PL196170B1 - Cyklotrisiloksany podstawione fluoroalkilem, sposób wytwarzania homopolimeru i sposób wytwarzania kopolimeru blokowego lub kopolimeru bezładnego - Google Patents
Cyklotrisiloksany podstawione fluoroalkilem, sposób wytwarzania homopolimeru i sposób wytwarzania kopolimeru blokowego lub kopolimeru bezładnegoInfo
- Publication number
- PL196170B1 PL196170B1 PL354357A PL35435700A PL196170B1 PL 196170 B1 PL196170 B1 PL 196170B1 PL 354357 A PL354357 A PL 354357A PL 35435700 A PL35435700 A PL 35435700A PL 196170 B1 PL196170 B1 PL 196170B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- polymerization
- formula
- novel
- nmr
- dilithium
- Prior art date
Links
- JJRDHFIVAPVZJN-UHFFFAOYSA-N cyclotrisiloxane Chemical class O1[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]1 JJRDHFIVAPVZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- SMBQBQBNOXIFSF-UHFFFAOYSA-N dilithium Chemical group [Li][Li] SMBQBQBNOXIFSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 8
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 claims description 6
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 claims description 6
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 claims description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 5
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- -1 poly (trifluoropropylmethylsiloxane Chemical class 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N trichlorofluoromethane Chemical compound FC(Cl)(Cl)Cl CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LVJZCPNIJXVIAT-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2,3,4,5,6-pentafluorobenzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(C=C)C(F)=C1F LVJZCPNIJXVIAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDMFUZHCIRHGRG-UHFFFAOYSA-N 3,3,3-trifluoroprop-1-ene Chemical compound FC(F)(F)C=C FDMFUZHCIRHGRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N Propene Chemical compound CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- OHABWQNEJUUFAV-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical group C[Si](Cl)(Cl)CCC(F)(F)F OHABWQNEJUUFAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OLLFKUHHDPMQFR-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](O)(O)C1=CC=CC=C1 OLLFKUHHDPMQFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 229960004624 perflexane Drugs 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- FYQFWFHDPNXORA-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooct-1-ene Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C=C FYQFWFHDPNXORA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910002621 H2PtCl6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N acetone d6 Chemical compound [2H]C([2H])([2H])C(=O)C([2H])([2H])[2H] CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012653 anionic ring-opening polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000012656 cationic ring opening polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- PVBMWIXRKLGXPI-UHFFFAOYSA-N dichloro-(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecyl)-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F PVBMWIXRKLGXPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUWVYOFYCWPDMF-UHFFFAOYSA-N dichloro-bis(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound FC(F)(F)CC[Si](Cl)(Cl)CCC(F)(F)F RUWVYOFYCWPDMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFUGMTAIQWBRCM-UHFFFAOYSA-N dihydroxy-methyl-trimethylsilyloxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(O)O VFUGMTAIQWBRCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N octamethylcyclotetrasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 description 1
- ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N perfluorohexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N vinyl-ethylene Natural products C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/22—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
- C08G77/24—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen halogen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/21—Cyclic compounds having at least one ring containing silicon, but no carbon in the ring
Abstract
1. Cyklotrisiloksany podstawione fluoroalkilem o wzorze (la) w których R oznacza nizszy alkil o 1 do 4 atomach wegla i R f ma wzór (CH 2 ) 2 -(CR' 2 ) n -CR' 3 , w którym wszystkie lub niektóre podstawniki R' oznaczaja F, pozostale podstawniki R' oznaczaja H, a n oznacza liczba calkowita zmieniajaca sie od 0 do 8. PL PL PL
Description
Opis wynalazku
Wynalazek dotyczy nowych podstawionych fluoroalkilem cyklotrisiloksanów, nowych homopolimerów i polimerów blokowych otrzymanych z cyklotrisiloksanów, sposobu wytwarzania homopolimeru i sposobu wytwarzania kopolimeru blokowego lub kopolimeru bezładnego. Cytowane tutaj publikacje i inne dokumenty stosowane do omówienia stanu techniki, a zwłaszcza te, które dostarczają dodatkowych szczegółów praktycznych, wprowadza się jako odnośniki.
Jedynym dostępnym handlowo fluoroalkilosiloksanem jest poli(trifluoropropylometylosiloksan). Wytwarza się go na drodze anionowej lub kationowej polimeryzacji z otwieraniem pierścienia cyklotri(trifluoropropylometylosiloksanu). Krystaliczny fluoroalkilometylopolisiloksan otrzymano z monomeru czystego cis-izomeru.1,2 Prekursorem cyklotri(trifluoropropylometylosiloksanu) jest trifluoropropylometylodichlorosilan, wytwarzany na ogół na drodze reakcji hydrosilacji katalizowanej platyną (H2PtCl6) pomiędzy metylodichlorosilanem i 3,3,3-trifluoropropenem.3 Reakcję te stosuje się również do wytwarzania bis(trifluoropropylo)dichlorosilanu zastępując metylodichlorosilan dichlorosilanem. W przeciwieństwie do niefluorowanych alkenów (etenu, propenu), które wytwarza się z dobrą wydajnością pomiędzy 60 i 79%4, 3,3,3-trifluoropropen otrzymuje się jedynie z niską wydajnością, 26...36% podczas wytwarzania dipostawionego silikonu.5 Bis(1H,1H,2H-perfluoroheksylo)-dichlorosiloksan uzyskano w ponad 42% w procesie dwuetapowym, w którym stosowano zarówno Co2(CO)8 i kompleks platynowy cyklowinylometylosiloksanu do reakcji hydrosililacji pomiędzy dichlorosilanem i 1H,1H,2H-perfluoroheksanem.6 Dużą wydajność uzyskano na drodze reakcji rodnikowej katalizowanej promieniami UV.7,8,9
3-(pentafluorofenylo)etylometylodichlorosilan wytworzono w 70% z metylodichlorosilanu i penta10 fluorostyrenu.10 Związki cykliczne mające zarówno część dimetylosiloksową i 3-(pentafluorofenylo)etylometylosiloksanową zostały wytworzone przez Matsui i in.11 na drodze reakcji hydrosilacji pomiędzy pentafluorostyrenem i związkami zawierającymi części dimetylosiloksylowe i metylosiloksylowe. Polimeryzację tych związków cyklicznych katalizowano wodorotlenkiem tetrametyloamoniowym, polimer Mw/Mn = 38000/21000 g/mol. Patrz schemat 1.
Matsui wytworzył także związki heterocykliczne dimetylodichlorosilanu i 3,3,3-trifluoropropylometylodichlorosilanu lub 1H,1H,2H,2H-perfluorodecylometylodichlorosilanu na drodze kohydrolizy w eterze. Polimeryzację prowadzono tak jak w poprzednim przypadku. W europejskiej publikacji patentowej EP 0563902 (Dow Corning12) opisano sposób wytwarzania blokowych kopolimerów z D3 i typu D3 monomerów cyklicznych mających grupy 1H,1H,2H,2H-perfluoroalkilometylosiloksanowe i/lub grupy winylometylosiloksanowe. Patrz schemat 2.
W patencie US 4,814,41813 opisano podobną procedurę, ale zamiast kolejnego dodawania monomerów, dodano je jednocześnie, otrzymując nieblokowy kopolimer. Patent dotyczy stosowania cyklicznych trimerów {[F(CF2)aC2H4](CH3)SiO}3 i {[H(CF2)aC2H4](CH3)SiO}3 (a = 1...16) z lub bez Dx(x = 3...6) i/lub DxMeVi(x = 3... 6, Vi = grupa alkenylowa). W patencie zastrzega się również wysokocząsteczkowy polimer z zastosowaniem kombinacji katalizator przejścia fazowego/inicjator zamiast sam inicjator. Katalizator przejścia fazowego stanowi sól czwartorzędowa amoniowa lub fosfoniowa i może być przedstawiony wzorami R4N+X- lub R4P+X-, w których R oznacza grupę alkilową, cykloalkilową lub fenylową i X- oznacza Cl- lub Br-.
PL196 170B1
PL 196 170 B1
Cyklotrisiloksany podstawione fluoroalkilem według wynalazku mają wzór (la)
w którym R oznacza niższy alkil o 1 do 4 atomach węgla i Rf ma wzór (CH2)2-(CR'2)n-CR'3, w którym wszystkie lub niektóre podstawniki R' oznaczają F, pozostałe podstawniki R' oznaczają H, a n oznacza liczbą całkowitą zmieniającą się od 0 do 8. Korzystnie każdy podstawnik R' oznacza F, a najkorzystniej każdy podstawnik R' oznacza F, R oznacza metyl i n oznacza 5.
Sposób wytwarzania homopolimeru zgodnie z wynalazkiem polega na tym, że związek o wzorze (la) poddaje się anionowej lub kationowej polimeryzacji w masie lub w odpowiednim rozpuszczalniku z wytworzeniem homopolimeru.
Polimeryzacja kationowa korzystnie inicjowana jest kwasem trifluorometanosulfonowym.
Polimeryzacja anionowa korzystnie inicjowana jest zasadą zawierającą lit, najkorzystniej difenylosilanolanem dilitu lub tetrametylodisiloksanolanem dilitu.
Sposób wytwarzania blokowego kopolimeru lub bezładnego kopolimeru zgodnie z wynalazkiem polega na tym, że związek o wzorze (la) i cyklotrisiloksan o wzorze (II),
1 w którym y oznacza 3, 4 lub 5 i wszystkie lub niektóre z podstawników R1 oznaczają alkil o 1 do 4 atomach węgla, winyl lub fenyl, lub w którym jeden R1 oznacza Rf określony powyżej, a pozostałe podstawniki R1 oznaczają alkil o 1 do 4 atomach węgla, winyl lub fenyl, poddaje się anionowej lub kationowej polimeryzacji z wytworzeniem blokowego lub bezładnego kopolimeru.
Polimeryzacja anionowa korzystnie inicjowana jest zasadą zawierającą lit, najkorzystniej difenylosilanolanem dilitu lub tetrametylodisiloksanolanem dilitu.
Związki la i II mogą polimeryzować w dowolnej kolejności względem siebie. Mogą być ze sobą również wymieszane przed inicjacją polimeryzacji.
Wynalazek będzie opisany bardziej szczegółowo w części doświadczalnej w następujących nieogrąnicząjących go przykładach.
Doświadczenia
Analiza spektroskopowa
Widmo NMR 1H, 13C, 19F i 29Si uzyskano na spektrometrze Bruker AMX-500 MHz. W celu uzyskania widma stosowano czterdziestoprocentowe (wagowo-objętościowo) roztwory acetonu-d6. Wid13 19 ma NMR 13C i 19F uzyskano za pomocą szerokopasmowego rozczepienia protonu. Dla uzyskania 29 widma NMR 29Si stosowano odwróconą bramkę rozszczepiającą sekwencje pulsacyjną z opóźnieniem 60 1 13 19 29 sekundowym. Jako wewnętrzny standard dla widma NMR 1H, 13C, 19F i 29Si stosowano tetrametylosi19 lan (TMS), a dla widma 19F stosowano CFCl3. Widmo IR czystych warstewek na płytkach NaCl rejestrowano na spektrometrze Perkin Elmer Spectrum 2000 FT-IR.
PL196 170B1
P r z y k ł a d 1
Wytwarzanie 1,1-bis(1'H,1'H,2'H,2'H-perfluorooktylo)-3,3,5,5-tetrametylocyklotrisiloksanu a) Bis(1'H,1'H,2'H,2'H-perfluorooktylo)dichlorosilan
Dichlorosilan (5,2 ml, 63 mmoli), 1H,1H,2H-perfluoro-1-okten (27,7 ml, 126 mmoli), 3 krople 10%
H2PtCl6 w roztworze THF/MeOH i 100 μΐ kompleksu Pt/diwinylotetrametylodisilaksanu w toluenie umieszczono w ciśnieniowej rurze Ace na 24 godziny. Destylacja dostarczyła 13,0 g żądanego produktu, t. wrz. 96°C/0,2 mm. Wydajność 27,5% 1H NMR δ: 1,66 (m, 4H), 2,47 (m, 4H). 13C NMR δ: 11,04, 25,61 (t, J = 24 Hz) , 106-123 (m). 19F NMR δ: -122,55 (m, 4F), -119,46 (br s, 4F), -119,09 (br s, 4F), -118,07 (br s, 4F), -111,89 (p, 4F, J = 15 Hz), -77,63 (t, 6F, J = 10 Hz). 29Si NMR δ: 32,63. IR n: 2956, 2910, 2877, 1444, 1410, 1364, 1319, 1296, 1237, 1202, 1146, 1121, 1073, 1019, 902, 812, 708, 649, 566, 533 cm-1.
b) 1,1-Bis(1'H,1'H,2'H,2'H-perfluorooktylo)-3,3,5,5-tetrametylocyklotrisiloksan
Bis(1'H,1'H,2'H,2'H-perfluorooktylo)dichlorosilan z etapu a) (20,0 g, 25 mmoli) w 15 ml Et2O i te14 trametylodisiloksanodiol14 (4,19 g, 25 mmoli) w 15 ml Et2O wkroplono jednocześnie do roztworu Et3N (8,0 ml, 57 mmoli) i 100 ml Et2O w ciągu 1 godziny. Po filtrowaniu roztwór przemyto wodą, wysuszono nad MgSO4 i rozpuszczalniki usunięto za pomocą odparowania. Destylacja frakcyjna dała 11,33 g (50,7% wydajności), t. wrz. 113°C/0,2 mm, t.t. 56°C. Reakcję prowadzono w temperaturze pokojowej.
1H NMR δ: 0,21 (s, 12H), 1,01 (m, 4H), 2,29 (m, 4H). 13C NMR δ: 0,68, 5,98, 25,51 (t, JC-F = 23 Hz), 106-123(m). 19F NMR δ: -127,05 (s, 4F), -124,21 (s, 4F), -123,56 (s, 4F), -122,53 (s, 4F), -117,00 (t, 4F, J = 16 Hz), -82,16 (t, 6F, J = 10 Hz). 29Si NMR δ: -13,35 (1Si), -7,08 (2Si). IR n: 2969, 2947, 2913, 1445, 1367, 1316, 1260, 1247, 1212, 1185, 1145, 1067, 1020, 808, 735, 691, 648, 605, 566, 528 cm-1.
P r z y k ł a d 2
Anionowa polimeryzacja 1,1-bis(1'H,1'H,2'H,2'H-perfluorooktylo)-3,3,5,5-tetrametylocyklotrisiloksanu
Inicjator polimeryzacji anionowej:
Difenylosilanolan dilitowy wytworzono traktując difenylosilanodiol n-butylolitem w THF. Jako wskaźnik stosowano styren.2 Zamiast difenylosilanodiolu można stosować tetrametylodisiloksanodiol w celu zwiększenia rozpuszczalności inicjatora w niskiej temperaturze polimeryzacji. Monomer (1,1-bis(1'H,1'H,2'H,2'H-perfluorooktylo)-3,3,5,5-tetrametylocyklotrisiloksanu) (2,0 g, 2,3 mmoli), inicjator (159 μ|, 40 μmoli) pozostawiono do przereagowania w 0,6 ml THF w temperaturze pokojowej na 2,5 godz. Polimer zakończono trimetylochlorosilanem i wytrącano trzy razy z CFCl3 z roztworem heksan/aceton. Po wysuszeniu pod próżnią uzyskano 1,95 g (98% wydajności). Tg = -64°C.
1H, NMR δ: 0,19 (m, 12H), 0,94 (m, 4H), 2,23 (m, 4H). 13C NMR δ: 1,10, 6,02, 25,67 (t, J = 23 Hz), 102-125 (m). 19F NMR δ: 126,45 (4F), -123,34 (4F), -122,99 (4F), -121,96 (4F), -116,29(4F), -81,47 (6F). 29Si NMR δ: -26,35, -26,21, -25,85, -25,80, -25,76, -20,84, -20,337, -20,25, -20,02, -19,97, -19,77, -19,62, -19,60, -19,54, -19,45, -19,21, -18,84. IR n: 2966, 2912, 1444, 1423, 1420, 1363, 1352, 1317, 1296, 1264, 1240, 1210, 1197, 1167, 1146, 1119, 1104, 1073, 1018, 950, 905, 844, 807, 747, 738, 707, 651, 566, 532 cm-1.
P r z y k ł a d 3
Kationowa polimeryzacja 1,1-bis(1'H,1'H,2'H,2'H-perfluorooktylo)-3,3,5,5-tetrametylocyklotrisolaksanu
Monomer (1,1-bis (1'H,1'H,2'H,2'H-perfluorooktylo)-3,3,5,5-tetrametylocyklotrisiloksanu) (2,0 g, 2,3 mmoli) i CFCl3 (1 ml) zamknięto w 10 ml rurze do badań wyposażonej w mieszadło magnetyczne i gumową przeponę. Układ ochłodzono do -9°C i wstrzyknięto 2 μΙ roztworu składającego się z 50 μΙ kwasu trifluorometanosulfonowego w 2 ml toluenu. Pozostawiono celem polimeryzacji na 1 godzinę, po czym polimer wytrącił się tak jak powyżej w ilości 1,7 g (85%). Właściwości polimeru były jak powyżej.
P r z y k ł a d 4
Heksakis(1'H,1'H,2'H,2'H-perfluorooktylo)-cyklotrisiloksan)
Roztwór bis(1,1,2,2-tetrahydroperfluorooktylo)dichlorosilanu (10,6 g, 13,4 mmoli) i 25 ml suchego CHCl3 umieszczono w 50 ml okragłodennej kolbie wyposażonej w 10 ml wkraplacz. DMSO, (2,10 g, 26,9 mmoli) w 6 ml CHCl3 wkroplono do roztworu w ciągu 30 minut w temperaturze pokojowej i pozostawiono na przebieg reakcji w ciągu 5 godzin. Następnie kolbę ochłodzono do temperatury 0°C i warstwę górną zdekantowano.15,16 Dolną warstwę przemyto jednokrotnie 30 ml CHCl3. 29Si NMR wykazał skład monomeru 81% D3 i 19% typu D4 w surowym produkcie reakcji. Oddestylowano w aparacie destylacyjnym z krótką kolumną. Zebrano Heksakis(1'H,1'H,2'H,2'H-perfluorooktylo)-cyklotrisiloksanu) (6,00 g, wydajność 61%), t. wrz. 200°C/0,01 mm. 1H NMR δ: 1,19 (M, 8H), 2,37 (m, 8H) . 13C NMR δ: 6,51, 25,84 (t, JC-F = 24 Hz), 107,61-122,55 (m). 19F NMR δ: -126,16 (s, 8F), -123,02 (s, 8F), -122,64
PL 196 170 B1 (s, 8F), -121,61 (s, 8F), -115,95 (t, 8H, J = 13 Hz), -81,31 (t, 12F, J = 11 Hz). 29Si NMR δ: -10,27 (s, 3Si), IR n: 2981, 2950, 2913, 2871, 1443, 1422, 1353, 1318, 1298, 1238, 1192, 1144, 1074, 1012, 952, 909, 897, 811, 777, 747, 727, 708, 651, 566, 528 cm-1.
Przykład 5
Poli[bis(1'H,1'H,2'H,2'H-perfluorooktylo)-siloksano-kodimetylosiloksan].
Heksakis(1'H,1'H,2'H,2'H-perfluorooktylo)-cyklotrisiloksanu (0,78 g, 0,35 mmoli), oktametylocyklotetrasiloksan (1,05 g, 3,6 mmoli) i kwas trifluorometanosulfonowy (40 μ|, 0,24 mmoli) umieszczono w rurze do badań wyposażonej w mieszadło magnetyczne pokryte Teflonem i rubber septum. Układ ogrzano do 100°C i pozostawiono do przereagowania na 7 godzin. Rurę i jej zawartość ochłodzono do temperatury pokojowej. Dodano heksametylodisilazan (100 μ|, 0,47 mmoli) w celu zneutralizowania kwasu. Surowy roztwór polimeru był mętny. Przemyto go dwukrotnie acetonem, perfluoroheksanem, toluenem i metanolem i wysuszono pod próżnią w ciągu 6 godzin. W ten sposób uzyskano klarowną bezbarwną substancję, Mw/Mn 20010/13190, Tg = -123°C, 0,50 g (27%). 1H NMR δ: 0,11 (s, 24 Hz), 1,01 (m, 1,33H), 2,25 (m, 1,33H). 13C NMR δ: 1,35, 5,96, 25,41 (m), 106,78-121,76 (m). 19F NMR δ: -126,37 (2F) , -123,17 (2F), -122,98 (2F), -121,96 (2F), -116,12 (2F), -81,29 (3F). 29Si NMR δ: -26,66 (6,5 Si), -24,82 (4,5 Si), -24,18 (10,0 Si), -23,52 (5,4 Si), -21,99 (100,0 Si), -21,74 (7,9 Si), -21,56 (8,3Si), -21,14 (7,7 Si), -20,67 (2,6 Si), -20,38 (6,4 Si), -20,18 (9,2 Si), -19,31 (3,4 Si), -18,71 (7,4 Si), -18,30 (1,4 Si), -4,76 (1,9 Si). IR n: 2964, 2908, 1262, 1240, 1210, 1146, 1096, 1020, 865, 802, 746, 707. TGA (w N2): Polimer jest trwały do 250°C, 90% pozostaje przy 345°C. Przy 430°C 50% substancji pozostaje. Powyżej 500°C pozostaje 32% pozostałości. Należy docenić, że sposoby według wynalazku mogą być wprowadzone w różnych postaciach wykonań, których tylko kilka tutaj ujawniono. Dla specjalisty w tej dziedzinie jest jasne, że inne wykonania istnieją i że nie odchodzą od istoty wynalazku. Tak więc opisane tu przykłady służątylko do ilustracji i nie należy ich rozumieć jako ograniczenie.
Odnośniki
1. Kuo, C.-M.; Saam, J.c; Taylor, R. B., Polymer Int., (1994), 33, 187.
2. Battjes, K.P.; Kuo, C.-H., Miller, R.L.; Saam, J. C.; Macromolecules, (1995) 28, 790.
3. Tarrant, P. T.; Dyckes, G. W.; Dunmire, R.; Butler, G. B.; J. Am. Chem. Soc., (1957) 79,6536.
4. Petrov, A. D.; Ponomarenko, V. A.; Odabashyan, G. V., Izv. Akad., Nauk. Ussr, (1959), 443.
5. Petrov, A. D.; Ponomarenko, V. A.; Odabashyan, G. V., Izv. Akad., Nauk. Ussr, (1962), 174.
6. Out, G. J. J.; Klok, H.-A., Schwegler, L., Frey, H., Moller, M., Macromol. Chem. Phys., (1995) 196, 185.
7. Geyer, A. M.; Haszeldine, R. N.; Leedham,K.; Marklow, R. J., J. Chem. Soc., (1957), 4472.
8. McBee, E. T.; Roberts, C. W.; Judd, G. F.; Chao, T. S., J. Chem. Soc., (1955) 77, 1292.
9. Haszeldine, R. N., Brit. 895, 592, 05-02-1962.
10. Boutevin, B.; Pietrasanta, V.; Youssef, B., J. Fluor. Chem., (1986) 31, 57.
11. Nagase, Y.; Ochiai, J.; Matsui, K., Polymer, (1988) 29, 740.
12. Kobayashi, H., EP 0563 902 A1, 03-30-1993.
13. Miyake, H.; Shin-ya, S.; Furukawa, Y., US 4,814,418, 03-21-1989.
14. Harris, G. I., J. Chem. Soc. 1963, 5978.
15. Lu, P., Paulasaari, J. K., Weber, W. P., Organometallics(19696) 15, 4649.
16. Goosen, J. C., Patent Francji 1,456,981. 1października,1964, CA: 67:54259 (1967).
Claims (10)
1. Cyklotrisiloksany podstawione fluoroalkilem o wzorze (la) w których R oznacza niższy alkil o 1 do 4 atomach węgla i Rf ma wzór (CH2)2-(CR'2)n-CR'3, w którym wszystkie lub niektóre podstawniki R' oznaczają F, pozostałe podstawniki R' oznaczają H, a n oznacza liczbą całkowitą zmieniającą się od 0do 8.
2. Związek według zastrz. 1, w którym każdy podstawnik R' oznacza F.
3. Związek według zastrz. 1, w którym każdy podstawnik R' oznacza F, R oznacza metyl i n oznacza 5.
4. Sposób wytwarzania homopolimeru, znamienny tym, że związek o wzorze (la) w których R oznacza niższy alkil o 1 do 4 atomach węgla i Rf ma wzór (CH2)2-(CR'2)n-CR'3, w którym wszystkie lub niektóre podstawniki R' oznaczają F, pozostałe podstawniki R' oznaczają H, a n oznacza liczbą całkowitą zmieniającą się od 0 do 8, poddaje się anionowej lub kationowej polimeryzacji w masie lub odpowiednim rozpuszczalniku z wytworzeniem homopolimeru.
5. Sposób według zastrz. 4, znamienny tym, że polimeryzacja jest polimeryzacją kationową inicjowaną kwasem trifluorometanosulfonowym.
6. Sposób według zastrz. 4, znamienny tym, że polimeryzacja jest polimeryzacją anionową inicjowaną przez zasadę zawierającą lit.
7. Sposób według zastrz. 6, znamienny tym, że zasadą zawierającą lit jest difenylosilanolan dilitu lub tetrametylodisiloksanolan dilitu.
8. Sposób wytwarzania kopolimeru blokowego lub kopolimeru bezładnego, znamienny tym, że związek o wzorze (la) i cyklosiloksan o wzorze (II)
PL 196 170 B1 1 w którym y oznacza 3, 4 lub 5 i wszystkie lub niektóre z podstawników R1 oznaczają alkil o 1do4 atomach węgla, winyl lub fenyl, lub w którym jeden R1 oznacza Rf określony powyżej, a pozostałe podstawniki R1 oznaczają alkil o 1 do 4 atomach węgla, winyl lub fenyl, poddaje się anionowej lub kationowej polimeryzacji z wytworzeniem blokowego lub bezładnego kopolimeru.
9. Sposób według zastrz. 8, znamienny tym, że anionową polimeryzację inicjuje się zasadą zawierającą lit.
10. Sposób według zastrz. 9, znamienny tym, że zasadą zawierającą lit jest difenylosilanolan dilitu lub tetrametylodisiloksanolan dilitu.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/416,266 US6291623B1 (en) | 1999-10-12 | 1999-10-12 | Fluoroalkylsubstituted cyclotrisiloxanes, their use for preparation of new polymers and novel polymers |
| PCT/FI2000/000858 WO2001027121A1 (en) | 1999-10-12 | 2000-10-05 | Novel fluoroalkylsubstituted cyclotrisiloxanes, their use for preparation of new polymers and novel polymers |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL354357A1 PL354357A1 (pl) | 2004-01-12 |
| PL196170B1 true PL196170B1 (pl) | 2007-12-31 |
Family
ID=23649267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL354357A PL196170B1 (pl) | 1999-10-12 | 2000-10-05 | Cyklotrisiloksany podstawione fluoroalkilem, sposób wytwarzania homopolimeru i sposób wytwarzania kopolimeru blokowego lub kopolimeru bezładnego |
Country Status (24)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6291623B1 (pl) |
| EP (1) | EP1220860B1 (pl) |
| JP (1) | JP2003511519A (pl) |
| KR (1) | KR100684549B1 (pl) |
| CN (1) | CN1152883C (pl) |
| AT (1) | ATE277057T1 (pl) |
| AU (1) | AU780592B2 (pl) |
| CA (1) | CA2386327C (pl) |
| CZ (1) | CZ299389B6 (pl) |
| DE (2) | DE1220860T1 (pl) |
| DK (1) | DK1220860T3 (pl) |
| EE (1) | EE05066B1 (pl) |
| ES (1) | ES2226929T3 (pl) |
| HK (1) | HK1047108B (pl) |
| HU (1) | HUP0203324A3 (pl) |
| IL (1) | IL148856A (pl) |
| MX (1) | MXPA02003410A (pl) |
| NO (1) | NO20021703D0 (pl) |
| PL (1) | PL196170B1 (pl) |
| RU (1) | RU2230747C2 (pl) |
| SK (1) | SK286506B6 (pl) |
| TW (1) | TW506980B (pl) |
| UA (1) | UA73958C2 (pl) |
| WO (1) | WO2001027121A1 (pl) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8344170B2 (en) * | 2002-08-16 | 2013-01-01 | The University Of Akron | Poly (cyclosiloxane) composition and method of synthesis thereof |
| US20060293483A1 (en) * | 2005-06-27 | 2006-12-28 | General Electric Co,Mpmany | Fluoro-silicone copolymers |
| WO2007002767A1 (en) * | 2005-06-27 | 2007-01-04 | Momentive Performance Materials Inc. | Methods of making high fluorine content fluoro-silicone copolymers |
| US20080145552A1 (en) * | 2006-12-15 | 2008-06-19 | Mia Genevieve Berrettini | Fluorochemical and polyoxyalkylene siloxane additive for coatings |
| US7723414B2 (en) | 2006-12-22 | 2010-05-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Antistatic system for polymers |
| RU2563253C1 (ru) * | 2014-09-30 | 2015-09-20 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Ордена Ленина и ордена Трудового Красного Знамени научно-исследовательский институт синтетического каучука имени академика С.В. Лебедева" (ФГУП "НИИСК") | Силоксановые блоксополимеры, содержащие метил (гексафторалкил) силоксановые звенья |
| US9359386B1 (en) * | 2015-02-19 | 2016-06-07 | Gelest Technologies, Inc. | Silanes and silicones with distinct hydrophilic and oleophobic substitution |
| KR20180008686A (ko) * | 2015-05-18 | 2018-01-24 | 밀리켄 앤드 캄파니 | 환형 실록산 화합물 및 이를 포함하는 조성물 |
| CN110156826B (zh) * | 2019-06-20 | 2021-08-31 | 威海新元化工有限公司 | 二苯基环三硅氧烷及其制备方法与应用 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3070619A (en) * | 1953-10-19 | 1962-12-25 | Union Carbide Corp | Production of 2-mercapto-2-thiono-derivatives of heterocyclic phosphoruscontaining compounds |
| US3070617A (en) * | 1957-09-09 | 1962-12-25 | Dow Corning | Cyclic bistrifluoropropyl siloxanes |
| US3364244A (en) | 1964-07-01 | 1968-01-16 | Gen Electric | Cyclic siloxanes |
| US3590064A (en) * | 1969-07-23 | 1971-06-29 | Charles W Lacefield | Process for preparing cyclosiloxanes |
| US4587320A (en) * | 1984-12-21 | 1986-05-06 | Dow Corning Corporation | Method for making carboxyfunctional silicone glycols |
| EP0191543A1 (en) * | 1985-01-15 | 1986-08-20 | Ventec Laboratories, Inc. | Silicone insect toxicants |
| EP0255957A3 (en) | 1986-08-08 | 1988-11-17 | Asahi Glass Company Ltd. | Fluorosilicone polymer, processes for the production thereof and composition containing it |
| JPH05279481A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-26 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | フルオロシリコ−ンブロック共重合体およびその製造方法 |
| JPH0616813A (ja) * | 1992-06-29 | 1994-01-25 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | フルオロシリコ−ンポリマ−およびその製造方法 |
| JP2849037B2 (ja) * | 1993-02-15 | 1999-01-20 | 信越化学工業株式会社 | 鎖状ポリオルガノシロキサン及びその製造方法 |
| JPH06321968A (ja) * | 1993-05-14 | 1994-11-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シクロトリシロキサンの製造方法 |
| JP3473871B2 (ja) * | 1994-12-28 | 2003-12-08 | 信越化学工業株式会社 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
| JPH08239479A (ja) * | 1995-03-02 | 1996-09-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 単分散オルガノポリシロキサンの製造方法 |
| BR9611859A (pt) * | 1995-12-07 | 1999-05-04 | Bausch & Lomb | Composição de silicone polimérico com baixo teor de água lente de contato e método para produzir uma composição de silicone polimérico com baixo teor de água |
-
1999
- 1999-10-12 US US09/416,266 patent/US6291623B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-05-10 UA UA2002053848A patent/UA73958C2/uk unknown
- 2000-10-05 JP JP2001530339A patent/JP2003511519A/ja active Pending
- 2000-10-05 IL IL14885600A patent/IL148856A/xx not_active IP Right Cessation
- 2000-10-05 EP EP00967924A patent/EP1220860B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-10-05 CN CNB00814060XA patent/CN1152883C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-10-05 SK SK419-2002A patent/SK286506B6/sk not_active IP Right Cessation
- 2000-10-05 CA CA002386327A patent/CA2386327C/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-10-05 KR KR1020027004654A patent/KR100684549B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-10-05 CZ CZ20021273A patent/CZ299389B6/cs not_active IP Right Cessation
- 2000-10-05 DE DE1220860T patent/DE1220860T1/de active Pending
- 2000-10-05 MX MXPA02003410A patent/MXPA02003410A/es active IP Right Grant
- 2000-10-05 AT AT00967924T patent/ATE277057T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-10-05 RU RU2002112329/04A patent/RU2230747C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2000-10-05 DK DK00967924T patent/DK1220860T3/da active
- 2000-10-05 EE EEP200200187A patent/EE05066B1/xx not_active IP Right Cessation
- 2000-10-05 HU HU0203324A patent/HUP0203324A3/hu unknown
- 2000-10-05 WO PCT/FI2000/000858 patent/WO2001027121A1/en active IP Right Grant
- 2000-10-05 PL PL354357A patent/PL196170B1/pl not_active IP Right Cessation
- 2000-10-05 ES ES00967924T patent/ES2226929T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2000-10-05 AU AU77914/00A patent/AU780592B2/en not_active Ceased
- 2000-10-05 DE DE60014129T patent/DE60014129T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-10-09 TW TW089121108A patent/TW506980B/zh not_active IP Right Cessation
-
2002
- 2002-04-11 NO NO20021703A patent/NO20021703D0/no not_active Application Discontinuation
- 2002-12-03 HK HK02108788.7A patent/HK1047108B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2017105753A (ja) | 両末端に異なる官能基を有する直鎖オルガノポリシロキサン、及びその製造方法 | |
| JPH0623255B2 (ja) | パーフルオロアルキル基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
| JPH0718077A (ja) | カルビノール・官能シロキサンの製造法 | |
| US20060041098A1 (en) | Synthesis and characterization of novel cyclosiloxanes and their self- and co-condensation with silanol-terminated polydimethylsiloxane | |
| PL196170B1 (pl) | Cyklotrisiloksany podstawione fluoroalkilem, sposób wytwarzania homopolimeru i sposób wytwarzania kopolimeru blokowego lub kopolimeru bezładnego | |
| JPH1067786A (ja) | アルキル置換シロキサンおよびアルキル置換ポリエーテル流体 | |
| GB2301828A (en) | Aryl-alkenyl substituted silicone fluids having a high refractive index | |
| JP2005015738A (ja) | 官能基を有するシルセスキオキサン誘導体の製造方法およびシルセスキオキサン誘導体 | |
| EP2537877B1 (en) | Dual end glycerol (meth)acrylate-modified silicone and making method | |
| Kandpal et al. | Studies on the synthesis and reaction of silicone oxirane dendrimer and their thermal and rheological properties | |
| JP4055397B2 (ja) | 含フッ素有機ケイ素化合物 | |
| WO2017094392A1 (ja) | 両末端に異なる官能基を有する直鎖オルガノポリシロキサン、及びその製造方法 | |
| JP2013185147A (ja) | 両末端官能基含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法 | |
| US8742051B2 (en) | Method of preparing a bodied siloxane resin including M, Q, and T-propyl units and capped with additional M units | |
| JPH09143270A (ja) | 新規シロキサン誘導体及びその製造方法 | |
| JP4276805B2 (ja) | 新規シラザン化合物及びその製造方法、並びに新規シラザン化合物重合体及びその製造方法 | |
| JPH0518834B2 (pl) | ||
| JP3257414B2 (ja) | 環状エーテル基を有するオルガノポリシロキサン | |
| JPH08319294A (ja) | １，３−ジメトキシテトラメチルジシロキサンの製造方法 | |
| JPH0733783A (ja) | ケイ素化合物 | |
| JPH0615618B2 (ja) | 含フッ素ポリシルエチレンシロキサン | |
| Zhang | Synthesis and characterization of octasilsesquioxane-based molecular composite precursors with potential applications as dental restoratives | |
| JPH07309879A (ja) | 耐熱性ケイ素系高分子及びその製造方法、及び該高分子の製造に用いる有機ケイ素化合物 | |
| JPH06234773A (ja) | アルケニル基含有リチウムシラノレートの製造方法 | |
| JP2002517402A (ja) | 過フッ素化有機置換シクロシロキサンおよびこれらのシクロシロキサンから調製されるコポリマー |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Decisions on the lapse of the protection rights |
Effective date: 20101005 |