PL203913B1

PL203913B1 - Wyrób powlekany obejmujący powłokę naniesioną na podłoże szklane oraz jego zastosowanie

Info

Publication number: PL203913B1
Application number: PL369937A
Authority: PL
Inventors: Grzegorz Stachowiak
Original assignee: Guardian Industries
Priority date: 2001-12-21
Filing date: 2002-12-16
Publication date: 2009-11-30
Also published as: EP1458653B1; CA2467714A1; AU2002361688A8; US20050175845A1; WO2003055816A2; AU2002361688A1; US20060246301A1; EP2338851A1; US7090921B2; US7455910B2; US6830817B2; US20030170466A1; WO2003055816A3; CA2467714C; PL369937A1; EP1458653A2

Description

Opis wynalazku

Wynalazek dotyczy wyrobu powlekanego obejmującego powłokę naniesioną na podłoże szklane oraz jego zastosowania.

[0001] Niniejsze zgłoszenie jest pokrewne w stosunku do amerykańskiego patentu nr US 6,576,349.

[0002] Opis patentowy nr US 6,576,349 ujawnia wyroby powlekane o następującym układzie warstw, jak to pokazano na fig. 1, od podłoża szklanego do warstwy zewnętrznej.

T a b e l a 1: Przykł adowe materiały/grubości

Warstwa	Zakres korzystny (μιτι; A)	Zakres korzystniejszy (μτ; A)	Przykład (μτ; A)
Podłoże (1- 10 mm)
TiO2	0-4x10^-2 μτ (0 - 400 A)	5x10'³-2,5x10'² μτ (50 - 250 A)	10'² μτ (100 A)
Si_xNy	0-4x10² μτ (0 - 400 A)	5x10'³-2,5x10'² μτ (50 - 250 A)	1,7x10^-2 μτ (170 A)
NiCrOx	5x10'⁴-10'² μτ (5 - 100 A)	10'³-5x10'³ μτ (10 - 50 A)	1,8x10^-3 μτ (18 A)
Ag	5x10^-3-2,5x10'² μτ (50 - 250 A)	8x10'³-1,2x10'² μτ (80 - 120 A)	1,05x10^-2 μτ (105 A)
NiCrO_x	5x10'⁴-10'² μτ (5 - 100 A)	10'³-5x10'³ μτ (10 - 50 A)	1,6x10^-3 μτ (16 A)
SnO2	0-8x10^-2 μτ (0 - 800 A)	5x10'²-8,5x10'² μτ (500 - 850 A)	6,5x10^-2 μτ (650 A)
Si_xNy	0-8x10^-2 μτ (0 - 800 A)	5x10'³-2,5x10'² μτ (50 - 250 A )	1,7x10^-2 μτ (170 A)
NiCrOx	5x10'⁴-10'² μτ (5 - 100 A)	10'³-5x10'³ μτ (10 - 50 A)	1,8x10^-3 μτ (18 A)
Ag	5x10^-3-2,5x10'² μτ (50 - 250 A)	8x10'³-1,2x10'² μτ (80 - 120 A)	1,05x10^-2 μτ (105 A)
NiCrOx	5x10'⁴-10'² μτ (5 - 100 A)	10'³-5x10'³ μτ (10 - 50 A)	1,6x10^-3 μτ (16 A)
SnO2	0-5x10^-2 μτ (0 - 500 A)	10'²-3x10'² μτ (100 - 300 A)	1,5x10^-2 μτ (150 A)
Sii N4	0-5x10^-2 μτ (0 - 500 A)	10'²-3x10'² μτ (100 - 300 A)	2,5x10^-2 μτ (250 A)

[0003] W innym wykonaniu rozwiązania przedstawionego w publikacji US 6,576,349, dolną warstwę, złożoną z tlenku tytanu, można usunąć lub zastąpić warstwą złożoną z azotku krzemu.

[0004] Wspomniane wyroby powlekane, opisane w wyżej powoływanym opisie patentowym Stanów Zjednoczonych Ameryki, zapewniają dobrą barwę i dobre odbicie ultrafioletu (UV) i/lub podczerwieni (IR), jednak niekiedy może okazać się pożądana zwiększana transmisja światła i/lub zmniejszone odbicie światła.

[0005] Dla wyrobów powlekanych, w pewnych zastosowaniach, pożądana jest także barwa achromatyczna. Liczne zwykle stosowane sposoby uczynienia barwy powlekanego wyrobu bardziej achromatyczną prowadzą do zmniejszenia transmisji światła i/lub wzmożenia odbicia światła. Stąd też, trudno osiągnąć zwiększenie transmisji światła i zmniejszenie odbicia światła, z jednoczesnym uzyskaniem lub utrzymaniem barwy raczej achromatycznej i zadowalającej kontroli promieniowania słonecznego lub charakterystyki termicznej. Odczucie czy dana barwa jest achromatyczna czy nie, jest subiektywne i jest funkcją indywidualnego gustu. Jednakże mówiąc ogólnie, pożądana jest barwa zmierzająca ku docelowej barwie achromatycznej (na przykład, a* = 0, b* = 0, albo jakaś inna docelowa barwa achromatyczna, taka jak, na przykład, transmisyjna a* = -2 lub transmisyjna b* = -3,4), choć cele te nie zawsze zostały osiągnięte w wykonaniach wynalazku.

[0006] Biorąc powyższe pod uwagę, celem niektórych wykonań wynalazku stało się dostarczenie wyrobu powlekanego z kontrolą promieniowania słonecznego (to znaczy wyrobu obejmującego co najmniej jedną, a korzystnie dwie, lub większą ilość warstw takich jak Ag i/lub Au do odbicia IR i/lub UV) o zwiększonej transmisji światła i/lub zwiększonym współczynniku odbicia światła. W pewnych przykładowych, nieograniczających zakresu wynalazku, wykonaniach celem jest połączenie takiej wysokiej transmisji światła i/lub zmniejszonego odbicia światła z barwą achromatyczną wyrobu powlekanego. Alternatywnie, zastosowanie polepszonego systemu (polepszonych systemów) warstw przeciwodblaskowych może umożliwić otrzymanie powłok mających lub wykorzystujących mocniejszą

PL 203 913 B1 warstwę kontaktową (mocniejsze warstwy kontaktowe) (na przykład, grubszych dla lepszej trwałości) i/lub grubszej warstwy (grubszych warstw) Ag (to znaczy, o polepszonej sprawności termicznej), z jednoczesnym utrzymaniem podobnej charakterystyki transmisyjnej, jeżeli zwiększona transmisja nie stanowi cechy najbardziej pożądanej (na przykład gdy najbardziej pożądaną cechą jest trwałość).

[0007] Innym celem wynalazku jest spełnienie jednego lub więcej niż jednego z podanych wyżej zadań i/lub zaspokojenie zapotrzebowań.

Przedmiotem wynalazku jest wyrób powlekany obejmujący powłokę naniesioną na podłoże szklane, w którym powłoka obejmuje:

- pierwszą i drugą warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone (IR), każdą zawierając ą co najmniej jeden metal taki jak srebro (Ag) i złoto (Au);

- pierwszą warstwę dielektryczną, zawierającą tlenek tytanu, znajdującą się między pierwszą warstwą odbijającą IR a podłożem szklanym, charakteryzujący się tym, że zawiera:

- drugą warstwę dielektryczną, zawierającą tlenek tytanu, znajdującą się mię dzy pierwszą a drugą warstwą odbijającą IR,

- trzecią warstwę dielektryczną o współczynniku załamania światła 1,8 <= n <= 2,2, znajdującą się między pierwszą a drugą warstwą odbijającą IR, przy czym trzecia warstwa dielektryczna ma współczynnik załamania światła n mniejszy od współczynnika załamania światła n co najmniej jednej z dwu, pierwszej i drugiej, warstwy dielektrycznej; oraz

- czwartą warstwę dielektryczną, złożoną z tlenku krzemu, znajdującą się nad pierwszą i drugą warstwą odbijającą IR;

- warstwy kontaktowe umieszczone zaraz nad i bę dą ce w kontakcie z każ d ą , pierwszą i drugą warstwą odbijającą IR, gdzie warstwy kontaktowe zawierają tlenek niklu chromu, tlenek cynku, nikiel, chrom lub ich kombinacje, oraz przy czym wyrób powlekany wykazuje transmisję światła wynoszącą co najmniej 70%.

Korzystnie wyrób zawiera trzecią warstwę dielektryczną złożoną z tlenku cyny.

W innym korzystnym wariancie wykonania wynalazku wyrób powlekany zawiera jeszcze inną warstwę dielektryczną, złożoną z azotku krzemu, znajdującą się między drugą warstwą odbijającą IR a czwartą warstwą dielektryczną złożoną z tlenku krzemu. W kolejnym korzystnym wykonaniu warstwa znajdująca się między drugą warstwą odbijającą IR a czwartą warstwą dielektryczną, złożoną z tlenku krzemu, złożona jest z tlenku tytanu albo alternatywnie korzystnie złożona jest z tlenku cyny. W innym korzystnym wariancie rozwiązania według wynalazku wyrób powlekany zawiera jeszcze inną warstwę dielektryczną, złożoną z azotku krzemu, znajdującą się między pierwszą warstwą dielektryczną złożoną z tlenku tytanu a pierwszą warstwą odbijającą IR.

Korzystnie wyrób powlekany według wynalazku stanowi wyrób, w którym każda pierwsza i druga warstwa odbijająca IR, złożona jest z Ag i umieszczona jest przekładkowo między parą warstw kontaktowych, przy tym co najmniej jedna z warstw kontaktowych przylegających do każdej z warstw odbijających IR złożona jest z co najmniej jednego związku, takiego jak NiCr, NiCrOx i NiCrNx, natomiast w innym alternatywnym wariancie rozwiązania wyrób powlekany według wynalazku stanowi wyrób w którym obie, pierwsza i druga warstwy dielektryczne, złożone są z tlenku tytanu i każda z nich zawiera TiO2. Korzystnie według wynalazku wyrób wykazuje transmisję światła wnoszącą co najmniej 75%, rezystancję powierzchniową R_s nie większą niż 10 omów/j i współczynnik odbicia światła od strony szklanej <= 9%, jeszcze korzystniej wykazuje transmisję światła wynoszącą co najmniej 76,5%.

Kolejnym przedmiotem wynalazku jest zastosowanie wyżej określonego wyrobu powlekanego do wytwarzania okna.

[0008] Figura 1 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego z poza zakresu niniejszego wynalazku, jak to ujawniono w opisie patentowym US 6,576,349.

[0009] Figura 2 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego według sposobu wykonania zgodnie z wynalazkiem.

[0010] Figura 3 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego według innego sposobu wykonania zgodnie z wynalazkiem.

[0011] Figura 4 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego według innego sposobu wykonania zgodnie z wynalazkiem.

[0012] Figura 5 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego według innego sposobu wykonania zgodnie z wynalazkiem.

[0013] Figura 6 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego według innego sposobu wykonania zgodnie z wynalazkiem.

PL 203 913 B1

[0014] Figura 7 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego według innego sposobu wykonania zgodnie z wynalazkiem.

[0015] Figura 8 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego z poza zakresu niniejszego wynalazku.

[0016] Figura 9 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego z poza zakresu niniejszego wynalazku.

[0017] Figura 10 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego z poza zakresu niniejszego wynalazku.

[0018] Figura 11 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego z poza zakresu niniejszego wynalazku.

[0019] Figura 12 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego z poza zakresu niniejszego wynalazku.

[0020] Figura 13 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego z poza zakresu niniejszego wynalazku.

[0021] Figura 14 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego z poza zakresu niniejszego wynalazku.

[0022] Figura 15 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego z poza zakresu niniejszego wynalazku.

[0023] Figura 16 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego z poza zakresu niniejszego wynalazku.

[0024] Figura 17 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego z poza zakresu niniejszego wynalazku.

Szczegółowy opis przykładowych sposobów wykonania wynalazku

[0025] Wynalazek dotyczy wyrobów powlekanych, których można używać w zastosowaniach takich jak (ale bez ograniczania tylko do nich) okienne szyby zespolone izolacyjne (IG), okna monolityczne, okna świetlikowe i/lub inne typy okien. Wyroby powlekane według wynalazku obejmują polepszony przeciwodblaskowy system warstwowy przeznaczony do zmniejszania odbicia światła i/lub zwiększania transmisji światła w wyrobach powlekanych, zapewniających funkcjonalność kontroli promieniowania słonecznego (na przykład, odbicia IR i/lub UV). Nieoczekiwanie, w niektórych przykładowych wykonaniach wynalazku stwierdzono, że pewne przeciwodblaskowe systemy warstwowe według wynalazku mogą zarówno: (a) polepszać transmisję światła i/lub zmniejszać odbicie światła, jak i (b) zapewniać uzyskiwanie barwy achromatycznej wytworzonego wyrobu powlekanego.

[0026] Figura 2 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego według jednego z wykonań wynalazku. Wyrobu powlekanego pokazanego na fig. 2, podobnie jak wszystkich innych opisywanych tu wyrobów powlekanych, można używać w jakimkolwiek ze wspomnianych powyżej zastosowań (na przykład do okien w budynkach itd.). Wyrób powlekany pokazany na fig. 2 obejmuje następujące warstwy, od podłoża szklanego do warstwy zewnętrznej (wszystkie współczynniki załamania światła „n” przy 550 nm):

szkło (n = 1,51) tlenek tytanu (na przykład TiO2) (n = 2,1 - 2,7, korzystnie n = 2,4 - 2,65) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx) tlenek tytanu (na przykład TiO2) (n = 2,1 - 2,7, korzystnie n = 2,4 - 2,65) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1,8 - 2,2, korzystnie n = 2,0) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx) tlenek tytanu (na przykład TiO2) (n = 2,1 - 2,7, korzystnie n = 2,4 - 2,65) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1,8 - 2,2, korzystnie n = 2,0) tlenek krzemu (na przykład SiO2) (n = 1,4 - 1,7, korzystnie n = 1,45) powietrze (n = 1,0).

[0027] Jak to pokazano na fig. 2, warstwy kontaktowe (to znaczy NiCrOx) otaczają warstwy złożone z Ag odbijające IR, z którymi się kontaktują. Stosowane tu warstwy NiCrOx nazwane są warstwami „kontaktowymi”, ponieważ każda z nich kontaktuje się z warstwą odbijającą IR (to znaczy warstwą Ag). Warstwy kontaktowe NiCrOx zapewniają najbardziej zgodną z potrzebą ochronę warstwy

PL 203 913 B1

Ag, a także służą jako warstwy adhezyjne i/lub nukleacyjne. Warstwy kontaktowe mogą, ewentualnie, być stopniowane pod względem utlenienia, jak to opisano w publikacji US 6,576,349, w rozmaitych wykonaniach wynalazku. Ponadto, zamiast z NiCrOx, jedna, lub większa ilość warstw kontaktowych może być wykonana z innych materiałów, jak (ale bez ograniczania się tylko do nich) NiCr, NiCrNx, NiCrOxNy, ZnO, Al2O3, TiO2, ZnAlOx, Ni, Cr, CrNx, NiOx, NbOx, jakiekolwiek ich kombinacje i/lub tym podobne. Poza tym, w każdym wykonaniu przedstawionym w niniejszym opisie, materiały takie jak tlenek tytanu czy tlenek niobu mogą także służyć jak górne warstwy kontaktowe (to znaczy znajdujące się ponad warstwą (warstwami Ag), oprócz zawartych w nich dielektryków. Przykładowe grubości warstw kontaktowych i innych warstw tu opisywanych omówiono powyżej. Powyższe uwagi odnoszą się do warstw kontaktowych pokazanych na fig. 1-17 przedstawiających poszczególne sposoby wykonania wynalazku oraz z poza zakresu wynalazku.

[0028] Zamiast Ag, można tu użyć innych materiałów metalicznych odbijających IR (na przykład Au, stopów Ag, stopów Au itd.) (odnosi się to do pokazanych na fig. 1 - 17 sposobów wykonania wynalazku oraz z poza jego zakresu). Grubość metalicznych warstw Ag (warstw odbijających IR) dobiera się w celu uzyskania pożądanej efektywności termicznej (patrz: przykładowe zakresy grubości podane powyżej). I tak, na przykład, warstwa Ag może mieć grubość mieszczącą się w zakresie od około

5x10^-3-2,5x10^-2 μm (50 do 250 A), w celu uzyskania rezystancji powierzchniowej (R_s) (przed i/lub po obróbce cieplnej) mniejszej od, lub równej, 10,0 oma/kwadrat (w dalszej części tekstu oma/. ), korzystniej mniejszej od, lub równej, 8,0 oma/., jeszcze korzystniej mniejszej od, lub równej, 5,0 oma/. i najkorzystniej mniejszej od, lub równej, 4,0 oma/.. W podobny sposób grubość (grubości) warstwy (warstw) Ag dobiera się tak, aby powłoka (wyrób powlekany) wykazywał emisyjność normalną (En) nie większą niż 0,08, korzystniej nie większą niż z 0,006, najkorzystniej nie większą niż 0,05 (przed i/lub po obróbce cieplnej). Wspomniane powyżej właściwości dotyczące emisyjności i rezystancji odnoszą się do pokazanych na fig. 1 - 17 sposobów wykonania wynalazku).

[0029] Powłoki zawierające warstwy odbijające IR i kontaktowe z fig. 2 (oraz powłoki z fig. 3-17), zostały omówione w publikacji US 6,576,349 i dla uproszczenia nie omawiano ich już w opisie. W odniesieniu do tego patrz: grubości/materiały opisane w podanym opisie patentowym nr US 6,576,349. Niniejszy opis skupia się na zapewnieniu warstw dielektrycznych stosowanych w celu: (a) zwiększenia transmisji światła, (b) zmniejszeniu odbicia światła (na przykład od strony szkła) oraz (c) zapewnieniu uzyskania barwy achromatycznej. W szczególności, co się tyczy sposobu wykonania pokazanego na fig. 2, poniżej uwidoczniono, że warstwy dielektryczne tam użyte dają (w porównaniu z fig. 1) znaczące zwiększenie transmisji światła połączone ze zmniejszeniem odbicia światła (od strony szkła i/lub powłoki). Jest to skutek dobroczynny.

[0030] Jak można zobaczyć, sposób wykonania wynalazku pokazany na fig. 2 różni się od sposobu pokazanego na fig. 1 tym, że: (a) dolna warstwa złożona z azotku krzemu z fig. 1 została usunięta, (b) w części M dodana została warstwa złożona z tlenku tytanu, (c) usunięta została środkowa warstwa złożona z azotku krzemu z fig. 1, (d) do górnej części T powłoki z fig. 2 zostały dodane warstwy złożone z tlenku tytanu i z tlenku krzemu i (e) usunięta została górna warstwa złożona z azotku krzemu z fig. 1. Dzięki użyciu tlenku krzemu (to znaczy stechiometrycznego SiO2 lub, alternatywnie, postaci niestechiometrycznej) nad górną warstwą złożoną z tlenku cyny, a także wykorzystaniu warstw złożonych z tlenku tytanu (to znaczy stechiometrycznego TiO2 lub, alternatywnie, postaci niestechiometrycznej, takiej jak TiO1,50-1,99), jak to objaśniono na rysunku, powłokę (system warstw) można scharakteryzować przez górną dielektryczną część T wykazującą wartość efektywnego współczynnika załamania światła n mniejszą od wartości takiegoż współczynnika wykazywanego przez środkową część dielektryczną M, która z kolei wykazuje efektywny współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika wykazywanego przez dolną część B (patrz: fig. 2). Mówiąc inaczej, nT < nM < nB, przy czym: nT oznacza efektywny współczynnik załamania światła górnej części dielektrycznej T, nM oznacza efektywny współczynnik załamania światła środkowej części dielektrycznej M i nB oznacza efektywny współczynnik załamania światła dolnej części dielektrycznej B („efektywny” współczynnik można wyliczyć jako średnią ważoną części, albo dowolną inną właściwą techniką/metodą). Jak to pokazano na fig. 2, każda z wymienionych dielektrycznych części, górna, środkowa i dolna, odpowiednio T, M i B, może obejmować cały szereg różnych warstw dielektrycznych, aczkolwiek w alternatywnych sposobach wykonania wynalazku dowolna z tych części, albo wszystkie wymagają obecności jedynie pojedynczej warstwy dielektrycznej.

[0031] Przez stopniowe obniżanie wartości odnośnych efektywnych współczynników załamania światła „n” zaczynając od najgłębszej lub dolnej dielektrycznej części B, do środkowej dielektrycznej

PL 203 913 B1 części M i aż do górnej dielektrycznej części T aż do warstwy zewnętrznej, przeciwodblaskowy system pokazany na fig. 2 umożliwia uzyskanie zwiększonej transmisji światła i/lub zmniejszenie odbicia światła. Nieoczekiwanie stwierdzono, że (jak będzie to pokazane poniżej w przykładach dotyczących tego sposobu wykonania wynalazku) system przeciwodblaskowy umożliwia także uzyskanie rzeczywiście achromatycznej barwy wyrobu powlekanego. Ponadto, w pewnych przykładowych sposobach wykonania wynalazku, nT <= 2,0. Grubość opisywanych tu warstw złożonych z tlenku krzemu może mieścić się w zakresie od około 10^-3-7x10^-2 μm (10 do 700 A) w niektórych sposobach wykonania wynalazku, korzystniej w zakresie od 2x10^-3-6x10^-2 μm (20 do 600 A) i najkorzystniej od 5x10^-3-5x10^-2 μm (50 do 500 A). Grubość opisywanych tu górnych warstw złożonych z tlenku cyny (to znaczy w górnej części T nad górną warstwą odbijającą IR) może mieścić się w zakresie od około 10^-3-7x10^-2 μm (10 do 700 A) w niektórych sposobach wykonania wynalazku, korzystniej w zakresie od 2x10^-3-6x10^-2 μm (20 do 600 A) i najkorzystniej od 4x10^-3-4x10^-2 μm (40 do 400 A). Grubość opisywanych tu górnych warstw złożonych z tlenku tytanu (to znaczy w górnej części T nad górną warstwą odbijającą IR) może mieścić się w zakresie od około 10^-3-5x10^-2 μm (10 do 500 A) w niektórych sposobach wykonania wynalazku, korzystniej w zakresie od 4x10^-3-3x10^-2 μm (40 do 300 A). Grubość opisywanych tu środkowych warstw złożonych z tlenku tytanu (to znaczy w środkowej części M między warstwami odbijającymi IR) może mieścić się w zakresie od około 10^-3-9x10^-2 μm (10 do 900 A) w niektórych sposobach wykonania wynalazku, korzystniej w zakresie od 5x10^-3-7x10^-2 μm (50 do 700 A). Grubość opisywanych tu dolnych warstw złożonych z tlenku tytanu (to znaczy w dolnej części B poniżej niższej warstwy odbijającej IR) może wynosić tyle, ile podano w publikacji US 6,576,349.

[0032] Tak, jak w przypadku wszystkich omawianych tu sposobów wykonania wynalazku, objaśnione na figurach warstwy są osadzane/tworzone metodą napylania (katodowego) (patrz przykłady zamieszczone w publikacji US 6,576,349), aczkolwiek w alternatywnych sposobach wykonania wynalazku można z pewnością posłużyć się innymi technikami osadzania.

Przykład (przykłady) sposobu wykonania wynalazku pokazanego na fig. 2.

[0033] Poniższe tabele objaśniają przykład 1 sposobu wykonania wynalazku pokazanego na fig. 2, który należy porównać z przykładem porównawczym (przykładami porównawczymi) (CE) podobnymi do fig. 1 niniejszego zgłoszenia. I tak, CE dotyczy powłoki, która jest podobna do powłoki zilustrowanej w publikacji US 6,576,349. W przypadku opisywanych przykładów symulacyjnych, przyjęto następujące współczynniki załamania światła przy 550 nm: dla szkła, n = 1,51, dla Si3N4, n = 2,0; dla SiOxNy, n = 1,72; dla SiO2, n = 1,45; dla SnO2, n = 2,0; dla Nb2O5, n = 2,33; dla SiZrNx, n = 2,32; oraz dla TiO2, n = 2,57 (uwaga: we wszystkich opisywanych symulacjach przyjęto użycie tlenku tytanu w przybliżeniu stechiometrycznego). Grubość każdej warstwy przytoczonej w poniższej tabeli 1 podana jest w mikrometrach (μ^ι) i w angstremach (A). W poniższej tabeli 2 przedstawiono charakterystykę optyczną (na przykład transmisję światła, barwę itp.) dla przykładu (przykładów) i CE ustaloną dla wyrobu, po wyżarzeniu i w postaci monolitycznej. Wszystkie podłoża szklane były takie same pod względem grubości i barwy. Łączny parametr dielektryczny sumuje po prostu ogólną grubość wszystkich warstw dielektrycznych obecnych w powłoce (to znaczy, nie obejmuje warstw złożonych z Ag lub NiCrOx).

[0034] Należy zauważyć, że w zamieszczonych tu przykładach i przykładach porównawczych (CE) użyto warstw złożonych z NiCrOx bardziej utlenionego niż stosowany w przykładach zamieszczonych w publikacji US 6,576,349 (wyjaśnia to, dlaczego wyroby wytworzone w przykładach porównawczych tu opisywanych wykazują transmisję światła wyższą od transmisji monolitycznych, nie poddanych obróbce cieplnej produktów z publikacji nr US 6,576,349). Jednakże, odmienność ta nie jest ważna, ponieważ zakłada się, że wszystkie warstwy złożone z NiCrOx tu stosowane mają ten sam poziom utlenienia tak, że porównania między CE i przykładami są zgodne. Należy także wziąć pod uwagę to, że przyjmuje się jednakowość współczynników dla wszystkich warstw złożonych z Ag i NiCrOx w przykładach i CE zamieszczonych w opisie. Jeżeli chodzi o efektywność optyczną (na przykład transmisję światła), każdy z parametrów podano w odniesieniu do obserwatora Ill.C,2 stopnie. W żadnym z podanych tu przykładów nie brano pod uwagę obróbki cieplnej.

PL 203 913 B1

T a b e l a p i e r w s z a : Struktura warstwy - grubość (sposób wykonania wynalazku pokazany na fig. 2)

	CE	Przykład 1
Szkło
TiO2	1,25x10'² μτ (125 A)	2,85x10'² μτ (285 A)
Si3N4	1,65x10'² μτ (165 A)	0 μτ (0 A)
NiCrOx	1,8x10'³ μτ (18 A)	1,8x10'³ μτ (18 A)
Ag	9,8x10'³ μτ (98 A)	9,8x10'³ μτ (98 A)
NiCrO_x	1,6x10'³ μτ (16 A)	1,6x10^-3 μτ (16 A)
TiO2	0 μτ (0 A)	6,15x10^-2 μτ (615 A)
SnO2	6,72x10^-2 μτ (672 A)	7x10^-4 μτ (7 A)
Si3N4	1,65x10'² μτ (165 A)	0 μτ (0 A)
NiCrOx	1,8x10'³ μτ (18 A)	1,8x10^-3 μτ (18 A)
Ag	9,8x10'³ μτ (98 A)	9,8x10'³ μτ (98 A)
NiCrOx	1,6x10'³ μτ (16 A)	1,6x10^-3 μτ (16 A)
TiO2	0 μτ (0 A)	2,3x10^-2 μτ (230 A)
SnO₂	2,27x10^-2 μτ (227 A)	4,5x10^-3 μτ (45 A)
Si3N4	2,52x10^-2 μτ (252 A)	0 μτ (0 A)
SiO_xNy	0 μτ (0 A)	0 μτ (0 μ)
SiO2	0 μτ (0 A)	3,8x10^-2 μτ (380 A)
Łączna grubość warstw dielektrycznych:	16,06x10'² μτ (1606 A)	15,62x10^-2 μτ (1562 A)

T a b e l a d r u g a: Efektywność optyczna (sposób wykonania wynalazku pokazany na fig. 2; wyrób monolityczny).

	^Tvis	O* a t	b*t	^R(g)	^a*g	b* ^b g	^R(f)	o* a f	b*f
P. 1:	79,2%	-0,7	-0,8	4,7%	4,6	-4,9	3,8%	3,3	-2,3
CE:	75,5%	-2,1	0,2	5,9%	9,2	-10,6	5,2%	3,2	-1,0

Uwaga. W powyższej tabeli drugiej (i w analogicznych tabelach następnych) użyto następujących oznaczeń: Tvis = transmisja światła P. 1 = przykład 1 (g) = od strony szkła (f) = od strony powłoki

Tsolar = transmisja promieniowania słonecznego.

[0035] Z powyższych tabel, w odniesieniu do sposobu wykonania niniejszego wynalazku pokazanego na fig. 2, widać, że system odblaskowy według wynalazku umożliwia nie tylko lepszą charakterystykę transmisji światła (to znaczy podwyższony % transmisji Tvis, Ill.C,2 stopnia), ale także zmniejszone odbicie (to znaczy mniejsze odbicie od strony szkła i/lub odbicie od strony powłoki). Ponadto, uzyskuje się rzeczywiście achromatyczną barwę transmisyjną. Nieoczekiwanie, jak można to zobaczyć, sposób wykonania wynalazku pokazany na fig. 2 zapewnia barwę bardziej achromatyczną (na przykład, transmisyjną a* i odbijającą od strony szkła) niż jest to możliwe w przypadku CE. W szczególności, sposób z przykładu 1 (patrz: fig. 2) daje lepszą transmisję światła (wyższa wartość Tvis) i lepsze odbicie od strony szkła lub od strony powłoki (niższe wartości Rg i/lub Rf), oraz bardziej achromatyczną barwę transmisyjną a*, odbijającą od strony szkła a*, b*, niż barwy uzyskiwane w przykł adzie porównawczym (CE).

[0036] Figura 3 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego otrzymanego według innego sposobu wykonania niniejszego wynalazku. Sposób wykonania wynalazku pokazany na

PL 203 913 B1 fig. 3 różni się od sposobu pokazanego na fig. 2 tym, że górna część dielektryczna T zawiera tylko warstwę azotku krzemu [stechiometryczny Si3N4, albo, alternatywnie, niestechiometryczna postać azotku krzemu, taka jak (ale bez ograniczania tylko do niej) postać o dużej zawartości Si]. Sposób wykonania pokazany na fig. 3 różni się od sposobu pokazanego na fig. 1 (to znaczy od CE) tym, że (a) została usunięta dolna warstwa złożona z azotku krzemu, występująca w sposobie wykonania pokazanym na fig. 1, (b) w części środkowej M została dodana warstwa złożona z tlenku tytanu, (c) została usunięta środkowa warstwa złożona z azotku krzemu, występująca w sposobie wykonania pokazanym na fig. 1, oraz (d) została usunięta górna warstwa złożona z tlenku cyny, występująca w sposobie wykonania pokazanym na fig. 1. Tak jak w przypadku wszystkich innych sposobów wykonania wynalazku tu opisywanych, w których stosuje się tlenek tytanu, jeżeli nie podano inaczej, tlenek tytanu może stanowić stechiometryczny TiO2, albo, alternatywnie, może być niestechiometryczny, taki jak TiO1,50-1,99. Podobnie, jak w przypadku wszystkich innych sposobów wykonania wynalazku tu opisywanych, w których stosuje się azotek krzemu, jeżeli tego inaczej nie zaznaczono, azotek krzemu może być stechiometryczny (Si3N4), albo niestechiometryczny (na przykład o dużej zawartości Si). Wyrób powlekany z fig. 3 obejmuje, od podłoża szklanego do warstwy zewnętrznej (wszystkie współczynniki n przy 550 nm):

szkło (n = 1,51) tlenek tytanu (na przykład TiO2) (n = 2,1 - 2,7, korzystnie n = 2,4 - 2,65) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx) tlenek tytanu (na przykład TiO2) (n = 2,1 - 2,7, korzystnie n = 2,4 - 2,65) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1,8 do 2,2, korzystnie n = 2,0) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx) azotek krzemu (na przykład Si3N4) (n = 1,8 - 2,0, korzystnie n = 2,0) powietrze (n = 1,0).

[0037] Dzięki użyciu azotku krzemu ponad górną warstwą kontaktową w górnej części dielektrycznej T i wyższemu współczynnikowi tlenku tytanu w części środkowej M i części dolnej B (z rozcieńczeniem tlenkiem cyny w części środkowej M), system warstw można scharakteryzować przez górną dielektryczną część T wykazującą efektywny współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika środkowej części dielektrycznej M, która z kolei wykazuje współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika wykazywanego przez dolną część B. Mówiąc inaczej, nT < nM < nB, przy czym: nT oznacza efektywny współczynnik załamania światła górnej części dielektrycznej T (to znaczy warstwy złożonej z azotku krzemu w tym sposobie wykonania wynalazku), nM oznacza efektywny współczynnik załamania światła środkowej części dielektrycznej M (to znaczy warstwy złożonej z tlenku cyny w tym sposobie wykonania wynalazku) i nB oznacza efektywny współczynnik załamania światła dolnej części dielektrycznej B (to znaczy warstwy złożonej z tlenku tytanu w tym sposobie wykonania wynalazku). Każ da z wymienionych dielektrycznych cz ęści, górna, ś rodkowa i dolna, odpowiednio T, M i B, może obejmować cały szereg różnych warstw dielektrycznych, aczkolwiek w alternatywnych sposobach wykonania wynalazku dowolna z tych części, albo wszystkie te części wymagają obecności jedynie pojedynczej warstwy dielektrycznej (na przykład, części B i T w sposobie wykonania pokazanym na fig. 3). Przez stopniowe obniż anie wartoś ci odnoś nych efektywnych współczynników załamania światła „n” zaczynając od najgłębszej lub dolnej dielektrycznej części B, do środkowej dielektrycznej części M i aż do górnej dielektrycznej części T w kierunku powietrza, przeciwodblaskowy system pokazany na fig. 3 umożliwia uzyskanie zwiększonej transmisji światła. Termin „efektywny” oznacza ogólny efektywny współczynnik „n” w poszczególnych częściach B, T lub M, niezależnie od tego, jak wiele warstw dielektrycznych tam się znajduje. W przykładowych sposobach wykonania wynalazku, system przeciwodblaskowy może umożliwić uzyskanie rzeczywiście achromatycznej barwy wyrobu powlekanego. System przeciwodblaskowy umożliwia także całkowite uzyskanie barwy achromatycznej wyrobu powlekanego. W pewnych przykładowych sposobach wykonania niniejszego wynalazku, grubość warstwy złożonej z azotku krzemu w części T może mieścić się w zakresie od około 10^-3-9x10^-2 μm (10 do 900 A), korzystniej w zakresie od 2x10^-3-6x10^-2 μm (20 do 600 A) i najkorzystniej od 5x10^-3-2,5x10^-2 μm (50 do 500 A).

PL 203 913 B1

Przykład (przykłady) sposobu wykonania wynalazku pokazanego na fig. 3.

[0038] Poniższe tabele objaśniają przykład 1 sposobu wykonania wynalazku pokazanego na fig. 3, w porównaniu z przykładem porównawczym (przykładami porównawczymi) (CE) podobnym (podobnymi) do przykładu pokazanego na fig. 1 niniejszego zgłoszenia patentowego. I tak, CE odnosi się do powłoki podobnej do powłoki przedstawionej w publikacji US 6,576,349. Grubość każdej warstwy przytoczonej w tabeli pierwszej podano w mikrometrach (pm) i angstremach (A). Poniższa tabela druga przedstawia charakterystykę optyczną (na przykład transmisję, barwę itd.) odnoszącą się do wyrobu według przykładu 1 i CE, po wyżarzeniu i w postaci monolitycznej.

T a b e l a p i e r w s z a: Struktura warstwy - grubość (sposób wykonania wynalazku pokazany na fig. 3)

	CE	Przykład 1
Szkło
TiO2	1.25x10' pm (125 A)	2.76x10 ² pm (276 A)
S13N4	1.65x10^-2 pm (165 A)	0 pm (0 A)
NiCrO_x	1.8x10 ³ pm (18 A)	1.8x10³ pm (18 A)
Ag	9.8x10 ³ pm (98 A)	9.8x10³ pm (98 A)
NiCrOx	1.6x10^-3 pm (16 A)	1.6x10³ pm (16 A)
TiO2	0 pm (0 A)	4.96x10 ² pm (496 A)
SnO2	6.72x10' pm (672 A)	1.12x10² pm (112 A)
Si3N4	1,65x10 pm (165 A)	0 pm (0 A)
NiCrOx	1.8x10^-3 pm (18 A)	1.8x10 ³ pm (18 A)
Ag	9.8x10 ³ um (98 A)	9.8x10 ³ pm (98 A)
NiCrO_x	1.6x10 ³ pm (16 A)	1.6x10 ³ pm (16 A)
TiO2	0 pm (0 A)	0 pm (0 A)
SnO2	2.27x10 pm (227 A)	0 pm (0 A)
Si3N4	2.52x10 pm (252 A)	4.2x10 ² pm (420 A)
SiO_XNy	0 pm (0 A)	0 pm (0 A)
SiO2	0 pm (0 A)	0 pm (0 A)
Łączna grubość warstw dielektrycznych:	16.06x10² pm (1606 A)	13.04x10² pm (1304 A)

T a b e l a d r u g a: Efektywność optyczna (sposób wykonania wynalazku pokazany na fig. 3; wyrób monolityczny).

	^Tvis	0* a t	b*t	^R(g)	^a*g	b* ^b g	^R(f)	0* a f	b*f
P. 1:	78.8%	-0.8	-0.4	4.5%	3.9	-5.0	3.3%	3.3	-2.3
CE:	75.5%	-2.1	0.2	5.9%	9.2	-10.6	5.2%	3.2	-1.0

[0039] Z powyższych tabel, w odniesieniu do sposobu wykonania wynalazku pokazanego na fig. 3, widać, że system odblaskowy według wynalazku umożliwia uzyskanie nie tylko lepszej charakterystyki transmisji światła (to znaczy podwyższony % transmisji Tvis), ale także zmniejszenie odbicia (to znaczy mniejsze odbicie od strony szkła i/lub odbicie światła od strony powłoki). W szczególności, sposób według przykładu 1 (patrz: fig. 3) daje lepszą transmisję światła (wyższą wartość Tvis) i lepsze odbicie od strony szkła i/lub od strony powłoki (niższe wartości Rg i/lub Rf), niż jest to możliwe w przypadku przykładu porównawczego (CE - patrz: fig. 1). Nieoczekiwanie, sposób wykonania wynalazku

PL 203 913 B1 według przykładu 1 zapewnia barwę bardziej achromatyczną niż jest to możliwe w przypadku CE (w odniesieniu do transmisyjnej a* i, zwłaszcza, w odniesieniu do odbijających od strony szkła a*, b*).

[0040] Figura 4 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego według innego sposobu wykonania wynalazku. Sposób wykonania wynalazku pokazany na fig. 4 różni się od sposobu pokazanego na fig. 2 tym, że w dolnej dielektrycznej części B, między niższą warstwą kontaktową a warstwą złożoną z tlenku tytanu, dodana została dodatkowa warstwa złożona z azotku krzemu. Termin „między” stosowany w opisie w celu stwierdzenia, że warstwa znajduje się (warstwy znajdują się) „między” warstwami x a y, nie oznacza, że warstwa kontaktuje się (warstwy kontaktują się) z warstwą x lub warstwą y, ale oznacza tylko to, że warstwa znajduje się (warstwy znajdują się) pomiędzy warstwami x a y, bez względu na to, czy także inna warstwa znajduje się (inne warstwy znajdują się) między warstwami x a y. Wyrób powlekany pokazany na fig. 4 obejmuje następujące warstwy, od podłoża szklanego do warstwy zewnętrznej (wszystkie współczynniki „n” przy 550 nm):

szkło (n = 1,51) tlenek tytanu (na przykład TiO2) (n = 2,1 - 2,7, korzystnie n = 2,4 - 2,65) azotek krzemu (na przykład Si3N4) (n = 1,8 do 2,0, korzystnie n = 2,0) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx) tlenek tytanu (na przykład TiO2) (n = 2,1 - 2,7, korzystnie n = 2,4 - 2,65) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1,8 - 2,2, korzystnie n = 2,0) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx) tlenek tytanu (na przykład TiO2) (n = 2,1 - 2,7, korzystnie n = 2,4 - 2,65) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1,8 - 2,2, korzystnie n = 2,0) tlenek krzemu (na przykład SiO2) (n = 1,4 - 1,7, korzystnie n = 1,45) powietrze (n = 1,0).

[0041] W wyniku zastosowania warstw dielektrycznych złożonych z tlenku krzemu, tlenku cyny, tlenku tytanu i azotku krzemu, jak to przedstawiono w omawianym tu sposobie wykonania wynalazku, układ warstw można scharakteryzować przez górną dielektryczną część T wykazującą efektywny współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika środkowej części dielektrycznej M, która z kolei wykazuje współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika wykazywanego przez dolną dielektryczną część B. Innymi słowy, nT < nM < nB, przy czym: nT oznacza efektywny współczynnik załamania światła górnej części dielektrycznej T, nM oznacza efektywny współczynnik załamania światła środkowej części dielektrycznej M i nB oznacza efektywny współczynnik załamania światła dolnej części dielektrycznej B. Każda z wymienionych dielektrycznych części, górna, środkowa i dolna, odpowiednio T, M i B, może obejmować cały szereg różnych warstw dielektrycznych, aczkolwiek w alternatywnych sposobach wykonania wynalazku dowolna z tych części, albo wszystkie te części wymagają obecności jedynie pojedynczej warstwy dielektrycznej. Przez stopniowe obniżanie wartości odnośnych efektywnych współczynników załamania światła „n” zaczynając od najgłębszej lub dolnej dielektrycznej części B, do środkowej dielektrycznej części M i do górnej dielektrycznej części T w kierunku powietrza, przeciwodblaskowy system przedstawiony w omawianym tu sposobie wykonania wynalazku umożliwia uzyskanie zwiększonej transmisji światła. Termin „efektywny” oznacza ogólny efektywny współczynnik „n” w poszczególnych częściach B, T lub M, niezależnie od tego, jak wiele warstw dielektrycznych tam się znajduje. Nieoczekiwanie, w pewnych przykładowych sposobach wykonania wynalazku, system przeciwodblaskowy może umożliwić uzyskanie rzeczywiście achromatycznej barwy wyrobu powlekanego.

Przykład (przykłady) sposobu wykonania wynalazku pokazanego na fig. 4.

[0042] Poniższe tabele objaśniają sposoby 1-4 wykonania wynalazku pokazane na fig. 4, w porównaniu z przykładem porównawczym (przykładami porównawczymi) (CE) podobnym (podobnymi) do przykładu pokazanego na fig. 1 niniejszego zgłoszenia patentowego. I tak, CE odnosi się do powłoki podobnej do powłoki przedstawionej w publikacji US 6,576,349. Grubość każdej warstwy przytoczonej w tabeli pierwszej podano w mikrometrach ^m) i w angstremach (A). Poniższa tabela druga przedstawia charakterystykę optyczną (na przykład transmisję, barwę itd.) odnoszącą się do wyrobu według przykładów 1 - 4 i CE, po wyżarzeniu i w postaci monolitycznej.

PL 203 913 B1

T a b e l a p i e r w s z a: Struktura warstwy - grubość (sposób wykonania wynalazku pokazany na fig. 4)

	CE	P.1	P.2	P.3	P.4
Szkło
TiO2	1,25x10^-2 μτ (125 A)	1,25x10^-2 μτ (125 A)	2,69x10^-2 μτ (269 A)	2,3x10^-2 μτ (230 A)	1,25x10^-2 μτ (125 A)
Si3N4	1,65x10^-2 μτ (165 A)	1,99x10^-2 μτ (199 A)	5,4x10^-3 μτ (54 A)	6x10^-3 μτ (60 A)	1,98x10^-2 μτ (198 A)
NiCrO_x	1,8x10^-3 μτ (18 A)	1,8x10^-3 μτ (18 A)	1,8x10^-3 μτ (18 A)	1,8x10^-3 μτ (18 A)	1,8x10^-3 μτ (18 A)
Ag	9,8x10^-3 μτ (98 A)	9,8x10^-3 μτ (98 A)	9,8x10^-3 μτ (98 A)	9,8x10^-3 μτ (98 A)	9,8x10^-3 μτ (98 A)
NiCrO_x	1,6x10^-3 μτ (16 A)	1,6x10^-3 μτ (16 A)	1,6x10^-3 μτ (16 A)	1,6x10^-3 μτ (16 A)	1,6x10^-3 μτ (16 A)
TiO2	0 μτ (0 A)	4,81x10^-2 μτ (481 A)	2,19x10^-2 μτ (219 A)	1,2x10^-2 μτ (120 A)	1,2x10^-2 μτ (120 A)
SnO₂	6,72x10^-3 μτ (672 A)	1,13x10^-3 μτ (113 A)	7,1x10^-3 μτ (710 A)	8,37x10^-3 μτ (837 A)	7,82x10^-3 μτ (782 A)
Si3N4	1,65x10^-2 μτ (165 A)	0 μτ (0 A)	0 μτ (0 A)	0 μτ (0 A)	0 μτ (0 A)
NiCrO_x	1,8x10^-3 μτ (18 A)	1,8x10^-3 μτ (18 A)	1,8x10^-3 μτ (18 A)	1,8x10^-3 μτ (18 A)	1,8x10^-3 μτ (18 A)
Ag	9,8x10^-3 μτ (98 A)	9,8x10^-3 μτ (98 A)	9,8x10^-3 μτ (98 A)	9,8x10^-3 μτ (98 A)	9,8x10^-3 μτ (98 A)
NiCrO_x	1,6x10^-3 μτ (16 A)	1,6x10^-3 μτ (16 A)	1,6x10^-3 μτ (16 A)	1,6x10^-3 μτ (16 A)	1,6x10^-3 μτ (16 A)
TiO₂	0 μτ (0 A)	2,1x10^-2 μτ (210 A)	1,81x10^-2 μτ (181 A)	1,9x10^-2 μτ (190 A)	1,9x10^-2 μτ (190 A)
SnO₂	2,27x10^-2 μτ (227 A)	3,4x10^-3 μτ (34 A)	3,2x10^-3 μτ (32 A)	3,2x10^-3 μτ (32 A)	10^-3 μτ (10 A)
Si3N4	2,52x10^-2 μτ (252 A)	0 μτ (0 A)	0 μτ (0 A)	0 μτ (0 A)	0 μτ (0 A)
SiOxNy	0 μτ (0 A)	0 μτ (0 A)	0 μτ (0 A)	0 μτ (0 A)	0 μτ (0 A)
SiO2	0 μτ (0 A)	4,04x10^-2 μτ (404 A)	3,34x10^-2 μτ (334 A)	3,73x10^-2 μτ (373 A)	4,35x10^-2 μτ (435 A)
Łączna	16,06x10^-2 μτ	15,66x10^-2 μτ	17,99x10^-2 μτ	18,42x10^-2 μτ	18,60x10^-2 μτ
grubość warstw dielektrycz- nych:	(1606 A)	(1566 A)	(1799 A)	(1842 A)	(1860 A)

T a b e l a d r u g a: Efektywność optyczna (sposób wykonania wynalazku pokazany na fig. 4; wyrób ^no^yczny).

	^Tvis	a*t	b*t	^R(g)	^a*g	h* ^b g	^R(f)	a*f	b*f
P. 1:	78,3%	-1,5	-0,1	5,0%	9,1	-7,1	3,9%	3,8	-2,4
P. 2	78,2%	-1,7	0,9	4,5%	7,6	-11,9	4,1%	0,6	-3,5
P. 3	78,1%	-1,6	0,6	4,5%	5,1	-9,4	4,0%	2,3	-3,0
P. 4	77,8%	-2,1	1,2	4,5%	9,2	-12,4	3,9%	3,9	-2,4
CE:	75,5%	-2,1	0,2	5,9%	9,2	-10,6	5,2%	3,2	-1,0

[0043] Z powyższych tabel, w odniesieniu do sposobu wykonania wynalazku pokazanego na fig. 4, widać, że systeτ odblaskowy według wynalazku u^żliwia uzyskanie nie tylko lepszej charakterystyki trans^ji światła (to znaczy podwyższony % transτisji T_vis), ale także zτniejszenie odbicia (to znaczy Gejsze odbicie od strony szkła i/lub odbicie światła od strony powłoki). W szczególności, sposoby według przykładów 1 - 4 (patrz: fig. 4) dają lepszą transτisję światła (wyższą wartość T_vis) i lepsze odbicie od strony szkła i/lub od strony powłoki (niższe wartości R_g i/lub R_f), niż jest to ^żliwe w przypadku przykładu porównawczego (CE - patrz: fig. 1). Nieoczekiwanie, ten sposób (sposoby) wykonania wynalazku według przykładu 1 zapewnia (zapewniają) uzyskanie barwy rzeczywiście achroτatycznej.

PL 203 913 B1

[0044] Figura 5 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego według innego sposobu wykonania wynalazku. Sposób wykonania wynalazku pokazany na fig. 5 różni się od sposobu pokazanego na fig. 3 tym, że w dolnej dielektrycznej części B, między niższą warstwą kontaktową a warstwą złożoną z tlenku tytanu, dodana została dodatkowa warstwa złożona z azotku krzemu, oraz tym, że w górnej dielektrycznej części T, nad warstwą złożoną z azotku krzemu, została dodana warstwa złożona z tlenku krzemu. Wyrób powlekany pokazany na fig. 5 obejmuje następujące warstwy, od podłoża szklanego do warstwy zewnętrznej (wszystkie współczynniki „n” przy 550 nm):

szkło (n = 1,51) tlenek tytanu (na przykład TiO2) (n = 2,1 - 2,7, korzystnie n = 2,4 - 2,65) azotek krzemu (na przykład Si3N4) (n = 1,8 do 2,0, korzystnie n = 2,0) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx) tlenek tytanu (na przykład TiO2) (n = 2,1 - 2,7, korzystnie n = 2,4 - 2,65) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1,8 - 2,2, korzystnie n = 2,0) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx) azotek krzemu (na przykład Si3N4) (n = 1,8 do 2,0, korzystnie n = 2,0) tlenek krzemu (na przykład SiO2) (n = 1,4 - 1,7, korzystnie n = 1,45) powietrze (n = 1,0).

[0045] W wyniku zastosowania warstw dielektrycznych złożonych z tlenku krzemu, tlenku cyny, tlenku tytanu i azotku krzemu, jak to przedstawiono w omawianym tu sposobie wykonania wynalazku, układ warstw można scharakteryzować przez górną dielektryczną część T wykazującą efektywny współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika środkowej części dielektrycznej M, która z kolei wykazuje współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika wykazywanego przez dolną część B, albo jemu równy. Innymi słowy, nT < nM <= nB, przy czym: nT oznacza efektywny współczynnik załamania światła górnej części dielektrycznej T, nM oznacza efektywny współczynnik załamania światła środkowej części dielektrycznej M i nB oznacza efektywny współczynnik załamania światła dolnej części dielektrycznej B. Każda z wymienionych dielektrycznych części, górna, środkowa i dolna, odpowiednio T, M i B, może obejmować cały szereg różnych warstw dielektrycznych, aczkolwiek w alternatywnych sposobach wykonania wynalazku dowolna z tych części, albo wszystkie te części wymagają obecności jedynie pojedynczej warstwy dielektrycznej. Przez stopniowe obniżanie wartości odnośnych efektywnych współczynników załamania światła „n” zaczynając od najgłębszej lub dolnej dielektrycznej części B, do środkowej dielektrycznej części M i aż do górnej dielektrycznej części T w kierunku powietrza, przeciwodblaskowy system przedstawiony w omawianym tu sposobie wykonania wynalazku umożliwia uzyskanie zwiększonej transmisji światła. Nieoczekiwanie, w pewnych przykładowych sposobach wykonania wynalazku, system przeciwodblaskowy może umożliwić uzyskanie rzeczywiście achromatycznej barwy wyrobu powlekanego.

Przykład (przykłady) sposobu wykonania wynalazku pokazanego na fig. 5.

[0046] Poniższe tabele objaśniają przykład 1 sposobu wykonania wynalazku pokazanego na fig. 5, w porównaniu z przykładem porównawczym (przykładami porównawczymi) (CE) podobnym (podobnymi) do przykładu pokazanego na fig. 1 niniejszego zgłoszenia patentowego. CE odnosi się do powłoki podobnej do powłoki przedstawionej w publikacji US 6,576,349. Grubość każdej warstwy przytoczonej w tabeli pierwszej podano w mikrometrach (pm) i w angstremach (A). Poniższa tabela druga przedstawia charakterystykę optyczną (na przykład transmisję, barwę itd.) odnoszącą się do wyrobu według przykładu 1 i CE, po wyżarzeniu i w postaci monolitycznej.

T a b e l a p i e r w s z a: Struktura warstwy - grubość (sposób wykonania wynalazku pokazany na fig. 5)

	CE	Przykład 1
1	2	3
Szkło
TiO2	1,25x10^-2 pm (125 A)	1,25x10^-2 pm (125 A)

PL 203 913 B1 cd. tabeli pierwszej

1	2	3
SI3N4	1,65x10^-2 μιτι (165 A)	1,96x10² μm (196 A)
NiCrO_x	1,8x10^-3 μm (18 A)	1,8x10 ³ μm (18 A)
Ag	9,8x10^-3 μm (98 A)	9,8x10 ³ μm (98 A)
NiCrOx	1,6x10^-3 μm (16 A)	1,6x10 ³ μm (16 A)
TiO	0 μm (0 A)	4,88x10² μm (488 A)
SnO2	6,72x10' μm (672 A)	9,1x10³ μm (91 A)
Si3N4	1,65x10^-2 μm (165 A)	0 μm (0 A)
NiCrOx	1,8x10^-3 μm (18 A)	1,8x10 ³ μm (18 A)
Ag	9,8x10^-3 μm (98 A)	9,8x10 ³ μm (98 A)
NiCrO_x	1,6x10 ³ μm (16 A)	1,6x10 ³ μm (16 A)
TiO	0 μm (0 A)	0 μm (0 A)
SnO2	2,27x10' μm (227 A)	0 μm (0 A)
Si3N4	2,52x10 μm (252 A)	3,79x10² μm (379 A)
SiOxNy	0 μm (0 A)	0 μm (0 A)
SiO	0 μm (0 A)	1,47x10² μm (147 A)
Łączna grubość warstw dielektrycznych:	16,06x10² μm (1606 A)	14,26x10 μm (1426 A)

T a b e l a d r u g a: Efektywność optyczna (sposób wykonania wynalazku pokazany na fig. 5; wyrób monolityczny).

	^Tvis	a*t	b*t	^R(g)	^a*g	h* ^b g	^R(f)	a*f	b*f
P. 1:	78,1%	-1,5	0,0	5,0%	8,5	-6,7	3,8%	3,4	-2,5
CE:	75,5%	-2,1	0,2	5,9%	9,2	-10,6	5,2%	3,2	-1,0

[0047] Z powyższych tabel, w odniesieniu do sposobu wykonania wynalazku pokazanego na fig. 5, widać, że system odblaskowy według wynalazku umożliwia uzyskanie nie tylko lepszej charakterystyki transmisji światła (to znaczy podwyższony % transmisji Tvis), ale także zmniejszenie odbicia (to znaczy mniejsze odbicie od strony szkła i/lub odbicie światła od strony powłoki). W szczególności, sposób według przykładu 1 (patrz: fig. 5) daje lepszą transmisję światła (wyższą wartość Tvis) i lepsze odbicie od strony szkła i/lub od strony powłoki (niższe wartości Rg i/lub Rf), niż jest to możliwe w przypadku przykładu porównawczego (CE - patrz: fig. 1). Nieoczekiwanie, sposób wykonania wynalazku według przykładu 1 zapewnia uzyskanie bardziej achromatycznej, transmisyjnej i odbijającej od strony szkła barwy niż barwa uzyskiwana w przykładzie porównawczym (CE).

[0048] Figura 6 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego według innego sposobu wykonania wynalazku. Sposób wykonania wynalazku pokazany na fig. 6 różni się od sposobu pokazanego na fig. 2 tym, że w części T sposobu wykonania pokazanego na fig. 2 usunięta została górna warstwa złożona z tlenku cyny, oraz tym, że w dolnej dielektrycznej części B, między dolną warstwą dodatkową a warstwą złożoną z tlenku tytanu, została dodana dodatkowa warstwa złożona z azotku krzemu. Wyrób powlekany pokazany na fig. 6 obejmuje następujące warstwy, od podłoża szklanego do warstwy zewnętrznej (wszystkie współczynniki „n” przy 550 nm):

szkło (n = 1,51) tlenek tytanu (na przykład TiO2) (n = 2,1 - 2,7, korzystnie n = 2,4 - 2,65) azotek krzemu (na przykład Si3N4) (n = 1,8 do 2,0, korzystnie n = 2,0) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx)

PL 203 913 B1 tlenek tytanu (na przykład TiO2) (n = 2,1 - 2,7, korzystnie n = 2,4 - 2,65) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1,8 - 2,2, korzystnie n = 2,0) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx) tlenek tytanu (na przykład TiO2) (n = 2,1 - 2,7, korzystnie n = 2,4 - 2,65) tlenek krzemu (na przykład SiO2) (n = 1,4 - 1,7, korzystnie n = 1,45) powietrze (n = 1,0).

[0049] W wyniku zastosowania warstw dielektrycznych złożonych z tlenku krzemu, tlenku cyny, tlenku tytanu i azotku krzemu, jak to przedstawiono w omawianym tu sposobie wykonania wynalazku, układ warstw można scharakteryzować przez górną dielektryczną część T wykazującą efektywny współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika środkowej części dielektrycznej M, która z kolei wykazuje współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika wykazywanego przez dolną część B, lub jemu równy. Innymi słowy, nT < nM <= nB, przy czym: nT oznacza efektywny współczynnik załamania światła górnej części dielektrycznej T, nM oznacza efektywny współczynnik załamania światła środkowej części dielektrycznej M i nB oznacza efektywny współczynnik załamania światła dolnej części dielektrycznej B. Każda z wymienionych dielektrycznych części, górna, środkowa i dolna, odpowiednio T, M i B, może obejmować cały szereg różnych warstw dielektrycznych, aczkolwiek w alternatywnych sposobach wykonania wynalazku dowolna z tych części, albo wszystkie te części wymagają obecności jedynie pojedynczej warstwy dielektrycznej. Przez stopniowe obniżanie wartości odnośnych efektywnych współczynników załamania światła „n” zaczynając od najgłębszej lub dolnej dielektrycznej części B, do środkowej dielektrycznej części M i aż do górnej dielektrycznej części T w kierunku powietrza, przeciwodblaskowy system przedstawiony w omawianym tu sposobie wykonania wynalazku umożliwia uzyskanie zwiększonej transmisji światła. Nieoczekiwanie, w pewnych przykładowych sposobach wykonania wynalazku, system przeciwodblaskowy może umożliwić uzyskanie rzeczywiście achromatycznej barwy wyrobu powlekanego.

Przykład (przykłady) sposobu wykonania wynalazku pokazanego na fig. 6.

[0050] Poniższe tabele objaśniają przykład 1 sposobu wykonania wynalazku pokazanego na fig. 6, w porównaniu z przykładem porównawczym (przykładami porównawczymi) (CE) podobnym (podobnymi) do przykładu pokazanego na fig. 1 niniejszego zgłoszenia patentowego. CE odnosi się do powłoki podobnej do powłoki przedstawionej w publikacji US 6,576,349. Grubość każdej warstwy przytoczonej w tabeli pierwszej podano w mikrometrach (pm) i w angstremach (A). Poniższa tabela druga przedstawia charakterystykę optyczną (na przykład transmisję, barwę itd.) odnoszącą się do wyrobu według przykładu 1 i CE, po wyżarzeniu i w postaci monolitycznej.

T a b e l a p i e r w s z a: Struktura warstwy - grubość (sposób wykonania wynalazku pokazany na fig. 6)

	CE	Przykład 1
1	2	3
Szkło
TiO2	1,25x10^-2 pm (125 A)	1,25x10^-2 pm (125 A)
S13N4	1,65x10^-2 pm (165 A)	2,01x10^-2 pm (201 A)
NiCrO_x	1,8x10 ³ pm (18 A)	1,8x10 ³ pm (18 A)
Ag	9,8x10 ³ pm (98 A)	9,8x10 ³ pm (98 A)
NiCrOx	1,6x10^-3 pm (16 A)	1,8x10^-3 pm (16 A)
TiO2	0 pm (0 A)	4,77x10^-2 pm (477 A)
SnO2	6,72x10² pm (672 A)	7,1x10^-3 pm (71 A)
Si3N4	1,65x10^-2 pm (165 A)	0 pm (0 A)
NiCrOx	1,8x10^-3 pm (18 A)	1,8x10^-3 pm (18 A)
Ag	9,8x10^-3 pm (98 A)	9,8x10^-3 pm (98 A)

PL 203 913 B1 cd. tabeli pierwszej

1	2	3
NiCrOx	1,6x10^-3 μιτι (16 A)	1,6x10^-3 μτ (16 A)
TiO2	0 μιτι (0 A)	1,95x10^-2 μτ (195 A)
SnO₂	2,27x10^-2 μιτι (227 A)	0 μτ (0 A)
Si3N4	2,52x10^-2 μιτι (252 A)	0 μτ (0 A)
SiOxNy	0 μιτι (0 A)	0 μιτι (0 A)
SiO2	0 μτ (0 A)	5,09x10^-2 μιτι (509 A)
Łączna grubość warstw dielektrycznych:	16,06x10^-2 μτ (1606 A)	15,78x10^-2 μιτι (1578 A)

T a b e l a d r u g a: Efektywność optyczna (sposób wykonania wynalazku pokazany na fig. 6; wyrób monolityczny).

	^Tvis	O* a t	b*t	^R(g)	^a*g	b* ^b g	^R(f)	o* a f	b*f
P. 1:	78,1%	-1,1	-0,3	4,9%	4,7	-2,6	3,4%	2,0	-4,7
CE:	75,5%	-2,1	0,2	5,9%	9,2	-10,6	5,2%	3,2	-1,0

[0051] Z powyższych tabel, w odniesieniu do sposobu wykonania wynalazku pokazanego na fig. 6, widać, że system odblaskowy według wynalazku umożliwia uzyskanie nie tylko lepszej charakterystyki transmisji światła (to znaczy podwyższony % transmisji Tvis), ale także zmniejszenie odbicia (to znaczy mniejsze odbicie od strony szkła i/lub odbicie światła od strony powłoki). W szczególności, sposób według przykładu 1 (patrz: fig. 6) daje lepszą transmisję światła (wyższą wartość Tvis) i lepsze odbicie od strony szkła i/lub od strony powłoki (niższe wartości Rg i/lub Rf), niż jest to możliwe w przypadku przykładu porównawczego (CE - patrz: fig. 1). Nieoczekiwanie, sposób wykonania wynalazku według przykładu 1 zapewnia uzyskanie bardziej achromatycznej barwy transmisyjnej i odbijającej od strony szkła niż barwa uzyskiwana w przykładzie porównawczym (CE).

[0052] Figura 7 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego według innego sposobu wykonania wynalazku. Sposób wykonania wynalazku pokazany na fig. 7 różni się od sposobu pokazanego na fig. 2 tym, że w części T została usunięta górna warstwa złożona z tlenku tytanu występująca w sposobie wykonania pokazanym na fig. 2, oraz tym, że w sposobie pokazanym na fig. 7, w dolnej dielektrycznej części B, między niższą warstwą kontaktową a warstwą złożoną z tlenku tytanu, dodana została dodatkowa warstwa złożona z azotku krzemu. Wyrób powlekany pokazany na fig. 7 obejmuje następujące warstwy, od podłoża szklanego do warstwy zewnętrznej (wszystkie współczynniki „n” przy 550 nm):

szkło (n = 1,51) tlenek tytanu (na przykład TiO2) (n = 2,1 - 2,7, korzystnie n = 2,4 - 2,65) azotek krzemu (na przykład Si3N4) (n = 1,8 do 2,0, korzystnie n = 2,0) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx) tlenek tytanu (na przykład TiO2) (n = 2,1 - 2,7, korzystnie n = 2,4 - 2,65) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1,8 - 2,2, korzystnie n = 2,0) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1,8 - 2,2, korzystnie n = 2,0) tlenek krzemu (na przykład SiO2) (n = 1,4 - 1,7, korzystnie n = 1,45) powietrze (n = 1,0).

[0053] W wyniku zastosowania warstw dielektrycznych złożonych z tlenku krzemu, tlenku cyny, tlenku tytanu i azotku krzemu, jak to przedstawiono w omawianym tu sposobie wykonania wynalazku, układ warstw można scharakteryzować przez górną dielektryczną część T wykazującą efektywny współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika środkowej części dielektrycznej M,

PL 203 913 B1 która z kolei wykazuje współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika wykazywanego przez dolną część B, lub jemu równy. Innymi słowy, nT < nM <= nB, przy czym: nT oznacza efektywny współczynnik załamania światła górnej części dielektrycznej T, nM oznacza efektywny współczynnik załamania światła środkowej części dielektrycznej M i nB oznacza efektywny współczynnik załamania światła dolnej części dielektrycznej B. Każda z wymienionych dielektrycznych części, górna, środkowa i dolna, odpowiednio T, M i B, może obejmować cały szereg różnych warstw dielektrycznych, aczkolwiek w alternatywnych sposobach wykonania wynalazku dowolna z tych części, albo wszystkie te części wymagają obecności jedynie pojedynczej warstwy dielektrycznej. Przez stopniowe obniżanie wartości odnośnych efektywnych współczynników załamania światła „n” zaczynając od najgłębszej lub dolnej dielektrycznej części B, do środkowej dielektrycznej części M i aż do górnej dielektrycznej części T w kierunku powietrza, przeciwodblaskowy system przedstawiony w omawianym tu sposobie wykonania wynalazku umożliwia uzyskanie zwiększonej transmisji światła. Nieoczekiwanie, w pewnych przykładowych sposobach wykonania wynalazku, system przeciwodblaskowy może umożliwić uzyskanie rzeczywiście achromatycznej barwy wyrobu powlekanego.

Przykład (przykłady) sposobu wykonania wynalazku pokazanego na fig. 7.

[0054] Poniższe tabele objaśniają przykład 1 sposobu wykonania wynalazku pokazanego na fig. 7, w porównaniu z przykładem porównawczym (przykładami porównawczymi) (CE) podobnym (podobnymi) do przykładu pokazanego na fig. 1 niniejszego zgłoszenia patentowego. CE odnosi się do powłoki podobnej do powłoki przedstawionej w publikacji US 6,576,349. Grubość każdej warstwy przytoczonej w tabeli pierwszej podano w mikrometrach (pm) i w angstremach (A). Poniższa tabela druga przedstawia charakterystykę optyczną (na przykład transmisję, barwę itd.) odnoszącą się do wyrobu według przykładu 1 i CE, po wyżarzeniu i w postaci monolitycznej.

T a b e l a p i e r w s z a: Struktura warstwy - grubość (sposób wykonania wynalazku pokazany na fig. 7)

	CE	Przykład 1
Szkło
TiO2	1,25x10^-2 pm (125 A)	1,25x10^-2 pm (125 A)
Si3N4	1,65x10^-2 pm (165 A)	2,2x10^-2 pm (220 A)
NiCrO_x	1,8x10^-3 pm (18 A)	1,8x10^-3 pm (18 A)
Ag	9,8x10^-3 pm (98 A)	9,8x10^-3 pm (98 A)
NiCrOx	1,6x10^-3 pm (16 A)	1,6x10^-3 pm (16 A)
TiO2	0 pm (0 A)	1,71x10^-2 pm (171 A)
SnO2	6,72x10² pm (672 A)	6,9x10^-2 pm (690 A)
Si3N4	1,65x10^-2 pm (165 A)	0 pm (0 A)
NiCrOx	1,8x10^-3 pm (18 A)	1,8x10^-3 pm (18 A)
Ag	9,8x10^-3 pm (98 A)	9,8x10^-3 pm (98 A)
NiCrO_x	1,6x10^-3 pm (16 A)	1,6x10^-3 pm (16 A)
TiO2	0 pm (0 A)	0 pm (0 A)
SnO2	2,27x10^-2 pm (227 A)	3,07x10^-2 pm (307 A)
Si3N4	2,52x10² pm (252 A)	0 pm (0 A)
SiOxNy	0 pm (0 A)	0 pm (0 A)
SiO2	0 pm (0 A)	2,22x10^-2 pm (222 A)
Łączna grubość warstw dielektrycznych:	16,06x10^-2 pm (1606 A)	17,35x10^-2 pm (1735 A)

PL 203 913 B1

T a b e l a d r u g a: Efektywność optyczna (sposób wykonania wynalazku pokazany na fig. 7; wyrób ^no^yczny).

	^Tvis	a*t	b*t	^R(g)	^a*g	h* ^D g	^R(f)	a*f	b*f
P. 1:	77,7%	-2,1	1,5	4,5%	10,0	-13,7	3,7%	3,0	-2,7
CE:	75,5%	-2,1	0,2	5,9%	9,2	-10,6	5,2%	3,2	-1,0

[0055] Z powyższych tabel, w odniesieniu do sposobu wykonania wynalazku pokazanego na fig. 7, widać, że systeτ odblaskowy według wynalazku u™żliwia uzyskanie nie tylko lepszej charakterystyki trarnsmsji światła (to znaczy podwyższony % transτisji T_vis), ale także zmniejszenie odbicia (to znaczy mniejsze odbicie od strony szkła i/lub odbicie światła od strony powłoki). W szczególności, sposób według przykładu 1 (patrz: fig. 7) daje lepszą transmsję światła (wyższą wartość T_vis) i lepsze odbicie od strony szkła i/lub od strony powłoki (niższe wartości R_g i/lub R_f), niż jest to ™żliwe w przypadku przykładu porównawczego (CE - patrz: fig. 1). Nieoczekiwanie, sposób wykonania wynalazku według przykładu 1 zapewnia uzyskanie barwy rzeczywiście achroτatycznej.

[0056] Figura 8 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego z poza zakresu niniejszego wynalazku. Sposób wykonania pokazany na fig. 8 różni się od sposobu pokazanego na fig. 4 tym że górna część dielektryczna w sposobie pokazanyτ na fig. 8 obejmuje warstwę złożoną z tlenoazotku krzemu. Warstwa złożona z tlenoazotku krzemu jest dobroczynna dzięki ternu, że jej współczynnik załaτania światła n (przy 550 πτ), w rozτaitych sposobach wykonania wynalazku, noże się zmeniać w zakresie od 1,45 do 2,0, korzystniej w zakresie od 1,6 do 1,9, i najkorzystniej w zakresie od 1,65 do 1,85. Zarówno w tyrn, jak i we wszystkich innych opisywanych tu sposobach wykonania wynalazku z użycieτ tlenoazotku krze™, warstwa złożona z tlenoazotku krze™ ™że wykazywać stałą (lub w przybliżeniu stałą, to znaczy stałą ± 5%) wartość współczynnika załaτania światła n poprzez całą grubość, w pewnych sposobach wykonania niniejszego wynalazku, ale, alternatywnie, utlenienie i/lub zawartość azotku ™że być stopniowana tak, że wartość współczynnika załaτania światła będzie się zmeniać poprzez grubość warstwy (na przykład współczynnik n ™że stopniowo z™iejszać się poprzez grubość warstwy złożonej z tlenoazotku krze™ w kierunku powietrza). Wyrób powlekany pokazany na fig. 8 obej™je następujące warstwy, od podłoża szklanego do warstwy zewnętrznej (wszystkie współczynniki załaτania światła „n” przy 550 πτ):

szkło (n = 1,51) tlenek tytanu (na przykład TiO2) (n = 2,1 - 2,7, korzystnie n = 2,4 - 2, 65) azotek krze™ (na przykład Si₃N₄) (n = 1,8 do 2,0, korzystnie n = 2,0) tlenek niklu chro™ (NiCrO_x) srebro (Ag) tlenek niklu chro™ (NiCrO_x) tlenek tytanu (na przykład TiO2) (n = 2,1 - 2,7, korzystnie n = 2,4 - 2, 65) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1,8 - 2,2, korzystnie n = 2,0) tlenek niklu chro™ (NiCrO_x) srebro (Ag) tlenek niklu chro™ (NiCrO_x) tlenoazotek krze™ (na przykład SiO_xN_y) (n = 1,45 - 2,0, korzystnie n = 1,6 - 1,9) powietrze (n = 1,0).

[0057] W wyniku zastosowania warstw dielektrycznych złożonych z tlenoazotku krze™, tlenku cyny, tlenku tytanu i azotku krze™, jak to przedstawiono w oτawianyτ tu sposobie wykonania, układ warstw ™żna scharakteryzować przez górną dielektryczną część T wykazującą efektywny współczynnik załaτania światła n (na przykład n = 1,72 przy 550 πτ, jak w przykładzie współczynnika n tlenochlorku krze™) ™iejszy od takiegoż współczynnika środkowej części dielektrycznej M, która z kolei wykazuje współczynnik załaτania światła n ™iejszy od takiegoż współczynnika wykazywanego przez dolną część B, lub je™ równy. Innym słowy, n_T < n_M <= n_B, przy czym n_T oznacza efektywny współczynnik załaτania światła górnej części dielektrycznej T, n_M oznacza efektywny współczynnik zała™nia światła środkowej części dielektrycznej M i n_B oznacza efektywny współczynnik załaτania światła dolnej części dielektrycznej B. Każda z wymenionych dielektrycznych części, górna, środkowa i dolna, odpowiednio T, M i B, ™że obej™wać cały szereg różnych warstw dielektrycznych, aczkolwiek w alternatywnych sposobach wykonania dowolna z tych części, albo wszystkie te części wy™gają obecności jedynie pojedynczej warstwy dielektrycznej. Przez stopniowe obniżanie wartości odnośnych

PL 203 913 B1 efektywnych współczynników załamania światła „n” zaczynając od najgłębszej lub dolnej dielektrycznej części B. do środkowej dielektrycznej części M i aż do górnej dielektrycznej części T w kierunku powietrza (bez obecności warstw złożonych z Ag i kontaktowych). przeciwodblaskowy system przedstawiony w omawianym tu sposobie wykonania umożliwia uzyskanie zwiększonej transmisji światła. Nieoczekiwanie. w pewnych przykładowych sposobach wykonania wynalazku. system przeciwodblaskowy może umożliwić uzyskanie rzeczywiście achromatycznej barwy wyrobu powlekanego.

Przykład (przykłady) sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku pokazanego na fig. 8.

[0058] Poniższe tabele objaśniają przykład 1 sposobu wykonania pokazanego na fig. 8. w porównaniu z przykładem porównawczym (przykładami porównawczymi) (CE) podobnym (podobnymi) do przykładu pokazanego na fig. 1 niniejszego zgłoszenia patentowego. CE odnosi się do powłoki podobnej do powłoki przedstawionej w publikacji US 6.576.349. Grubość każdej warstwy przytoczonej w tabeli pierwszej podano w mikrometrach (pm) i w angstremach (A). Poniższa tabela druga przedstawia charakterystykę optyczną (na przykład transmisję. barwę itd.) odnoszącą się do wyrobu według przykładu 1 i CE. po wyżarzeniu i w postaci monolitycznej.

T a b e l a p i e r w s z a: Struktura warstwy - grubość (sposób wykonania pokazany na fig. 8)

	CE	Przykład 1
Szkło
TiO	1.25x10^-2 pm (125 A)	1.25x10^-2 pm (125 A)
Si3N4	1.65x10^-2 pm (165 A)	1.73x10^-2 pm (173 A)
NiCrO_x	1.8x10 ³ pm (18 A)	1.8x10 ³ pm (18 A)
Ag	9.8x10³ pm (98 A)	9.8x10 ³ pm (98 A)
NiCrOx	1.6x10³ pm (16 A)	1.6x10 ³ pm (16 A)
TiO	0 pm (0 A)	1.44x10^-2 pm (144 A)
SnO	6.72x10² pm (672 A)	6.65x10^-2 pm (665 A)
Si3N4	1.65x10^-2 pm (165 A)	0 pm (0 A)
NiCrOx	1.8x10 ³ pm (18 A)	1.8x10 ³ pm (18 A)
Ag	9.8x10³ pm (98 A)	9.8x10 ³ pm (98 A)
NiCrO_x	1.6x10 ³ pm (16 A)	1.6x10 ³ pm (16 A)
TiO	0 pm (0 A)	0 pm (0 A)
SnO	2.27x10^-2 pm (227 A)	0 pm (0 A)
Si3N4	2.52x10^-2 pm (252 A)	0 pm (0 A)
SiOxNy	0 pm (0 A)	5.03x10^-2 pm (503 A)
SiO	0 pm (0 A)	0 pm (0 A)
Łączna grubość warstw dielektrycznych:	16.06x10^-2 pm (1606 A)	16.06x10^-2 pm (1610 A)

T a b e l a d r u g a: Efektywność optyczna (sposób wykonania z poza zakresu wynalazku pokazany na fig. 8; wyrób monolityczny).

	^Tvis	O* a t	b*t	^R(g)	^a*g	h* ^b g	^R(f)	o* a f	b*f
P. 1:	76.8%	-1.6	0.9	4.8%	3.1	-6.5	3.4%	3.7	-2.8
CE:	75.5%	-2.1	0.2	5.9%	9.2	-10.6	5.2%	3.2	-1.0

PL 203 913 B1

[0059] Z powyższych tabel, w odniesieniu do sposobu wykonania pokazanego na fig. 8, widać, że system odblaskowy umożliwia uzyskanie nie tylko lepszej charakterystyki transmisji światła (to znaczy podwyższony % transmisji Tvis), ale także zmniejszenie odbicia (to znaczy mniejsze odbicie od strony szkła i/lub odbicie światła od strony powłoki). W szczególności, sposób według przykładu 1 (patrz: fig. 8) daje lepszą transmisję światła (wyższą wartość Tvis) i lepsze odbicie od strony szkła i/lub od strony powłoki (niższe wartości Rg i/lub Rf), niż jest to możliwe w przypadku przykładu porównawczego (CE - patrz: fig. 1). Nieoczekiwanie, sposób wykonania według przykładu 1 zapewnia uzyskanie bardziej achromatycznej barwy odbijającej od strony szkła niż barwa uzyskiwana w przykładzie porównawczym (CE).

[0060] Figura 9 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego według innego sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku. Sposób wykonania pokazany na fig. 9 różni się od sposobu pokazanego na fig. 1 tym, że (a) dolna warstwa złożona z tlenku tytanu i dolna warstwa złożona z azotku krzemu, obecne w dolnej części B w sposobie wykonania pokazanym na fig. 1, zostały usunięte i zastąpione warstwą złożoną z azotku krzemu cyrkonu (SiZrN) lub go zawierającą, (b) usunięta została warstwa złożona z azotku krzemu, obecna w środkowej części M sposobu wykonania pokazanego na fig. 1, (c) do środkowej dielektrycznej części M, występującej w sposobie wykonania pokazanym na fig. 9, dodana została warstwa złożona z azotku krzemu cyrkonu, lub go zawierająca, oraz (d) górna warstwa złożona z azotku krzemu, obecna w górnej części T sposobu wykonania pokazanego na fig. 1, została zastąpiona warstwą złożoną z tlenku krzemu, lub go zawierającą, jak na fig. 9. Należy zauważyć, że w rozmaitych sposobach wykonania wynalazku azotek krzemu obecny w odnośnych warstwach może być stechiometryczny lub niestechiometryczny. Ponadto, jedna, lub większa ilość warstw złożonych z azotku krzemu cyrkonu (SiZrN) może być utleniona i/lub zastąpiona warstwą zawierającą (warstwami zawierającymi) tlenek niobu (na przykład Nb2O5, lub jakąkolwiek inną jego stosowną postać). Także, należy zauważyć, że dowolna warstwa złożona z tlenku cyny występująca w części T i/lub M może być zastąpiona azotkiem krzemu (stechiometrycznym lub niestechiometrycznym). Wyrób powlekany pokazany na fig. 9 obejmuje następujące warstwy, od podłoża szklanego do warstwy zewnętrznej (wszystkie współczynniki załamania światła „n” przy 550 nm):

szkło (n = 1,51) azotek krzemu cyrkonu (SiZrNx) (n = 2,2 - 2,45, korzystnie n = 2,32) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx) azotek krzemu cyrkonu (SiZrNx) (n = 2,2 - 2,45, korzystnie n = 2,32) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1,8 - 2,2, korzystnie n = 2,0) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx) azotek krzemu cyrkonu (SiZrNx) (n = 2,2 - 2,45, korzystnie n = 2,32) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1,8 - 2,2, korzystnie n = 2,0) tlenek krzemu (na przykład SiO2) (n = 1,4 - 1,7, korzystnie n = 1,45) powietrze (n = 1,0).

[0061] W wyniku zastosowania warstw dielektrycznych złożonych z azotku krzemu cyrkonu, tlenku krzemu i tlenku cyny, jak to przedstawiono w omawianym tu sposobie wykonania, układ warstw można scharakteryzować przez górną dielektryczną część T wykazującą efektywny współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika środkowej części dielektrycznej M, która z kolei wykazuje współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika wykazywanego przez dolną dielektryczną część B. Innymi słowy, nT < nM < nB, przy czym: nT oznacza efektywny współczynnik załamania światła górnej części dielektrycznej T, nM oznacza efektywny współczynnik załamania światła środkowej części dielektrycznej M i nB oznacza efektywny współczynnik załamania światła dolnej części dielektrycznej B. Każda z wymienionych dielektrycznych części, górna, środkowa i dolna, odpowiednio T, M i B, może obejmować cały szereg różnych warstw dielektrycznych, aczkolwiek w alternatywnych sposobach wykonania dowolna z tych części, albo wszystkie te części wymagają obecności jedynie pojedynczej warstwy dielektrycznej. Przez stopniowe obniżanie wartości odnośnych efektywnych współczynników załamania światła „n” zaczynając od najgłębszej lub dolnej dielektrycznej części B, do środkowej dielektrycznej części M i aż do górnej dielektrycznej części T w kierunku powietrza, przeciwodblaskowy system przedstawiony w omawianym obecnie sposobie wykonania

PL 203 913 B1 umożliwia uzyskanie zwiększonej transmisji światła. Nieoczekiwanie, w pewnych przykładowych sposobach wykonania, system przeciwodblaskowy może umożliwić uzyskanie rzeczywiście achromatycznej barwy wyrobu powlekanego.

Przykład (przykłady) sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku pokazanego na fig. 9.

[0062] Poniższe tabele objaśniają przykład 1 sposobu wykonania pokazanego na fig. 9, w porównaniu z przykładem porównawczym (przykładami porównawczymi) (CE) podobnym (podobnymi) do przykładu pokazanego na fig. 1 niniejszego zgłoszenia patentowego. CE odnosi się do powłoki podobnej do powłoki przedstawionej w publikacji US 6,576,349. Grubość każdej warstwy przytoczonej w tabeli pierwszej podano w mikrometrach (pm) i w angstremach (A). Poniższa tabela druga przedstawia charakterystykę optyczną (na przykład transmisję, barwę itd.) odnoszącą się do wyrobu według przykładu 1 i CE, po wyżarzeniu i w postaci monolitycznej.

T a b e l a p i e r w s z a: Struktura warstwy - grubość (sposób wykonania pokazany na fig. 9)

	CE	Przykład 1
Szkło
SiZrNx	0 pm (0 A)	3,52x10^-2 pm (352 A)
TiO2	1,25x10'² pm (125 A)	0 pm (0 A)
Si3N4	1,65x10'² pm (165 A)	0 pm (0 A)
NiCrOx	1,8x10'³ pm (18 A)	1,8-10^-3 pm (18 A)
Ag	9,8x10³ pm (98 A)	9,8x10³ pm (98 A)
NiCrOx	1,6x10'³ pm (16 A)	1,6x10³ pm (16 A)
SiZrNx	0 pm (0 A)	2,32x10² pm (232 A)
SnO2	6,72x10² pm (672 A)	6,8x10² pm (680 A)
Si3N4	1,65x10'³ pm (165 A)	0 pm (0 A)
NiCrO_x	1,8x10^-3 pm (18 A)	1,8x10³ pm (18 A)
Ag	9,8x10^-3 pm m (98 A)	9,8x10³ pm (98 A)
NiCrOx	1,6x10^-3 pm (16 A)	1,6x10³ pm (16 A)
SiZrNx	0 pm (0 A)	1,25x10³ pm (125 A)
SnO2	2,27x10^-3 pm (227 A)	1,43x10³ pm (143 A)
Si3N4	2,52x 10^-3 pm (252 A)	0 pm (0 A)
SiO_xNy	0 pm (0 A)	0 pm (0 A)
SiO2	0 pm (0 A)	3,72x10³ pm (372 A)
Łączna grubość warstw dielektrycznych:	16,06x10^-2 pm (1606 A)	18,59x10² pm (1859 A)

T a b e l a d r u g a: Efektywność optyczna (sposób wykonania pokazany na fig. 9; wyrób monolityczny).

	^Tvis	a*t	b*t	^R(g)	^a*g	h* ^D g	^R(f)	a*f	b*f
P. 1:	77,4%	-2,8	3,1	4,4%	7,8	-11,5	3,8%	3,3	-2,7
CE:	75,5%	-2,1	0,2	5,9%	9,2	-10,6	5,2%	3,2	-1,0

[0063] Z powyższych tabel, w odniesieniu do sposobu wykonania pokazanego na fig. 9, widać, że system odblaskowy umożliwia uzyskanie nie tylko lepszej charakterystyki transmisji światła (to znaczy podwyższony % transmisji Tvis), ale także zmniejszenie odbicia (to znaczy mniejsze odbicie od strony szkła i/lub odbicie światła od strony powłoki). W szczególności, sposób według przykładu 1

PL 203 913 B1 (patrz: fig. 9) daje lepszą transmisję światła (wyższą wartość T_vis) i lepsze odbicie od strony szkła i/lub od strony powłoki (niższe wartości R_g i/lub R_f), niż jest to możliwe w przypadku przykładu porównawczego (CE - patrz: fig. 1). Nieoczekiwanie, sposób wykonania według przykładu 1 zapewnia uzyskanie barwy rzeczywiście achromatycznej.

[0064] Figura 10 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego według innego sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku. Sposób wykonania pokazany na fig. 10 różni się od sposobu wykonania pokazanego na fig. 9 tym, że w górnej części dielektrycznej T zostały usunięte górne warstwy zawierające tlenek krzemu i SiZrN. Należy zauważyć, że w rozmaitych sposobach wykonania azotek krzemu cyrkonu obecny w odnośnych warstwach może być stechiometryczny lub niestechiometryczny. Ponadto, jedna, lub większa ilość warstw złożonych z azotku krzemu cyrkonu (SiZrN) może być utleniona i/lub zastąpiona warstwą zawierającą (warstwami zawierającymi) tlenek niobu (na przykład Nb2O5, lub jakąkolwiek inną jego stosowną postać). Wyrób powlekany pokazany na fig. 10 obejmuje następujące warstwy, od podłoża szklanego do warstwy zewnętrznej (wszystkie współczynniki załamania światła „n” przy 550 nm):

szkło (n = 1,51) azotek krzemu cyrkonu (SiZrNx) (n = 2,2 - 2,45, korzystnie n = 2,32) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx) azotek krzemu cyrkonu (SiZrNx) (n = 2,2 - 2,45, korzystnie n = 2,32) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1,8 - 2,2, korzystnie n = 2,0) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1,8 - 2,2, korzystnie n = 2,0) powietrze (n = 1,0).

[0065] W wyniku zastosowania warstw dielektrycznych złożonych z azotku krzemu cyrkonu, tlenku krzemu i tlenku cyny, jak to przedstawiono w omawianym tu sposobie wykonania, układ warstw można scharakteryzować przez górną dielektryczną część T wykazującą efektywny współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika środkowej części dielektrycznej M, która z kolei wykazuje współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika wykazywanego przez dolną dielektryczną część B. Innymi słowy, nT < nM < nB, przy czym: nT oznacza efektywny współczynnik załamania światła górnej części dielektrycznej T, nM oznacza efektywny współczynnik załamania światła środkowej części dielektrycznej M i nB oznacza efektywny współczynnik załamania światła dolnej części dielektrycznej B. Każda z wymienionych dielektrycznych części, górna, środkowa i dolna, odpowiednio T, M i B, może obejmować cały szereg różnych warstw dielektrycznych, aczkolwiek w alternatywnych sposobach wykonania dowolna z tych części, albo wszystkie te części wymagają obecności jedynie pojedynczej warstwy dielektrycznej. Przez stopniowe obniżanie wartości odnośnych efektywnych współczynników załamania światła „n” zaczynając od najgłębszej lub dolnej dielektrycznej części B, do środkowej dielektrycznej części M i aż do górnej dielektrycznej części T w kierunku powietrza, przeciwodblaskowy system przedstawiony w omawianym tu sposobie wykonania umożliwia uzyskanie zwiększonej transmisji światła. Nieoczekiwanie, w pewnych przykładowych sposobach wykonania, system przeciwodblaskowy może umożliwić uzyskanie rzeczywiście achromatycznej barwy wyrobu powlekanego.

Przykład (przykłady) sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku pokazanego na fig. 10.

[0066] Poniższe tabele objaśniają przykład 1 sposobu wykonania pokazanego na fig. 10, w porównaniu z przykładem porównawczym (przykładami porównawczymi) (CE) podobnym (podobnymi) do przykładu pokazanego na fig. 1 niniejszego zgłoszenia patentowego. CE odnosi się do powłoki podobnej do powłoki przedstawionej w publikacji US 6,576,349. Grubość każdej warstwy przytoczonej w tabeli pierwszej podano w mikrometrach (μτ) i w angstremach (A). Poniższa tabela druga przedstawia charakterystykę optyczną (na przykład transmisję, barwę itd.) odnoszącą się do wyrobu według przykładu 1 i CE, po wyżarzeniu i w postaci monolitycznej.

PL 203 913 B1

T a b e l a p i e r w s z a: Struktura warstwy - grubość (sposób wykonania pokazany na fig. 10)

	CE	Przykład 1
Szkło
SiZrNx	0 μm (0 A)	3,6x10 ² μm (360 A)
TiO	1,25x10^-2 μm (125 A)	0 μm (0 A)
Si3N4	1,65x10^-2 μm (165 A)	0 μm (0 A)
NiCrO_x	1,8x10 ³ μm (18 A)	1,8x10^-3 μm (18 A)
Ag	9,8x10³ μm (98 A)	9,8x10^-3 μm (98 A)
NiCrO_x	1,6x10 ³ μm (16 A)	1,6x10^-3 μm (16 A)
SiZrN_x	0 μm (0 A)	2,4x10 ² μm (240 A)
SnO	6,72x10² μm (672 A)	6,67x10^-2 μm (667 A)
Si3N4	1,65x10^-2 μm (165 A)	0 μm (0 A)
NiCrO_x	1,8x10 ³ μm (18 A)	1,8x10^-3 μm (18 A)
Ag	9,8x10³ μm (98 A)	9,8x10^-3 μm (98 A)
NiCrO_x	1,6x10 ³ μm (16 A)	1,6x10^-3 μm (16 A)
SiZrN_x	0 μm (0 A)	0 μm (0 A)
SnO	2,27x10^-2 μm (227 A)	3,99x10^-2 μm (399 A)
Si3N4	2,52x10² μm (252 A)	0 μm (0 A)
SiO_xNy	0 μm (0 A)	0 μm (0 A)
SiO	0 μm (0 A)	0 μm (0 A)
Łączna grubość warstw dielektrycznych:	16,06x10^-2 μm (1606 A)	16,66x10^-2 μm (1666 A)

T a b e l a d r u g a: Efektywność optyczna (sposób wykonania pokazany na fig. 10; wyrób monolityczny).

	^Tvis	O* a t	b*t	^R(g)	^a*g	b* ^b g	^R(f)	o* a f	b*f
P. 1:	77,3%	-2,9	3,8	4,5%	9,2	-12,6	4,1%	3,2	-2,9
CE:	75,5%	-2,1	0,2	5,9%	9,2	-10,6	5,2%	3,2	-1,0

[0067] Z powyższych tabel, w odniesieniu do sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku pokazanego na fig. 10, widać, że system odblaskowy umożliwia uzyskanie nie tylko lepszej charakterystyki transmisji światła (to znaczy podwyższony % transmisji Tvis), ale także zmniejszenie odbicia (to znaczy mniejsze odbicie od strony szkła i/lub odbicie światła od strony powłoki). W szczególności, sposób według przykładu 1 (patrz: fig. 10) daje lepszą transmisję światła (wyższą wartość Tvis) i lepsze odbicie od strony szkła i/lub od strony powłoki (niższe wartości Rg i/lub Rf), niż jest to możliwe w przypadku przykładu porównawczego (CE - patrz: fig. 1). Nieoczekiwanie, sposób wykonania według przykładu 1 zapewnia uzyskanie barwy rzeczywiście achromatycznej.

[0068] Figura 11 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego według innego sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku. Sposób wykonania pokazany na fig. 11 różni się od sposobu wykonania pokazanego na fig. 10 tym, że warstwy górna i środkowa złożone z tlenku cyny, obecne w sposobie pokazanym na fig. 10, zostały zastąpione odpowiednimi warstwami złożonymi z azotku krzemu (stechiometrycznego lub niestechiometrycznego), lub go zawierającymi. Należy zauważyć, że w rozmaitych sposobach wykonania azotek krzemu cyrkonu obecny w odnośnych warstwach może być stechiometryczny lub niestechiometryczny. Ponadto, jedna, lub większa ilość warstw złożonych z azotku krzemu cyrkonu (SiZrN) może być utleniona i/lub zastąpiona warstwą zawierającą

PL 203 913 B1 (warstwami zawierającymi) tlenek niobu (na przykład Nb2O5, lub jakąkolwiek inną jego stosowną postać). Wyrób powlekany pokazany na fig. 11 obejmuje następujące warstwy, od podłoża szklanego do warstwy zewnętrznej (wszystkie współczynniki załamania światła „n” przy 550 nm):

szkło (n = 1,51) azotek krzemu cyrkonu (SiZrNx) (n = 2,2 - 2,45, korzystnie n = 2,32) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx) azotek krzemu cyrkonu (SiZrNx) (n = 2,2 - 2,45, korzystnie n = 2,32) azotek krzemu (na przykład Si3N4) (n = 1,8 - 2,0, korzystnie n = 2,0) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx) azotek krzemu (na przykład Si3N4) (n = 1,8 - 2,0), korzystnie n = 2,0) powietrze (n = 1,0).

[0069] W wyniku zastosowania warstw dielektrycznych złożonych z azotku krzemu cyrkonu i azotku krzemu, jak to przedstawiono w omawianym tu sposobie wykonania, układ warstw można scharakteryzować przez górną dielektryczną część T wykazującą efektywny współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika środkowej części dielektrycznej M, która z kolei wykazuje współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika wykazywanego przez dolną dielektryczną część B. Innymi słowy, nT < nM < nB, przy czym: nT oznacza efektywny współczynnik załamania światła górnej części dielektrycznej T, nM oznacza efektywny współczynnik załamania światła środkowej części dielektrycznej M i nB oznacza efektywny współczynnik załamania światła dolnej części dielektrycznej B. Każda z wymienionych dielektrycznych części, górna, środkowa i dolna, odpowiednio T, M i B, może obejmować cały szereg różnych warstw dielektrycznych, aczkolwiek w alternatywnych sposobach wykonania dowolna z tych części, albo wszystkie te części wymagają obecności jedynie pojedynczej warstwy dielektrycznej. Przez stopniowe obniżanie wartości odnośnych efektywnych współczynników załamania światła „n” zaczynając od najgłębszej lub dolnej dielektrycznej części B, do środkowej dielektrycznej części M i aż do górnej dielektrycznej części T w kierunku powietrza, przeciwodblaskowy system przedstawiony w omawianym tu sposobie wykonania umożliwia uzyskanie zwiększonej transmisji światła. Nieoczekiwanie, w pewnych przykładowych sposobach wykonania, system przeciwodblaskowy może umożliwić uzyskanie rzeczywiście achromatycznej barwy wyrobu powlekanego.

Przykład (przykłady) sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku pokazanego na fig. 11.

[0070] Poniższe tabele objaśniają przykład 1 sposobu wykonania pokazanego na fig. 11, w porównaniu z przykładem porównawczym (przykładami porównawczymi) (CE) podobnym (podobnymi) do przykładu pokazanego na fig. 1. CE odnosi się do powłoki podobnej do powłoki przedstawionej w publikacji US 6,576,349. Grubość każdej warstwy przytoczonej w tabeli pierwszej podano w mikrometrach (pm) i w angstremach (A). Poniższa tabela druga przedstawia charakterystykę optyczną (na przykład transmisję, barwę itd.) odnoszącą się do wyrobu według przykładu 1 i CE, po wyżarzeniu i w postaci monolitycznej.

T a b e l a p i e r w s z a: Struktura warstwy - grubość (sposób wykonania pokazany na fig. 11)

	CE	Przykład 1
1	2	3
Szkło
SiZrNx	0 pm (0 A)	3,6x10^-2 pm (360 A)
TiO2	1,25x10^-2 pm (125 A)	0 pm (0 A)
Si3N4	1,65x10^-2 pm (165 A)	0 pm (0 A)
NiCrO_x	1,8x10^-3 pm (18 A)	1,8x10^-3 pm (18 A)
Ag	9,8x10^-3 pm (98 A)	9,8x10^-3 pm (98 A)

PL 203 913 B1 cd. tabeli pierwszej

1	2	3
NiCrOx	1,6x10^-3 μτ (16 A)	1,6x10^-3 μτ (16 A)
SiZrNx	0 μτ (0 A)	2,29x10^-2 μτ (229 A)
SnO₂	6,72x10'² μτ (672 A)	0 μτ (0 A)
Si3N4	1,65x10^-2 μτ (165 A)	6,84x10^-2 μτ (684 A)
NiCrOx	1,8x10^-3 μτ (18 A)	1,8x10^-3 μτ (18 A)
Ag	9,8x10'³ μτ (98 A)	9,8x10^-3 μτ (98 A)
NiCrOx	1,6x10^-3 μτ (16 A)	1,6x10^-3 μτ (16 A)
SiZrNx	0 μτ (0 A)	0 μτ (0 A)
SnO2	2,27x10'² μτ (227 A)	0 μτ (0 A)
Si3N4	2,52x10'² μτ (252 A)	4,04x10^-2 μτ (404 A)
SiO_xN_y	0 μτ (0 A)	0 μτ (0 A)
SiO2	0 μτ (0 A)	0 μτ (0 A)
Łączna grubość warstw dielektrycznych:	16,06x10^-2 μτ (1606 A)	16,77x10^-2 μτ (1677 A)

T a b e l a d r u g a: Efektywność optyczna (sposób wykonania pokazany na fig. 11; wyrób ^no^yczny).

	^Tvis	a*t	b*t	^R(g)	^a*g	b* ^b g	^R(f)	a*f	b*f
P. 1:	77,3%	-2,6	3,4	4,5%	9,0	-12,3	4,1%	3,9	-2,7
CE:	75,5%	-2,1	0,2	5,9%	9,2	-10,6	5,2%	3,2	-1,0

[0071] Z powyższych tabel, w odniesieniu do sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku pokazanego na fig. 11, widać, że systeτ odblaskowy u™żliwia uzyskanie nie tylko lepszej charakterystyki trans^ji światła (to znaczy podwyższony % trans^ji T_vis), ale także zτniejszenie odbicia (to znaczy ™iejsze odbicie od strony szkła i/lub odbicie światła od strony powłoki). W szczególności, sposób według przykładu 1 (patrz: fig. 11) daje lepszą transτisję światła (wyższą wartość T_vis) i lepsze odbicie od strony szkła i/lub od strony powłoki (niższe wartości R_g i/lub R_f), niż jest to ™żliwe w przypadku przykładu porównawczego (CE - patrz: fig. 1). Nieoczekiwanie, sposób wykonania według przykładu 1 zapewnia uzyskanie barwy rzeczywiście achroτatycznej.

[0072] Figura 12 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego według innego sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku. Sposób wykonania pokazany na fig. 12 różni się od sposobu pokazanego na fig. 1 tyrK że (a) dolna warstwa złożona z tlenku tytanu i dolna warstwa złożona z azotku krze™, obecne w dolnej części B w sposobie wykonania pokazanyτ na fig. 1, zostały usunięte i zastąpione warstwą złożoną z tlenku niobu (stechioτetrycznyτ Nb₂O5 lub jakąś niestechioτetryczną jego postacią), lub go zawierającą, (b) usunięta została warstwa złożona z azotku krze™, obecna w środkowej części M sposobu wykonania pokazanego na fig. 1, (c) do środkowej dielektrycznej części M, pokazanej na fig. 12, dodana została warstwa złożona z tlenku niobu (stech^e^cznego Nb₂O₅ lub jakiejś niestechioτetrycznej jego postaci), lub go zawierającą, oraz (d) górna warstwa złożona z azotku krze™, obecna w górnej części T sposobu wykonania pokazanego na fig. 1, została zastąpiona warstwą złożoną z tlenku krze™ ^te^^et^cznego lub niestechioτetrycznego), lub go zawierającą, jak na fig. 12. Wyrób powlekany pokazany na fig. 12 obej™je następujące warstwy, od podłoża szklanego do warstwy zewnętrznej (wszystkie współczynniki zała™nia światła „n” przy 550 πτ):

szkło (n = 1,51) tlenek niobu (na przykład Nb2O5) (n = 2,25 - 2,5, korzystnie n = 2,33) tlenek niklu chro™ (NiCrO_x) srebro (Ag) tlenek niklu chro™ (NiCrO_x)

PL 203 913 B1 tlenek niobu (na przykład Nb2O5) (n = 2,25 - 2,5, korzystnie n = 2,33) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1,8 - 2,2, korzystnie n = 2,0) tlenek niklu chro™ (NiCrO_x) srebro (Ag) tlenek niklu chro™ (NiCrO_x) tlenek niobu (na przykład Nb2O5) (n = 2,25 - 2,5, korzystnie n = 2,33) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1,8 - 2,2, korzystnie n = 2,0) tlenek krze™ (na przykład SiO₂) (n = 1,4 - 1,7, korzystnie n = 1,45) powietrze (n = 1,0).

[0073] W wyniku zastosowania warstw dielektrycznych złożonych z tlenku niobu, tlenku krze™ i tlenku cyny, jak to przedstawiono w oτawianyτ tu sposobie wykonania, układ warstw ™żna scharakteryzować przez górną dielektryczną część T wykazującą efektywny współczynnik zała™nia światła n ™iejszy od takiegoż współczynnika środkowej części dielektrycznej M, która z kolei wykazuje współczynnik zała™nia światła n ™iejszy od takiegoż współczynnika wykazywanego przez dolną dielektryczną część B. Innyrn słowy, n_T < n_M < n_B, przy czym n_T oznacza efektywny współczynnik zała™nia światła górnej części dielektrycznej T, n_M oznacza efektywny współczynnik zała™nia światła środkowej części dielektrycznej M i n_B oznacza efektywny współczynnik załaτania światła dolnej części dielektrycznej B. Każda z wymenionych dielektrycznych części, górna, środkowa i dolna, odpowiednio T, M i B, ™że obej™wać cały szereg różnych warstw dielektrycznych, aczkolwiek w alternatywnych sposobach wykonania dowolna z tych części, albo wszystkie te części wyτagają obecności jedynie pojedynczej warstwy dielektrycznej. Przez stopniowe obniżanie wartości odnośnych efektywnych współczynników zała™nia światła „n” zaczynając od najgłębszej lub dolnej dielektrycznej części B, do środkowej dielektrycznej części M i aż do górnej dielektrycznej części T w kierunku powietrza, przeciwodblaskowy systeτ przedstawiony w oτawianyτ tu sposobie wykonania u™żliwia uzyskanie zwiększonej transmsji światła. Nieoczekiwanie, w pewnych przykładowych sposobach wykonania, systeτ przeciwodblaskowy ™że u™żliwić uzyskanie rzeczywiście achro™tycznej barwy wyrobu powlekanego.

Przykład (przykłady) sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku pokazanego na fig. 12.

[0074] Poniższe tabele objaśniają przykład 1 sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku pokazanego na fig. 12, w porównaniu z przykładeτ porównawczyτ (przykładam porównawczym) (CE) podobnyτ (podobnym) do przykładu pokazanego na fig. 1 niniejszego zgłoszenia patentowego. CE odnosi się do powłoki podobnej do powłoki przedstawionej w publikacji US 6,576,349. Grubość każdej warstwy przytoczonej w tabeli pierwszej podano w τikroτetrach (μτ) i w angstreτach (A). Poniższa tabela druga przedstawia charakterystykę optyczną (na przykład transmsję, barwę itd.) odnoszącą się do wyrobu według przykładu 1 i CE, po wyżarzeniu i w postaci ™nolitycznej.

T a b e l a p i e r w s z a: Struktura warstwy - grubość (sposób wykonania pokazany na fig. 12)

	CE	Przykład 1
1	2	3
Szkło
NbxOy	0 μτ (0 A)	3,42x10^-2 μτ (342 A)
TiO2	1,25x10^-2 μτ (125 A)	0 μτ (0 A)
Si3N4	1,65x10^-2 μτ (165 A)	0 μτ (0 A)
NiCrOx	1,8x10^-3 μτ (18 A)	1,8x10^-3 μτ (18 A)
Ag	9,8x10'³ μτ (98 A)	9,8x10^-3 μτ (98 A)
NiCrOx	1,6x10^-3 μτ (16 A)	1,6x10^-3 μτ (16 A)
NbxOy	0 μτ (0 A)	6,4x10^-2 μτ (640 A)
SnO2	6x10'³ μτ (672 A)	9,6x10^-3 μτ (96 A)
Si3N4	1,65x10^-2 μτ (165 A)	0 μτ (0 A)

PL 203 913 B1 cd. tabeli pierwszej

1	2	3
NiCrOx	1.8x10 ³ pm (18 A)	1.8x10^-3 pm (18 A)
Ag	9.8x10³ pm (98 A)	9.8x10^-3 pm (98 A)
NiCrOx	1.6x10 ³ pm (16 A)	1.6x10^-3 pm (16 A)
NbxOy	0 pm (0 A)	2.22x10 ² pm (222 A)
SnO	2.27x10^-2 pm (227 A)	3.7x10^-3 pm (37 A)
Si3N4	2.52x10^-2 pm (252 A)	0 pm (0 A)
SiO_xNy	0 pm (0 A)	0 pm (0 A)
SiO	0 pm (0 A)	1.25x10^-2 pm (372 A)
Łączna grubość warstw dielektrycznych	16.06x10² pm (1606 A)	17.09x10^-2 pm (1709 A)

T a b e l a d r u g a: Efektywność optyczna (sposób wykonania pokazany na fig. 12; wyrób monolityczny).

	^Tvis	a*t	b*t	^R(g)	^a*g	b* ^b g	^R(f)	a*f	b*f
P. 1:	78.5%	-1.3	-0.3	4.6%	8.2	-8.6	4.0%	3.7	-2.4
CE:	75.5%	-2.1	0.2	5.9%	9.2	-10.6	5.2%	3.2	-1.0

[0075] Z powyższych tabel. w odniesieniu do sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku pokazanego na fig. 12. widać. że system odblaskowy według wynalazku umożliwia uzyskanie nie tylko lepszej charakterystyki transmisji światła (to znaczy podwyższony % transmisji Tvis). ale także zmniejszenie odbicia (to znaczy mniejsze odbicie od strony szkła i/lub odbicie światła od strony powłoki). W szczególności. sposób według przykładu 1 (patrz: fig. 12) daje lepszą transmisję światła (wyższą wartość Tvis) i lepsze odbicie od strony szkła i/lub od strony powłoki (niższe wartości Rg i/lub Rf). niż jest to możliwe w przypadku przykładu porównawczego (CE - patrz: fig. 1). Nieoczekiwanie. sposób wykonania według przykładu 1 zapewnia uzyskanie bardziej achromatycznej barwy transmisyjnej i odbijającej od strony szkła niż barwa uzyskiwana w przykładzie porównawczym (CE).

[0076] Figura 13 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego według innego sposobu wykonania. Sposób wykonania pokazany na fig. 13 różni się od sposobu wykonania pokazanego na fig. 12 tym. że w górnej dielektrycznej części T sposobu wykonania pokazanego na fig. 12 została usunięta warstwa złożona z tlenku krzemu i warstwa złożona z tlenku niobu. Wyrób powlekany pokazany na fig. 13 obejmuje następujące warstwy. od podłoża szklanego do warstwy zewnętrznej (wszystkie współczynniki załamania światła „n” przy 550 nm):

szkło (n = 1.51) tlenek niobu (na przykład Nb2O5) (n = 2.25 - 2.5. korzystnie n = 2.33) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx) tlenek niobu (na przykład Nb2O5) (n = 2.25 - 2.5. korzystnie n = 2.33) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1.8 - 2.2. korzystnie n = 2.0) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1.8 - 2.2. korzystnie n = 2.0) powietrze (n = 1.0).

[0077] W wyniku zastosowania warstw dielektrycznych złożonych z tlenku niobu i tlenku cyny. jak to przedstawiono w omawianym tu sposobie wykonania. układ warstw można scharakteryzować przez górną dielektryczną część T wykazującą efektywny współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika środkowej części dielektrycznej M. która z kolei wykazuje współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika wykazywanego przez dolną dielektryczną część B. Innymi słowy. nT < nM < nB. przy czym: nT oznacza efektywny współczynnik załamania światła

PL 203 913 B1 górnej części dielektrycznej T, nM oznacza efektywny współczynnik załamania światła środkowej części dielektrycznej M i nB oznacza efektywny współczynnik załamania światła dolnej części dielektrycznej B. Każda z wymienionych dielektrycznych części, górna, środkowa i dolna, odpowiednio T, M i B, może obejmować cały szereg różnych warstw dielektrycznych, aczkolwiek w alternatywnych sposobach wykonania dowolna z tych części, albo wszystkie te części wymagają obecności jedynie pojedynczej warstwy dielektrycznej. Przez stopniowe obniżanie wartości odnośnych efektywnych współczynników załamania światła „n” zaczynając od najgłębszej lub dolnej dielektrycznej części B, do środkowej dielektrycznej części M i aż do górnej dielektrycznej części T w kierunku powietrza, przeciwodblaskowy system przedstawiony w omawianym tu sposobie wykonania umożliwia uzyskanie zwiększonej transmisji światła. Nieoczekiwanie, w pewnych przykładowych sposobach wykonania, system przeciwodblaskowy może umożliwić uzyskanie rzeczywiście achromatycznej barwy wyrobu powlekanego.

Przykład (przykłady) sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku pokazanego na fig. 13.

[0078] Poniższe tabele objaśniają przykład 1 sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku pokazanego na fig. 13, w porównaniu z przykładem porównawczym (przykładami porównawczymi) (CE) podobnym (podobnymi) do przykładu pokazanego na fig. 1 niniejszego zgłoszenia patentowego. CE odnosi się do powłoki podobnej do powłoki przedstawionej w publikacji US 6,576,349. Grubość każdej warstwy przytoczonej w tabeli pierwszej podano w mikrometrach (μτ) i w angstremach (A). Poniższa tabela druga przedstawia charakterystykę optyczną (na przykład transmisję, barwę itd.) odnoszącą się do wyrobu według przykładu 1 i CE, po wyżarzeniu i w postaci monolitycznej.

T a b e l a p i e r w s z a: Struktura warstwy - grubość (sposób wykonania pokazany na fig. 13)

	CE	Przykład 1
Szkło
NbxOy	0 μιτι (0 A)	3,47x10^-2 μιτι (347 A)
TiO2	1,25x10^-2 μιτι (125 A)	0 μιτι (0 A)
Si3N4	1,65x10^-2 μιτι (165 A)	0 μιτι (0 A)
NiCrO_x	1,8x10^-3 μιτι (18 A)	1,8x10^-3 μιτι (18 A)
Ag	9,8x10^-3 μιτι (98 A)	9,8x10^-3 μιτι (98 A)
NiCrOx	1,6x10^-3 μιτι (16 A)	1,6x10^-3 μιτι (16 A)
NbxOy	0 μιτι (0 A)	6,39x10^-2 μιτι (639 A)
SnO2	6,72x10^-2 μιτι (672 A)	9x10^-3 μιτι (90 A)
Si3N4	1,65x10^-2 μιτι (165 A)	0 μιτι (0 A)
NiCrOx	1,8x10^-3 μιτι (18 A)	1,8x10^-3 μιτι (18 A)
Ag	9,8x10^-3 μιτι (98 A)	9,8x10^-3 μιτι (98 A)
NiCrO_x	1,6x10^-3 μιτι (16 A)	1,6x10^-3 μιτι (16 A)
NbxOy	0 μιτι (0 A)	0 μιτι (0 A)
SnO2	2,27x10^-2 μιτι (227 A)	4,28x10^-2 μιτι (428 A)
Si3N4	2,52x10^-2 μιτι (252 A)	0 μιτι (0 A)
SiO_xNy	0 μιτι (0 A)	0 μιτι (0 A)
SiO2	0 μιτι (0 A)	0 μιτι (0 A)
Łączna grubość warstw dielektrycznych:	16,06x10^-2 μιτι (1606 A)	15,04x10^-2 μιτι (1504 A)

PL 203 913 B1

T a b e l a d r u g a: Efektywność optyczna (sposób wykonania pokazany na fig. 13; wyrób monolityczny).

	^Tvis	a*t	b*t	^R(g)	^a*g	h* ^D g	^R(f)	a*f	b*f
P. 1:	78,4%	-1,5	0,1	4,6%	9,0	-9,9	4,1%	3,2	-2,6
CE:	75,5%	-2,1	0,2	5,9%	9,2	-10,6	5,2%	3,2	-1,0

[0079] Z powyższych tabel, w odniesieniu do sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku pokazanego na fig. 13, widać, że system odblaskowy umożliwia uzyskanie nie tylko lepszej charakterystyki transmisji światła (to znaczy podwyższony % transmisji Tvis), ale także zmniejszenie odbicia (to znaczy mniejsze odbicie od strony szkła i/lub odbicie światła od strony powłoki). W szczególności, sposób według przykładu 1 (patrz: fig. 13) daje lepszą transmisję światła (wyższą wartość Tvis) i lepsze odbicie od strony szkła i/lub od strony powłoki (niższe wartości Rg i/lub Rf), niż jest to możliwe w przypadku przykładu porównawczego (CE - patrz: fig. 1). Nieoczekiwanie, sposób wykonania według przykładu 1 zapewnia uzyskanie bardziej achromatycznej barwy transmisyjnej i odbijającej od strony szkła niż barwa uzyskiwana w przykładzie porównawczym (CE).

[0080] Figura 14 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego według innego sposobu wykonania. Sposób wykonania pokazany na fig. 14 różni się od sposobu wykonania pokazanego na fig. 13 tym, że górna warstwa złożona z tlenku cyny, występująca w sposobie wykonania pokazanym na fig. 13, została zastąpiona warstwą zawierającą azotek krzemu, jak na fig. 14. Wyrób powlekany pokazany na fig. 14 obejmuje następujące warstwy, od podłoża szklanego do warstwy zewnętrznej (wszystkie współczynniki załamania światła „n” przy 550 nm):

szkło (n = 1,51) tlenek niobu (na przykład Nb2O5) (n = 2,25 - 2,5, korzystnie n = 2,33) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx) tlenek niobu (na przykład Nb2O5) (n = 2,25 - 2,5, korzystnie n = 2,33) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1,8 - 2,2, korzystnie n = 2,0) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) tlenek niklu chromu (NiCrOx) azotek krzemu (na przykład, Si3N4) (n = 1,8 - 2,0, korzystnie n = 2,0) powietrze (n = 1,0).

[0081] W wyniku zastosowania warstw dielektrycznych złożonych z tlenku niobu, azotku krzemu i tlenku cyny, jak to przedstawiono w omawianym tu sposobie wykonania, układ warstw można scharakteryzować przez górną dielektryczną część T wykazującą efektywny współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika środkowej części dielektrycznej M, która z kolei wykazuje współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika wykazywanego przez dolną dielektryczną część B. Innymi słowy, nT < nM < nB, przy czym: nT oznacza efektywny współczynnik załamania światła górnej części dielektrycznej T, nM oznacza efektywny współczynnik załamania światła środkowej części dielektrycznej M i nB oznacza efektywny współczynnik załamania światła dolnej części dielektrycznej B. Każda z wymienionych dielektrycznych części, górna, środkowa i dolna, odpowiednio T, M i B, może obejmować cały szereg różnych warstw dielektrycznych, aczkolwiek w alternatywnych sposobach wykonania dowolna z tych części, albo wszystkie te części wymagają obecności jedynie pojedynczej warstwy dielektrycznej. Przez stopniowe obniżanie wartości odnośnych efektywnych współczynników załamania światła „n” zaczynając od najgłębszej lub dolnej dielektrycznej części B, do środkowej dielektrycznej części M i aż do górnej dielektrycznej części T w kierunku powietrza, przeciwodblaskowy system przedstawiony w omawianym tu sposobie wykonania umożliwia uzyskanie zwiększonej transmisji światła. Nieoczekiwanie, w pewnych przykładowych sposobach wykonania, system przeciwodblaskowy może umożliwić uzyskanie rzeczywiście achromatycznej barwy wyrobu powlekanego.

Przykład (przykłady) sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku pokazanego na fig. 14.

[0082] Poniższe tabele objaśniają przykład 1 sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku pokazanego na fig. 14, w porównaniu z przykładem porównawczym (przykładami porównawczymi) (CE) podobnym (podobnymi) do przykładu pokazanego na fig. 1 niniejszego zgłoszenia patentowego.

PL 203 913 B1

CE odnosi się do powłoki podobnej do powłoki przedstawionej w publikacji US 6,576,349. Grubość każdej warstwy przytoczonej w tabeli pierwszej podano w mikrometrach (pm) i w angstremach (A). Poniższa tabela druga przedstawia charakterystykę optyczną (na przykład transmisję, barwę itd.) odnoszącą się do wyrobu według przykładu 1 i CE, po wyżarzeniu i w postaci monolitycznej.

T a b e l a p i e r w s z a: Struktura warstwy - grubość (sposób wykonania pokazany na fig. 14)

	CE	Przykład 1
Szkło
NbxOy	0 pm (0 A)	3,44x10'² pm (344 A)
TiO2	1,25x10'² pm (125 A)	0 pm (0 A)
Si3N4	1,65x10'² pm (165 A)	0 pm (0 A)
NiCrOx	1,8x10'³ pm (18 A)	1,8x10'³ pm (18 A)
Ag	9,8x10'³ pm (98 A)	9,8x10'³ pm (98 A)
NiCrOx	1,6x10'³ pm (16 A)	1,6x10'³ pm (16 A)
NbxOy	0 pm (0 A)	6,41x10'³ pm (641 A)
SnO2	6,72x10'² pm (672 A)	8,9x10'³ pm (89 A)
Si3N4	1,65x10'² pm (165 A)	0 pm (0A)
NiCrO_x	1,8x10'³ pm (18 A)	1,8x10'³ pm (18 A)
Ag	9,8x10'³ pm (98 A)	9,8x10'³ pm (98 A)
NiCrOx	1,6x10'³ pm (16 A)	1,6x10'³ pm (16 A)
NbxOy	0 pm (0 A)	0 pm (0 A)
SnO2	2,27x10'² pm (227 A)	0 pm (0A)
Si3N4	2,52x10'² pm (252 A)	4,28x10'² pm (428 A)
SiO_xNy	0 pm (0 A)	0 pm (0 A)
SiO2	0 pm (0 A)	0 pm (0 A)
Łączna grubość warstw dielektrycznych:	16,06x10'² pm (1606 A)	16,06x10'³ pm (1502 A)

T a b e l a d r u g a : Efektywność optyczna (sposób wykonania pokazany na fig. 14; wyrób monolityczny).

	^Tvis	a*t	b*t	^R(g)	^a*g	b* ^b g	^R(f)	a*f	b*f
P. 1:	78,3%	-1,4	0,0	4,6%	8,7	-9,3	4,1%	3,4	-2,5
CE:	75,5%	-2,1	0,2	5,9%	9,2	-10,6	5,2%	3,2	-1,0

[0083] Z powyższych tabel, w odniesieniu do sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku pokazanego na fig. 14, widać, że system odblaskowy umożliwia uzyskanie nie tylko lepszej charakterystyki transmisji światła (to znaczy podwyższony % transmisji Tvis), ale także zmniejszenie odbicia (to znaczy mniejsze odbicie od strony szkła i/lub odbicie światła od strony powłoki). W szczególności, sposób według przykładu 1 (patrz: fig. 14) daje lepszą transmisję światła (wyższą wartość Tvis) i lepsze odbicie od strony szkła i/lub od strony powłoki (niższe wartości Rg i/lub Rf), niż jest to możliwe w przypadku przykładu porównawczego (CE - patrz: fig. 1). Nieoczekiwanie, sposób wykonania według przykładu 1 zapewnia uzyskanie bardziej achromatycznej barwy transmisyjnej i odbijającej od strony szkła niż barwa uzyskiwana w przykładzie porównawczym (CE).

PL 203 913 B1

[0084] Figura 15 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego otrzyτanego według innego sposobu wykonania. Sposób wykonania pokazany na fig. 15 różni się od sposobu pokazanego na fig. 12 ty^ że ze sposobu wykonania pokazanego na fig. 12 usunięto dwie warstwy kontaktowe złożone z tlenku niklu chro™. Wyrób powlekany pokazany na fig. 15 obej™je następujące warstwy, od podłoża szklanego do warstwy zewnętrznej (wszystkie współczynniki zała™nia światła „n” przy 550 πτ):

szkło (n = 1,51) tlenek niobu (na przykład Nb2O5) (n = 2,25 - 2,5, korzystnie n = 2,33) tlenek niklu chro™ (NiCrO_x) srebro (Ag) tlenek niobu (na przykład Nb2O5) (n = 2,25 - 2,5, korzystnie n = 2,33) tlenek cyny (na przykład, SnO2) (n = 1,8 - 2,2, korzystnie n = 2,0) tlenek niklu chro™ (NiCrO_x) srebro (Ag) tlenek niobu (na przykład Nb2O5) (n = 2,25 - 2,5, korzystnie n = 2,33) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1,8 - 2,2, korzystnie n = 2,0) tlenek krze™ (na przykład SiO₂) (n = 1,4 - 1,7, korzystnie n = 1,45) powietrze (n = 1,0).

[0085] W wyniku zastosowania warstw dielektrycznych złożonych z tlenku niobu, tlenku krze™ i tlenku cyny, jak to przedstawiono w oτawianyτ tu sposobie wykonania, układ warstw ™żna scharakteryzować przez górną dielektryczną część T wykazującą efektywny współczynnik załaτania światła n ™iejszy od takiegoż współczynnika środkowej części dielektrycznej M, która z kolei wykazuje współczynnik załaτania światła n ™iejszy od takiegoż współczynnika wykazywanego przez dolną dielektryczną część B. Innyini słowy, n_T < n_M < n_B, przy czy^ n_T oznacza efektywny współczynnik załaτania światła górnej części dielektrycznej T, n_M oznacza efektywny współczynnik załaτania światła środkowej części dielektrycznej M i n_B oznacza efektywny współczynnik zała™nia światła dolnej części dielektrycznej B. Każda z wycenionych dielektrycznych części, górna, środkowa i dolna, odpowiednio T, M i B, ™że obej™wać cały szereg różnych warstw dielektrycznych, aczkolwiek w alternatywnych sposobach wykonania dowolna z tych części, albo wszystkie te części wy™gają obecności jedynie pojedynczej warstwy dielektrycznej. Przez stopniowe obniżanie wartości odnośnych efektywnych współczynników załaτania światła „n” zaczynając od najgłębszej lub dolnej dielektrycznej części B, do środkowej dielektrycznej części M i aż do górnej dielektrycznej części T w kierunku powietrza, przeciwodblaskowy systeτ przedstawiony w oτawianyτ tu sposobie wykonania u™żliwia uzyskanie zwiększonej transCsji światła. Nieoczekiwanie, w pewnych przykładowych sposobach wykonania, systeτ przeciwodblaskowy ™że uτożliwić uzyskanie rzeczywiście achroτatycznej barwy wyrobu powlekanego.

Przykład (przykłady) sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku pokazanego na fig. 15.

[0086] Poniższe tabele objaśniają przykład 1 sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku pokazanego na fig. 15, w porównaniu z przykładeτ porównawczyτ (przykładać porównawczyC) (CE) podobnyτ (podobnyC) do przykładu pokazanego na fig. 1 niniejszego zgłoszenia patentowego. CE odnosi się do powłoki podobnej do powłoki przedstawionej w publikacji US 6,576,349. Grubość każdej warstwy przytoczonej w tabeli pierwszej podano w Ckn™^^ (μτ) i w angstre™ch (A). Poniższa tabela druga przedstawia charakterystykę optyczną (na przykład transCsję, barwę itd.) odnoszącą się do wyrobu według przykładu 1 i CE, po wyżarzeniu i w postaci ™nolitycznej.

T a b e l a p i e r w s z a: Struktura warstwy - grubość (sposób wykonania pokazany na fig. 15)

	CE	Przykład 1
1	2	3
Szkło
NbxOy	0 μτ (0 A)	3,37x10^-2 μτ (337 A)
TiO2	1,25x10^-3 μτ (125 A)	0 μτ (0 A)
Si3N4	1,65x10^-3 μτ (165 A)	0 μτ (0 A)

PL 203 913 B1 cd. tabeli pierwszej

1	2	3
NiCrOx	1,8x10^-3 μτ (18 A)	1,8x10^-3 μτ (18 A)
Ag	9,8x10'³ μτ (98 A)	9,8x10^-3 μτ (98 A)
NiCrO_x	1,6x10^-3 μτ (16 A)	0 μτ (0 A)
NbxOy	0 μτ (0 A)	5,64x10^-2 μτ (564 A)
SnO2	6,72x10'² μτ (672 A)	1,65x10^-2 μτ (169 A)
Si3N4	1,65x10^-2 μτ (165 A)	0 μτ (0 A)
NiCrOx	1,8x10^-3 μτ (18 A)	1,8x10^-3 μτ (18 A)
Ag	9,8x10'³ μτ (98 A)	9,8x10^-3 μτ (98 A)
NiCrOx	1,6x10^-3 μτ (16 A)	0 μτ (0 A)
NbxOy	0 μτ (0 A)	2,09x10^-2 μτ (209 A)
SnO₂	2,27x10'² μτ (227 A)	5x10^-3 μτ (50 A)
Si3N4	2,52x10'² μτ (252 A)	0 μτ (0 A)
SiO_xNy	0 μτ (0 A)	0 μτ (0 A)
SiO2	0 μτ (0 A)	3,79x10^-2 μτ (379 A)
Łączna grubość warstw dielektrycznych:	16,06x10^-2 μτ (1606 A)	17,08x10^-2 μτ (1708 A)

T a b e l a d r u g a: Efektywność optyczna (sposób wykonania pokazany na fig. 15; wyrób ^no^yczny).

	^Tvis	a*t	b*t	^R(g)	^a*g	b* ^b g	^R(f)	a*f	b*f
P. 1:	82,1%	-1,1	-0,8	4,5%	4,0	-3,9	3,8%	1,4	-1,8
CE:	75,5%	-2,1	0,2	5,9%	9,2	-10,6	5,2%	3,2	-1,0

[0087] Z powyższych tabel, w odniesieniu do sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku pokazanego na fig. 15, widać, że systeτ odblaskowy u^ż^ia uzyskanie nie tylko lepszej charakterystyki transmsji światła (to znaczy podwyższony % transmsji T_vis), ale także zτniejszenie odbicia (to znaczy mniejsze odbicie od strony szkła i/lub odbicie światła od strony powłoki). W szczególności, sposób według przykładu 1 (patrz: fig. 15) daje lepszą transmsję światła (wyższą wartość T_vis) i lepsze odbicie od strony szkła i/lub od strony powłoki (niższe wartości R_g i/lub R_f), niż jest to rnożliwe w przypadku przykładu porównawczego (CE - patrz: fig. 1). Nieoczekiwanie, sposób wykonania według przykładu 1 zapewnia uzyskanie barwy bardziej achroτatycznej niż barwa uzyskiwana w przykładzie porównawczyτ (CE).

[0088] Figura 16 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego według innego sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku. Sposób wykonania pokazany na fig. 16 różni się od sposobu wykonania pokazanego na fig. 15 tyrn, że górna warstwa złożona z tlenku krze™ i górna warstwa złożona z tlenku cyny, występujące w górnej dielektrycznej części T, zostały zastąpione warstwą złożoną z tlenoazotku krze™, lub go zawierającą. Wyrób powlekany pokazany na fig. 16 obej™je następujące warstwy, od podłoża szklanego do warstwy zewnętrznej (wszystkie współczynniki zała™nia światła „n” przy 550 πτ):

szkło (n = 1,51) tlenek niobu (na przykład Nb2O5) (n = 2,25 - 2,5, korzystnie n = 2,33) tlenek niklu chro™ (NiCrO_x) srebro (Ag) tlenek niobu (na przykład Nb2O5) (n = 2,25 - 2,5, korzystnie n = 2,33) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1,8 - 2,2, korzystnie n = 2,0) tlenek niklu chro™ (NiCrO_x) srebro (Ag)

PL 203 913 B1 tlenek niobu (na przykład Nb2O5) (n = 2.25 - 2.5. korzystnie n = 2.33) tlenoazotek krzemu (na przykład SiOxNy) (n = 1.45 - 2.0. korzystnie n = 1.6 - 1.9) powietrze (n = 1.0).

[0089] W wyniku zastosowania warstw dielektrycznych złożonych z tlenku niobu. tlenoazotku krzemu i tlenku cyny. jak to przedstawiono w omawianym tu sposobie wykonania. układ warstw można scharakteryzować przez górną dielektryczną część T wykazującą efektywny współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika środkowej części dielektrycznej M. która z kolei wykazuje współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika wykazywanego przez dolną dielektryczną część B. Innymi słowy. nT < nM < nB. przy czym: nT oznacza efektywny współczynnik załamania światła górnej części dielektrycznej T. nM oznacza efektywny współczynnik załamania światła środkowej części dielektrycznej M i nB oznacza efektywny współczynnik załamania światła dolnej części dielektrycznej B. Każda z wymienionych dielektrycznych części. górna. środkowa i dolna. odpowiednio T. M i B. może obejmować cały szereg różnych warstw dielektrycznych. aczkolwiek w alternatywnych sposobach wykonania dowolna z tych części. albo wszystkie te części wymagają obecności jedynie pojedynczej warstwy dielektrycznej. Przez stopniowe obniżanie wartości odnośnych efektywnych współczynników załamania światła „n” zaczynając od najgłębszej lub dolnej dielektrycznej części B. do środkowej dielektrycznej części M i aż do górnej dielektrycznej części T w kierunku powietrza. przeciwodblaskowy system przedstawiony w omawianym tu sposobie wykonania umożliwia uzyskanie zwiększonej transmisji światła. Nieoczekiwanie. w pewnych przykładowych sposobach wykonania. system przeciwodblaskowy może umożliwić uzyskanie rzeczywiście achromatycznej barwy wyrobu powlekanego. Warstwa złożona z tlenoazotku krzemu jest dobroczynna dzięki temu. że w różnych sposobach wykonania jej współczynnik załamania światła (przy 550 nm) może się zmieniać w zakresie od 1.45 do 2.0. korzystniej w zakresie od 1.6 do 1.9. a najkorzystniej w zakresie od 1.65 do 1.85. Zarówno w omawianym tu. jak i we wszystkich innych sposobach wykonania zawierających tlenoazotek krzemu. warstwa złożona z tlenoazotku krzemu może wykazywać stałą (lub w przybliżeniu stałą. to znaczy stałą ± 5%) wartość współczynnika załamania światła n poprzez całą grubość pewnych wykonań. ale. alternatywnie. utlenienie i zawartość azotu może być stopniowana tak. aby uzyskać zmienność wartości współczynnika załamania światła n poprzez grubość warstwy (na przykład. współczynnik n może stopniowo zmniejszać się poprzez grubość warstwy złożonej z tlenoazotku krzemu. w kierunku powietrza).

Przykład (przykłady) sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku pokazanego na fig. 16.

[0090] Poniższe tabele objaśniają przykład 1 sposobu wykonania wynalazku pokazanego na fig. 16. w porównaniu z przykładem porównawczym (przykładami porównawczymi) (CE) podobnym (podobnymi) do przykładu pokazanego na fig. 1 niniejszego zgłoszenia patentowego. CE odnosi się do powłoki podobnej do powłoki przedstawionej w publikacji US 6.576.349. Grubość każdej warstwy przytoczonej w tabeli pierwszej podano w mikrometrach (pm) i w angstremach (A). Poniższa tabela druga przedstawia charakterystykę optyczną (na przykład transmisję. barwę itd.) odnoszącą się do wyrobu według przykładu 1 i CE. po wyżarzeniu i w postaci monolitycznej.

T a b e l a p i e r w s z a: Struktura warstwy - grubość (sposób wykonania pokazany na fig. 16)

	CE	Przykład 1
1	2	3
Szkło
NbxOy	0 pm (0 A)	3.42x10^-2 pm (342 A)
TiO	1.25x10^-2 pm (125 A)	0 pm (0 A)
Si3N4	1.65x10^-2 pm (165 A)	0 pm (0 A)
NiCrO_x	1.8x10 ³ pm (18 A)	1.8x10^-3 pm (18 A)
Ag	9.8x10³ pm (98 A)	9.8x10^-3 pm (98 A)
NiCrOx	1.6x10 ³ pm (16 A)	0 pm (0 A)
NbxOy	0 pm (0 A)	5.54x10 ² pm (554 A)

PL 203 913 B1 cd. tabeli pierwszej

1	2	3
SnO	6,72x10^-2 μm (672 A)	1,88x10^-2 μm (188 A)
Si₃N4	1,65x10^-2 μm (165 A)	0 μm (0 A)
NiCrO_x	1,8x10 ³ μm (18 A)	1,8x10^-3 μm (18 A)
Ag	9,8x10³ μm (98 A)	9,8x10^-3 μm (98 A)
NiCrO_x	1,6x10 ³ μm (16 A)	0 μm (0 A)
Nb_xOy	0 μm (0 A)	1,82x10 ² μm (182 A)
SnO	2,27x10^-2 μm (227 A)	0 μm (0 A)
Si₃N4	2,52x10^-2 μm (252 A)	0 μm (0 A)
SiO_xNy	0 μm (0 A)	3,36x10^-2 μm (336 A)
SiO	0 μm (0 A)	0 μm (0 A)
Łączna grubość warstw dielektrycznych:	16,06x10^-2 μm (1606 A)	16,02x10^ μm (1602 A)

T a b e l a d r u g a: Efektywność optyczna (sposób wykonania pokazany na fig. 16; wyrób monolityczny).

	^Tvis	a*t	b*t	^R(g)	^a*g	b* ^b g	^R(f)	a*f	b*f
P. 1:	82,0%	-1,1	-0,7	4,6%	4,5	-4,6	3,9%	1,5	-1,8
CE:	75,5%	-2,1	0,	5,9%	9,	-10,6	5,2%	3,	-1,0

[0091] Z powyższych tabel, w odniesieniu do sposobu wykonania pokazanego na fig. 16, widać, że system odblaskowy umożliwia uzyskanie nie tylko lepszej charakterystyki transmisji światła (to znaczy podwyższony % transmisji Tvis), ale także zmniejszenie odbicia (na przykład mniejsze odbicie od strony szkła i/lub odbicie światła od strony powłoki). W szczególności, sposób według przykładu 1 (patrz: fig. 16) daje lepszą transmisję światła (wyższą wartość Tvis) i lepsze odbicie od strony szkła i/lub od strony powłoki (niższe wartości Rg i/lub Rf), niż jest to możliwe w przypadku przykładu porównawczego (CE - patrz: fig. 1). Nieoczekiwanie, sposób wykonania według przykładu 1 zapewnia uzyskanie barwy bardziej achromatycznej niż barwa uzyskiwana w CE (zwłaszcza barwy odbijającej od strony szkła).

[0092] Figura 17 stanowi widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego według innego sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku. Sposób wykonania pokazany na fig. 17 różni się od sposobu wykonania pokazanego na fig. 14 tym, że do górnej dielektrycznej warstwy T dodana została dodatkowa warstwa złożona z tlenku niobu, a dwiema dodatkowymi warstwami były warstwy złożone z NiCr (to znaczy nie utlenione w sposób znaczący). Wyrób powlekany pokazany na fig. 17 obejmuje następujące warstwy, od podłoża szklanego do warstwy zewnętrznej (wszystkie współczynniki załamania światła „n” przy 550 nm):

szkło (n = 1,51) tlenek niobu (na przykład Nb2O5) (n = 2,25 - 2,5, korzystnie n = 2,33) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) nikiel-chrom (NiCr) tlenek niobu (na przykład Nb2O5) (n = 2,25 - 2,5, korzystnie n = 2,33) tlenek cyny (na przykład SnO2) (n = 1,8 - 2,2, korzystnie n = 2,0) tlenek niklu chromu (NiCrOx) srebro (Ag) nikiel-chrom (NiCr) tlenek niobu (na przykład Nb2O5) (n = 2,25 - 2,5, korzystnie n = 2,33) azotek krzemu (na przykład Si3N4) (n = 1,8 - 2,0, korzystnie n = 2,0) powietrze (n = 1,0).

PL 203 913 B1

[0093] W wyniku zastosowania warstw dielektrycznych złożonych z tlenku niobu, azotku krzemu i tlenku cyny, jak to przedstawiono w omawianym tu sposobie wykonania, układ warstw można scharakteryzować przez górną dielektryczną część T wykazującą efektywny współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika środkowej części dielektrycznej M, lub jemu równy, która z kolei wykazuje współczynnik załamania światła n mniejszy od takiegoż współczynnika wykazywanego przez dolną część B, lub jemu równy. Innymi słowy, n_T <= n_M <= n_B, przy czym: n_T oznacza efektywny współczynnik załamania światła górnej części dielektrycznej T, n_M oznacza efektywny współczynnik załamania światła środkowej części dielektrycznej M i n_B oznacza efektywny współczynnik załamania światła dolnej części dielektrycznej B. Każda z wymienionych dielektrycznych części, górna, środkowa i dolna, odpowiednio T, M i B, może obejmować cały szereg różnych warstw dielektrycznych, aczkolwiek w alternatywnych sposobach wykonania dowolna z tych części, albo wszystkie te części wymagają obecności jedynie pojedynczej warstwy dielektrycznej. Przez stopniowe obniżanie wartości odnośnych efektywnych współczynników załamania światła „n” zaczynając od najgłębszej lub dolnej dielektrycznej części B, do środkowej dielektrycznej części M i aż do górnej dielektrycznej części T w kierunku powietrza, przeciwodblaskowy system przedstawiony w omawianym tu sposobie wykonania wynalazku umożliwia uzyskanie zwiększonej transmisji światła. Nieoczekiwanie, w pewnych przykładowych sposobach wykonania, system przeciwodblaskowy może umożliwić uzyskanie rzeczywiście achromatycznej barwy wyrobu powlekanego. Aczkolwiek w omawianym tu sposobie wykonania dwie górne warstwy kontaktowe stanowiły warstwy złożone z NiCr (to znaczy nie utlenione w sposób znaczący), to specjalista w tej dziedzinie techniki będzie się orientować, że w innych sposobach wykonania niniejszego wynalazku te złożone z NiCr warstwy kontaktowe mogą być zazotowane.

Przykład (przykłady) sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku pokazanego na fig. 17.

[0094] Poniższe tabele objaśniają przykład 1 sposobu wykonania z poza zakresu wynalazku, pokazanego na fig. 17, w porównaniu z przykładem porównawczym (przykładami porównawczymi) (CE) podobnym (podobnymi) do przykładu pokazanego na fig. 1 niniejszego zgłoszenia patentowego. CE odnosi się do powłoki podobnej do powłoki przedstawionej w publikacji US 6,576,349. Grubość każdej warstwy przytoczonej w tabeli pierwszej podano w mikrometrach (μτ) i w angstremach (A). Poniższa tabela druga przedstawia charakterystykę optyczną (na przykład transmisję, barwę itd.) odnoszącą się do wyrobu według przykładu 1 i CE, po wyżarzeniu i w postaci monolitycznej.

T a b e l a p i e r w s z a: Struktura warstwy - grubość (sposób wykonania pokazany na fig. 17)

	CE	Przykład 1
1	2	3
Szkło
NbxOy	0 μιτι (0 A)	3,46x10^-2 μιτι (346 A)
TiO2	1,25x10^-2 μιτι (125 A)	0 μιτι (0 A)
Si₃N4	1,65x10^-2 μιτι (165 A)	0 μιτι (0 A)
NiCrO_x	1,8x10^-3 μιτι (18 A)	1,8x10^-3 μιτι (18 A)
Ag	9,8x10^-3 μιτι (98 A)	9,8x10^-3 μιτι (98 A)
NiCrOx	1,6x10^-3 μιτι (16 A)	0 μιτι (0A)
NiCr	0 μιτι (0 A)	3x10^-4 μιτι (3 A)
NbxOy	0 μιτι (0A)	6,52x10^-2 μιτι (652 A)
SnO2	6,72x10^-2 μιτι (672 A)	1,08x10^-2 μιτι (108 A)
Si₃N4	1,65x10^-2 μιτι (165 A)	0 μιτι (0 A)
NiCrO_x	1,8x10^-3 μιτι (18 A)	1,8x10^-3 μιτι (18 A)
Ag	9,8x10^-3 μιτι (98 A)	9,8x10^-3 μιτι (98 A)
NiCrOx	1,6x10^-3 μιτι (16 A)	0 μιτι (0 A)

PL 203 913 B1 cd. tabeli pierwszej

1	2	3
NiCr	0 μτ (0 A)	3x10^-4 μτ (3 A)
NbxOy	0 μτ (0 A)	8,8x10'³ μτ (88 A)
SnO₂	2,27x10'² μτ (227 A)	0 μτ (0 A)
Si3N4	2,52x10'² μτ (252 A)	3,5x10^-2 μτ (350 A)
SiO_xNy	0 μτ (0 A)	0 μτ (0 A)
SiO2	0 μτ (0 A)	0 μτ (0 A)
Łączna grubość warstw dielektrycznych:	16,06x10^-2 μτ (1606 A)	15,44x10^-2 μτ (1544 A)

T a b e l a d r u g a: Efektywność optyczna (sposób wykonania pokazany na fig. 17; wyrób ^no^yczny)

	^Tvis	O* a t	b*t	^R(g)	^a*g	b* ^b g	^R(f)	o* a f	b*f
P. 1:	77,3%	-1,8	-0,8	4,7%	10,3	-10,7	4,4%	4,1	-2,8
CE:	75,5%	-2,1	0,2	5,9%	9,2	-10,6	5,2%	3,2	-1,0

[0095] Z powyższych tabel, w odniesieniu do sposobu wykonania pokazanego na fig. 17, widać, że systeτ odblaskowy u™żliwia uzyskanie nie tylko lepszej charakterystyki transCsji światła (to znaczy podwyższony % transCsji T_vis), ale także zτniejszenie odbicia (to znaczy ™iejsze odbicie od strony szkła i/lub odbicie światła od strony powłoki). W szczególności, sposób według przykładu 1 (patrz: fig. 17) daje lepszą transCsję światła (wyższą wartość T_vis) i lepsze odbicie od strony szkła i/lub od strony powłoki (niższe wartości R_g i/lub R_f), niż jest to ™żliwe w przypadku przykładu porównawczego (CE - patrz: fig. 1). Sposób wykonania według przykładu 1 zapewnia uzyskanie barwy rzeczywiście achroτatycznej.

[0096] Zgodnie z ty^ wyroby powlekane wytworzone pewnyC sposobaC scharakteryzowane są jednym lub większą ilością następujących paraτetrów:

Charakterystyka	Ogólnie	Korzystniej	Najkorzystniej
Tvis (III.C, 2 deg.):	>= 70%	>= 75%	>= 76,5%
RgY (III.C, 2 deg.):	<= 11%	<= 9%	<= 5,0%
RfY (III.C, 2 deg.):	<= 11%	<= 9%	<= 5,0%
^Tsolar:	<= 50%	<= 48%

[0097] Chociaż wynalazek został opisany zgodnie z tyn, co obecnie uważa się za wykonanie najpraktyczniejsze i najkorzystniejsze, jest zrozuCałe, że zakres wynalazku nie jest ograniczony do ujawnionego sposobu wykonania, ale przeciwnie w zaCerzeniu obej™je rozτaite ™dyfikacje i rozwiązania równoważne, Ceszczące w istocie i zakresie załączonych zastrzeżeń. I tak, na przykład bez ograniczania, w innych sposobach wykonania ™żna użyć τateriałów innych niż te, które zostały opisane w powyższej części opisu, bez odchodzenia od istoty wynalazku. Na przykład, bez ograniczania, w pewnych sposobach wykonania wynalazku, warstwy złożone z tlenku krze™ ™gą być, co naj™iej częściowo, zazotowane, a warstwy złożone z azotku krze™ ™gą być, co naj™iej częściowo, utlenione.

Claims

1. Wyrób powlekany obejmujący powłokę naniesioną na podłoże szklane, w którym powłoka obejmuje:

- pierwszą i drugą warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone (IR), każdą zawierającą co najmniej jeden metal i taki jak srebro (Ag) i złoto (Au);

- pierwszą warstwę dielektryczną, zawierającą tlenek tytanu, znajdującą się między pierwszą warstwą odbijającą IR a podłożem szklanym, znamienny tym, że zawiera:

- drugą warstwę dielektryczną, zawierającą tlenek tytanu, znajdującą się między pierwszą a drugą warstwą odbijającą IR,

- warstwy kontaktowe umieszczone zaraz nad i będące w kontakcie z każdą, pierwszą i drugą warstwą odbijającą IR, gdzie warstwy kontaktowe zawierają tlenek niklu chromu, tlenek cynku, nikiel, chrom lub ich kombinacje, oraz przy czym wyrób powlekany wykazuje transmisję światła wynoszącą co najmniej 70%.

2. Wyrób powlekany według zastrz. 1, znamienny tym, że trzecia warstwa dielektryczna złożona jest z tlenku cyny.

3. Wyrób powlekany według zastrz. 1, znamienny tym, że zawiera jeszcze inną warstwę dielektryczną, złożoną z azotku krzemu, znajdującą się między drugą warstwą odbijającą IR a czwartą warstwą dielektryczną złożoną z tlenku krzemu.

4. Wyrób powlekany według zastrz. 1, znamienny tym, że zawiera jeszcze inną warstwę dielektryczną, złożoną z tlenku tytanu, znajdującą się między drugą warstwą odbijającą IR a czwartą warstwą dielektryczną, złożoną z tlenku krzemu.

5. Wyrób powlekany według zastrz. 1, znamienny tym, że zawiera jeszcze inną warstwę dielektryczną, złożoną z tlenku cyny, umieszczoną między drugą warstwą odbijającą IR i czwartą warstwą dielektryczną, złożoną z tlenku krzemu.

6. Wyrób powlekany według zastrz. 1, znamienny tym, że zawiera jeszcze inną warstwę dielektryczną, złożoną z azotku krzemu, znajdującą się między pierwszą warstwą dielektryczną złożoną z tlenku tytanu a pierwszą warstwą odbijającą IR.

7. Wyrób powlekany według zastrz. 1, znamienny tym, że każda z pierwszej i drugiej warstwy odbijającej IR, złożona jest z Ag i umieszczona jest przekładkowo między parą warstw kontaktowych, przy tym co najmniej jedna z warstw kontaktowych przylegających do każdej z warstw odbijających IR złożona jest z co najmniej jednego związku, takiego jak NiCr, NiCrOx i NiCrNx.

8. Wyrób powlekany według zastrz. 1, znamienny tym, że pierwsza i druga warstwa dielektryczne złożona jest z tlenku tytanu i każda z nich zawiera TiO2.

9. Wyrób powlekany według zastrz. 1, znamienny tym, że wykazuje transmisję światła wynoszącą co najmniej 75%, rezystancję powierzchniową R_s nie większą niż 10 omów/ i współczynnik odbicia światła od strony szklanej <= 9%.

10. Wyrób powlekany według zastrz. 9, znamienny tym, że wykazuje transmisję światła wynoszącą co najmniej 76,5%.

11. Zastosowanie wyrobu powlekanego określonego w zastrzeżeniu 1, do wytwarzania okna.