PL195005B1 - Sposób wytwarzania pochodnych 5-amino-1-arylo-3-cyjanopirazolowych oraz pochodna 2-arylohydrazonosukcynonitrylowa i 2-arylohydrazynosukcynonitrylowa i sposoby ich wytwarzania - Google Patents
Sposób wytwarzania pochodnych 5-amino-1-arylo-3-cyjanopirazolowych oraz pochodna 2-arylohydrazonosukcynonitrylowa i 2-arylohydrazynosukcynonitrylowa i sposoby ich wytwarzaniaInfo
- Publication number
- PL195005B1 PL195005B1 PL335443A PL33544398A PL195005B1 PL 195005 B1 PL195005 B1 PL 195005B1 PL 335443 A PL335443 A PL 335443A PL 33544398 A PL33544398 A PL 33544398A PL 195005 B1 PL195005 B1 PL 195005B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- group
- formula
- halo
- halogen
- compound
- Prior art date
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 60
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title abstract description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 title abstract description 4
- 239000000575 pesticide Substances 0.000 title description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract description 23
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 36
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 24
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 20
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 18
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 15
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 15
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- IAHFWCOBPZCAEA-UHFFFAOYSA-N succinonitrile Chemical class N#CCCC#N IAHFWCOBPZCAEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 9
- -1 trifluoromethoxy, difluoromethyl Chemical group 0.000 claims description 9
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 8
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 8
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 6
- UKWHYYKOEPRTIC-UHFFFAOYSA-N mercury(ii) oxide Chemical compound [Hg]=O UKWHYYKOEPRTIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 6
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004789 chlorodifluoromethoxy group Chemical group ClC(O*)(F)F 0.000 claims description 5
- 125000004775 chlorodifluoromethyl group Chemical group FC(F)(Cl)* 0.000 claims description 5
- 125000004788 dichlorofluoromethoxy group Chemical group ClC(O*)(F)Cl 0.000 claims description 5
- 125000004774 dichlorofluoromethyl group Chemical group FC(Cl)(Cl)* 0.000 claims description 5
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 5
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 claims description 5
- 125000004191 (C1-C6) alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 claims description 4
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical group [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 claims description 3
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M bisulphate group Chemical group S([O-])(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 3
- 229940101209 mercuric oxide Drugs 0.000 claims description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 claims description 3
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 claims description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 abstract description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 15
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004438 haloalkoxy group Chemical group 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- KYPOHTVBFVELTG-OWOJBTEDSA-N (e)-but-2-enedinitrile Chemical compound N#C\C=C\C#N KYPOHTVBFVELTG-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- QPZYPAMYHBOUTC-UHFFFAOYSA-N 5-amino-1-[2,6-dichloro-4-(trifluoromethyl)phenyl]pyrazole-3-carbonitrile Chemical compound NC1=CC(C#N)=NN1C1=C(Cl)C=C(C(F)(F)F)C=C1Cl QPZYPAMYHBOUTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L sodium carbonate Substances [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 3
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 3
- XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M methyltrioctylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 3
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 3
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002085 enols Chemical class 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000361 pesticidal effect Effects 0.000 description 2
- HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N phenylhydrazine Chemical compound NNC1=CC=CC=C1 HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940067157 phenylhydrazine Drugs 0.000 description 2
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 2
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NYBWUHOMYZZKOR-UHFFFAOYSA-N tes-adt Chemical class C1=C2C(C#C[Si](CC)(CC)CC)=C(C=C3C(SC=C3)=C3)C3=C(C#C[Si](CC)(CC)CC)C2=CC2=C1SC=C2 NYBWUHOMYZZKOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004737 (C1-C6) haloalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000171 (C1-C6) haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N (e)-4-(6-aminopurin-9-yl)but-2-en-1-ol Chemical compound NC1=NC=NC2=C1N=CN2C\C=C\CO DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- KYPOHTVBFVELTG-UPHRSURJSA-N (z)-but-2-enedinitrile Chemical compound N#C\C=C/C#N KYPOHTVBFVELTG-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- XVNGZKJJRYQKNB-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichloro-n-phenyl-4-(trifluoromethyl)aniline Chemical compound ClC1=CC(C(F)(F)F)=CC(Cl)=C1NC1=CC=CC=C1 XVNGZKJJRYQKNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZJYSVLJMHMGPI-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylhydrazinyl)butanedinitrile Chemical compound N#CCC(C#N)NNC1=CC=CC=C1 GZJYSVLJMHMGPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYCVHQRDQCXYJI-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethylidene)butanedinitrile;potassium Chemical compound [K].OC=C(C#N)CC#N KYCVHQRDQCXYJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPURUDFMSCZDHC-UHFFFAOYSA-N 2-cyano-n-[2,6-dichloro-4-(trifluoromethyl)anilino]ethanimidoyl cyanide Chemical compound FC(F)(F)C1=CC(Cl)=C(NN=C(CC#N)C#N)C(Cl)=C1 BPURUDFMSCZDHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical class OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- QNAYBMKLOCPYGJ-REOHCLBHSA-N L-alanine Chemical compound C[C@H](N)C(O)=O QNAYBMKLOCPYGJ-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006845 Michael addition reaction Methods 0.000 description 1
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 1
- FYOWOHMZNWQLFG-UHFFFAOYSA-N [2,6-dichloro-4-(trifluoromethyl)phenyl]hydrazine Chemical compound NNC1=C(Cl)C=C(C(F)(F)F)C=C1Cl FYOWOHMZNWQLFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 235000004279 alanine Nutrition 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000003637 basic solution Substances 0.000 description 1
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M benzyltrimethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000006184 cosolvent Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000006198 deformylation Effects 0.000 description 1
- 238000006344 deformylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006193 diazotization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002027 dichloromethane extract Substances 0.000 description 1
- UZUODNWWWUQRIR-UHFFFAOYSA-L disodium;3-aminonaphthalene-1,5-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C2=CC(N)=CC(S([O-])(=O)=O)=C21 UZUODNWWWUQRIR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M dodecyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000003818 flash chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004031 phenylhydrazines Chemical class 0.000 description 1
- 150000008048 phenylpyrazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000005621 tetraalkylammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- BGQMOFGZRJUORO-UHFFFAOYSA-M tetrapropylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC BGQMOFGZRJUORO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GLFDLEXFOHUASB-UHFFFAOYSA-N trimethyl(tetradecyl)azanium Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C GLFDLEXFOHUASB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D231/38—Nitrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C243/00—Compounds containing chains of nitrogen atoms singly-bound to each other, e.g. hydrazines, triazanes
- C07C243/10—Hydrazines
- C07C243/22—Hydrazines having nitrogen atoms of hydrazine groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C251/72—Hydrazones
- C07C251/74—Hydrazones having doubly-bound carbon atoms of hydrazone groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
- C07C251/76—Hydrazones having doubly-bound carbon atoms of hydrazone groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of a saturated carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C255/00—Carboxylic acid nitriles
- C07C255/63—Carboxylic acid nitriles containing cyano groups and nitrogen atoms further bound to other hetero atoms, other than oxygen atoms of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
- C07C255/65—Carboxylic acid nitriles containing cyano groups and nitrogen atoms further bound to other hetero atoms, other than oxygen atoms of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton with the nitrogen atoms further bound to nitrogen atoms
- C07C255/66—Carboxylic acid nitriles containing cyano groups and nitrogen atoms further bound to other hetero atoms, other than oxygen atoms of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton with the nitrogen atoms further bound to nitrogen atoms having cyano groups and nitrogen atoms being part of hydrazine or hydrazone groups bound to the same carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/24—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D213/26—Radicals substituted by halogen atoms or nitro radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/24—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D213/28—Radicals substituted by singly-bound oxygen or sulphur atoms
- C07D213/30—Oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D213/61—Halogen atoms or nitro radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D213/62—Oxygen or sulfur atoms
- C07D213/70—Sulfur atoms
- C07D213/71—Sulfur atoms to which a second hetero atom is attached
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D213/72—Nitrogen atoms
- C07D213/76—Nitrogen atoms to which a second hetero atom is attached
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
- C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
- C07D401/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Compounds Of Unknown Constitution (AREA)
Abstract
1. Sposób wytwarzania pochodnych 5-amino-1-arylo-3-cyjanopirazolowych o wzorze (I) w którym W oznacza atom azotu lub grupe -CR 4; ......... znamienny tym, ze obejmuje cyklizacje, w obecnosci zasady, w obecnosci rozpuszczalnika oraz ewentualnie w obecnosci ka- talizatora przeniesienia fazowego, zwiazku o wzorze (II): ..........zwiazku majacego wzór (III): PL PL PL
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem niniejszego wynalazku jest sposób wytwarzania pochodnych 5-amino-1-arylo-3-cyjanopirazolowych oraz pochodna 2-arylohydrazonosukcynonitrylowa i 2-arylohydrazynosukcynonitrylowa i sposoby ich wytwarzania.
Wynalazek dotyczy sposobów wytwarzania związków pośrednich do syntezy pestycydów oraz nowych związków 2-arylohydrazonosukcynonitrylowych i związków 2-arylohydrazyno-sukcynonitrylowych.
Europejskie opisy patentowe nr 0295117 i 0234119 opisują wytwarzanie związków fenylopirazolowych pestycydowe aktywnych i stosowanych w ich syntezie związków pośrednich 5-amino-1-arylo-3-cyjanopirazolowych. Znane są rozmaite sposoby wytwarzania tych związków. Pożądane jest jednak uzyskanie ulepszonych sposobów wytwarzania tych związków i ich związków pośrednich.
Wiadomo, że arylohydrazyny ulegają addycji Michaela z alkenami o niedoborze elektronów takimi jak akrylonitryl w polarnych rozpuszczalnikach protonowych takich jak alkohole, a następnie utlenienie w środowisku zasadowym daje 5-amino-1-arylopirazole jak opisano na przykład w opisie patentowym Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 4824960. Jednak zgłaszający nie znają jakichkolwiek sprawozdań w literaturze opisujących reakcję hydrazyn z fumaronitrylem. Znane jest utlenianie N,N'-diarylohydrazyn do związków azowych. N-Alkilohydrazyny i N-arylohydrazyny, które są podstawione tylko na jednym atomie azotu, są również utleniane do związków azowych, ale te ogólnie są nietrwałe, rozkładając się do azotu i węglowodorów (patrz J. March, Advanced Organic Chemistry, wydanie 3, strona 1062). Y. H. Kim i Y. Choi opisują w Tetrahedron Letters, tom 37, strony 8771-4, 1996, katalizowane przez pallad odwodornienie alfa-hydrazynonitryli w obecności cyklopentenu z wytworzeniem cyjanków hydrazonylu. Jednak zgłaszający nie znają żadnych innych odnośników dotyczących utleniania hydrazyn do hydrazonów. Ponadto publikacja Kima i Choi ogranicza się do przedstawienia utleniania pochodnych niepodstawionych fenylohydrazyn i nie sugeruje możliwości uzyskania utlenienia hydrazynowych pochodnych fumaronitrylu.
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania pochodnych 5-amino-1-arylo-3-cyjanopirazolowych o wzorze (I)
w którym W oznacza atom azotu lub grupę -CR4;
R2, R4, R5 i R6 wybiera się niezależnie z grupy obejmującej atom wodoru, atom chlorowca, grupę alkilową, grupę chlorowco C1_6 alkilową, grupę C1_6 alkoksylową, grupę chlorowco C1_6 alkoksylową, grupę RyS(O)n-, grupę nitrową, grupę cyjanową i grupę -SF5;
R3 oznacza atom wodoru, atom chlorowca, grupę C1.6 alkilową, grupę chlorowco C1.6 alkilową, grupę C1.6 alkoksylową, grupę chlorowco C1.6 alkoksylową, grupę RyS(O)n-, grupę nitrową, grupę cyjanową, grupę -SF5, lub grupę fenylową podstawioną przez jeden do pięciu elementów z grupy obejmującej atom chlorowca, grupę C1.6 alkilową, grupę chlorowco C1.6 alkilową, grupę C1.6 alkoksylową, grupę chlorowco C1.6 alkoksylową, grupę RyS(O)n-, grupę nitrową, grupę cyjanową i grupę -SF5, które mogą być takie same bądź różne;
R7 oznacza grupę C1.6 alkilową lub grupę chlorowco C1.6 alkilową; i n oznacza 0, 1 lub 2;
charakteryzujący się tym, że obejmuje cyklizację, w obecności zasady, w obecności rozpuszczalnika oraz ewentualnie w obecności katalizatora przeniesienia fazowego, związku o wzorze (II):
PL 195 005 B1
w którym W, R2, R4, R5 i Re mają znaczenie jak zdefiniowano powyżej.
W sposobie korzystnie proporcja molowa zasady: związku o wzorze (II) wynosi od 1:10 do 10:1. Przedmiotem wynalazku jest także pochodna 2-arylohydrazonosukcynonitrylowa o wzorze (II):
w którym W, R2, R4, R5 i Re mają znaczenia jak zdefiniowano wyżej.
Pochodna korzystnie ma jedną lub więcej z następujących cech:
R2 oznacza atom chlorowca lub atom wodoru;
R3 oznacza atom chlorowca, grupę chlorowco C1-6 alkilową, grupę chlorowco C1-6 alkoksylową, grupę R7S(O)p-, grupę -SF5, lub grupę fenylową podstawioną jednym do trzech elementów grupy obejmującej grupę trifluorometylową, grupę trifluorometoksylową, grupę difluorometylową, grupę -S(O)nCF3, grupę dichlorofluorometylową, grupę chlorodifluorometylową, grupę chlorodifluorometoksylową, grupę dichlorofluorometoksylową i atom chlorowca, które mogą być takie same bądź różne;
R4 oznacza atom chlorowca;
R5 i Re oznaczają atom wodoru.
Przedmiotem wynalazku jest także sposób wytwarzania pochodnej 2-arylohydrazonosukcynonitrylowej o wzorze (II) jak zdefiniowano wyżej, charakteryzujący się tym, że obejmuje utlenienie, w obecności rozpuszczalnika, związku mającego wzór (III):
PL 195 005 B1 w którym W, R2, R3, R5 i R6 mają znaczenie jak zdefiniowano wyżej, przy użyciu utleniacza wybranego z grupy obejmującej chinon, nadtlenek, podhalogenin, wodorotlenek metalu alkalicznego w obecności powietrza, sól metalu i tlenek metalu.
W sposobie korzystnie utleniacz wybiera się z grupy obejmującej benzochinon; nadtlenek wodoru; podchloryn sodu; wodorotlenek sodu w obecności powietrza; chlorek miedziowy i tlenek rtęciowy.
Przedmiotem wynalazku jest także sposób wytwarzania pochodnej 2-arylohydrazonosukcynonitrylowej o wzorze (II) jak zdefiniowano wyżej, charakteryzujący się tym, że obejmuje reakcję soli enolanowej związku mającego wzór (IV):
w którym W, R2, R3, R5 i R6 mają znaczenie jak zdefiniowano wyżej, zaś X oznacza anion wodorosiarczanowy lub chlorkowy, w obecności kwasu nieorganicznego, w obecności rozpuszczalnika i ewentualnie w obecności buforu.
Przedmiotem wynalazku jest również pochodna 2-arylohydrazynosukcynonitrylowa o wzorze (III):
w którym W, R2, R3, R5 i R6 mają znaczenie jak zdefiniowano wyżej.
Pochodna korzystnie ma jedną lub więcej z następujących cech:
R2 oznacza atom chlorowca lub atom wodoru;
R3 oznacza atom chlorowca, grupę C1_6 chlorowcoalkilową, grupę C1_6 chlorowcoalkoksylową, grupę R7S(O)p-, grupę -SF5, lub grupę fenylową podstawioną jednym do trzech elementów grupy obejmującej grupę trifluorometylową, grupę trifluorometoksylową, grupę difluorometylową, grupę
PL 195 005 B1
-S(O)nCF3, grupę dichlorofluorometylową, grupę chlorodifluorometylową, grupę chlorodifluorometoksylową, grupę dichlorofluorometoksylową i atom chlorowca, które mogą być takie same bądź różne;
R4 oznacza atom chlorowca;
R5 i R6 oznaczają atom wodoru.
Przedmiotem wynalazku jest także sposób wytwarzania pochodnej 2-arylohydrazynosukcynonitrylowej o wzorze (III) jak wyżej, charakteryzujący się tym, że obejmuje reakcję arylohydrazyny mającej wzór (VII):
w którym W, R2, R3, R5 i R6 mają znaczenie jak zdefiniowano wyżej, ze związkiem o wzorze (VIII):
(NC)HC=CH(CN) (VIII) ewentualnie w obecności rozpuszczalnika i ewentualnie w obecności katalizatora.
Po pierwsze więc, przedmiotem niniejszego wynalazku jest dogodny sposób wytwarzania pestycydowych związków pośrednich 5-amino-1-arylo-3-cyjanopirazolowych, które otrzymuje się z wysoką wydajnością i wysoką czystością.
Następnie przedmiotem niniejszego wynalazku są sposoby wytwarzania związków 2-arylohydrazonosukcynonitrylowych, które można stosować do wytwarzania pestycydowych związków pośrednich 5-amino-1-arylo-3-cyjanopirazolowych.
Dalej przedmiotem niniejszego wynalazku jest sposób wytwarzania związków 2-arylohydrazynosukcynonitrylowych.
Jeszcze dalszym przedmiotem niniejszego wynalazku są nowe związki pośrednie do wytwarzania związków pestycydowo aktywnych.
W jednym aspekcie przedmiotem niniejszego wynalazku jest sposób wytwarzania związku o wzorze (I) metodą cyklizacji związku o wzorze (II), zgodnie ze schematem reakcji Sc 1 pokazanym poniżej:
gdzie W oznacza atom azotu lub grupę -CR4;
R2, R4, R5 i R6 wybiera się niezależnie z grupy obejmującej atom wodoru, atom chlorowca, grupę alkilową, grupę chlorowcoalkilową, grupę alkoksylową, grupę chlorowcoalkoksylową, grupę R7S(O)n-, grupę nitrową, grupę cyjanową i grupę -SF5; i R3 oznacza jak zdefiniowano dla R2, lub oznacza grupę fenylową ewentualnie podstawioną jednym do pięciu elementów grupy obejmującej atom chlorowca, grupę alkilową, grupę chlorowcoalkilową, grupę alkoksylową, grupę chlorowcoalkoksyIową, grupę R7S(O)n-, grupę nitrową, grupę cyjanową i grupę -SF5, które mogą być takie same bądź różne;
R7 oznacza grupę alkilową lub chlorowcoalkilową; i n oznacza 0, 1 lub 2.
O ile nie podano inaczej, to w niniejszym opisie 'grupa alkilowa' oznacza prosty lub rozgałęziony łańcuch alkilowy mający od jednego do sześciu atomów węgla (korzystnie jeden do trzech). O ile nie podano inaczej, to 'grupa chlorowcoalkilowa' i 'grupa chlorowcoalkoksylowa' oznaczają prosty lub rozgałęziony łańcuch, odpowiednio alkilowy lub alkoksylowy, mający od jednego do sześciu atomów węgla (korzystnie jeden do trzech) podstawiony przez jeden lub więcej atomów chlorowca wybranych z grupy obejmującej fluor, chlor lub brom.
Korzystnymi związkami o wzorze (I) są mające jedną lub więcej z następujących cech:
R2 oznacza atom chlorowca lub atom wodoru;
PL 195 005 B1
R3 oznacza atom chlorowca, grupę chlorowcoalkilową (korzystnie trifluorometylową), grupę chlorowcoalkoksylową (korzystnie trifluorometoksylową), grupę R7S(O)p-, grupę -SF5, lub grupę fenylową podstawioną jednym do trzech elementów grupy obejmującej grupę trifluorometylową, grupę trifluoro-metoksylową, grupę difluorometylową, grupę -S(O)nCF3, grupę dichlorofluorometylową, grupę chlorodifluorometylową, grupę chlorodifluorometoksylową, grupę dichlorofluorometoksylową i atom chlorowca, które mogą być takie same bądź różne;
R4 oznacza atom chlorowca; i
R5 i R3 oznaczają atom wodoru.
Szczególnie korzystnymi związkami o wzorze (I) są mające jedną lub więcej z następujących cech:
W oznacza grupę -CR4 i R4 oznacza atom chlorowca;
R3 oznacza grupę chlorowcoalkilową, grupę chlorowcoalkoksylową lub grupę -SF5; i
R5 i R3 oznaczają atom wodoru.
Najkorzystniej związek o wzorze (I) stanowi 5-amino-3-cyjano-1-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylo)pirazol.
Powyższą reakcję Sc 1 z wytworzeniem związków o wzorze (I) ogólnie prowadzi się w obecności zasady, która może być organiczna lub nieorganiczna. Przykładami przydatnych zasad organicznych są aminy takie jak trietyloamina lub pirydyna. Przykładami przydatnych zasad nieorganicznych są wodorotlenki metali alkalicznych lub ziem alkalicznych, octany, węglany lub wodorowęglany takie jak wodorotlenek sodu lub węglan sodu, lub korzystnie amoniak (w roztworze wodnym lub gazowym). Ogólnie proporcja molowa związku o wzorze (I): zasady wynosi od 1:10, do 10:1. Reakcję ewentualnie prowadzi się w obecności katalizatora przeniesienia fazowego, na przykład czwartorzędowych soli amoniowych, takich jak chlorek benzylotrimetyloamoniowy, chlorek trikaprylilometyloamoniowy, chlorek tetrametyloamoniowy, bromek tetra-n-propyloamoniowy, chlorek n-dodecylotrimetyloamoniowy, chlorek tetra-n-butyloamoniowy, i bromek n-tetradecylotrimetyloamoniowy. Reakcję ogólnie prowadzi się w rozpuszczalniku, i przydatne rozpuszczalniki obejmują alkohole (korzystnie etanol) lub rozpuszczalniki nie mieszające się z wodą, zwłaszcza węglowodory chlorowcowane takie jak dichloroetan lub dichlorometan, przy czym rozpuszczalniki nie mieszające się są odpowiednie, gdy wykorzystuje się katalizator przeniesienia fazowego. Ewentualnie jako współrozpuszczalnik można stosować wodę. Temperatura reakcji wynosi ogólnie od -20 do 50°C, a korzystnie od 0 do 20°C.
Zgodnie z następną cechą niniejszego wynalazku, jego przedmiotem jest sposób wytwarzania związku o wzorze (II) metodą utlenienia związku o wzorze (III), zgodnie ze schematem reakcji Sc 2 pokazanym poniżej:
gdzie W, R2, R3, R5 i R6 oznaczają jak zdefiniowano powyżej.
Korzystnymi związkami o wzorze (II) są związki jak określono w definicji W, R2, R3, R5 i R6 dla związków o wzorze (I) powyżej. Najkorzystniejszy związek o wzorze (II) stanowi 2-(2,6-dichloro-4-trifluorometylo-fenylohydrazono)-sukcynonitryl.
Związki o wzorze (II) można otrzymać jako mieszaninę izomerów syn i anti.
Utleniacze przydatne do powyższego schematu rekcji Sc 2 dla uzyskania związków o wzorze (II) obejmują chinony takie jak benzochinon, nadtlenki takie jak nadtlenek wodoru, podhalogeniny takie jak podchloryn sodu, lub wodorotlenek metalu alkalicznego taki jak wodorotlenek sodu w obecności
PL 195 005 B1 powietrza, lub korzystnie sól lub tlenek metalu na przykład chlorek miedziowy lub tlenek rtęciowy. Reakcję ogólnie prowadzi się w rozpuszczalniku. Rozpuszczalniki przydatne do użycia obejmują węglowodory aromatyczne chlorowcowane lub nie chlorowcowane takie jak toluen lub chlorobenzen, nitryle takie jak acetonitryl lub amidy takie jak N,N-dimetyloformamid. Temperatura reakcji wynosi ogólnie od 20 do 150°C, a korzystnie od 5° do 100°C.
Zgodnie z następną cechą niniejszego wynalazku jego przedmiotem jest sposób wytwarzania związku o wzorze (II) metodą reakcji związku o wzorze (IV), jego enolu, lub jego soli enolanowej z solą diazoniową o wzorze (V) zgodnie ze schematem reakcji Sc 3 poniżej:
gdzie W, R2, R3, R5 i R6 mają znaczenie takie samo jak zdefiniowano powyżej na schemacie reakcji Sc 1, zaś X oznacza ogólnie anion wodorosiarczanowy lub chlorkowy.
Związek (IV) jest ogólnie w postaci soli enolanu, korzystnie soli metalu alkalicznego, na przykład soli potasowej lub sodowej enolanu.
Powyższa reakcja Sc 3 z wytworzeniem związku o wzorze (II) metodą reakcji związku o wzorze (IV) ze związkiem o wzorze (V) zachodzi przez sprzęganie i odformylowanie. Gdy użytym związkiem (IV) jest sól enolanowa metalu, to reakcję ogólnie prowadzi się w obecności dostatecznego nadmiaru kwasu nieorganicznego, na przykład kwasu siarkowego lub kwasu solnego (który jest ogólnie obecny, gdy reakcję diazowania prowadzi się w tym samym naczyniu) dla przeprowadzenia enolanu metalu w wolny enol. Ogólnie stosuje się rozpuszczalniki takie jak kwas octowy, woda, węglowodory chlorowcowane takie jak dichlorometan lub dichloroetan, węglowodory aromatyczne chlorowcowane takie jak chlorobenzen, acetonitryl, N,N-dimetyloformamid, lub korzystnie alkohol, na przykład etanol. Ewentualnie reakcję prowadzi się w obecności buforu takiego jak octan sodu. Po etapie sprzęgania reakcję ogólnie kończy się dodatkiem słabej zasady, takiej jak roztwór wodorotlenku amonu otrzymując roztwór słabo zasadowy, na przykład mający pH około 8. Temperatura reakcji wynosi ogólnie od -20 do 50°C, a korzystnie od 0 do 20°C.
Powyższą sól diazoniową o wzorze (V) ogólnie tworzy się na miejscu diazując związek o wzorze (Va):
w którym W, R2, R3, R5 i R6 mają znaczenie takie samo jak zdefiniowano powyżej, stosując warunki znane w literaturze i ogólnie stosując równoważnik molowy azotynu sodu oraz kwas nieorganiczny taki jak kwas solny lub kwas siarkowy.
PL 195 005 B1
Zgodnie z następną cechą niniejszego wynalazku związki o wzorze (II), w którym W, R2, R3, R5 i R6 mają znaczenie takie samo jak zdefiniowano powyżej na schemacie reakcji Sc 1, można również wytworzyć metodą reakcji związku o wzorze (VI):
CN
CO2Ra (VI) w którym Ra oznacza grupę alkilową, korzystnie etylową, z solą diazoniową o wzorze (V), w którym W, R2, R3, R5 i R6 i X oznaczają jak zdefiniowano powyżej.
Stosowane warunki reakcji są takie same jak wyżej opisane dla powyższego schematu rekcji Sc 3. Zgodnie z następną cechą niniejszego wynalazku związki o wzorze (III) można wytworzyć metodą reakcji arylohydrazyny o wzorze (VII) ze związkiem o wzorze (VIII), zgodnie ze schematem reakcji Sc 4 pokazanym poniżej:
gdzie W, R2, R3, R5 i R6 mają znaczenia takie same jak zdefiniowano powyżej na schemacie reakcji Sc 1.
Związki o wzorze (VIII) są znane i można je stosować w postaci izomeru cis, maleonitrylu, albo korzystnie izomeru trans, fumaronitrylu. Ewentualnie można zastosować mieszaninę obu izomerów. Arylohydrazyny o wzorze (VII) są znane albo można je wytworzyć znanymi sposobami.
Korzystne związki o wzorze (III) mają takie same wartości W, R2, R4, R5 i R6 jak korzystne powyżej dla związków o wzorze (I). Najkorzystniej związek o wzorze (III) stanowi 2-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazyno)sukcynonitryl.
Powyższą reakcję z wytworzeniem związków o wzorze (III) można przeprowadzić w rozmaitych rozpuszczalnikach, przy czym korzystne są rozpuszczalniki polarne, na przykład alkohole. Szczególnie korzystne są polarne rozpuszczalniki nieprotonowe takie jak N-metylopirolidon, N,N-dimetyloformamid lub dimetylosulfotlenek. W innym korzystnym aspekcie reakcję prowadzi się bez rozpuszczalnika ogrzewając mieszaninę związków o wzorze (VII) i (VIII).
Ewentualnie w reakcji może być też obecny katalizator taki jak sól tetraalkiloamoniowa, na przykład wodorotlenek N-benzylotrimetyloamoniowy, lub alanina.
Temperatura reakcji wynosi ogólnie od 20 do 150°C, a korzystnie od 80 do 100°C.
Reakcję można prowadzić stosując proporcję molową związku o wzorze (VIII) do związku o wzorze (VII) równą od 1:10 do 10:1, a korzystnie od 1:1 do 5:1, nawet korzystniej od 1,1 do 1.
Związki o wzorach (II) i (III) powyżej są nowe, a przeto stanowią następną cechę charakterystyczną niniejszego wynalazku.
Wynalazek ilustrują następujące przykłady. Widma NMR rejestruje się stosując deuterochloroform jako rozpuszczalnik.
Hplc oznacza wysokosprawną chromatografię cieczową, t.t oznacza temperaturę topnienia.
PL 195 005 B1
P r z y k ł a d 1
Wytwarzanie 5-amino-3-cyjano-1-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylo)pirazolu (Schemat reakcji Sc 1)
Amoniak (20 mikrolitrów 8% roztworu amoniaku w wodzie) dodano do mieszaniny 2-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazono)sukcynonitrylu (0,077 g) w etanolu (1 ml) i wodzie (0,2 ml) w temperaturze 0°C. Po 10 minutach mieszaninę ekstrahowano (dichlorometan) i odparowano otrzymując związek tytułowy (0,076 g, 97% wydajności). Czystość 98% (metodą hplc).
P r z y k ł a d 2
Wytwarzanie 5-amino-3-cyjano-1-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylo)pirazolu (Schemat reakcji Sc 1)
Roztwór 2-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazono)sukcynonitrylu (1,0 g) i wodorowęglanu sodu (40 ml nasyconego roztworu wodnego) i dichlorometan 915 ml) mieszano w temperaturze 20°C przez 3 godziny przy pH 9. Następnie dodawano roztwór węglanu sodu aż do pH 11 i mieszanie kontynuowano przez noc. Dodano małą ilość roztworu wodorotlenku sodu uzyskując pH 12, a następnie trzy godziny później małą ilość Aliquat 336 (znak towarowy, chlorek trikaprylilometyloamoniowy), i po 2 godzinach reakcja została zakończona. Ekstrakt dichlorometanowy przemyto (woda i solanka), osuszono (siarczan sodu) i odparowano otrzymując związek tytułowy.
P r z y k ł a d 3
Wytwarzanie 2-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazono)sukcynonitrylu (Schemat reakcji Sc 2)
Mieszaninę 2-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazyno)sukcynonitrylu (0,323 g) i chlorku miedziowego (0,175 g) ogrzewano w chlorobenzenie w temperaturze 60°C przez 6 godzin. Po przesączeniu i odparowaniu otrzymano związek tytułowy i 5-amino-3-cyjano-1-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylo)pirazol jako mieszaninę 7:1. Chromatografia kolumnowa na żelu krzemionkowym eluowanym dichlorometanem dała czysty związek tytułowy otrzymany jako mieszanina izomerów syn i anti, NMR (izomer anti) 3,6 (s, 2H), 7,57 (s, 2H), 8,82 (s, 1H, wymienny z D2O), NMR (izomer syn) 3,56 (s, 2H), 7,59 (s, 2H), 8,27 (s, 1H, wymienny z D2O).
P r z y k ł a d 4
Wytwarzanie 2-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazono)sukcynonitrylu (Schemat reakcji Sc 3)
Azotyn sodu (3,9 g) dodano do mieszanego stężonego kwasu siarkowego (12,8 ml) i ogrzewano w temperaturze 80°C aż do rozpuszczenia. Kwas octowy (25 ml) dodano w temperaturze 30°C. Mieszaninę 2,6-dichloro-4-trifluorometylofenyloaniliny (10,0 g) i kwas octowy (25 ml) dodawano przez 10 minut w temperaturze 20°C utrzymując temperaturę poniżej 25°C. Mieszaninę ogrzewano w temperaturze 55°C przez 50 minut, a następnie dodano azotyn sodu (0,65 g) i kwas octowy (10 ml), i po 20 minutach ogrzano do 70°C i dodano kwas siarkowy (2,8 ml). Po 20 minutach ochłodzoną mieszaninę dodano do mieszaniny soli potasowej 2-hydroksymetylenosukcynonitrylu (7,6 g) i octanu sodu (35,6 g) w wodzie i kwasie octowym (70 ml) w temperaturze 10°C. Po ogrzewaniu do 20°C przez 1 godzinę, dodano dichlorometan a następnie roztwór wodorotlenku amonu (210 ml) uzyskując pH 8. Fazę organiczną oddzielono, przemyto (wodą i solanką), osuszono (siarczan sodu) i odparowano otrzymując związek tytułowy jako czerwono-brunatną substancję stałą (18,1 g). Rekrystalizacja z heksanu/eteru t-butylowo-metylowego) dała czysty związek tytułowy (6,85 g), temperatura topnienia 80-82°C, NMR 3,6 (s, 2H), 7,66 (s, 2H), 9,03 (s, 1H, wymienny z D2O).
P r z y k ł a d 5
Wytwarzanie 2-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazyno)sukcynonitrylu (Schemat reakcji Sc 4)
Mieszaninę 2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazyny (1,0 g) i fumaronitrylu (1,0 g) w dimetylosulfotlenku (10 ml) ogrzewano w temperaturze 100°C przez 7 godzin. Ochłodzoną mieszaninę rozcieńczono wodą i ekstrahowano (eter) otrzymując, po odparowaniu i krystalizacji z dichlorometanu/heksanu, związek tytułowy (0,823 g, 63%), temperatura topnienia 101-102°C.
P r z y k ł a d 6
Wytwarzanie 2-(fenylohydrazyno)sukcynonitrylu (Schemat reakcji Sc 4)
Mieszaninę fenylohydrazyny (4,29 g) i fumaronitrylu (3,1 g), gdzie fenylohydrazyna służyła jako rozpuszczalnik, ogrzewano w temperaturze 75-80°C przez 20 godzin. Oczyszczanie metodą chromatografii rzutowej na żelu krzemionkowym i krystalizacja z dichlorometanu/heksanu dały związek tytułowy (3,29 g, 45%), temperatura topnienia 97-98°C.
Claims (10)
- Zastrzeżenia patentowe1. SposóbwWwarzania pochodnych5-amino-1-arylo-3-cyjanopirazolowycho wzorze(l) w którym W ozazczz ztom zzotu lub grupę -CR4;R2, R4, R5 i R6 wybiera się oiezzleżoie z grupy obejmującej ztom wodoru, ztom chlorowca, grupę C1-6 zlkilową, grupę chlorowco C1-6 zlkilową, grupę C1-6 zlkoksalową, grupę chlorowco C1-6 zlkoksylową, grupę R7P(O)n-, grupę oitrową, grupę cojzaową i grupę -PF5;R3 ozazczz ztom wodoru, ztom chlorowcz, grupę Ci_6 zlkilową, grupę chlorowco Ci_6 zlkilową, grupę Ci_6 zlkoksalową, grupę chlorowco Ci_6 zlkoksalową, grupę R7P(O)n-, grupę nitrową, grupę cojzaową, grupę -PF5, lub grupę fenylową podstzwioaą przez jeden do pięciu elementów z grupy obejmującej ztom chlorowcz, grupę Ci_6 zlkilową, grupę chlorowco Ci_6 zlkilową, grupę Ci_6 zlkoksolową, grupę chlorowco Ci_6 zlkoksolową, grupę R7P(O)a-, grupę aitrową, grupę cojzaową i grupę -PF5, które mogą być tzkie szme bądź rbżae;R7 ozazczz grupę Ci_6 zlkilową lub grupę chlorowco Ci_6 zlkilową; i a ozazczz 0, i lub 2;znamienny tym, że obejmuje cyklizzcję, w obecaości zzszdy, w obecaości rozpuszczzlaikz orzz eweatuzlaie w obecaości kztzlizztorz przeaiesieaiz fzzowego, związku o wzorze (II):w którym W, R2, R3, R5 i R6 mzją zazczeaie jzk zdefiaiowzao powyżej.
- 2. Sposób według zzstrz. i, znamienny tym, że proporcjz molowz zzszdy: związku o wzorze (II) wyaosi od I:I0 do I0:I.
- 3. Pochodaz 2-zrolohydrzzoaosukcyaoaitrylowz o wzorze (II):PL 195 005 B1 w którym W, R2, R3, R5 i R6 mają znaczenia jak zdefiniowano w zastrz. 1.
- 4. Pochodna według zastrz. 3, ma jedną lub więcej z następujących cech:R2 oznacza atom chlorowca lub atom wodoru;R3 oznacza atom chlorowca, grupę chlorowco Ci_6 alkilową, grupę chlorowco Ci_6 alkoksylową, grupę R7S(O)p-, grupę -SF5, lub grupę fenylową podstawioną jednym do trzech elementów grupy obejmującej grupę trifluorometylową, grupę trifluorometoksylową, grupę difluorometylową, grupę -S(O)nCF3, grupę dichlorofluorometylową, grupę chlorodifluorometylową, grupę chlorodifluorometoksylową, grupę dichlorofluorometoksylową i atom chlorowca, które mogą być takie same bądź różne;R4 oznacza atom chlorowca;R5 i R6 oznaczają atom wodoru.
- 5. Spooóó wytwarzznia ppohodnnj 2-arylohydraaznosukkynonittylowej o wzzrzz (II) j ak zzdfiniowano w zastrz. 3, znamienny tym, że obejmuje utlenianie, w obecności rozpuszczalnika, związku mającego wzór (III):w którym W, R2, R3, R5 i R6 mają znaczenie jak zdefiniowano w zastrz. 3, przy użyciu utleniacza wybranego z grupy obejmującej chinon, nadtlenek, podhalogenin, wodorotlenek metalu alkalicznego w obecności powietrza, sól metalu i tlenek metalu.
- 6. SppnóówaerukzakSz.5, z znmieenntym. żż utleniaacwayierasięz grukpoOejmujacejbbnn zochinon; nadtlenek wodoru; podchloryn sodu; wodorotlenek sodu w obecności powietrza; chlorek miedziowy i tlenek rtęciowy.
- 7. Sposó watwarzznia ppohoOnoj 2-arylonoyryaznonuUcynonnrylowaj o w^wzozz ( II) j ja zzdfiniowano w zastrz. 3, znamienny tym, że obejmuje reakcję soli enolanowej związku mającego wzór (IV):PL 195 005 B1 w którym W, R2, R3, R5 i R6 mają znaczenie jak zdefiniowano w zastrz. 3, zaś X oznacza anion wodorosiarczanowy lub chlorkowy, w obecności kwasu nieorganicznego, w obecności rozpuszczalnika i ewentualnie w obecności buforu.
- 8. Pochodna 2-arylohydrazynosukcynonitrylowa o wzorze (III):w którym W, R2, R3, R5 i R6 mają znaczenie jak zdefiniowano w zastrz. 1.
- 9. Pochodna według zastrz. 8, znamienna tym, że ma jedną lub więcej z następujących cech:R2 oznacza atom chlorowca lub atom wodoru;R3 oznacza atom chlorowca, grupę chlorowco C1_6 alkilową, grupę chlorowco C1_6 alkoksylową, grupę R7S(O)p-, grupę -SF5, lub grupę fenylową podstawioną jednym do trzech elementów grupy obejmującej grupę trifluorometylową, grupę trifluorometoksylową, grupę difluorometylową, grupę -S(O)nCF3, grupę dichlorofluorometylową, grupę chlorodifluorometylową, grupę chlorodifluorometoksylową, grupę dichlorofluorometoksylową i atom chlorowca, które mogą być takie same bądź różne;R4 oznacza atom chlorowca;R5 i R6 oznaczają atom wodoru.
- 10. Sppsóówytwarzzniappohoonej 2-ap/lohyyraaznnsukccnnnnrylowejo wzzrzz( III) j akzzdfiniowano w zastrz. 8, znamienny tym, że obejmuje reakcję arnlohydrazyny mającej wzór (VII):PL 195 005 B1 w którym W, R2, R3, R5 i R6 mają znaczenie jak zdefiniowano w zastrz. 8, ze związkiem o wzorze (VIII):(NC)HC=CH(CN) (VIII) ewentualnie w obecności rozpuszczalnika i ewentualnie w obecności katalizatora.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US3951697P | 1997-03-03 | 1997-03-03 | |
GB9705316A GB2324086A (en) | 1997-03-14 | 1997-03-14 | Phenyl hydrazino Succinonitrile Compounds |
PCT/EP1998/001057 WO1998039302A1 (en) | 1997-03-03 | 1998-02-25 | Processes for preparing pesticidal intermediates |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
PL335443A1 PL335443A1 (en) | 2000-04-25 |
PL195005B1 true PL195005B1 (pl) | 2007-07-31 |
Family
ID=26311188
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL335443A PL195005B1 (pl) | 1997-03-03 | 1998-02-25 | Sposób wytwarzania pochodnych 5-amino-1-arylo-3-cyjanopirazolowych oraz pochodna 2-arylohydrazonosukcynonitrylowa i 2-arylohydrazynosukcynonitrylowa i sposoby ich wytwarzania |
Country Status (27)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6084105A (pl) |
EP (1) | EP0966445B1 (pl) |
JP (1) | JP3507509B2 (pl) |
KR (1) | KR100568921B1 (pl) |
CN (2) | CN1184207C (pl) |
AR (2) | AR011912A1 (pl) |
AT (1) | ATE203521T1 (pl) |
AU (1) | AU744505B2 (pl) |
BG (1) | BG64277B1 (pl) |
BR (1) | BR9807988B1 (pl) |
CA (1) | CA2281892C (pl) |
CZ (1) | CZ295189B6 (pl) |
DE (1) | DE69801214T2 (pl) |
DK (1) | DK0966445T3 (pl) |
EA (1) | EA001777B1 (pl) |
ES (1) | ES2158676T3 (pl) |
GR (1) | GR3036282T3 (pl) |
HK (2) | HK1027102A1 (pl) |
HU (1) | HU228183B1 (pl) |
ID (1) | ID22679A (pl) |
IL (1) | IL131660A (pl) |
NZ (1) | NZ337840A (pl) |
PL (1) | PL195005B1 (pl) |
PT (1) | PT966445E (pl) |
SK (1) | SK283403B6 (pl) |
TR (1) | TR199902141T2 (pl) |
WO (1) | WO1998039302A1 (pl) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1073627B1 (en) * | 1998-04-20 | 2004-12-01 | Bayer Agriculture Limited | Processes for preparing pesticidal intermediates |
FR2789387B1 (fr) | 1999-02-04 | 2001-09-14 | Aventis Cropscience Sa | Nouveau procede de preparation d'intermediaires pesticides |
DE10142665B4 (de) | 2001-08-31 | 2004-05-06 | Aventis Pharma Deutschland Gmbh | C2-Disubstituierte Indan-1-one und ihre Derivate |
DE60329898D1 (de) * | 2002-02-05 | 2009-12-17 | Sumitomo Chemical Co | Verfahren zur herstellung einer biarylverbindung |
EP1378506B1 (en) | 2002-07-05 | 2006-07-26 | BASF Agro B.V., Arnhem (NL), Wädenswil-Branch | Process for the preparation of phenyl pyrazole compounds |
EP2443093B8 (en) * | 2009-03-16 | 2013-10-09 | Basf Se | Process for the preparation of pyrazole derivatives |
US9108932B2 (en) | 2013-03-13 | 2015-08-18 | Dow Agrosciences Llc | Preparation of haloalkoxyarylhydrazines and intermediates therefrom |
US9212150B2 (en) | 2013-03-13 | 2015-12-15 | Dow Agrosciences Llc | Process for the preparation of certain triaryl pesticide intermediates |
CN103396366B (zh) * | 2013-08-06 | 2015-12-02 | 盐城工学院 | 5-氨基-3-氰基-1-(2,6-二氯-4-三氟甲基苯基)吡唑的生产方法 |
MX2016004945A (es) | 2013-10-17 | 2016-06-28 | Dow Agrosciences Llc | Procesos para la preparacion de compuestos plaguicidas. |
CN106117145A (zh) * | 2016-07-12 | 2016-11-16 | 潍坊鑫诺化工有限公司 | 5‑氨基‑1‑(2,6‑二氯‑4‑三氟甲基苯基)‑3‑氰基吡唑的制备方法 |
US10233155B2 (en) | 2016-12-29 | 2019-03-19 | Dow Agrosciences Llc | Processes for the preparation of pesticide compounds |
CN108707113A (zh) * | 2018-06-28 | 2018-10-26 | 长沙麓兴生物科技有限公司 | 一种n-烷基-氰基吡唑的合成方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8713768D0 (en) * | 1987-06-12 | 1987-07-15 | May & Baker Ltd | Compositions of matter |
GB8531485D0 (en) * | 1985-12-20 | 1986-02-05 | May & Baker Ltd | Compositions of matter |
DE3612939A1 (de) * | 1986-04-17 | 1987-10-22 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von 1-aryl-5-amino-pyrazolen |
DE3612940A1 (de) * | 1986-04-17 | 1987-10-22 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von 1-aryl-5-aminopyrazolen |
AU1191292A (en) * | 1991-02-11 | 1992-09-07 | Schering Agrochemicals Limited | Imidazole pesticides |
GB9120641D0 (en) * | 1991-09-27 | 1991-11-06 | Ici Plc | Heterocyclic compounds |
GB9604691D0 (en) * | 1996-03-05 | 1996-05-01 | Rhone Poulenc Agriculture | New processes for preparing pesticidal intermediates |
-
1998
- 1998-02-25 IL IL13166098A patent/IL131660A/xx not_active IP Right Cessation
- 1998-02-25 AT AT98913586T patent/ATE203521T1/de active
- 1998-02-25 AU AU68232/98A patent/AU744505B2/en not_active Expired
- 1998-02-25 SK SK1191-99A patent/SK283403B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1998-02-25 KR KR1019997008014A patent/KR100568921B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-02-25 PT PT98913586T patent/PT966445E/pt unknown
- 1998-02-25 WO PCT/EP1998/001057 patent/WO1998039302A1/en not_active Application Discontinuation
- 1998-02-25 ID IDW991064A patent/ID22679A/id unknown
- 1998-02-25 NZ NZ337840A patent/NZ337840A/xx not_active IP Right Cessation
- 1998-02-25 ES ES98913586T patent/ES2158676T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-25 TR TR1999/02141T patent/TR199902141T2/xx unknown
- 1998-02-25 CN CNB021526400A patent/CN1184207C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-25 EP EP98913586A patent/EP0966445B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-25 CN CN98802977A patent/CN1103759C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-25 DK DK98913586T patent/DK0966445T3/da active
- 1998-02-25 DE DE69801214T patent/DE69801214T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-25 JP JP53811698A patent/JP3507509B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-25 EA EA199900790A patent/EA001777B1/ru not_active IP Right Cessation
- 1998-02-25 CZ CZ19993103A patent/CZ295189B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1998-02-25 CA CA002281892A patent/CA2281892C/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-25 HU HU0002159A patent/HU228183B1/hu unknown
- 1998-02-25 BR BRPI9807988-3B1A patent/BR9807988B1/pt active IP Right Grant
- 1998-02-25 PL PL335443A patent/PL195005B1/pl unknown
- 1998-03-02 AR ARP980100929A patent/AR011912A1/es active IP Right Grant
-
1999
- 1999-09-02 US US09/388,524 patent/US6084105A/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-09-21 BG BG103751A patent/BG64277B1/bg unknown
-
2000
- 2000-05-17 US US09/572,948 patent/US6258973B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-10-04 HK HK00106287A patent/HK1027102A1/xx not_active IP Right Cessation
-
2001
- 2001-07-26 GR GR20010400314T patent/GR3036282T3/el unknown
-
2003
- 2003-11-28 HK HK03108699A patent/HK1056360A1/xx not_active IP Right Cessation
-
2007
- 2007-06-15 AR ARP070102652A patent/AR061492A2/es active IP Right Grant
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7087786B2 (en) | Process for preparing pesticidal intermediates | |
PL195005B1 (pl) | Sposób wytwarzania pochodnych 5-amino-1-arylo-3-cyjanopirazolowych oraz pochodna 2-arylohydrazonosukcynonitrylowa i 2-arylohydrazynosukcynonitrylowa i sposoby ich wytwarzania | |
US4824960A (en) | Preparation of 1-aryl-5-amino-pyrazoles | |
CA2328832C (en) | Processes for preparing pesticidal intermediates | |
BR0312469B1 (pt) | Processo para a preparação de composto, e, composto | |
GB2324086A (en) | Phenyl hydrazino Succinonitrile Compounds | |
EP0952144B1 (en) | Processes for preparing pesticidal intermediates | |
EP0952145B1 (en) | Process for preparing pesticidal intermediates | |
MXPA98007125A (en) | New processes for the preparation of pesticide intermediaries | |
MXPA01007842A (en) | New process for preparing pesticidal intermediates |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RECP | Rectifications of patent specification |