób, na przykład, sposób ten polega na halogenowaniu pochodnej toluenu zawierającej grupę acylową z wytworzeniem α-halo-podstawionej pochodnej toluenu zawierającej grupę acylową i poddaniu jej reakcji z cyjanianem potasu do karbaminianu pochodnej toluenu (patrz [Wzór Chemiczny 8] Dokumentu Patentowego 1) lub sposób ten polega na halogenowaniu pochodnej toluenu zawierającej grupę alkoksykarbonylową z wytworzeniem α-halo-podstawionej pochodnej toluenu zawierającej grupę alkoksykarbonylową poddaniu pochodnej toluenu reakcji z cyjanianem potasu, aby wprowadzić grupę karbaminianowa i przekształceniu grupy alkoksykarbonylowej jako grupy funkcyjnej do grupy acylowej (patrz [Wzór Chemiczny 9] Dokumentu Patentowego 1).
Jednakże, zgodnie z pierwszym sposobem opisanym w Dokumencie Patentowym 1 [Wzór Chemiczny 8] w trakcie wytwarzania pochodnej toluenu zawierającej grupę acylową, jako surowiec tworzy się pozycyjny izomer jako produkt uboczny z uwagi na niską regioselektywność w przypadku nuklearnego wprowadzania grupy acylowej, dlatego też nie można uniknąć zmniejszania wydajności żądanego toluenu zawierającego grupę acylową.
Także drugi sposób opisany w Dokumencie Patentowym 1 [Wzór Chemiczny 9] stwarza problemy, ponieważ każdy etap wymaga stosunkowo długiego czasu i grupa karbaminianowa jako taka wystawiana jest na działanie silnych warunków kwasowych lub zasadowych co powoduje, że grupa ta nie może być trwale utrzymywana i rozkłada się w warunkach reakcji.
Ponadto, dla każdego sposobu wymagane jest, aby zwiększać niedostateczną wydajność we wszystkich etapach z surowca.
Tak więc, należało rozwiązać wyżej omówione problemy ze stanu techniki i znaleźć sposób i nowy związek pośredni użyteczny w wytwarzaniu nowej pochodnej karbaminianowej.
Celem wynalazku jest rozwiązanie problemów ze stanu techniki i znalezienie sposobu użytecznego w wytwarzaniu pochodnej karbaminianowej oraz związku pośredniego, który byłby użyteczny do wytwarzania pochodnej karbaminianowej.
Twórcy wynalazku przeprowadzili intensywne badania i nieoczekiwanie okazało się, że gdy grupę acylową wprowadza się do związku benzylowego (pochodnej benzylowej) mającą zabezpieczoną grupę aminową, to grupa acylowa wprowadzana jest z wysoką regioselektywnością z wytworzeniem nowej pochodnej benzyloaminowej.
Twórcy przeprowadzili dalsze badania w oparciu o powyższe wnioski i okazało się, że pochodna karbaminianowa o opisanym dalej wzorze ogólnym (6) może być wytwarzana bez tworzenia się izomeru, zasadniczo gdy pochodną benzyloaminowa poddaje się reakcji z estrem kwasu halomrówkowego po odbezpieczeniu grupy aminowej w wyniku hydrolizy, a także okazało się, że taki sposób jest niezwykle użyteczny w osiąganiu żądanego ulepszenia wyżej podanego stanu techniki. Tak więc, wynalazek został zakończony.
PL 207 186 B1
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania pochodnej benzyloaminowej o wzorze ogólnym (3):
NHR1
1 2 w którym X1, R1 i R2 są zdefiniowane poniż ej, znamienny tym, ż e pochodną benzylową o wzorze ogólnym (1):
NHR1 w którym X1 oznacza atom halogenu, a R1 grupę acylową wybraną z grupy obejmującej: liniową lub rozgałęzioną C1-C7 alifatyczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alifatycznej lub może być podstawiona grupą alicykliczną; C3-C6 alicykliczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alicyklicznej; i aromatyczną grupę acylową, która może być podstawiona grupą alkilową lub alkoksylową, poddaje się reakcji ze związkiem haloacylowym o wzorze ogólnym (2):
w którym X2 oznacza atom halogenu, a R2 grupę acylową wybraną z grupy obejmującej: liniową lub rozgałęzioną C1-C7 alifatyczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alifatycznej lub może być podstawiona grupą alicykliczną; C3-C6 alicykliczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alicyklicznej; i aromatyczną grupę acylową, która może być podstawiona grupą alkilową lub alkoksylową, w obecności kwasu Lewis'a.
Przedmiotem wynalazku jest również sposób wytwarzania pochodnej karbaminianowej o wzorze ogólnym (6):
PL 207 186 B1
2 3 w którym X1, R2 i R3 są zdefiniowane poniżej, znamienny tym, ż e pochodną benzylową o wzorze ogólnym (1):
NHR1 w którym X1 oznacza atom halogenu, a R1 grupę acylową wybraną z grupy obejmującej: liniową lub rozgałęzioną C1-C7 alifatyczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alifatycznej lub może być podstawiona grupą alicykliczną; C3-C6 alicykliczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alicyklicznej; i aromatyczną grupę acylową, która może być podstawiona grupą alkilową lub alkoksylową, poddaje się reakcji ze związkiem haloacylowym o wzorze ogólnym (2):
w którym X2 oznacza atom halogenu, a R2 grupę acylową wybraną z grupy obejmującej: liniową lub rozgałęzioną C1-C7 alifatyczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alifatycznej lub może być podstawiona grupą alicykliczną; C3-C6 alicykliczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alicyklicznej; i aromatyczną grupę acylową, która może być podstawiona grupą alkilową lub alkoksylową, w obecności kwasu Lewis'a z wytworzeniem pochodnej benzyloaminowej o wzorze ogólnym (3):
w którym X1, R1 i R2 są zdefiniowane powyżej, hydrolizuje się pochodną benzyloaminowa z wytworzeniem pochodnej aminowej o wzorze ogólnym (4):
w którym X1 i R2 maj ą wyż ej podane znaczenie i poddaje się pochodną aminową reakcji z estrem kwasu halomrówkowego o wzorze ogólnym (5)
w którym X3 oznacza atom halogenu, a R3 oznacza liniową lub rozgałęzioną grupę C1-C7 alkilową, w obecnoś ci zasady.
PL 207 186 B1
Ponadto przedmiotem wynalazku jest pochodna acylobenzyloaminowa o wzorze ogólnym (7):
NHR4 w którym X1 oznacza atom halogenu, R2 oznacza grupę acylową wybraną z grupy obejmującej: liniową lub rozgałęzioną C1-C7 alifatyczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alifatycznej lub może być podstawiona grupą alicykliczną; C3-C6 alicykliczną grupę acylow ą, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alicyklicznej; a R4 oznacza atom wodoru; lub R2 oznacza grupę acylową wybraną z grupy obejmującej: liniową lub rozgałęzioną C1-C7 alifatyczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alifatycznej lub może być podstawiona grupą alicykliczną; C3-C6 alicykliczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alicyklicznej; i aromatyczną grupę acylową, która może być podstawiona grupą alkilową lub alkoksylową, a R4 oznacza grupę acylową wybraną z grupy obejmującej: liniową lub rozgałęzioną C1-C7 alifatyczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alifatycznej lub może być podstawiona grupą alicykliczną; C3-C6 alicykliczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alicyklicznej; i aromatyczną grupę acylową, która może być podstawiona grupą alkilową lub alkoksylową.
Przykłady wykonania wynalazku są następujące.
- Sposób wytwarzania pochodnej benzyloaminowej w którym X1 oznacza atom chloru.
- Sposób wytwarzania pochodnej benzyloaminowej, w którym R1 oznacza alifatyczną grupę acylową.
Sposób wytwarzania pochodnej benzyloaminowej, w którym X1 oznacza atom chloru, a R1 oznacza alifatyczną grupę acylową.
- Sposób wytwarzania pochodnej benzyloaminowej, w którym X1 oznacza atom chloru, a R1 oznacza alifatyczną grupę acylową o 1 do 7 atomach węgla.
- Sposób wytwarzania pochodnej benzyloaminowej, w którym X1 oznacza atom chloru, a R1 oznacza grupę acetylową.
- Sposób wytwarzania pochodnej karbaminianowej, w którym X1 oznacza atom chloru.
- Sposób wytwarzania pochodnej karbaminianowej, w którym R1 oznacza alifatyczną grupę acylową.
- Sposób wytwarzania pochodnej karbaminianowej, w którym X1 oznacza atom chloru, a R1 oznacza alifatyczną grupę acylową.
- Sposób wytwarzania pochodnej karbaminianowej, w którym X1 oznacza atom chloru, a R1 oznacza alifatyczną grupę acylową o 1 do 7 atomach węgla.
- Sposób wytwarzania pochodnej karbaminianowej, w którym X1 oznacza atom chloru, a R1 oznacza grupę acetylową.
- Sposób wytwarzania pochodnej karbaminianowej, w którym X2 oznacza atom chloru.
- Sposób wytwarzania pochodnej karbaminianowej, w którym R2 oznacza alifatyczną grupę acylową.
- Sposób wytwarzania pochodnej karbaminianowej, w którym X2 oznacza atom chloru, a R2 oznacza alifatyczną grupę acylową.
Sposób wytwarzania pochodnej karbaminianowej, w którym X2 oznacza atom chloru, a R2 oznacza alifatyczną grupę acylową o 1 do 7 atomach węgla.
- Sposób wytwarzania pochodnej karbaminianowej, w którym X2 oznacza atom chloru, a R2 oznacza grupę acetylową.
- Sposób wytwarzania pochodnej karbaminianowej, w którym X1 i X2 oznaczają atomy chloru, a R1 i R2 oznaczają alifatyczne grupy acylowe o 1 do 7 atomach węgla.
- Sposób wytwarzania pochodnej karbaminianowej, w którym X1 i X2 oznaczają atomy chloru, a R1 i R2 oznaczają grupy acetylowe.
PL 207 186 B1
- Sposób wytwarzania pochodnej karbaminianowej, w którym X1 i X2 oznaczają atomy chloru, a R1 i R2 oznaczają grupy acetylowe, a jako zasadę stosuje się węglan potasu.
- Sposób wytwarzania pochodnej acylobenzyloaminowej, w którym X1 oznacza atom chloru, a R1 oznacza alifatyczną grupę acylową o 1 do 7 atomach węgla.
- Sposób wytwarzania pochodnej acylobenzyloaminowej, w którym X1 oznacza atom chloru, a R2 oznacza alifatyczną grupę acylową o 1 do 7 atomach węgla.
- Sposób wytwarzania pochodnej acylobenzyloaminowej, w którym X1 oznacza atom chloru, a R1 i R2 oznaczają alifatyczne grupy acylowe o 1 do 7 atomach węgla.
- Sposób wytwarzania pochodnej acylobenzyloaminowej, w którym X1 oznacza atom chloru, a R1 i R2 oznaczają grupy acetylowe.
Sposób wytwarzania pochodnej benzyloaminowej [1] polega na tym, że grupę acylową (R2) wprowadza się do pozycji (pozycja - 5) przedstawionej ogólnym wzorem (3) w sposób wysoce selektywny (to jest wysoka pozycyjna regioselektywność) w reakcji pochodnej benzylowej o wzorze ogólnym (1) ze związkiem haloacylowym o wzorze ogólnym (2) i dzięki temu zasadniczo nie wytwarza się izomer pozycyjny jako produkt uboczny. Tak więc, sposób jest niezwykle użyteczny w przemysłowym wytwarzaniu żądanego produktu. Pochodna karbaminianowa o wzorze ogólnym (6) jest związkiem użytecznym jako związek pośredni powyższego środka bakteriobójczego opartego na karbaminianie) patrz japońska nie badana publikacja patentowa (Kokai) Nr 2001-106666).
W reakcji pochodnej benzylowej o wzorze ogólnym (1) ze związkiem haloacylowym o wzorze ogólnym (2) można wytworzyć pochodną benzyloaminową (3), gdzie wprowadza się do żądanej pozycji - 5, według procentowego zakresu GC (chromatografii gazowej), korzystnie co najmniej 15, jeszcze korzystniej około 45 do 50, podczas gdy całkowity zakres GC w stosunku do związku, w którym R2 wprowadza się do pozycji z wyłączeniem pozycji 5 wynosi 1.
Najlepszy sposób wykonywania wynalazku
Wynalazek będzie teraz szczegółowo opisany z odniesieniem do rysunków, jeśli to będzie konieczne. W opisie, jeśli nie będzie to inaczej określone, części i procenty, które wskazują stosunki ilościowe, oznaczają części i procenty wagowe.
Sposób wytwarzania pochodnej benzyloaminowej [1]
Sposób [1] według wynalazku jest sposobem wytwarzania pochodnej benzyloaminowej o wzorze ogólnym (3) na drodze reakcji pochodnej benzylowej o wzorze ogólnym (1) ze związkiem haloacylowym o wzorze ogólnym (2) w obecności kwasu Lewis'a. Sposób charakteryzuje się tym, że grupę acylową wprowadza się w trakcie reakcji do pozycji 5 (pozycja -5) przedstawionej ogólnym wzorem (3) wysoce selektywnie i że sposób ten jest użyteczny w zastosowaniu przemysłowym.
Na przykład, grupą acylową jako R1 w ogólnym wzorze (1) może być alifatyczna grupa acylową, alicykliczna grupa acylową lub aromatyczna grupa acylową.
(Alifatyczna grupa acylowa)
Alifatyczna grupa acylowa (R1) może być zarówno liniową alifatyczną grupą acylową i rozgałęzioną alifatyczną grupą acylową, a także może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alifatycznej lub może być podstawiona alicykliczną grupą, taką jak alicykliczna grupa alkilowa.
Alicykliczna grupa acylowa obejmuje, na przykład, liniowe lub rozgałęzione alifatyczne grupy acylowe o 1 do 7 atomach węgla (na przykład, liczba atomów węgla w skrócie w tym przypadku „C1-C7), a specyficzne ich przykłady obejmują grupę formylową, acetylową, propionylową, 2-propionylową, butyrylową, izobutyrylową, pentanoilową, haksanoilową, allilokarbonylową i cykloheksylometylokarbonylową.
(Alicykliczna grupa acylowa)
Alicykliczna grupa (R1) może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alicyklicznej. Takie alicykliczne nienasycone grupy acylowe obejmują, na przykład, grupy C3-C6 cykloalkilokarbonylowe, a specyficzne ich przykłady obejmują grupę cyklopropylokarbonylową, cyklopentylokarbonylową, cykloheksylokarbonylową i 1-cykloheksynylokarbonylową.
(Aromatyczne grupy acylowe) 1
Aromatyczna grupa acylowa (R1) może być podstawiona grupą alkilową lub alkoksylową. Takie aromatyczne grupy acylowe obejmują, na przykład, aromatyczne grupy acylowe, takie jak grupa benzoilowa, 4-metylobenzoilowa i 4-metoksybenzoilowa.
(R1) w pochodnej benzylowej o wzorze ogólnym (1) korzystnie oznacza alifatyczną grupę acylową, jeszcze korzystniej C1-C7 alifatyczną grupę acylową, a najkorzystniej grupę acetylową, z uwagi
PL 207 186 B1 na wydajność żądanego produktu w reakcji ze związkiem o ogólnym wzorze (2) i reaktywnością w następnym procesie.
(Atom halogenu)
X1 w ogólnym wzorze (1) oznacza atom halogenu, a specyficzne przykłady obejmują atom fluoru, chloru, bromu i jodu.
(Przykłady pochodnej benzylowej)
Przykładami pochodnej benzylowej o wzorze (1) są N-[(2-chlorofenylo)metylo]acetamid, N-[(2-bromofenylo)metylo]acetamid, N-[(2-fluorofenylo)metylo]acetamid, N-[(2-chlorofenylo)metylo]propanamid, N-[(2-bromofenylo)metylo]propanamid, N-[(2-fluorofenylo)metylo]propanamid, N-[(2-chlorofenylo)metylo]-2-metylopropanamid, N-[(2-bromorofenylo)metylo]-2-metylopropanamid, N-[(2-fluorofenylometylo]-2-metylopropanamid, N-[(2-chlorofenylo)metylo]-2-metylobutanamid, N-[(2-bromofenylo)metylo]-2-metylobutanamid, N-[(2-fluorofenylo)metylo]-2-metylobutanamid, N-[(2-chlorofenylo)metylo]-benzamid, N-[(2-bromofenylo)metylo]benzamid i N-[(2-fluorofenylo)metylo]benzamid.
Te pochodne benzylowe o wzorze (1) są związkami znanymi lub związkiem, który można zsyntezować za pomocą reakcji odpowiedniego związku 2-halogenobenzyloaminowego z odpowiednim bezwodnikiem kwasowym lub chlorkiem kwasowym.
(Grupa acylowa)
Na przykład, grupa acylowa (R2) we wzorze ogólnym (2) oznacza korzystnie alifatyczną grupę acylową, alicykliczną grupę acylową lub aromatyczną grupę acylową.
(Alifatyczna grupa acylowa) 2
Alifatyczna grupa acylowa (R2) może być zarówno liniową alifatyczną grupą acylową i rozgałęzioną alifatyczną grupą acylową, a także może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alifatycznej lub może być podstawiona alicykliczną grupą taką jak alicykliczną grupa alkilowa.
Taka alifatyczna grupa acylowa obejmuje, na przykład, liniowe lub rozgałęzione C1-C7 alifatyczne grupy acylowe, a specyficzne ich przykłady obejmują grupę formylową, actylową propionylową, 2-propionylową, butyrylową, izobutyrylową, pentanoilową, haksanoilową, allilokarbonylową i cykloheksylometylokarbonylową.
(Alicykliczną grupa acylowa)
Alicykliczna grupa (R2) może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alicyklicznej. Takie alicykliczne grupy acylowe obejmują, na przykład, grupy C3-C6 cykloalkilokarbonylowe, a specyficzne ich przykłady obejmują grupy cyklopropylokarbonylowe, cyklopentylokarbonylowe, cykloheksylokarbonylowe i 1-cykloheksenylokarbonylowe.
2
Aromatyczna grupa acylowa (R2) może być podstawiona grupą alkilową lub alkoksylową. Takie aromatyczne grupy acylowe obejmują, na przykład, aromatyczne grupy acylowe, takie jak grupa benzoilowa, 4-metylobenzoilowa i 4-metoksybenzoilowa.
2
R2 w związku haloacylowym o wzorze ogólnym (2) korzystnie oznacza alifatyczną grupę acylową, jeszcze korzystniej C1-C7 alifatyczną grupę acylową, a zwłaszcza grupę acetylową, z uwagi na wydajność żądanego produktu.
(Atom halogenu)
X2 w ogólnym wzorze (2) oznacza atom halogenu, a specyficzne przykłady obejmują atom fluoru, chloru, bromu i jodu.
(Przykłady związku haloacylowego)
Przykłady związku haloacylowego o wzorze ogólnym (2) obejmują chlorek acetylu, bromek acetylu, chlorek propionylu, chlorek butyrylu, chlorek izobutyrylu, chlorek walerylu, chlorek izowalerylu, chlorek t-butyloacetylu i chlorek 2-etylobutyrylu.
Związek haloacylowy o wzorze ogólnym (2) jest związkiem znanym lub może być zsyntetyzowany, na przykład, za pomocą chlorowcowania odpowiedniego kwasu karboksylowego chlorkiem tionylu.
(Ilość)
Ilość związku haloacylowego o wzorze ogólnym (2) reagującego z 1 molem związku benzylowego o ogólnym wzorze (1) nie jest specjalnie ograniczona. Ilość związku haloacylowego zwykle mieści się w zakresie od 1,0 do 2,0 mola, jeszcze korzystniej od 1,0 do 1,5 mola, a najkorzystniej od 1,0 do 1,2 mola.
PL 207 186 B1 (Kwas Lewis'a)
Zgodnie z wynalazkiem powyższą reakcję prowadzi się w obecności kwasu Lewis'a. Przykłady kwasu Lewis'a stosowanego w reakcji obejmują chlorki metali, takie jak chlorek glinu (AICI3), chlorek cynku (ZnCl2) i chlorek żelaza (III) (FeCl3). Wśród tych chlorków metali korzystnie stosuje się chlorek glinu (AICI3). Ilość kwasu Lewis'a stosowanego w reakcji mieści się w zakresie od 2,0 do 5,0 moli, korzystnie od 2,5 do 3,0 moli w przeliczeniu na 1 mol związku benzylowego o wzorze ogólnym (1).
(Rozpuszczalnik)
Reakcję można przeprowadzać stosując rozpuszczalnik lub bez rozpuszczalnika. Rozpuszczalnikiem stosowanym w reakcji może być każdy rozpuszczalnik, który w sposób istotny nie hamuje reakcji. Przykłady rozpuszczalnika obejmują węglowodory aromatyczne, które mogą być ewentualnie podstawione przez co najmniej jedną grupę nitrową lub atom halogenu, takie jak nitrobenzen, dichlorobenzen i trichlorobenzen; chlorowcowane węglowodory alifatyczne, takie jak dichlorometan, dichloroetan i chloroform. Spośród tych rozpuszczalników korzystne są chlorowcowane węglowodory alifatyczne, takie jak dichlorometan. Rozpuszczalniki te mogą być stosowane pojedynczo lub w mieszaninie w dowolnym stosunku.
Ilość rozpuszczalnika powinna umożliwić dostateczne mieszanie w układzie reakcyjnym i zwykle mieści się w zakresie od 0,1 do 2,0 1 (litrów) korzystnie od 0,3 do 1,0 1, a jeszcze korzystniej od 0,3 do 0,8 1 w przeliczeniu na 1 mol związku benzyloaminowego o wzorze ogólnym (1).
(Temperatura i czas reakcji)
Temperatura reakcji mieści się w zakresie od 20°C do temperatury refluksu stosowanego rozpuszczalnika, korzystnie od 30 do 80°C, jeszcze korzystniej od 40 do 60°C.
Czas reakcji nie jest specjalnie ograniczony, ale korzystnie wynosi od 6 do 24 godzin z uwagi na inhibitowanie wytwarzania produktów ubocznych.
(Pochodna benzyloaminowa)
Pochodna benzyloaminowa o wzorze ogólnym (3) wytwarzana w reakcji jest związkiem, który jest użytecznym związkiem pośrednim stosowanym jako surowiec w wytwarzaniu różnych związków [na przykład pochodnej karbaminianowej o wzorze ogólnym (6)].
Sposób wytwarzania pochodnej karbaminianowej [2]
Sposób [2] dotyczy sposobu wytwarzania pochodnej karbaminianowej o wzorze ogólnym (6) poprzez sposób podany jako sposób [1]. Zgodnie z tym sposobem pochodną benzyloaminowa o wzorze ogólnym (3) wytwarza się na drodze reakcji związku benzylowego o wzorze ogólnym (1) ze związkiem haloacylowym o wzorze ogólnym (2) w obecności kwasu Lewis'a a pochodną karbaminianowa o wzorze (6) wytwarza się na drodze reakcji zwią zku aminowego o wzorze ogólnym (4) otrzymanym na drodze hydrolizy pochodnej benzyloaminowej o wzorze ogólnym (3) z estrem kwasu halomrówkowego o wzorze ogólnym (5) w obecności zasady.
Pochodną benzyloaminowa o wzorze ogólnym (3) wytwarza się w taki sam sposób jak w przypadku sposobu [1].
(Hydroliza)
Poniżej opisano wytwarzanie pochodnej aminowej o wzorze ogólnym (4) za pomocą hydrolizy pochodnej benzyloaminowej o wzorze ogólnym (3) otrzymanej zgodnie ze sposobem [1].
Sposób hydrolizy pochodnej benzyloaminowej o wzorze ogólnym (4) nie jest specjalnie ograniczony, ale korzystnie prowadzi się go stosując kwas Broensteda z uwagi na łatwość postępowania.
(Kwas Broensteda)
Przykłady kwasu Broensteda, który może być stosowany w reakcji hydrolizy, obejmują alifatyczne kwasy karboksylowe ewentualnie podstawione przez atom halogenu, takie jak kwas octowy, kwas propionowy, kwas trifluorooctowy; kwasy mineralne, takie jak kwas siarkowy i kwas chlorowodorowy. Spośród tych kwasów szczególnie korzystny jest kwas mineralny, a zwłaszcza kwas siarkowy. Bardziej dokładnie reakcję przeprowadza się stosując 20 do 80%, korzystniej 40 do 80% kwas siarkowy. Ilość kwasu Broensteda stosowanego w reakcji mieści się w zakresie od 1,0 do 5,0 moli, korzystniej od 2,0 do 3,0 moli, w przeliczeniu na 1 mol pochodnej acylowej o wzorze ogólnym (3).
(Woda)
Ilość wody stosowanej w reakcji jest co najmniej ilością stechiometryczną, a bardziej dokładnie co najmniej 1 mol w przeliczeniu na 1 mol pochodnej benzyloaminowej o wzorze ogólnym (3).
PL 207 186 B1 (Rozpuszczalnik)
Reakcję można przeprowadzić stosując rozpuszczalnik lub nie. Rozpuszczalnikiem stosowanym w reakcji może być każdy rozpuszczalnik, który w sposób istotny nie hamuje reakcji. Przykłady rozpuszczalnika obejmują węglowodory aromatyczne, które mogą być ewentualnie podstawione przez co najmniej jedną grupę C1-C6 alkilową lub atom halogenu, takie jak toluen, ksylen, chlorobenzen, dichlorobenzen i trichlorobenzen. Spośród tych rozpuszczalników korzystny jest trichlorobenzen. Rozpuszczalniki te mogą być stosowane pojedynczo lub w mieszaninie w dowolnym stosunku. Ilość rozpuszczalnika powinna umożliwić dostateczne mieszanie w układzie reakcyjnym i zwykle mieści się w zakresie od 0,05 do 0,5 1, korzystnie od 0,1 do 0,3 1, a jeszcze korzystniej od 0,1 do 0,2 1 w przeliczeniu na 1 mol związku benzyloaminowego o wzorze ogólnym (3).
(Temperatura i czas reakcji)
Temperatura reakcji mieści się w zakresie od 70°C do temperatury refluksu stosowanego rozpuszczalnika, korzystnie od 80 do 130°C, jeszcze korzystniej od 100 do 110°C.
Czas reakcji nie jest specjalnie ograniczony, ale korzystnie wynosi od 5 do 15 godzin z uwagi na inhibitowanie wytwarzania produktów ubocznych.
(Reakcja wytwarzania pochodnej karbaminianowej)
Poniżej opisano reakcję pochodnej karbaminianowej o wzorze ogólnym (4) tak otrzymanej z estrem kwasu chloromrówkowego o wzorze ogólnym (5) z wytworzeniem pochodnej karbaminianowej o wzorze ogólnym (6).
(Ester kwasu chloromrówkowego)
R3 w estrze kwasu chloromrówkowego o wzorze ogólnym (5) oznacza grupę alkilową. Na przykład, grupa alkilowa stanowi korzystnie liniową lub rozgałęzioną grupę C1-C7 alkilową, taką jak grupa metylowa, etylowa, n-propylowa, izopropylowa, n-butylowa, sec-butylowa, t-butylowa, n-pentylowa lub n-heksylowa.
(Atom halogenu)
X3 w ogólnym wzorze (5) oznacza atom halogenu, a specyficzne przykłady obejmują atom fluoru, chloru, bromu i jodu.
(Ester kwasu halomrówkowego)
Szczególnymi przykładami estru kwasu chloromrówkowego o wzorze ogólnym (5), które mogą być stosowane w reakcji są chloromrówczan metylu, chloromrówczan etylu, chloromrówczan n-propylu, chloromrówczan izopropylu, chloromrówczan n-butylu i chloromrówczan izobutylu.
Ester kwasu halomrówkowego o wzorze ogólnym (5) jest związkiem znanym. (Dlatego może być otrzymany w znanej reakcji, jeśli to konieczne).
Reakcja pochodnej aminowej o wzorze ogólnym (4) z estrem kwasu halomrówkowego o wzorze ogólnym (5) przebiega w dowolnym stosunku molowym. Ilość estru kwasu halomrówkowego o wzorze ogólnym (5) zwykle mieści się w zakresie od 1,0 do 2,0 moli, korzystnie od 1,0 do 1,5 moli, jeszcze korzystniej od 1,0 do 1,2 moli w przeliczeniu na 1 mol pochodnej o wzorze ogólnym (4).
(Zasada)
Reakcję przeprowadza się stosując zasadę. Przykłady zasady, którą można stosować w reakcji, obejmują zasady organiczne typu trzeciorzędowych amin, takich jak trietyloamina i diizopropyloetyloamina; węglany metali alkalicznych, takie jak węglan potasu i węglan sodu; i wodorotlenki metali alkalicznych, takie wodorotlenek potasu i wodorotlenek sodu.
Korzystnie jako zasadę stosuje się węglany metali alkalicznych, najkorzystniej węglan sodu. Ilość zasady stosowanej w reakcji mieści się w zakresie od 1,0 do 3,0 moli, korzystnie od 1,1 do 1,5 moli w przeliczeniu na 1 mol pochodnej aminowej o wzorze ogólnym (4).
(Rozpuszczalnik)
Reakcję można przeprowadzić stosując rozpuszczalnik lub nie. Rozpuszczalnikiem stosowanym w reakcji może być każdy rozpuszczalnik, który w sposób istotny nie hamuje reakcji. Przykłady rozpuszczalnika obejmują węglowodory aromatyczne, które mogą być ewentualnie podstawione przez co najmniej jedną grupę alkilową lub atom halogenu, takie jak toluen, ksylen i chlorobenzen; chlorowcowane węglowodory aromatyczne, takie jak dichlorometan i chloroform; estry kwasu octowego, takie jak octan metylu, octan etylu i octan butylu; aprotyczne rozpuszczalniki polarne, takie jak dimetyloformamid, dimetyloacetamid, N-metylopirolidon, mocznik tetrametylowy i triamid hekasametylofosforowy (HMPA); i rozpuszczalniki oparte na eterze, takie jak eter dietylowy, tetrahydrofuran (THF) i dioksan.
PL 207 186 B1
Spośród tych rozpuszczalników korzystne są węglowodory aromatyczne, najkorzystniej toluen. Rozpuszczalniki te mogą być stosowane pojedynczo lub w mieszaninie w dowolnym stosunku. Ilość rozpuszczalnika powinna umożliwić dostateczne mieszanie w układzie reakcyjnym i zwykle mieści się w zakresie od 0,2 do 2,0 1, korzystnie od 0,5 do 1,0 1, w przeliczeniu na 1 mol pochodnej aminowej o wzorze ogólnym (4).
(Temperatura i czas reakcji)
Temperatura reakcji mieści się w zakresie od 0°C do temperatury refluksu stosowanego rozpuszczalnika, korzystnie od 10 do 80°C, jeszcze korzystniej od 20 do 60°C.
Czas reakcji nie jest specjalnie ograniczony, ale korzystnie wynosi od 0,5 do 6 godzin z uwagi na inhibitowanie wytwarzania produktów ubocznych.
(Pochodna karbaminianowa)
Pochodna karbaminianowa o wzorze ogólnym (6) wytwarzana zgodnie ze sposobem [2] jest związkiem użytecznym jako substancja pośrednia stosowana w wytwarzaniu różnych związków [na przykład środków agrochemicznych opartych na karbaminianie (zwłaszcza środków bakteriobójczych)].
(Podstawiony amino-zabezpieczony związek)
Różne podstawione amino-zabezpieczone związki można również otrzymywać za pomocą reakcji pochodnej aminowej o wzorze ogólnym (4) wytworzonej tak jak podano wyżej ze znanymi reagentami stosowanymi zwykle do zabezpieczania grupy aminowej (na przykład ester kwasu mrówkowego taki jak chloromrówczan benzylu i diwęglan di-t-butylu; halogenki kwasowe takie jak chlorek kwasu propionylowego; chlorowcowane alkile takie jak chlorek etylu; i 2-(t-butoksykarbonyloimino)-2-fenyloacetonitryl).
Przykłady podstawionego amino-zabezpieczonego związku obejmują różne związki, w których grupa aminowa zabezpieczana jest znanymi grupami zabezpieczającymi, na przykład:
(i) grupa zabezpieczająca typu uretanowego (grupa R = BOC (t-butoksykarbonyl), grupa Cbz (benzyloksykarbonyl), grupa Cbz (OMe) (p-metoksybenzyloksykarbonyl), grupa Cbz (Cl) (p-chlorobenzyloksykarbonyl) lub grupa Cbz (NO2) (p-nitrobenzyloksykarbonyl);
(ii) grupa zabezpieczająca typu acylowego (grupa formylową, grupa acetylową, grupa propionylową, grupa butyrylową, grupa pentynylowa lub grupa heksenylowa w związku (1) wynalazku lub (iii) grupa zabezpieczająca typu alkilowego (liniowa lub rozgałęziona grupa C1-C6 alkilowa, taka jak grupa metylowa, etylowa, n-propylowa, izopropylowa, n-butylowa, sec-butylowa, t-butylowa, n-pentylowa lub n-heksylowa).
Do syntezy podstawionego związku amino-zabezpieczonego można stosować sposoby dotychczas znane.
Pochodna acylobenzyloaminowa
Pochodna acylobenzyloaminowa jest związkiem o wzorze ogólnym (7).
Pochodna acylobenzyloaminowa o wzorze ogólnym (6) zgodnie z wynalazkiem obejmuje pochodne benzyloaminowe o wzorze ogólnym (3) i pochodne aminowe o wzorze ogólnym (4), które otrzymywane są sposobami [1] i [2]. Jak podano wyżej pochodne są związkami, które są użyteczne jako substancje wyjściowe dla pochodnej karbaminianowej o wzorze ogólnym (6), służące jako związki pośrednie w wytwarzaniu różnych związków (związków opartych na karbaminianie, które są użyteczne jako środki agrochemiczne).
(Podstawnik) 1
W ogólnym wzorze (7) podstawnik X1 oznacza atom halogenu, na przykł ad atom fluoru, chloru, bromu lub jodu.
W ogólnym wzorze (7) podstawnik R4 oznacza atom wodoru lub taką samą grupę acylową jak R2. Taka sama grupa acylowa jak R2 może stanowić, na przykład, alifatyczną grupę acylową, alicykliczną grupę acylową lub aromatyczną grupę acylową.
(Alifatyczna grupa acylowa)
Alifatyczna grupa acylowa (R4) może być zarówno liniową alifatyczną grupą acylową, jak i rozgałęzioną alifatyczną grupą acylową. Alifatyczna grupa acylowa może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alifatycznej, a także może być podstawiona alicykliczną grupą, taką jak alicykliczną grupa alkilowa.
PL 207 186 B1
Alicykliczna grupa acylowa obejmuje, na przykład, liniowe lub rozgałęzione C1-C7 alifatyczne grupy acylowe, na przykład grupę formylową, acetylową, propionylową, 2-propionylową, butyrylową, izobutyrylową, pentanoilową, haksanoilową, allilokarbonylową i cykloheksylometylokarbonylową.
(Alicykliczna grupa acylową)
Alicykliczna grupa acylowa (R4) może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alifatycznej. Takie alicykliczne grupy acylowe obejmują, na przykład, grupy C3-C6 cykloalkilokarbonylowe, na przykład grupę cyklopropylokarbonylową, cyklopentylokarbonylową, cykloheksylokarbonylową i 1-cykloheksynylokarbonylową.
(Aromatyczne grupy acylowe)
Aromatyczna grupa acylową (R4) może być podstawiona grupą alkilową lub alkoksylową. Takie aromatyczne grupy acylowe obejmują, na przykład, aromatyczne grupy acylowe, takie jak grupa benzoilowa, 4-metylobenzoilowa i 4-metoksybenzoilowa.
(Szczególne przykłady związku według wynalazku)
Szczególne przykłady związku według wynalazku, które mają podstawniki X1, R2 i R4 obejmują, ale nie są do nich ograniczone te, które są opisane w tabeli 1. Numer związku odnosi się do poniższego opisu. Skróty w tabeli 1 mają następujące znaczenia: Ac: grupa acetylowi; Prn: grupa propionylowa.
T a b e l a 1
| Nr związku | X1 | R2 | R4 |
| 1 | Cl | Ac | H |
| 2 | Cl | Prn | H |
| 3 | Cl | Ac | Ac |
| 4 | Cl | Prn | Ac |
| 5 | Cl | Ac | Prn |
| 6 | Cl | Prn | Prn |
| 7 | Br | Ac | H |
| 8 | Br | Prn | H |
| 9 | Br | Ac | Ac |
| 10 | Br | Prn | Ac |
| 11 | Br | Ac | Prn |
| 12 | Br | Prn | Prn |
| 13 | F | Ac | H |
| 14 | F | Prn | H |
| 15 | F | Ac | Ac |
| 16 | F | Prn | Ac |
| 17 | F | Ac | Prn |
| 18 | F | Prn | Prn |
Przykłady korzystnych związków pośrednich pochodnej karbaminianowej (6) użyteczne jako rolnicze i ogrodnicze środki bakteriobójcze obejmują związek 1, w którym X1 oznacza Cl, R2 oznacza 41
Ac (grupa acetylowa) i R4 oznacza H (atom wodoru) i związek 3, w którym X1 oznacza Cl (atom chloru), R2 oznacza Ac (grupa acetylowa) i R4 oznacza Ac (grupa acetylowa).
Przykłady
Sposób wytwarzania związku według wynalazku opisano poniżej za pomocą przykładów, z tym, że wynalazek nie jest ograniczony do tych przykładów. W opisie poniżej czystość wyrażono w procentach wynikających z chromatografii gazowej (GC %).
PL 207 186 B1
P r z y k ł a d 1
1) Wytwarzanie N-[(5-acetylo-2-chlorofenylo)metylo]acetamidu (związek nr 3)
Sposób [1]
36,7 g (0,2 mola) N-[(2-chlorofenylo)metylo]acetamidu rozpuszczono w 60 ml dichlorometanu i dodano 80,0 g (0,6 moli) chlorku glinu w 5 do 30°C w cią gu 30 minut, a następnie wkroplono 31,4 g (0,4 mola) chlorku acetylu w tej samej temperaturze w ciągu 30 minut.
Mieszaninę pozostawiono w temperaturze pokojowej na jedną godzinę, ogrzano do temperatury refluksu w ciągu 15 minut i pozostawiono pod refluksem na 12 godzin. Po zakończeniu reakcji powstały roztwór reakcyjny wlano do wody i ekstrahowano trzykrotnie za pomocą 50 ml toluenu, a następnie rozpuszczalnik odparowano pod zmniejszonym ciśnieniem. Po chłodzeniu pozostałości powstały wytrącony kryształ zebrano za pomocą filtrowania, przemyto toluenem i wysuszono otrzymując 24,5 g (wydajność: 54,3%, czystość: 99,4%) żądanego związku (temperatura topnienia: 93,1 do 93,7°C).
1H-NMR (CHCl3-d1, 300 MHz) δ = 2,0 (s, 3H, NHCOCH3), 2,6 (s, 3H, Ph-COCH3), 4,6 (d, 2H,
CH2, J = 6,0 Hz), 6,1 (br, s, 1H, NHCOCH3), 7,5 (d, 1H, pierścień Ph, J = 8,2 Hz), 7,8 (dd, 1H, pierścień Ph, J = 2,2 8,2 Hz), 8,0 (d, 1H, pierścień Ph, J = 2,2).
MS (GC-MS) m/z = 225 (M+), 190 (zasada).
P r z y k ł a d 2
Wytwarzanie n-[(5-acetylo-2-chlorofenylo)metylo]metoksykarboksyamidu 1 (A) : Wytwarzanie 1-[3-(aminometylo)-4-chlorofenylo]etan-1-onu (związek nr. 1) (X1 oznacza atom chloru, a R1 oznacza alifatyczną grupę acylową)
20,0 g (0,089) mola N-[(5-acetylo-2-chlorofenylo)metylo]acetamidu wytworzonego w przykładzie 1 rozpuszczono w 55 g 50% kwasu siarkowego, następnie ogrzano do temperatury refluksu w ciągu 30 minut i następnie pozostawiono pod refluksem na 15 godzin. Po zakończeniu reakcji powstały roztwór wlano do wody i dodano 45 ml toluenu, a następnie wodnemu roztworowi nadano odczyn zasadowy (pH = około 12) za pomocą 25% wodorotlenku zasadowego. Po dwukrotnej ekstrakcji 45 ml toluenu rozpuszczalnik oddestylowano pod zmniejszonym ciśnieniem z wytworzeniem tytułowego związku (czystość: 99,2%) zasadniczo ilościowo.
MS (GC-MS) m/z = 182 (M+ - 1), 140 (zasada).
1 (B) : Wytwarzanie N-[(5-acetylo-2-chlorofenylo)metylo]metoksykarboksyamidu (X1 oznacza atom chloru, a R1 oznacza alifatyczną grupę acylową o 1 do 7 atomach węgla)
17,1 g (0,089 moli) 1-[3-(aminometylo)-4-chlorofenylo]etan-1-onu otrzymanego w przykładzie 2-(A) rozpuszczono w 44,3 ml toluenu, a następnie dodano (zmieszano) z 14,7 g (0,107 moli) węglanu potasu, następnie wkroplono 9,2 g (0,098 mola) chlorowęglanu metylu w temperaturze 5 do 20°C w ciągu 30 minut i następnie pozostawiono w temperaturze pokojowej na 3 godziny.
Po zakończeniu reakcji powstały roztwór reakcyjny wlano do wody i następnie rozpuszczalnik oddestylowano pod zmniejszonym ciśnieniem. Po ochłodzeniu pozostałości wytrącony kryształ zebrano za pomocą filtrowania, przemyto toluenem i wysuszono z wytworzeniem 19,3 g (wydajność: 90,2%, czystość: 99,8%) żądanego związku (temperatura topnienia: 108,1°C).
1H-NMR (CHCl3-d1, 300 MHz) δ = 2,6 (s, 3H, Ph-COCH3), 3,7 (s, 3H, COOCH3), 4,5 (d, 2H, CH2, J = 6,3 Hz), 5,3 (br, s, 1H, NH), 7,5 (d, 1H, pierścień Ph, J = 8,3 Hz), 7,8 (dd, 1H, pierścień Ph, J = 2,1 8,3 Hz), 8,0 (s, 1H, pierścień Ph).
MS (GC-MS) m/z = 241 (M+), 206 (zasada).
P r z y k ł a d 3
Wytwarzanie N-[(5-acetylo-2-chlorofenylo)metylo]metoksykarboksyamidu (A) : Wytwarzanie N-[(2-chlorofenylo)metylo]acetamidu: wzór ogólny (1)
42,8 kg (0,3 kmola) (2-chlorofenylo)metyloaminy rozpuszczono w 118,3 kg dichlorometanu i wkroplono 32,2 kg (0,315 kmoli) bezwodnika octowego w temperaturze 20 do 40°C w ciągu 1,5 godziny, a następnie pozostawiono w temperaturze pokojowej na 30 minut. Po zakończeniu reakcji dodano 60 kg wody, wkroplono 55,2 kg 25% wodnego roztworu wodorotlenku sodu w temperaturze 20 do 40°C w ciągu 20 minut. Warstwę organiczną rozdzielono z wytworzeniem 169,9 kg dichlorometanowego roztworu N-[(2-chlorofenylo)metylo]acetamidu.
(B) : Wytwarzanie N-[(5-acetylo-2-chlorofenylo)metylo]acetamidu (związek nr 3): sposób [1]
Do 169,9 kg dichlorometanowego roztworu N-[(2-chlorofenylo)metylo]acetamidu otrzymanego w przykładzie 3-(A) dodano 47,1 kg (0,6 moli) chlorku acetylu i 108,0 kg (0,81 kmola) chlorku glinu w temperaturze 15 do 30°C w ciągu 1,5 godziny. Po oddestylowaniu dichlorometanu pod normalnym ciśnieniem, gdy temperatura osiągnęła 50°C w ciągu 2 godzin mieszaninę pozostawiono na 6 godzin
PL 207 186 B1 (żądany produkt: inne pozycyjne izomery = 76,75%:1,65%; GC %). Po zakończeniu reakcji powstały roztwór wkroplono do 450 kg wody w temperaturze 15 do 35°C w ciągu 2 godzin. Roztwór ekstrahowano dwukrotnie 90 kg dichlorometanu i 40 kg dichlorometanu z wytworzeniem 199,8 kg dichlorometanowego roztworu N-[(5-acetylo-2-chlorofenylo)metylo]acetamidu.
1 (C) : Wytwarzanie 1-[3-(aminometylo)-4-chlorofenylo]etan-1-onu (związek nr 1) (X1 oznacza atom chloru, a R1 oznacza alifatyczną grupę acylową)
Do 199,8 kg dichlorometanowego roztworu N-[(5-acetylo-2-chlorofenylo)metylo]acetamidu otrzymanego w przykładzie 3-(B) dodano 90 kg wody i 46 kg (0,45 kmola) 98% kwasu siarkowego. Dichlorometan oddestylowano pod normalnym ciśnieniem w ciągu 1,5 godziny, aż temperatura wewnętrzna osiągnęła 100°C i pozostawiono na 6 godzin. Po zakończeniu reakcji roztwór reakcyjny ochłodzono do 50°C w ciągu 20 minut i dodano 90 kg wody i 105 kg toluenu. Po ochłodzeniu wkroplono 212 kg 25% wodnego roztworu wodorotlenku sodu w temperaturze 15 do 25°C w ciągu 2,5 godziny. Po ogrzaniu do 40°C w ciągu 30 minut warstwę organiczną oddzielono z wytworzeniem toluenowego roztworu 1-[3-(aminometylo)-4-chlorofenylo]etan-1-onu.
1 (D) : Wytwarzanie N-[(5-acetylo-2-chlorofenylo)metylo]metoksykarboksyamidu (X1 oznacza atom chloru, a R1 oznacza alifatyczną grupę acylową o 1 do 7 atomach węgla)
Do toluenowego roztworu 1-[3-(aminometylo)-4-chlorofenylo]etan-1-onu otrzymanego w przykładzie 3-(C) dodano 180 kg wody i 45,7 kg (0,33 kmola) węglanu potasu, następnie mieszano, wkroplono 28,4 kg (0,3 kmola) chlorowęglanu metylu w 15 do 25°C w ciągu godziny i następnie pozostawiono w temperaturze pokojowej na jedną godzinę. Po zakończeniu reakcji roztwór reakcji ogrzano do 60°C w ciągu 30 minut i oddzielono warstwę organiczną. Do powstałego toluenowego roztworu N-[(5-acetylo-2-chlorofenylo)metylo]metoksykarboksyamidu dodano 150 kg wody i toluen oddestylowano pod normalnym ciśnieniem w ciągu 2 godzin. Pozostałość schłodzono do 50°C w ciągu 30 minut i dodano 39 kg toluenu, a następnie ochłodzono do 10°C w ciągu 1,5 godziny. Wytrącony kryształ zebrano za pomocą filtrowania i przemyto 13 kg toluenu. Powstały kryształ osuszono z wytworzeniem 49,1 kg (wydajność: 67,7%; w przeliczeniu na (2-chlorofenyo)metyloaminę, czystość: 94,5%) N-[(5-acetylo-2-chlorofenylo)metylo]metoksykarboksyamidu.
Zastosowanie przemysłowe
Jak podano wyżej, zgodnie z wynalazkiem rozwiązano problemy stanu techniki i dostarczono sposób, który jest użyteczny w wytwarzaniu pochodnej karbaminianowej. Zgodnie z wynalazkiem, na przykład, dostarczono sposób wytwarzania pochodnej karbaminianowej o wzorze ogólnym (3), która jest użyteczna w wytwarzaniu pochodnej karbaminianowej o wzorze ogólnym (6) jako użyteczny związek pośredni dla rolniczych i ogrodniczych środków bakteriobójczy opartych na karbaminianinie, sposobu wytwarzania pochodnej karbaminianowej o wzorze ogólnym (6) i nowego związku pośredniego.
Zgodnie z wynalazkiem, na przykład, pochodna karbaminianowa o wzorze ogólnym (6) jako użyteczny związek pośredni w wytwarzaniu środka bakteriobójczego opartego na karbaminianie otrzymywana jest z dobrą wydajnością i czystością w prostej operacji. Dlatego też sposób według wynalazku ma szczególnie wysoką przemysłową użytkową wartość.
Claims (3)
- Zastrzeżenia patentowe1. Sposób wytwarzania pochodnej benzyloaminowej o wzorze ogólnym (3):NHR1 w którym X1, R1 i R2 są zdefiniowane poniżej, znamienny tym, że pochodną benzylową o wzorze ogólnym (1):PL 207 186 B1 w którym X1 oznacza atom halogenu, a R1 grupę acylową wybraną z grupy obejmują cej: liniową lub rozgałęzioną C1-C7 alifatyczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alifatycznej lub może być podstawiona grupą alicykliczną; C3-C6 alicykliczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alicyklicznej; i aromatyczną grupę acylową, która może być podstawiona grupą alkilową lub alkoksylową, poddaje się reakcji ze związkiem haloacylowym o wzorze ogólnym (2):w którym X2 oznacza atom halogenu, a R2 grupę acylową wybraną z grupy obejmują cej: liniową lub rozgałęzioną C1-C7 alifatyczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alifatycznej lub może być podstawiona grupą alicykliczną; C3-C6 alicykliczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alicyklicznej; i aromatyczną grupę acylową, która może być podstawiona grupą alkilową lub alkoksylową, w obecności kwasu Lewis'a.
- 2. Sposób wytwarzania pochodnej karbaminianowej o wzorze ogólnym (6):R3 w którym X1, R2 i R3 są zdefiniowane poniżej, znamienny tym, że pochodną benzylową o wzorze ogólnym (1):NHR1 w którym X1 oznacza atom halogenu, a R1 grupę acylową wybraną z grupy obejmują cej: liniową lub rozgałęzioną C1-C7 alifatyczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alifatycznej lub może być podstawiona grupą alicykliczną; C3-C6 alicykliczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alicyklicznej; i aromatyczną grupę acylową, która może być podstawiona grupą alkilową lub alkoksylową,PL 207 186 B1 poddaje się reakcji ze związkiem haloacylowym o wzorze ogólnym (2):w którym X2 oznacza atom halogenu, a R2 grupę acylową wybraną z grupy obejmującej: liniową lub rozgałęzioną C1-C7 alifatyczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alifatycznej lub może być podstawiona grupą alicykliczną; C3-C6 alicykliczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alicyklicznej; i aromatyczną grupę acylową, która może być podstawiona grupą alkilową lub alkoksylową, w obecności kwasu Lewis'a z wytworzeniem pochodnej benzyloaminowej o wzorze ogólnym (3):NHR1 w którym X1, R1 i R2 są zdefiniowane powyżej, hydrolizuje się pochodną benzyloaminowa z wytworzeniem pochodnej aminowej o wzorze ogólnym (4):w którym X1 i R2 mają wyż ej podane znaczenie i poddaje się pochodną aminową reakcji z estrem kwasu halomrówkowego o wzorze ogólnym (5) w którym X3 oznacza atom halogenu, a R3 oznacza liniową lub rozgałęzioną grupę C1-C7 alkilową, w obecnoś ci zasady.
- 3. Pochodna acylobenzyloaminowa o wzorze ogólnym (7):PL 207 186 B1 w którym X1 oznacza atom halogenu, R2 oznacza grupę acylową wybraną z grupy obejmującej: liniową lub rozgałęzioną C1-C7 alifatyczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alifatycznej lub może być podstawiona grupą alicykliczną; C3-C6 alicykliczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alicyklicznej; a R4 oznacza atom wodoru; lub R2 oznacza grupę acylową wybraną z grupy obejmującej: liniową lub rozgałęzioną C1-C7 alifatyczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alifatycznej lub może być podstawiona grupą alicykliczną; C3-C6 alicykliczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alicyklicznej; i aromatyczną grupę acylową, która może być podstawiona grupą alkilową lub alkoksylową, a R4 oznacza grupę acylową wybraną z grupy obejmującej: liniową lub rozgałęzioną C1-C7 alifatyczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alifatycznej lub może być podstawiona grupą alicykliczną; C3-C6 alicykliczną grupę acylową, która może zawierać nienasycone wiązanie w reszcie alicyklicznej; i aromatyczną grupę acylową, która może być podstawiona grupą alkilową lub alkoksylową.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002376272 | 2002-12-26 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL377143A1 PL377143A1 (pl) | 2006-01-23 |
| PL207186B1 true PL207186B1 (pl) | 2010-11-30 |
Family
ID=32677360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL377143A PL207186B1 (pl) | 2002-12-26 | 2003-12-26 | Sposób wytwarzania pochodnej benzyloaminowej i pochodnej karbaminianowej oraz pochodna acylobenzyloaminowa |
Country Status (18)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7326813B2 (pl) |
| EP (1) | EP1586552B1 (pl) |
| JP (1) | JP4522263B2 (pl) |
| KR (1) | KR101066433B1 (pl) |
| CN (1) | CN100503551C (pl) |
| AT (1) | ATE478837T1 (pl) |
| AU (1) | AU2003292706B2 (pl) |
| BR (2) | BRPI0317781B8 (pl) |
| CA (1) | CA2511590C (pl) |
| DE (1) | DE60333950D1 (pl) |
| ES (1) | ES2347329T3 (pl) |
| IL (1) | IL169393A (pl) |
| MX (1) | MXPA05006938A (pl) |
| NZ (1) | NZ541392A (pl) |
| PL (1) | PL207186B1 (pl) |
| RU (1) | RU2362766C2 (pl) |
| TW (1) | TWI325415B (pl) |
| WO (1) | WO2004058681A1 (pl) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2529624A3 (en) | 2007-04-03 | 2013-03-13 | E. I. du Pont de Nemours and Company | Substituted benzene fungicides |
| TW201116212A (en) | 2009-10-29 | 2011-05-16 | Du Pont | Heterobicycle-substituted azolyl benzene fungicides |
| JP2013018767A (ja) * | 2011-06-03 | 2013-01-31 | Sumitomo Chemical Co Ltd | ベンジルアミン化合物を製造する方法 |
| WO2015157005A1 (en) | 2014-04-10 | 2015-10-15 | E I Du Pont De Nemours And Company | Substituted tolyl fungicide mixtures |
| TWI832917B (zh) | 2018-11-06 | 2024-02-21 | 美商富曼西公司 | 經取代之甲苯基殺真菌劑 |
| UY39189A (es) | 2020-05-06 | 2021-12-31 | Fmc Corp | Fungicidas de tolilo sustituido y sus mezclas |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4566901A (en) | 1982-05-06 | 1986-01-28 | Ciba-Geigy Corporation | Novel oxime ethers, the preparation thereof, compositions containing them and the use thereof |
| IL74272A (en) * | 1984-02-16 | 1991-06-10 | Poudres & Explosifs Ste Nale | Preparation of carbamic acid derivatives |
| FR2559766B1 (fr) | 1984-02-16 | 1986-05-16 | Poudres & Explosifs Ste Nale | Procede de preparation de derives de l'acide carbamique |
| US4968829A (en) | 1984-07-18 | 1990-11-06 | Sandoz Ltd. | Novel substituted aromatic compounds |
| US5663199A (en) | 1994-11-30 | 1997-09-02 | Uniroyal Chemical Ltd./Ltee | Anti-viral aromatic O-alkylated oximes, ethers and thioethers |
| US5817814A (en) | 1997-05-01 | 1998-10-06 | Fmc Corporation | Method for the preparation of benzyluracils |
| UA73307C2 (uk) * | 1999-08-05 | 2005-07-15 | Куміаі Кемікал Індастрі Ко., Лтд. | Похідна карбамату і фунгіцид сільськогосподарського/садівницького призначення |
| US6531291B1 (en) | 1999-11-10 | 2003-03-11 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Antimicrobial activity of gemfibrozil and related compounds and derivatives and metabolites thereof |
| WO2002062759A1 (en) * | 2001-02-02 | 2002-08-15 | Kumiai Chemical Industry Co., Ltd. | Iminooxymethylpyridine compound and agricultural or horticultural bactericide |
-
2003
- 2003-12-26 KR KR1020057012006A patent/KR101066433B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2003-12-26 JP JP2004562958A patent/JP4522263B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-26 EP EP03768351A patent/EP1586552B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-26 MX MXPA05006938A patent/MXPA05006938A/es active IP Right Grant
- 2003-12-26 US US10/540,749 patent/US7326813B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-12-26 CN CNB2003801089811A patent/CN100503551C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-26 PL PL377143A patent/PL207186B1/pl unknown
- 2003-12-26 NZ NZ541392A patent/NZ541392A/en not_active IP Right Cessation
- 2003-12-26 AT AT03768351T patent/ATE478837T1/de active
- 2003-12-26 CA CA2511590A patent/CA2511590C/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-12-26 TW TW092137078A patent/TWI325415B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-12-26 DE DE60333950T patent/DE60333950D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-26 WO PCT/JP2003/016995 patent/WO2004058681A1/ja not_active Ceased
- 2003-12-26 BR BRPI0317781A patent/BRPI0317781B8/pt not_active IP Right Cessation
- 2003-12-26 ES ES03768351T patent/ES2347329T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-26 BR BRPI0317781-5B1A patent/BR0317781B1/pt active IP Right Grant
- 2003-12-26 RU RU2005123690/04A patent/RU2362766C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2003-12-26 AU AU2003292706A patent/AU2003292706B2/en not_active Ceased
-
2005
- 2005-06-26 IL IL169393A patent/IL169393A/en active IP Right Grant
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1586552A1 (en) | 2005-10-19 |
| IL169393A (en) | 2010-06-30 |
| TWI325415B (en) | 2010-06-01 |
| RU2005123690A (ru) | 2006-01-20 |
| CN1802343A (zh) | 2006-07-12 |
| EP1586552A4 (en) | 2007-03-14 |
| TW200418764A (en) | 2004-10-01 |
| WO2004058681A1 (ja) | 2004-07-15 |
| MXPA05006938A (es) | 2005-10-26 |
| JP4522263B2 (ja) | 2010-08-11 |
| KR20050088227A (ko) | 2005-09-02 |
| KR101066433B1 (ko) | 2011-09-23 |
| BR0317781B1 (pt) | 2013-10-01 |
| BR0317781A (pt) | 2005-11-22 |
| NZ541392A (en) | 2008-06-30 |
| US20060155141A1 (en) | 2006-07-13 |
| EP1586552B1 (en) | 2010-08-25 |
| CA2511590C (en) | 2011-12-20 |
| BRPI0317781B8 (pt) | 2019-10-15 |
| ATE478837T1 (de) | 2010-09-15 |
| AU2003292706B2 (en) | 2010-01-21 |
| AU2003292706A1 (en) | 2004-07-22 |
| CN100503551C (zh) | 2009-06-24 |
| JPWO2004058681A1 (ja) | 2006-04-27 |
| PL377143A1 (pl) | 2006-01-23 |
| RU2362766C2 (ru) | 2009-07-27 |
| ES2347329T3 (es) | 2010-10-28 |
| US7326813B2 (en) | 2008-02-05 |
| DE60333950D1 (de) | 2010-10-07 |
| CA2511590A1 (en) | 2004-07-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5225585A (en) | Production of fluoxetine and new intermediates | |
| US6166208A (en) | Preparation of fungicidal quinazolinones and useful intermediates | |
| WO1998007691A1 (en) | Process for stereoselective preparation of trans-azetidinones | |
| US20210206742A1 (en) | Process for the preparation of apalutamide | |
| PL207186B1 (pl) | Sposób wytwarzania pochodnej benzyloaminowej i pochodnej karbaminianowej oraz pochodna acylobenzyloaminowa | |
| IT202000003251A1 (it) | Preparazione di un analgesico non steroideo | |
| US6977311B2 (en) | Process for synthesizing L-γ-methylene glutamic acid and analogs | |
| US20050283021A1 (en) | Production method of O-substituted tyrosine compound | |
| EP1918275A1 (en) | Production method of diphenylalanine - NI(II) complex | |
| JP4181233B2 (ja) | ピロリジン−２，４−ジオン誘導体の製法 | |
| US6573399B1 (en) | Synthesis of α-amino-α′, α′-dihaloketones and process for the preparation of β-amino acid derivatives by the use of the same | |
| US8093384B2 (en) | Processes for the preparation of alfuzosin | |
| US4374067A (en) | Intermediates for the preparation of 4-phenyl-1,3-benzodiazepins and methods for preparing the intermediates | |
| CZ397A3 (cs) | Způsob přípravy derivátů kyseliny o-chlormethylfenylglyoxylové | |
| US20070149606A1 (en) | Process for producing phenylacetic acid derivative | |
| KR100413172B1 (ko) | 퀴놀리논 유도체의 제조방법 | |
| US4461728A (en) | Preparation of 4-phenyl-1,3-benzodiazepins | |
| JP4788049B2 (ja) | ジカルボン酸ジエステル誘導体およびその製造方法 | |
| KR20020038466A (ko) | 카르보스티릴 유도체의 제조방법 | |
| JP4968602B2 (ja) | ベンズアミド誘導体の製造方法 | |
| US8383833B2 (en) | Method for producing optically active amino acid derivative | |
| WO2001072693A1 (fr) | Nouveaux derives d'aminophenol | |
| JP2004067525A (ja) | ペンタフルオロサルファー置換アントラニル酸誘導体の製造方法およびペンタフルオロサルファー置換アントラニル酸誘導体 | |
| JP2002114765A (ja) | ３−アミノ−４−カルボニルピラゾール化合物の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RECP | Rectifications of patent specification |