PL180201B1 - Pochodne izocyjanianowe podstawionych acetofenonów, sposób wytwarzania pochodnych izocyjanianowych podstawionych acetofenonów i sposób modyfikacji powierzchni wyprasek organicznych PL PL PL PL PL PL PL PL - Google Patents

Pochodne izocyjanianowe podstawionych acetofenonów, sposób wytwarzania pochodnych izocyjanianowych podstawionych acetofenonów i sposób modyfikacji powierzchni wyprasek organicznych PL PL PL PL PL PL PL PL

Info

Publication number
PL180201B1
PL180201B1 PL94304064A PL30406494A PL180201B1 PL 180201 B1 PL180201 B1 PL 180201B1 PL 94304064 A PL94304064 A PL 94304064A PL 30406494 A PL30406494 A PL 30406494A PL 180201 B1 PL180201 B1 PL 180201B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
formula
substituted
alkyl
radical
groups
Prior art date
Application number
PL94304064A
Other languages
English (en)
Other versions
PL304064A1 (en
Inventor
Peter Chabrecek
Dieter Lohmann
Original Assignee
Novartis Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Novartis Ag filed Critical Novartis Ag
Publication of PL304064A1 publication Critical patent/PL304064A1/xx
Publication of PL180201B1 publication Critical patent/PL180201B1/pl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/075—Silicon-containing compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/08—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C271/10—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C271/20—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/08—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C271/24—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atom of at least one of the carbamate groups bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/08—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C271/26—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atom of at least one of the carbamate groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C271/28—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atom of at least one of the carbamate groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring to a carbon atom of a non-condensed six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/32—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings
    • C07C271/38—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings with the nitrogen atom of at least one of the carbamate groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08B—POLYSACCHARIDES; DERIVATIVES THEREOF
    • C08B37/00—Preparation of polysaccharides not provided for in groups C08B1/00 - C08B35/00; Derivatives thereof
    • C08B37/0006—Homoglycans, i.e. polysaccharides having a main chain consisting of one single sugar, e.g. colominic acid
    • C08B37/0009—Homoglycans, i.e. polysaccharides having a main chain consisting of one single sugar, e.g. colominic acid alpha-D-Glucans, e.g. polydextrose, alternan, glycogen; (alpha-1,4)(alpha-1,6)-D-Glucans; (alpha-1,3)(alpha-1,4)-D-Glucans, e.g. isolichenan or nigeran; (alpha-1,4)-D-Glucans; (alpha-1,3)-D-Glucans, e.g. pseudonigeran; Derivatives thereof
    • C08B37/0012—Cyclodextrin [CD], e.g. cycle with 6 units (alpha), with 7 units (beta) and with 8 units (gamma), large-ring cyclodextrin or cycloamylose with 9 units or more; Derivatives thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08B—POLYSACCHARIDES; DERIVATIVES THEREOF
    • C08B37/00—Preparation of polysaccharides not provided for in groups C08B1/00 - C08B35/00; Derivatives thereof
    • C08B37/006—Heteroglycans, i.e. polysaccharides having more than one sugar residue in the main chain in either alternating or less regular sequence; Gellans; Succinoglycans; Arabinogalactans; Tragacanth or gum tragacanth or traganth from Astragalus; Gum Karaya from Sterculia urens; Gum Ghatti from Anogeissus latifolia; Derivatives thereof
    • C08B37/0063—Glycosaminoglycans or mucopolysaccharides, e.g. keratan sulfate; Derivatives thereof, e.g. fucoidan
    • C08B37/0072—Hyaluronic acid, i.e. HA or hyaluronan; Derivatives thereof, e.g. crosslinked hyaluronic acid (hylan) or hyaluronates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
    • C08F8/30—Introducing nitrogen atoms or nitrogen-containing groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04—Polysiloxanes
    • C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/12—Chemical modification
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/12—Chemical modification
    • C08J7/16—Chemical modification with polymerisable compounds
    • C08J7/18—Chemical modification with polymerisable compounds using wave energy or particle radiation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G02B1/041—Lenses
    • G02B1/043—Contact lenses
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
    • C07C2601/14—The ring being saturated
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S522/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
    • Y10S522/904—Monomer or polymer contains initiating group
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S522/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
    • Y10S522/904—Monomer or polymer contains initiating group
    • Y10S522/905—Benzophenone group
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
    • Y10T428/31645—Next to addition polymer from unsaturated monomers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31652—Of asbestos
    • Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31652—Of asbestos
    • Y10T428/31667—Next to addition polymer from unsaturated monomers, or aldehyde or ketone condensation product
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31971—Of carbohydrate

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Dental Preparations (AREA)
  • Immobilizing And Processing Of Enzymes And Microorganisms (AREA)
  • Eyeglasses (AREA)
  • Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)
  • Steroid Compounds (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

1 Pochodne izocyjanianowe podstawionych acetofenonów o wzorze 1, w k tórym jeden z podstawników R 1, R1' i R2 oznacza grupe hydroksylowa, a pozo- stale dwa, niezaleznie jeden od drugiego, o znaczaja w o d ó r C 1 -C 4 a lk il lub fe - n y l, R 3 oznacza lin io w y rodnik C 1-C 4 alkilenow y, a R4 oznacza rozgaleziony rodnik C 3- C 1 0 alkilenow y, rodnik fenylenow y podstawiony C 1-C4 alkilem lub rodnik cykloheksyleno-C3 H 2 , niepodstawiony lub podstawiony przez 1 do 3 grup C 1-C 4alkilow ych, przy czym y oznacza liczbe calkow ita od 1 do 4 9 Sposób w ytw arzania pochodnych izocyjan ianowych podstawionych acetofenonow o w zorze 1, w którym jeden z podstawników R1, R 1' i R 2 oznacza grupe hydroksylow a, a pozostale dwa, niezaleznie jeden od drugiego, ozna- czaja w odór, C 1 -C 4 alkil lub fenyl, R 3 oznacza lin io w y rodnik C 1 -C 4 alkilenow y, a R 4 oznacza rozgaleziony rodnik C 3- C 10 al kilenow y, rodnik fenylenow y pod- stawiony C 1 -C 4alkilem lub rodnik cykloheksyleno-C3H 2 , niepodstawiony lub podstawiony przez 1 do 3 grup C1-C 4-alkilow ych, przy czym y oznacza liczbe calkow ita od 1 do 4, zn am ien n y ty m , ze poddaje sie reakcji zw iazek o w zorze 2, w k tórym R 1, R 1 ', R2 i R 3 m aja w yzej podane znaczenia, z d uzocyjanianem o w zorze 3, w którym R 4 m a w yzej podane znaczenie, w obojetnym rozpuszczal- niku organicznym , w temperaturze do 4 5 °C 10 Sposób m odyfikacji pow ierzchni wyprasek organicznych, zawie- rajacych polim ery naturalne lub syntetyczne, które zaw ieraja m ajace aktywny H grupy H O -, H S -, H N -C1-C 6alkilow e lub -N H 2, zn a m ie n n y ty m , ze a) nanosi sie cienka warstwe fotoinicjatora o w zorze 1 na powierzchnie wypraski, b) prowadzi sie reakcje w iazania fotoinicjatora z pow ierzchnia w ypraski przez utrzym yw anie powleczonej w ypraski w temperaturze pokojowej lub przez ogrzewanie je j w temperaturze do 60 ° C , a nastepnie odm ywa sie nadmiar fotoinicjatora c) nanosi sie cienka warstwe m onom eru z nienasyconymi w iazaniam i ety- lenow ym i, zdolnego do fo topolim e ry za cji, w ybranego z g rupy skladajacej sie z kwasu akrylow ego, kwasu m etakrylow ego, estru 2-hydroksyetylow ego kwasu m etakrylow eg o , 2,3-dwuhydioksypropylometakrylanu, N,N-dwum etylo- akr ylam idu, akrylamidu, N,N-dw uetyloam inoetylom etakrylanu W zór 1 Wzór 2 Wzór 3 P L 1 8 0 2 0 1 P L PL PL PL PL PL PL PL PL

Description

Przedmiotem wynalazku sąpochodne izocyjamanowe podstawionych acetofenonów, sposób wytwarzania pochodnych izocyjamanowych podstawionych acetofenonów i sposób modyfikacji powierzchni wyprasek organicznych z tych pochodnych.
Związki typu alkilofenonu lub hydroksyalkilofenonu o strukturze według wzoru A sąznakomitymi fotoinicjatorami indukowanej promieniowaniem polimeryzacji nienasyconych, zawierających wiązania etylenowe, związków monomerycznych, oligomerycznych lub polimerycznych. W wielu przypadkach jako szczególnie dolegliwe wady obserwuje się zmianę zabarwienia (żółknienie) powstających polimerów oraz toksyczne własności tworzących się niskocząsteczkowych związków, które mogą obniżyć własności użytkowe tak otrzymanych polimerów. W celu uniknięcia tych oraz innych wad takich monomerycznych fotoimcjatorów proponuje się, w rozwiązaniu ujawnionym w EP-A-0 281 941, modyfikować fotomicjatory w pierścieniu fenylowym tak, aby produkty fotolizy były mocno związane w otrzymywanym związku pohmerycznym. Jako stosowane do tego celu powszechnie wymienia się również grupy izozcyjanianowe, jako grupy funkcyjne, które sązwiązane a pierścieneim fenylowym przez grupę rozpierającą np. liniową grupę alkilenową. Otrzymywanie takich związków stwarza jednak znaczne problemy w syntezie, ponieważ przy podstawianiu liniowych dwuizocyjanianów grupami wodorotlenowymi w otrzymywanych związkach nie można uniknąć powstawania dwuadduktów, a nawet reakcja ich powstawania przeważa.
Istnieje zaopotrzebowanie na łatwe do otrzymywania funkcjonalne fotomicjatory o składnikach struktury według wzoru A, o wysokiej czystości i odznaczające się wysokąreaktywnością oraz trwałością przy przechowywaniu, które mogłyby być zdolne do tworzenia na odpowiednich oligomerach lub polimerach makromerycznych fotoimcjatorów o wysokiej skuteczności działania, które są zdolne do modyfikowania powierzchni, zwłaszcza powierzchni tworzyw sztucznych, przez fotoindukowanąpolimeryzację szczepioną oraz które mogłyby być stosowane również do materiałów tolerowanych biologicznie, zwłaszcza w zakresie biomedycyny, jak np. do soczewek kontaktowych. Stwierdzono nieoczekiwanie, że cel ten można osiągnąć, jeśli do wprowadzenia grup izocyjamanowych zastosuje się dwuizocyjaniany, które zawierają grupy izocyjamanowe o różnej reaktywności i podstawi się grupami funkcyjnymi związanymi w pierścieniu fenylowym o wzorze A lub podstawi się grupę wodorotlenową w części struktury według wzoru A dwuizocyjanianami i w ten sposób, dzięki wysokiej regioselektywności, zahamuje się powstawanie izomerów i innych produktów ubocznych.
Pochodne izocyjanianowe podstawionych acetofenonów, zgodnie z wynalazkiem przedstawia wzór 1, w którym jeden z podstawników Ru i R/1R2 oznacza grupę hydroksylową a pozostałe dwa, niezależnie jeden od drugiego, oznaczają wodór, CrC4alkil lub fenyl; R3 oznacza liniowy rodnik CrC4 alkilenowy; a R4 oznacza rozgałęziony rodnik C3-C,o alkilenowy, rodnik fenylenowy podstawiony C1-C4alkilem lub rodnik cykloheksyleno-CyH2y, niepodstawiony lub podstawiony przez 1 do3 grupC]-C4alkilowych,przy czymy oznacza liczbę całkowitą od 1 do4.
Korzystnie, we wzorze 1 R2 oznacza grupę hydroksylową a także z R! i R,' oznacza metyl.
Korzystnie, we wzorze 1 R3 oznacza rodnik etylenowy
Korzystnie, we wzorze 1 R4 oznacza rozgałęziony rodnik C4-C,0alkilenowy.
Korzystnie, we wzorze 1 R4 oznacza rodnik fenylenowy podstawiony C|-C4alkilem w pozycji orto w stosunku do grupy OCN.
Korzystnie, we wzorze 1 R4 oznacza rodnik cykloheksyleno-CH2-, podstawiony przez 1 do 3 grup metylowych.
180 201
Korzystnie, we wzorze 1 j eden z podstawników Rj, R/ι R2 oznacza grupę hydroksylową, a z pozostałych dwóch każdy oznacza C, -C4alkil, R3 oznacza liniowy rodnik C ,-C4alkilenowy; a R4 oznacza rozgałęziony rodnik C4-C10alkilenowy lub rodnik fenylenowy podstawiony C1-C4alkilem w pozycji orto w stosunku do grupy OCN, albo oznacza rodnik cykloheksyleno-CH2- podstawiony przez 1 do 3 grup metylowych.
Korzystne pochodne przedstawia wzór la, wzór Ib lub wzór Ic.
R] jako alkil jest korzystnie liniowy i zawiera od 1 do 4 atomów C. Niektórymi przykładami sąmetyl, etyl, n- lub izo-propyl, η-, izo- lub tertbutyl. Jako R] szczególnie korzystny jest metyl lub etyl.
Do R2 odnoszą się te same korzystne warunki, jak do R]. R2 jest szczególnie korzystny jako H, metyl lub etyl.
Przykładami R3 sąmetylen, etylen, 1,2- lub 1,3-propylen, 1,2-, 1,3- lub 1,4-butylen. Korzystne są metylen, etylen, 1,3-propylen i 1,4-butylen, zwłaszcza etylen.
W przypadku podstawników C]-C4alkilowych chodzi zwłaszcza o metyl i etyl.
R4 jako rozgałęziony alkilen zawiera od 3 do 10, korzystnie od 4 do 10 atomów C. Przykładami alkilenu są 1,2-propylen, 2-metylo- lub 2,2-dwumetylo-1,3-propylen, 1,2-, 1,3-1 2,3-butylen, 2-metylo- lub 2,3-dwumetylo-1,4-butylen, 1,2-, 1,3- lub 1,4-pentylen, 2-metylo- lub 3-metylo- lub 4-metylo- lub 2,3-dwumetylo- lub 2,4-dwumetylo- lub 3,4-dwumetylo- lub 2,3,4-trójmetylo- lub 2,2,3-trójmetylo-2,2,4-trójmetylo- lub 2,2,3,3-czterometylo- lub 2,2,3,4-czterometylo-l,5-pentylen, 1,2-, 1,3-, 1,4- lub 1,5-heksylen, 2-metylo- lub 3-metylo- lub 4-metylo- lub 2,2-dwumetylo- lub 3,3-dwumetylo- lub 2,3-dwumetylo- lub 2,4-dwumetylo- lub 3,4-dwumetylo- lub 2,2,3-trójmetylo- lub 2,2,4-trójmetylo- lub 2,2,5-trójmetylo- lub 2,3,4-trójmetylo- lub 2,2,4,5-czterometylo-l,6-heksylen, 1,2-, 1,3-, 1,4-, 1,5- lub 1,6-heptylen, 2-metylolub 3-metylo- lub 4-metylo- lub 5-metylo- lub 2,2-dwumetylo- lub 3,3-dwumetylo- lub 2,3-dwumetylo- lub 2,4-dwumetylo- lub 3,4-dwumetylo- lub 2,2,3-trójmetylo- lub 2,2,4-trójmetylo- lub 2,2,5-trójmetylo- lub 2,2,6-trójmetyIo- lub 2,3,4-trójmetylo- lub 2,4,5-trójmetylo- lub 2,4,6-trójmetylo-l,7-heptylen, 1,2-, 1,3-, 1,4-, 1,5-, 1,6- lub 1,7-oktylen, 2-metylo- lub 3-metylo- lub 4-metylo- lub 5-metylo- lub 6-metylo- lub 7-metylo- lub 2,2-dwumetylo- lub 3,3-dwumetylolub 2,3-dwumetylo- lub 2,4-dwumetylo- lub 3,4-dwumetylo- lub 2,6-dwumetyIo- lub 2,7-dwumetylo-l,8-oktylen, 1,2-, 1,3-, 1,4-, 1,5-, 1,6-, 1,7-lub 1,8-nonylen, 2-metylo-lub 3-metylo- lub 4-metylo- lub 5-metylo- lub 6-metylo- lub 7-metylo- lub 8-metylo-nonylen, 1,2-, 1,3-, 1,4-, 1,5-, 1,6-, 1,7-, 1,8- lub 1,9-decylen.
Niektórymi korzystnymi rozgałęzionymi resztami alkilowymi są 2,2-dwumetylo-1,4-butylen, 2,2-dwumetylo-1,5-pentylen, 2,2,3- lub 2,2,4-trójmetylo-1,5-pentylen, 2,2-dwumetylo-1,6-heksylen, 2,2,3- lub 2,2,4- lub 2,2,5-trójmetylo-1,6-heksylen, 2,2-dwumetylo-1,7-heptylen, 2,2,3- lub 2,2,4- lub 2,2,5- lub 2,2,6-trójmetylo-l,7-heptylen, 2,2-dwumetylo- 1,8-oktylen.
Jeśli R4 oznacza podstawiony fenylen, to podstawnik znajduje się korzystnie w położeniu orto do grapy izocyjanianowej. Przykładami są l-metylo-2,4-fenylen i 1,5-dwumetylo-2,4-fenylen.
Jeśli R4 oznacza grupę cykloheksyleno-CyH2y-, to jest ona niepodstawiona lub przeważnie podstawiona C]-C4alkilami w liczbie od 1 do 3, szczególnie korzystnie metylem. W grupie -CyH2y- y oznacza liczby całkowite od 1 do 4. Korzystnie grapa -CyH2y- stanowi etylen, a szczególnie korzystnie metylen Niektórymi przykładami sącykloheks-lylo-3- lub -4-metylen, 3- lub 4- łub 5-metylo-cykloheks-l-ylo-3- lub -4-metylen, 3,4- lub 3,5-dwumetylocykloheks-l -ylo-3-, lub -4-metylen, 3,4,5- lub 3,4,4- lub 3,5,5-trójmetylo-cykloheks-l-ylo-3- lub -4-metylen.
W przypadku podstawnika R4 wchodzą w rachubę zwłaszcza takie grapy, które obniżają reaktywność grapy OCN, co osiąga się przeważnie przez sferyczne zahamowanie na co najmniej jednym sąsiednim atomie C. Dlatego korzystnie R4 sąalkilenami rozgałęzionymi w położeniu a, a zwłaszcza β w stosunku do grupy OCN, lub w co najmniej jednym położeniu a, jak to określa podstawiona cykliczna reszta węglowodorowa.
180 201
Związki o wzorze 1 można otrzymać przez podstawienie dwuizocyjamanów odpowiednimi fotoimcjatorami z wodorem kwasowym w cząsteczce. Związki te otrzymuje się z wysoką wydajnością i o wysokiej czystości, nawet jeśli w fotomicjatorze są obecne równocześnie dwie różne grupy z wodorem kwasowym, np. dwie grupy -OH. Szczególnie korzystne jest stosowanie dwuizocyjanianów z grupami izocyjanianowymi o różnej reaktywności, ponieważ można przez to powstrzymać powstawanie izomerów i dwuadduktów. Różne reaktywności można otrzymać, np. jak napisano wcześniej, przez sferyczne zahamowanie. Różne reaktywności można też osiągnąć przez zamaskowanie jednej grupy izocyjanianowej w dwuizocyjanianie, np. kwasem karboksylowym lub hydroksylaminą.
Sposób wytwarzania pochodnych izocyjanianowych podstawionych acetofenonów o wzorze 1, w którym jeden z podstawników R|, R/ i R2 oznacza grupę hydroksylową, a pozostałe dwa, niezależnie jeden od drugiego, oznaczają wodór, C1-C4alkil łub fenyl; R3 oznacza liniowy rodnik CpCzjalkilenowy; a R4 oznacza rozgałęziony rodnik C3-C10alkilenowy, rodnik fenylenowy podstawiony C]-C4ałkilem lub rodnik cykloheksyleno-CyH2y, niepodstawiony lub podstawiony przez 1 do 3 grup CrC4alkilowych, przy czym y oznacza liczbę całkowitą od 1 do 4, zgodnie z wynalazkiem charakteryzuje się tym, że poddaje się reakcji związek o wzorze 2, w którym R„ R/, R2 i R3 mająwyżej podane znaczenia, z diizocyjanianem o wzorze 3, w którym R4 ma wyżej podane znaczenie, w obojętnym rozpuszczalniku organicznym, w temperaturze do 45°C.
Środki maskujące są znane z chemii uretanów. Mogą wchodzić w rachubę, np. fenole (krezol, ksylenol), laktamy (ε-kaprolaktam), oksymy (acetoksym, oksym benzofenonu), związki metylenowe z aktywnym H (malonian dwuetylowy, acetooctan etylu), pirazole lub benzotriazole. Środki maskujące opisał np. Z.W. Wicks, Jr. w Progress in Organie Coatings 9 (1981) s. 3-28.
Związki o wzorze 2 są znanymi fotoinicjatorami typu hydroksyalkilofenonu i są opisane w literaturze patrz np. H. F. Gruber, Próg. Polym. SCI, tom 17, strony od 953 do 1044 (1992), Pergamon Press Ltd. W przypadku izocyjanianów wchodząw rachubę związki dobrze znane z chemii poliuretanów.
Odpowiednimi obojętnymi rozpuszczalnikami są aprotonowe, zwłaszcza polarne rozpuszczaalniki, jak np. węglowodory (eter naftowy, metylocykloheksan, benzen, toluen, ksylen), chlorowcowęglowodory (chloroform, chlorek metylenu, trój chloroetan, czterochloroetan, chlorobenzen), etery (eter dwuetylowy, eter dwubutylowy, eter dwumetylowy glikolu etylenowego, eter dwumetylowy glikolu dwumetylowego, czterohydrofuran, dioksan), ketony (aceton, keton dwubutylowy, keton metyloizobutylowy), estry kwasów karboksylowych i laktony (octan etylu, butyrolakton, walerolakton), alkilowane amidy kwasów karboksylowych (N,N-dwumetyloacetamid, N-metylopirolidon), nitryle (acetonitryl), sulfony i sulfotlenki (sulfotlenek dwumetylowy, czterometyleno-sulfon). Korzystnie stosuje się rozpuszczalniki polarne
Reagenty używa się korzystnie w ilościach równomolowych. Temperatura reakcj i, w przypadku stosowania katalizatorów, może mieścić się w zakresie od 0 do 45°C, przeważnie jest to temperatura pokojowa. Odpowiednimi katalizatorami sąnp. sole metali, jak sole metali alkalicznych kwasów karboksylowych, aminy trzeciorzędowe, np. (CrC6alkilo)3N (trójetyloamina, trój-n-butyloamina), N-metylopirolidyna, N-metylomorfolina, Ν,Ν-dwumetylopiperydyna, pirydyna i 1,4-dwuaza-dwucyklooktan. Szczególnie efektywnymi okazały się sole cyny, zwłaszcza sole alkilocynowe kwasów karboksylowych, jak np. dwulauryman dwubutylocynowy i dwuoktaman cynowy.
Wydzielanie i oczyszczanie otrzymywanych związków prowadzi się znanymi sposobami, jak np. przez ekstrakcję, krystalizację, rekrystalizację lub chromatograficznymi metodami oczyszczania. Związki te otrzymuje się z wysoką wydajnością i o wysokiej czystości Wydajność w przypadku prowadzenia operacji nie optymalizowanych może wynosić ponad 85% w stosunku do wydajności teoretycznej.
Związki o wzorze 1 nadają się znakomicie na fotoimcjatory dla etylenowo nienasyconych związków rodnikowych zdolnych do polimeryzacji, zwłaszcza takich, które dodatkowo zawierają grupy z aktywnymi H, jaknp. grupy OH-, -COOH, -CONH- lubNH. W tym przypadku fotomicjatory wiążąsię w wysokim stopniu kowalencyjnie z powstającymi polimerami przez grupę
180 201 izocyjanianową i fotochemiczne produkty rozpadu (wyzwalacze reakcji rodnikowych lub kończące łańcuchy) i przez to skutecznie przeciwdziałają obniżeniu własności użytkowych
Związki o wzorze 1 nadająsię również znakomicie do otrzymywania ohgomerycznych lub polimerycznych fotoinicjatorów przez podstawienie funkcyjnymi oligomerami lub polimerami, które zawierają aktywne atomy H, np. grup OH- lub NH-. Te fotoimcjatory makromeryczne odznaczająsię dobrąprzyswajalnościąi wysoką skutecznością przy czym fotochemiczne produkty rozpadu, jak już podano, wiążą się kowalencyjnie z powstającym polimerem, np. jako wyzwalacze reakcji łańcuchowych lub kończąc łańcuchy, dzięki czemu gwarantowany jest długi okres użytkowania. Dalszą dodatkową korzyścią jest specyficzna struktura fotopolimeru, ponieważ łańcuchy polimeru rozrastają się na fotoinicjatorze makiOmerycznym, z czego wynikają dalsze korzystne własności użytkowe. Dobierając oligomery lub polimery można w ten sposób uzyskać żądane własności fotopohmerów.
Sposób modyfikacji powierzchni wyprasek organicznych, zawierających polimery naturalne lub syntetyczne, które zawierają mające aktywny H grupy HO-, HS-, HN-C|-C6alkilowe lub -NH2, zgodnie z wynalazkiem charakteryzuje się tym, że
a) nanosi się cienką warstwę fotoinicjatora o wzorze 1 na powierzchnię wypraski,
b) prowadzi się reakcję wiązania fotoinicjatora z powierzchnią wypraski przez utrzymywanie powleczonej wypraski w temperaturze pokojowej lub przez ogrzewanie jej w temperaturze do 60°C, a następnie odmywa się nadmiar foroiniciatora,
c) nanosi się cienką warstwę monomeru z nienasyconymi wiązaniami etylenowymi, zdolnego do fotopolimeryzacji, wybranego z grupy składającej się z kwasu akrylowego, kwasu metakrylowego, estru 2-hydroksyetylowego kwasu metakrylowego, 2,3-dwuhydroksypropylometakrylanu, Ν,Ν-dwumetyloakrylamidu, akrylamidu, Ν,Ν-dwuetyloammoetylometakrylanu i N-winylopirolidonu, na powierzchnię substratu zaopatrzoną w rodniki fotoinicjatora i
d) polimeryzuje się warstwę monomeru z nienasyconymi wiązaniami etylenowymi przez naświetlanie promieniowaniem nadfioletowym.
Ewentualnie powstałe polimery związane niekowalencyjnie można usunąć po polimeryzacji, np. przez potraktowanie odpowiednimi rozpuszczalnikami.
Sposobem według wynalazku można modyfikować powierzchnie i nadawać im specyficzne własności dla zastosowania w różnych celach. Zależnie od wyboru etylenowo nienasyconej substancji można celowo polepszyć np. własności mechaniczne, np. twardość powierzchni, odporność na zaiysowanie, zwilżalność, odporność na ścieranie i zdolność do opisywania, jak również własności fizyczne, jak np. współczynnik tarcia, rozpuszczalność dla gazów, cieczy i rozpuszczonych nieorganicznych lub organicznych substancji posiadających masy cząsteczkowe od niskich do wysokich oraz przepuszczalność światła, przy czym szczególnie silna przyczepność warstwy polimeru stanowi szczególną korzyść.
Fotoinicjatory według wynalazku względnie substraty modyfikowane fotoinicjatorami odznaczająsię wysoką chemiczną i fotochemiczną reaktywnością. Mogą być używane do budowy fotoreaktywnych materiałów, które mogą znaleźć zastosowanie jako materiały powłokowe, materiały zdolne do fotostrukturyzacji, do materiałów wiążących, a zwłaszcza jako tworzywo do zastosowań biomedycznych, np. do soczewek kontaktowych i materiałów chirurgicznych. Materiały te nadająsię zwłaszcza do otrzymywania powierzchni hydrofilnych i biokompatybilnych na soczewkach kontaktowych przez polimeryzację szczepieniową z wytwarzaniem struktury włoskowej (szczotkowej), szczególnie korzystnej dla osiągnięcia żądanych własności
Szczególne znaczenie mają zwilżalność oraz uzyskiwanie stabilnej wilgotnej warstewki na powierzchni, np. warstewki łez na powierzchni soczewki kontaktowej. Ponadto, duże znaczenie ma polepszenie zachowania się w systemie biologicznym, np. polepszona biokampatybilność, ochrona przed bioerozją zmniejszenie powstawania kłykciny płaskiej oraz biozanieczyszczeń, brak niedokrwienia lub toksycznych i uczuleniowych reakcji.
Materiały modyfikowane sposobem według wynalazku nadają się zwłaszcza do otrzymywania soczewek kontaktowych. Przy rozpatrywaniu soczewek kontaktowych szczególnie ważne jest polepszenie takich własności, jak wysoka zwilżalność (mały kąt kontaktu), wysoka wytrzymałość na rozrywanie, dobra skuteczność smarowania, wysoka odporność na ścieranie, brak lub nieznaczny stopień rozkładu enzymatycznego, brak odkładania się składników z cieczy łzowej
180 201 (białek, lipidów, soli, produktów rozpadu komórek), brak powinowactwa do kosmetyków, lotnych chemikaliów, jak np. rozpuszczalników, brudu i pyłu, brak przyczepiania się względnie zagnieżdżania mikroorganizmów.
Materiały modyfikowane sposobem według wynalazku nadają się również do otrzymywania sztucznych naczyń krwionośnych i innych tworzyw biomedycznych na protezy, dla chirurgu i diagnostyki, przy czym szczególnie korzystne jest to, że materiały te mogą zarastać endotehocytami (komórkami śródbłonkowymi).
Następujące przykłady bliżej objaśniają wynalazek.
A) Przykłady otrzymywania.
Przykład Al: Otrzymywanie związku o wzorze la.
W kolbie o pojemności 500 cm3 z chłodnicą zwrotną, termometrem, mieszadłem i przewodem doprowadzającym azot, w atmosferze azotu miesza się roztwór zawierający 11,125 g (0,05 mola) świeżo przedestylowanego dwuizocyjanianu izoforonu (IPDI) w 50 cm3 suchego chlorku metylenu z roztworem zawierającym 11,2 g (0,05 mola) 4'-(P-hydroksyetoksy)-2-hydroksyprop-2-ylo-fenonu (Darocure 2959®) w 300 cm3 suchego chlorku metylenu i po dodaniu 20 mg dwulaurynianu dwubutylocynowego jako katalizatora miesza się przez 48 h w temperaturze pokojowej. Przebieg powstawania śledzi się za pomocą chromatografii cienkowarstwowej na płytkach z żelu krzemionkowego (60 F254, Art. 5719 Merck) (układ rozwijający: toluen/acetonitryl 7:3). Powstały produkt uwalnia się od małych ilości niepodstawionego Darocure 29591 podwójnie podstawionego IPDI na drodze chromatografu kolumnowej na żelu krzemionkowym 60 (eluent toluen/acetonitryl 7:3). Po odparowaniu czystej frakcji w wyparce obrotowej otrzymuje się bezbarwny olej, który podczas chłodzenia do -16°C powoli krystalizuje; następnie przekrystalizowuje się go z suchego eteru dwuetylowego. Otrzymuje się 15,6 g białego krystalicznego produktu (70% wydajności teoretycznej), który wykazuje temperaturę topnienia 76°C
Zawartość izocyjanianu w produkcie oznacza się przez miareczkowanie dwubutyloaminą w toluenie: obliczono 2,242 miligramorównoważmka/g, znaleziono 2,25 miligramorównoważnika/g.
Metoda jest opisana w „Analytical Chemistry of Polyurethanes” (High Polymer Senes XVI/Part III, D. S. David + Η. B. Staley editors, Interscience Pubhshers, New York 1969, str. 86)
Przykład A2: Otrzymywanie związku o wzorze Ib.
Analogicznie, jak w przykładzie Al podstawia się 10,5 g (0,05 mola) 1,6-dwuizocyjaniano-2,2,4-trójmetyloheksanu (TMDI) przez 11,1 g (0,05 mola) Darocure 2959® w 400 cm3 suchego chlorku metylenu, w temperaturze pokojowej, w atmosferze azotu, w ciągu 40 h Otrzymuje się 14,5 g (67% wydajności teoretycznej) białego, krystalicznego produktu o temperaturze topnienia 41-43°C.
Miareczkowanie NCO: obliczono 2,30 miligramorównoważnika/g, znaleziono 2,36 mihgramorówno ważmka/g.
Przykład A3: Otrzymywanie związku o wzorze Ic.
W aparaturze opisanej w przykładzie Al podstawia się 1,74 g (0,01 mola) toluileno-2,4-dwuizocyjanianu (TDI) w 20 cm3 dwuchlorometanu przez 2,24 g (0,01 mola) Darocure 2959® rozpuszczonego w 60 cm3 suchego dwuchlorometanu. Mieszaninę reakcyjną, bez dodatku katalizatora, miesza się przez 48 h w temperaturze pokojowej oraz 1 h w 40°C, aż na ehromatogramie cienkowarstwowym nie można już wykazać niepodstawionego Darocure 2959 Produkt wydziela się przez strącanie z roztworu reakcyjnego w 180 cm3 suchego eteru naftowego (temperatura wrzenia 40-60°C), a następnie dwukrotnie przekstalizowuje z mieszaniny dwuchlorometan/eter naftowy 1:3.
Otrzymuje się biały krystaliczny produkt o temperaturze topnienia 124- 125°C. Wydajność 17,2 g odpowiada 87% wydajności teoretycznej. Miareczkowanie NCO' obliczono 2,50 mihgramorównoważnika/g, znaleziono 2,39 miligramorównowaznika/g
B) Reakcja powierzchniowa folii polimerycznych z reaktywnym fotomicjatorem opisanym w przykładzie Al.
Przykłady BI - B5.
Folie różnych materiałów polimerycznych, które wykazują reaktywne grupy, zwilza się powierzchniowo roztworem fotoimcjatora otrzymanego według przykładu Al w odpowiednim rozpuszczalniku (stężenie około 20% wagowych), przy czym stosuje się techniki zanurzania,
180 201 rozpylania i smarowania. Tak przygotowaną folię ogrzewa się w atmosferze suchego azotu przez 24 h w 60°C, a następnie usuwa się z niej niepodstawiony fotoimcjator przez przemywanie acetonem. Po wysuszeniu bez dostępu światła folię analizuje się metodą mikroskopu FTIR
Przykład Powłoka polimeru M Rozpuszczalnik Pasma w widmie IR (cm1)
BI Alkohol poliwinylowy ~ 70 000 DMSO (Ar C=C) 1600, 1510 (C=O) 1695
B2 Chitozan ~ 145 000 DMSO (Ar C=C) 1600, 1510 (C=O) 1690
B3 Kolagen ~ 80 000 DMSO (Ar C=C) 1600, 1510 (C=O) 1695
B4 Polialkohol winylowy usieciowany 1%TMDI - MEK+ 1% DMSO (Ar C=C) 1600, (C=O) 1705
B5 Kopolimer glukonamidopropylometylo-dwumtylosiloksanu usieciowany IPD1 (20% grup OH) - 40 000 MEK + 1%DMSO (Ar C=C) 1600, 1510 (C=O) 1700
MEK = metyloetyloketon
Przykład B6: Reakcja powierzchniowa soczewki kontaktowej.
Soczewki kontaktowe z usieciowanego polihydroksyetylometakrylanu (Poly-HEMA) nawilża się powierzchniowo roztworem związku Al w czterohydrofuranie (stężenie 5%) względnie w eterze dwuetylowym. Tak przygotowane soczewki przetrzymuje się w atmosferze suchego azotu przez 16 h w temperaturze pokojowej. Następnie soczewki kontaktowe przemywa się przez 8 h acetonem, a następnie suszy w wysokiej próżni
C) Powierzchniowa polimeryzacja szczepiona modyfikowanych folii polimerycznych, otrzymanych według przykładu BI-B4 i N-wmylo-2-pirolidonu.
Przykład C1-C4
Folie polimeryczne według przykładów Β1-B4 zwilża się przez zanurzenie, rozpylanie lub smarowanie świeżo destylowanym N-winylo-2-pirolidonem, usuwa z nich tlen przez kilkakrotne działanie próżni oraz wypieranie gazowym azotem i w atmosferze azotu wystawia je na działanie promieniowania nadfioletowego z wysokociśnieniowej lampy rtęciowej (Photoresist Belichter 82420, Oriel). W końcu folie przemywa się kilkakrotnie metanolem w celu usnięcia mespolimeryzowanego N-winylo-2-pirohdonu i niezwiązanego homopohmeru. Folie suszy się w próżni i analizuje za pomocą spektrografu FTIR (pasma NVP w podczerwieni)
Przykład Czas naświetlania UV Pasma w widmie FTIR (cm1)
Cl 20 minut 15101 1660J (C=C Ai), 1660(C=O)l 1440-1470 J NVP
C2 30 minut 15107 1600 J (C=C Ar), 1660 (C=O) NVP
C3 15 minut 1600 C=C Ar), 1660 (C=O) NVP
C4 40 minut 1600 (C=C Ar), 1675 (C=O)l 1440-1450 J NVP
Ar = aromatyczny, NVP = N-winylopirolidon
180 201
Przykład C5: Modyfikacja powierzchni soczewki kontaktowej.
Soczewki kontaktowe przygotowane według przykładu B6 zanurza się w wodnym roztworze akryloamidu, a następnie uwalnia od tlenu przez kilkakrotne działanie próżni i wypieranie azotem. Następnie naświetla się w atmosferze azotu dwukrotnie przez 2 minuty wysokociśnieniową lampą rtęciową (Photoresist-belichter 82420, Oniel, 2000 W). Potem soczewki kontaktowe przemywa się wodą destylowaną i suszy w wysokiej próżni. Soczewki kontaktowe wykazują następujące początkowe (Poly-HEMA) i po obróbce wartości kąta kontaktu i jego histerezy. Wartości liczbowe wskazują na dobrą powtarzalność.
Produkt Kąt wyprzedzenia Kąt cofania Histereza
Poly-HEMA 78° 33° 44°
Soczewka 1 według przykładu C5 54° 49° 5°
Soczewka 2 według przykładu C5 49° 41° 8°
Soczewka 3 według przykładu C5 53° 48° 5°
180 201
180 201
Wzór A
O
II OCN — R4—NHC - O - R3- O
Wzór 1
NH-C(O)-O-CH2CH2-O-p-C6H4-C(O)-C(CH3)2-OH
Wzór la
180 201
OCNCH2C(CH3)2CH2CH(CH3)(CH2)2NHC(O)O(^
C(O)C(CH3)2OH
Wzór Ib
NHU(O)-O-(CH2)2-O-p-C6H4-C(O)-C(CH3)2-OH
Wzór Ic
HO —R3-0
Wzór 2
OCN-R4-NCO
Wzór 3
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 70 egz.
Cena 4,00 zł.

Claims (10)

  1. Zastrzeżenia patentowe
    1. Pochodne izocyjanianowe podstawionych acetofenonów o wzorze 1, w którym j eden z podstawników R), R/ i R2 oznacza grupę hydroksylową, a pozostałe dwa, niezależnie jeden od drugiego, oznaczają wodór CrC4alkil lub fenyl; R3 oznacza liniowy rodnik C1-C4alkilenowy; a R4 oznacza rozgałęziony rodnik C3-C10alkilenowy, rodnik fenylenowy podstawiony CrC4alkilem lub rodnik cykloheksyleno-CyH2y, niepodstawiony lub podstawiony przez 1 do 3 grup Cj-C^alkilowych, przy czym y oznacza liczbę całkowitą od 1 do 4.
  2. 2. Pochodne według zastrz. 1, znamienne tym, że we wzorze 1 R2 oznacza grupę hydroksylową, a każde z R! i Rf oznacza metyl.
  3. 3. Pochodne według zastrz. 1, znamienne tym, że we wzorze 1R3 oznacza rodnik etylenowy.
  4. 4. Pochodne według zastrz. 1, znamienne tym, że we wzorze 1 R4 oznacza rozgałęziony rodnik C4-C10alkilenowy.
  5. 5. Pochodne według zastrz. 1, znamienne tym, że we wzorze 1 R4 oznacza rodnik fenylenowy podstawiony CrC4alkilem w pozycji orto w stosunku do grupy OCN.
  6. 6. Pochodne według zastrz. 1, znamienne tym, że we wzorze 1 R4 oznacza rodnik cykloheksyleno-CH2-, podstawiony przez 1 do 3 grup metylowych.
  7. 7. Pochodne według zastrz. 1, znamienne tym, że we wzorze 1 jeden z podstawników R], R/ i R2 oznacza grupę hydroksylową, a z pozostałych dwóch każdy oznacza C]-C4alkil, R3 oznacza liniowy rodnik C[-C4alkilenowy; a R4 oznacza rozgałęziony rodnik C4-C10alkilenowy lub rodnik fenylenowy podstawiony CrC4alkilem w pozycji orto w stosunku do grupy OCN, albo oznacza rodnik cykloheksyleno-CH2-, podstawiony przez 1 do 3 grup metylowych.
  8. 8. Pochodne według zastrz. 1, znamienne tym, że przedstawia je wzór la, wzór Ib lub wzór Ic.
  9. 9. Sposób wytwarzania pochodnych izocyjanianowych podstawionych acetofenonów o wzorze 1, w którym jeden z podstawników R], R/ i R2 oznacza grupę hydroksylową, a pozostałe dwa, niezależnie jeden od drugiego, oznaczają wodór, CrC4alkil łub fenyl; R3 oznacza liniowy rodnik CrC4alkilenowy; a R4 oznacza rozgałęziony rodnik C3-C)0alkilenowy, rodnik fenylenowy podstawiony C]-C4alkilem lub rodnik cykloheksyleno-CyH2y, niepodstawiony lub podstawiony przez 1 do 3 grup C^-C^-alkilowych, przy czym y oznacza liczbę całkowitą od 1 do 4, znamienny tym, że poddaje się reakcji związek o wzorze 2, w którym Rb R/. R21R3 mająwyżej podane znaczenia, z diizocyjanianem o wzorze 3, w którym R4 ma wyżej podane znaczenie, w obojętnym rozpuszczalniku organicznym, w temperaturze do 45°C.
  10. 10. Sposób modyfikacji powierzchni wyprasek organicznych, zawierających polimery naturalne lub syntetyczne, które zawierają mające aktywny H grupy HO-, HS-, HN-C1-C6alkilowe lub -NH2, znamienny tym, że
    a) nanosi się cienką warstwę fotoinicjatora o wzorze 1 na powierzchnię wypraski,
    b) prowadzi się reakcję wiązania fotoinicjatora z powierzchnią wypraski przez utrzymywanie powleczonej wypraski w temperaturze pokojowej lub przez ogrzewanie jej w temperaturze do 60°C, a następnie odmywa się nadmiar fotoinicjatora.
    c) nanosi się cienką warstwę monomeru z nienasyconymi wiązaniami etylenowymi, zdolnego do fotopolimeryzacji, wybranego z grupy składającej się z kwasu akrylowego, kwasu metakrylowego, estru 2-hydroksyetylowego kwasu metakrylowego, 2,3-dwuhydroksypro
    180 201 pylometakrylanu, Ν,Ν-dwumetyloakrylamidu, akrylamidu, N,N-dwuetyloaminoetylometakrylanu i N-winylopirolidonu, na powierzchnię substratu zaopatrzonąw rodniki fotomicjatora i
    d) polimeryzuje się warstwę monomeru z nienasyconymi wiązaniami etylenowymi przez naświetlanie promieniowaniem nadfioletowym.
    * * *
PL94304064A 1993-07-02 1994-06-30 Pochodne izocyjanianowe podstawionych acetofenonów, sposób wytwarzania pochodnych izocyjanianowych podstawionych acetofenonów i sposób modyfikacji powierzchni wyprasek organicznych PL PL PL PL PL PL PL PL PL180201B1 (pl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH200693 1993-07-02

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL304064A1 PL304064A1 (en) 1995-01-09
PL180201B1 true PL180201B1 (pl) 2001-01-31

Family

ID=4223706

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL94304064A PL180201B1 (pl) 1993-07-02 1994-06-30 Pochodne izocyjanianowe podstawionych acetofenonów, sposób wytwarzania pochodnych izocyjanianowych podstawionych acetofenonów i sposób modyfikacji powierzchni wyprasek organicznych PL PL PL PL PL PL PL PL

Country Status (23)

Country Link
US (4) US5527925A (pl)
EP (1) EP0632329B1 (pl)
JP (1) JP4053612B2 (pl)
KR (1) KR950003265A (pl)
CN (1) CN1102825A (pl)
AT (1) ATE160888T1 (pl)
AU (1) AU683256B2 (pl)
CA (1) CA2127200A1 (pl)
CZ (1) CZ161094A3 (pl)
DE (1) DE59404708D1 (pl)
DK (1) DK0632329T3 (pl)
ES (1) ES2109647T3 (pl)
FI (1) FI943129A7 (pl)
GR (1) GR3025768T3 (pl)
HK (1) HK1003846A1 (pl)
HU (1) HU219502B (pl)
IL (1) IL110171A (pl)
MX (1) MX9404973A (pl)
NO (1) NO302026B1 (pl)
NZ (1) NZ260892A (pl)
PL (1) PL180201B1 (pl)
TW (1) TW328535B (pl)
ZA (1) ZA944758B (pl)

Families Citing this family (194)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5760100B1 (en) 1994-09-06 2000-11-14 Ciba Vision Corp Extended wear ophthalmic lens
JP3647093B2 (ja) * 1994-11-17 2005-05-11 株式会社メニコン 親水性化酸素透過性コンタクトレンズ及びその製造法
TW434456B (en) 1994-12-30 2001-05-16 Novartis Ag A compound as functionalized photoinitiator, its production process, its corresponding oligomers or polymers and its application in coating a substrate
TW353086B (en) * 1994-12-30 1999-02-21 Novartis Ag Method for multistep coating of a surface
CZ206197A3 (en) * 1994-12-30 1997-10-15 Ciba Geigy Ag Polymers based on block co-polymers, process of their preparation and their use for preparing shaped particles
PT807269E (pt) * 1995-02-03 2000-04-28 Novartis Ag Polimeros reticulados contendo fotoiniciadores
DE69625658T2 (de) * 1995-09-13 2003-07-17 Seikagaku Kogyo K.K.(Seikagaku Corp.), Tokio/Tokyo Kontaktlinse auf Basis photogehärteter Hyaluronsäure
GB9522683D0 (en) 1995-11-06 1996-01-10 Coates Brothers Plc Photoinitiator
US6579596B1 (en) * 1997-04-15 2003-06-17 Fuji Xerox Co., Ltd. Composite material and process for production thereof
DE19727554A1 (de) * 1997-06-28 1999-01-07 Huels Chemische Werke Ag Verfahren zur Hydrophilierung der Oberfläche polymerer Substrate mit einem Makroinitiator als Primer
JP4616473B2 (ja) * 1997-09-16 2011-01-19 ノバルティス アーゲー 架橋結合可能なポリ尿素ポリマー類
JP2001517731A (ja) 1997-09-23 2001-10-09 ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト ヒドロゲルの表面処理方法および同方法にて形成される物品
US5981617A (en) * 1998-01-20 1999-11-09 Kim; Hee Jung Irradiation of gas permeable contact lenses by far infrared light
US7547445B2 (en) * 1998-03-19 2009-06-16 Surmodics, Inc. Crosslinkable macromers
US6410044B1 (en) * 1998-03-19 2002-06-25 Surmodics, Inc. Crosslinkable macromers
US6007833A (en) * 1998-03-19 1999-12-28 Surmodics, Inc. Crosslinkable macromers bearing initiator groups
TW473488B (en) * 1998-04-30 2002-01-21 Novartis Ag Composite materials, biomedical articles formed thereof and process for their manufacture
US7091192B1 (en) 1998-07-01 2006-08-15 California Institute Of Technology Linear cyclodextrin copolymers
US6509323B1 (en) 1998-07-01 2003-01-21 California Institute Of Technology Linear cyclodextrin copolymers
EP1002807A1 (en) * 1998-11-20 2000-05-24 Novartis AG Functionalized resin derived from polyallylamine
SE9900935D0 (sv) * 1999-03-16 1999-03-16 Pharmacia & Upjohn Bv Macromolecular compounds
JP2002544205A (ja) * 1999-05-10 2002-12-24 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 新規な光開始剤及びその応用
EP1189643A1 (en) * 1999-06-30 2002-03-27 Novartis AG Ophthalmic molding
US6376568B1 (en) * 1999-07-29 2002-04-23 Ciba Specialty Chemicals Corporation Surface-active photoinitiators
GB2352718A (en) * 1999-08-04 2001-02-07 Coates Brothers Plc Photoinitiators
AU770404B2 (en) * 1999-09-22 2004-02-19 Surmodics, Inc. Water-soluble coating agents bearing initiator groups and coating process
JP2001163933A (ja) * 1999-10-27 2001-06-19 Novartis Ag 材料表面を改質する方法
EP1095711B1 (en) * 1999-10-27 2004-01-28 Novartis AG Process for coating a material surface
JP2001158813A (ja) * 1999-10-27 2001-06-12 Novartis Ag 材料表面を被覆する方法
EP1095966B1 (en) * 1999-10-27 2006-01-11 Novartis AG Process for the modification of a material surface
JP2001163932A (ja) 1999-10-27 2001-06-19 Novartis Ag 材料表面を改質する方法
KR100595404B1 (ko) * 2000-04-06 2006-07-03 삼성토탈 주식회사 방충필름용 수지 조성물 및 방충필름
US6613703B1 (en) 2000-04-27 2003-09-02 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Thermoplastic nonwoven web chemically reacted with a cyclodextrin compound
AU2001289826A1 (en) * 2000-08-24 2002-03-04 Novartis Ag Process for surface modifying substrates and modified substrates resulting therefrom
US6448301B1 (en) 2000-09-08 2002-09-10 3M Innovative Properties Company Crosslinkable polymeric compositions and use thereof
ATE279267T1 (de) * 2000-10-16 2004-10-15 Novartis Pharma Gmbh Verfahren für die oberflächenbeschichtung von materialien
JP2002182166A (ja) * 2000-12-11 2002-06-26 Toray Ind Inc プラスチック成形品およびそれからなるコンタクトレンズ
US6774178B2 (en) 2001-01-05 2004-08-10 Novartis Ag Tinted, high Dk ophthalmic molding and a method for making same
DE10132506A1 (de) 2001-07-05 2003-01-23 Wacker Polymer Systems Gmbh Lösungsmittelfrei herstellbare Beschichtungsmittel für verschmutzungsresistente Beschichtungen
US6596786B2 (en) 2001-08-17 2003-07-22 Alcatel Radiation-curable coating composition including oligomeric photoinitiator and/or oligomeric adhesion promoter
TW200407367A (en) * 2001-11-13 2004-05-16 Novartis Ag Method for modifying the surface of biomedical articles
US7348055B2 (en) * 2001-12-21 2008-03-25 Surmodics, Inc. Reagent and method for providing coatings on surfaces
TWI255224B (en) * 2002-01-09 2006-05-21 Novartis Ag Polymeric articles having a lubricious coating and method for making the same
DK1499645T3 (da) * 2002-04-26 2006-07-17 Ciba Sc Holding Ag Fotoinitiator som kan inkorporeres
JP2006502301A (ja) 2002-09-06 2006-01-19 インサート セラピューティクス インコーポレイテッド 治療剤配送のためのシクロデキストリン基材重合体
DE10316890A1 (de) * 2003-04-12 2004-11-04 Basf Coatings Ag Mit aktinischer Strahlung aktivierbare Initiatoren enthaltende Mischungen sowie Zwei- und Mehrkomponentensysteme, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
US7247387B1 (en) 2003-07-24 2007-07-24 Sepax Technologies Inc. Material and process for controlled thin polymeric coatings on plastic surface
DE602004028020D1 (de) * 2003-08-07 2010-08-19 Eyesense Ag Ophthalmischer sensor
US20050056954A1 (en) * 2003-09-12 2005-03-17 Devlin Brian Gerrard Method for making contact lenses
US7524565B2 (en) * 2004-04-21 2009-04-28 Ashland Licensing And Intellectual Property Llc Radiation curable Michael addition resins having built-in photoinitiators
US20060004165A1 (en) 2004-06-30 2006-01-05 Phelan John C Silicone hydrogels with lathability at room temperature
US20070037897A1 (en) 2005-08-12 2007-02-15 Guigui Wang Method for making contact lenses
US20070077498A1 (en) * 2005-09-30 2007-04-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Optical recording composition, optical recording medium and production method thereof, optical recording method and optical recording apparatus
AR064286A1 (es) 2006-12-13 2009-03-25 Quiceno Gomez Alexandra Lorena Produccion de dispositivos oftalmicos basados en la polimerizacion por crecimiento escalonado fotoinducida
JP2010516625A (ja) 2007-01-24 2010-05-20 インサート セラピューティクス， インコーポレイテッド 制御された薬物送達のためのテザー基を有するポリマー−薬物コンジュゲート
CN101641206B (zh) 2007-03-22 2013-03-20 诺瓦提斯公司 具有含悬挂的聚硅氧烷的聚合物链的预聚物
RU2009138703A (ru) 2007-03-22 2011-04-27 Новартис АГ (CH) Силиконсодержащие форполимеры с висящими гидрофильными полимерными цепями
US8044111B2 (en) 2007-11-30 2011-10-25 Novartis Ag Actinically-crosslinkable silicone-containing block copolymers
CA2704018C (en) 2007-12-20 2016-01-19 Novartis Ag Method for making contact lenses
WO2009094060A1 (en) 2008-01-24 2009-07-30 University Of Utah Research Foundation Adhesive complex coacervates and methods of making and using thereof
US8283384B2 (en) 2008-01-24 2012-10-09 University Of Utah Research Foundation Adhesive complex coacervates and methods of making and using thereof
JP2011523965A (ja) 2008-05-30 2011-08-25 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー リガンド官能化基材
EP2522692B1 (en) 2008-05-30 2014-06-18 3M Innovative Properties Company Ligand monomers and copolymers made therewith
JP5721267B2 (ja) 2008-07-21 2015-05-20 ノバルティス アーゲー シリコーンハイドロゲルコンタクトレンズを製造する方法
JP5896404B2 (ja) 2008-07-21 2016-03-30 ノバルティス アーゲー 加水分解性基を有するシリコーン含有ポリマー材料
WO2010056687A2 (en) * 2008-11-13 2010-05-20 Novartis Ag Silicone hydrogel materials with chemically bound wetting agents
KR101536801B1 (ko) * 2008-11-13 2015-07-14 노파르티스 아게 말단 친수성 중합체 쇄를 갖는 폴리실록산 공중합체
TWI506333B (zh) 2008-12-05 2015-11-01 Novartis Ag 用以傳遞疏水性舒適劑之眼用裝置及其製造方法
TWI613067B (zh) 2008-12-18 2018-02-01 諾華公司 適合製造聚矽氧水凝膠隱形眼鏡的形成鏡片組合物
JP5575881B2 (ja) 2009-05-22 2014-08-20 ノバルティス アーゲー 化学線架橋性シロキサン含有コポリマー
EP2432821B1 (en) 2009-05-22 2017-08-30 Novartis AG Actinically-crosslinkable siloxane-containing copolymers
RU2555704C2 (ru) * 2009-09-15 2015-07-10 Новартис Аг Преполимеры, применимые для изготовления поглощающих ультрафиолетовое излучение контактных линз
CN102781237A (zh) * 2009-11-23 2012-11-14 天蓝制药公司 用于传递治疗剂的基于环糊精的聚合物
US8507571B2 (en) * 2009-12-02 2013-08-13 Xerox Corporation Macro-photoinitiator via enzymatic polymerization
TWI483996B (zh) * 2009-12-08 2015-05-11 Novartis Ag 具有共價貼合塗層之聚矽氧水凝膠鏡片
US8377672B2 (en) 2010-02-18 2013-02-19 3M Innovative Properties Company Ligand functionalized polymers
JP5471598B2 (ja) * 2010-03-02 2014-04-16 ソニー株式会社 非水電解質電池
KR101786140B1 (ko) 2010-03-03 2017-10-17 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 리간드 구아니디닐 기능화된 중합체
US20110287067A1 (en) 2010-05-24 2011-11-24 University Of Utah Research Foundation Reinforced adhesive complex coacervates and methods of making and using thereof
PL2461767T3 (pl) 2010-07-30 2013-09-30 Novartis Ag Soczewki silikonowo-hydrożelowe z powierzchniami bogatymi w wodę
MX349540B (es) 2010-07-30 2017-08-02 Novartis Ag * Prepolímeros de polisiloxano anfifílicos y usos de los mismos.
US8273560B2 (en) * 2010-07-30 2012-09-25 Ecology Coatings, Inc. Coated substrates and methods of preparing the same
EP2625217B1 (en) 2010-10-06 2018-07-04 Novartis AG Chain-extended polysiloxane crosslinkers with dangling hydrophilic polymer chains
NZ606787A (en) 2010-10-06 2014-11-28 Novartis Ag Water-processable silicone-containing prepolymers and uses thereof
US8993651B2 (en) 2010-10-06 2015-03-31 Novartis Ag Polymerizable chain-extended polysiloxanes with pendant hydrophilic groups
US9623614B2 (en) 2010-11-10 2017-04-18 Novartis Ag Method for making contact lenses
EP2637708A2 (en) 2010-11-12 2013-09-18 University of Utah Research Foundation Simple adhesive coacervates and methods of making and using thereof
EP2648896B1 (en) 2010-12-06 2014-09-17 Novartis AG Method for making silicone hydrogel contact lenses
SG190708A1 (en) 2010-12-13 2013-07-31 Novartis Ag Ophthalmic lenses modified with functional groups and methods of making thereof
EP2718751B1 (en) 2011-06-09 2015-07-22 Novartis AG Silicone hydrogel lenses with nano-textured surfaces
HUE029018T2 (en) 2011-10-12 2017-02-28 Novartis Ag A method for producing UV absorbing contact lenses by coating
US20150119353A1 (en) 2012-02-22 2015-04-30 Kci Licensing, Inc. Antimicrobial compositions, the preparation and use thereof
US20130273145A1 (en) 2012-03-06 2013-10-17 Kci Licensing, Inc. Compositions, the preparation and use thereof
KR20140143194A (ko) 2012-03-22 2014-12-15 모멘티브 퍼포먼스 머티리얼즈 인크. 유기-개질 실리콘 폴리머 및 이를 함유하는 하이드로겔
EP2828692B1 (en) 2012-03-22 2024-02-28 Momentive Performance Materials Inc. Hydrophilic macromers and hydrogels comprising the same
JP6236059B2 (ja) 2012-03-22 2017-11-22 モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド 親水性マクロマーおよびそれを含むヒドロゲル
US9296907B2 (en) 2012-05-30 2016-03-29 Basf Se Radiation-curable compounds
CA2875141A1 (en) 2012-05-30 2013-12-05 Basf Se Radiation-curable compounds
US20140094432A1 (en) 2012-10-02 2014-04-03 Cerulean Pharma Inc. Methods and systems for polymer precipitation and generation of particles
US10226744B2 (en) 2012-10-19 2019-03-12 Danisco Us Inc Stabilization of biomimetic membranes
JP6034982B2 (ja) 2012-12-14 2016-11-30 ノバルティス アーゲー 化学線架橋性の両親媒性プレポリマー
EP2931733B1 (en) 2012-12-14 2016-10-05 Novartis AG Tris(trimethyl siloxy)silane vinylic monomers and uses thereof
US9103965B2 (en) 2012-12-14 2015-08-11 Novartis Ag Amphiphilic siloxane-containing vinylic monomers and uses thereof
EP2931767B1 (en) 2012-12-14 2017-11-08 Novartis AG Amphiphilic siloxane-containing (meth)acrylamides and uses thereof
MY172901A (en) 2012-12-17 2019-12-13 Alcon Inc Method for making improved uv-absorbing ophthalmic lenses
EP2953992B1 (en) 2013-02-06 2021-11-24 3M Innovative Properties Company Polymers, preparation and use thereof
US9486311B2 (en) 2013-02-14 2016-11-08 Shifamed Holdings, Llc Hydrophilic AIOL with bonding
US10195018B2 (en) 2013-03-21 2019-02-05 Shifamed Holdings, Llc Accommodating intraocular lens
CA3193600A1 (en) 2013-03-21 2014-09-25 Shifamed Holdings, Llc Accommodating intraocular lens
CN103275249B (zh) * 2013-05-24 2015-04-22 郑州大学 含单乙烯基醚或单丙烯基醚基团的自由基光引发剂及其制备方法
US9919456B2 (en) 2013-10-31 2018-03-20 Novartis Ag Method for producing ophthalmic lenses
MY183117A (en) 2013-12-13 2021-02-15 Alcon Inc Method for making contact lenses
WO2015095157A1 (en) 2013-12-17 2015-06-25 Novartis Ag A silicone hydrogel lens with a crosslinked hydrophilic coating
US9684095B2 (en) 2014-04-25 2017-06-20 Novartis Ag Hydrophilized carbosiloxane vinylic monomers
US9329306B2 (en) 2014-04-25 2016-05-03 Novartis Ag Carbosiloxane vinylic monomers
WO2016011028A1 (en) 2014-07-14 2016-01-21 University Of Utah Research Foundation In situ solidifying complex coacervates and methods of making and using thereof
CN110279494B (zh) 2014-08-26 2023-02-17 施菲姆德控股有限责任公司 调节性人工晶状体
EP3186070B1 (en) 2014-08-26 2019-09-25 Novartis AG Method for applying stable coating on silicone hydrogel contact lenses
MX380774B (es) 2014-09-26 2025-03-12 Alcon Inc Polisiloxanos polimerizables con sustituyentes hidrófilos.
WO2016145204A1 (en) 2015-03-11 2016-09-15 University Of Florida Research Foundation, Inc. Mesh size control of lubrication in gemini hydrogels
US9851472B2 (en) 2015-03-27 2017-12-26 Momentive Performance Materials Inc. Silicone-based hydrophilic copolymer and hydrogel compositions comprising the same
JP6766067B2 (ja) 2015-04-07 2020-10-07 シュミット リナー アーゲー 官能化された光開始剤
SG11201707269UA (en) 2015-05-07 2017-11-29 Novartis Ag Method for producing contact lenses with durable lubricious coatings thereon
WO2017037611A1 (en) 2015-09-04 2017-03-09 Novartis Ag Soft silicone medical devices with durable lubricious coatings thereon
EP3932367B1 (en) 2015-11-18 2024-04-10 Shifamed Holdings, LLC Multi-piece accommodating intraocular lens
US11141263B2 (en) 2015-11-18 2021-10-12 Shifamed Holdings, Llc Multi-piece accommodating intraocular lens
JP6580788B2 (ja) 2015-12-02 2019-09-25 ノバルティス アーゲー 水溶性ｕｖ吸収化合物およびその使用
AU2016373539B2 (en) 2015-12-15 2019-03-14 Alcon Inc. Hydrophilized polydiorganosiloxane vinylic crosslinkers and uses thereof
CA3003986C (en) 2015-12-15 2020-07-21 Novartis Ag Polymerizable polysiloxanes with hydrophilic substituents
KR102079026B1 (ko) 2015-12-15 2020-02-19 창저우 트론리 어드벤스드 일렉트로닉 머티어리얼스 컴퍼니, 리미티드 플루오렌 다작용성 광개시제 및 이의 제조 및 용도, 및 플루오렌 광개시제를 포함하는 광감성 수지 조성물 및 이의 용도
US10081142B2 (en) 2015-12-15 2018-09-25 Novartis Ag Method for producing contact lenses with a lubricious surface
WO2017103792A1 (en) 2015-12-15 2017-06-22 Novartis Ag Amphiphilic branched polydiorganosiloxane macromers
KR102604468B1 (ko) 2015-12-15 2023-11-22 알콘 인코포레이티드 실리콘 하이드로겔 콘택트 렌즈 상에 안정한 코팅을 적용하기 위한 방법
US10377933B2 (en) 2016-01-14 2019-08-13 Momentive Performance Materials Inc. Antifog coating composition and method of making thereof
CA3010331C (en) 2016-02-22 2021-06-22 Novartis Ag Uv-absorbing vinylic monomers and uses thereof
CA3010574C (en) 2016-02-22 2020-10-13 Novartis Ag Soft silicone medical devices
US10268053B2 (en) 2016-02-22 2019-04-23 Novartis Ag UV/visible-absorbing vinylic monomers and uses thereof
US11021558B2 (en) 2016-08-05 2021-06-01 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Polymer compositions containing grafted polymeric networks and processes for their preparation and use
JP6833171B2 (ja) 2016-09-13 2021-02-24 常州強力先端電子材料有限公司Ｃｈａｎｇｚｈｏｕ Ｔｒｏｎｌｙ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． フルオレン類光開始剤、その製造方法、それを有する光硬化性組成物、及び光硬化分野におけるフルオレン類光開始剤の使用
US10676575B2 (en) * 2016-10-06 2020-06-09 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Tri-block prepolymers and their use in silicone hydrogels
CA3033596C (en) 2016-10-11 2021-02-09 Novartis Ag Polymerizable polydimethylsiloxane-polyoxyalkylene block copolymers
CA3033595C (en) 2016-10-11 2021-06-29 Novartis Ag Chain-extended polydimethylsiloxane vinylic crosslinkers and uses thereof
EP3532519A1 (en) * 2016-10-26 2019-09-04 Novartis AG Amphiphilic branched polydiorganosiloxane macromers
EP3542193A1 (en) 2016-11-18 2019-09-25 Novartis AG Method for making ophthalmic lenses
US10350056B2 (en) 2016-12-23 2019-07-16 Shifamed Holdings, Llc Multi-piece accommodating intraocular lenses and methods for making and using same
CN120000379A (zh) 2016-12-23 2025-05-16 施菲姆德控股有限责任公司 多片式调节性人工晶状体及其制造和使用方法
JP7032416B2 (ja) 2017-02-17 2022-03-08 常州強力先端電子材料有限公司 フルオレニルアミノケトン類光開始剤、その調製方法及びフルオレニルアミノケトン類光開始剤を含有するｕｖ光硬化性組成物
CN110996848B (zh) 2017-05-30 2023-08-04 施菲姆德控股有限责任公司 调节性人工晶状体的表面处理以及相关方法和装置
KR20250012724A (ko) 2017-06-07 2025-01-24 알콘 인코포레이티드 실리콘 하이드로겔 콘택트 렌즈
CA3066081A1 (en) 2017-06-07 2018-12-13 Shifamed Holdings, Llc Adjustable optical power intraocular lenses
RU2766412C2 (ru) 2017-06-07 2022-03-15 Алькон Инк. Силикон-гидрогелевые контактные линзы
CN110740855B (zh) 2017-06-07 2021-10-22 爱尔康公司 用于生产硅氧烷水凝胶隐形眼镜的方法
CN107325288B (zh) * 2017-06-23 2021-02-12 武汉长盈鑫科技有限公司 一种提高表面固化效果的有机硅改性光引发剂及其制备方法
US10809181B2 (en) 2017-08-24 2020-10-20 Alcon Inc. Method and apparatus for determining a coefficient of friction at a test site on a surface of a contact lens
SG11202003457WA (en) 2017-12-13 2020-07-29 Alcon Inc Method for producing mps-compatible water gradient contact lenses
AU2019212513B2 (en) 2018-01-26 2024-10-31 Fluidx Medical Technology, Llc Apparatus and method of using in situ solidifying complex coacervates for vascular occlusion
US11034789B2 (en) 2018-01-30 2021-06-15 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Ophthalmic devices containing localized grafted networks and processes for their preparation and use
US10961341B2 (en) * 2018-01-30 2021-03-30 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Ophthalmic devices derived from grafted polymeric networks and processes for their preparation and use
WO2019162881A1 (en) 2018-02-26 2019-08-29 Novartis Ag Silicone hydrogel contact lenses
TWI772616B (zh) * 2018-03-01 2022-08-01 日商日本化藥股份有限公司 新穎化合物、含有該化合物之光聚合起始劑及含有該光聚合起始劑的感光性樹脂組成物
WO2019186426A1 (en) 2018-03-28 2019-10-03 Alcon Inc. Method for making silicone hydrogel contact lenses
MY202143A (en) 2018-06-04 2024-04-05 Alcon Inc Method for producing silicone hydrogel contact lenses
US11061169B2 (en) 2018-11-15 2021-07-13 Alcon Inc. Contact lens with phosphorylcholine-modified polyvinylalcohols therein
US11099300B2 (en) 2018-12-03 2021-08-24 Alcon Inc. Method for producing coated silicone hydrogel contact lenses
MY208061A (en) 2018-12-03 2025-04-11 Alcon Inc Method for making coated silicone hydrogel contact lenses
EP3953744B1 (en) 2019-04-10 2025-08-13 Alcon Inc. Method for producing coated contact lenses
WO2020240442A1 (en) 2019-05-28 2020-12-03 Alcon Inc. Pad transfer printing instrument and method for making colored contact lenses
US11891526B2 (en) 2019-09-12 2024-02-06 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Ink composition for cosmetic contact lenses
CN114502362B (zh) 2019-11-04 2024-03-26 爱尔康公司 具有不同柔软度表面的接触镜片
EP4369081B1 (en) 2019-12-16 2025-06-25 Alcon Inc. Method for producing an ophthalmic product
WO2021181307A1 (en) 2020-03-11 2021-09-16 Alcon Inc. Photochromic polydiorganosiloxane vinylic crosslinkers
ES2980588T3 (es) 2020-03-19 2024-10-02 Alcon Inc Materiales de inserción con alta permeabilidad al oxígeno y alto índice de refracción
WO2021186383A1 (en) 2020-03-19 2021-09-23 Alcon Inc. Embedded silicone hydrogel contact lenses
MX2022011568A (es) 2020-03-19 2022-10-18 Alcon Inc Materiales de insercion de siloxano con alto indice de refraccion para lentes de contacto embebidas.
WO2021186380A1 (en) 2020-03-19 2021-09-23 Alcon Inc. Method for producing embedded or hybrid hydrogel contact lenses
EP4149922A1 (en) 2020-05-14 2023-03-22 3M Innovative Properties Company Compounds comprising perfluorinated group, photoinitiator group, and amide linking group
HUE069050T2 (hu) 2020-07-28 2025-02-28 Alcon Inc Puhább lencsefelületekkel rendelkezõ kontaktlencsék
CN116867836A (zh) 2021-02-09 2023-10-10 爱尔康公司 亲水化聚二有机硅氧烷乙烯类交联剂
US12297323B2 (en) 2021-03-23 2025-05-13 Alcon Inc. Polysiloxane vinylic crosslinkers with high refractive index
HUE071263T2 (hu) 2021-03-24 2025-08-28 Alcon Inc Eljárás beágyazott hidrogél kontaktlencse elõállítására
US12194699B2 (en) 2021-04-01 2025-01-14 Alcon Inc. Embedded hydrogel contact lenses
US12360289B2 (en) 2021-04-01 2025-07-15 Alcon Inc. Method for making embedded hydrogel contact lenses
US11833771B2 (en) 2021-04-01 2023-12-05 Alcon Inc. Method for making photochromic contact lenses
US12379611B2 (en) 2021-06-14 2025-08-05 Alcon Inc. Diffractive contact lenses
TW202338399A (zh) 2021-09-01 2023-10-01 瑞士商愛爾康公司 用於生產可潤濕矽酮水凝膠接觸鏡片之方法
US11912800B2 (en) 2021-09-29 2024-02-27 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Amide-functionalized polymerization initiators and their use in the manufacture of ophthalmic lenses
KR20240153585A (ko) 2022-04-26 2024-10-23 알콘 인코포레이티드 내장형 히드로겔 콘택트 렌즈의 제조 방법
WO2023209570A1 (en) 2022-04-26 2023-11-02 Alcon Inc. Method for making embedded hydrogel contact lenses
KR20240163713A (ko) 2022-05-09 2024-11-19 알콘 인코포레이티드 내장형 히드로겔 콘택트 렌즈의 제조 방법
CN119137510A (zh) 2022-05-23 2024-12-13 爱尔康公司 Uv/hevl过滤性接触镜片
WO2023228106A1 (en) 2022-05-25 2023-11-30 Alcon Inc. Method for making embedded hydrogel contact lenses
US20240316886A1 (en) 2023-03-22 2024-09-26 Alcon Inc. Method for making embedded hydrogel contact lenses
WO2024241239A1 (en) 2023-05-25 2024-11-28 Alcon Inc. Coated silicone hydrogel contact lenses and method for making the same
WO2024246822A1 (en) 2023-06-01 2024-12-05 Alcon Inc. Method for making embedded silicone hydrogel contact lenses

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4200762A (en) * 1976-10-29 1980-04-29 Thiokol Corporation Actinic radiation curable polymers
US4224454A (en) * 1978-10-13 1980-09-23 Lord Corporation Photoinitiation systems for free radical polymerization reactions
US4303484A (en) * 1979-08-22 1981-12-01 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Photocurable organopolysiloxane compositions
CA1187645A (en) * 1981-01-12 1985-05-21 Kyoichi Tanaka Contact lens and process for preparing the same
JPS58102809A (ja) * 1981-12-11 1983-06-18 フオ−ド・モ−タ−・カンパニ− 液圧弁
DE3586531T2 (de) * 1984-12-12 1993-03-25 Daikin Ind Ltd Kontaktlinsenmaterial.
US4666953A (en) * 1985-03-28 1987-05-19 Loctite Corporation Silicone polyphotoinitiators
US4668240A (en) * 1985-05-03 1987-05-26 Schering Corporation Pigment colored contact lenses and method for making same
JP2546237B2 (ja) * 1986-08-25 1996-10-23 富士ゼロックス株式会社 トナ−の製造方法
JPS6357038A (ja) * 1986-08-27 1988-03-11 株式会社東芝 超音波画像表示装置
DE3738567A1 (de) * 1987-03-12 1988-09-22 Merck Patent Gmbh Coreaktive fotoinitiatoren
JPH01109086A (ja) * 1987-10-22 1989-04-26 Oomikku:Kk レンチ
JPH01230603A (ja) * 1988-03-10 1989-09-14 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光硬化性組成物
US4983702A (en) * 1988-09-28 1991-01-08 Ciba-Geigy Corporation Crosslinked siloxane-urethane polymer contact lens
DE3844445A1 (de) * 1988-12-31 1990-07-19 Basf Ag Uv-vernetzbare massen auf basis von (meth)-acrylesterpolymerisaten
US5039769A (en) * 1989-10-11 1991-08-13 Ciba-Geigy Coproation Wettable, flexible, oxygen permeable, substantially non-swellable contact lens containing polyoxyalkylene backbone units, and use thereof
US5210111A (en) * 1991-08-22 1993-05-11 Ciba-Geigy Corporation Crosslinked hydrogels derived from hydrophilic polymer backbones
EP0586332B1 (de) * 1992-08-05 1997-02-05 Ciba-Geigy Ag Kontaktlinsen aus lipophilisierten Cyclodextrinen

Also Published As

Publication number Publication date
NO942495L (no) 1995-01-03
TW328535B (en) 1998-03-21
HUT69305A (en) 1995-09-28
US5527925A (en) 1996-06-18
US5612391A (en) 1997-03-18
CA2127200A1 (en) 1995-01-03
JP4053612B2 (ja) 2008-02-27
US5621018A (en) 1997-04-15
AU6603994A (en) 1995-02-23
ES2109647T3 (es) 1998-01-16
HU219502B (hu) 2001-04-28
MX9404973A (es) 1995-01-31
IL110171A (en) 1999-04-11
HK1003846A1 (en) 1998-11-06
ZA944758B (en) 1995-01-03
KR950003265A (ko) 1995-02-16
DK0632329T3 (da) 1998-05-04
JPH0789925A (ja) 1995-04-04
NO942495D0 (no) 1994-07-01
EP0632329A1 (de) 1995-01-04
FI943129A7 (fi) 1995-01-03
CN1102825A (zh) 1995-05-24
GR3025768T3 (en) 1998-03-31
NZ260892A (en) 1996-02-27
PL304064A1 (en) 1995-01-09
ATE160888T1 (de) 1997-12-15
AU683256B2 (en) 1997-11-06
IL110171A0 (en) 1994-10-07
US5612389A (en) 1997-03-18
FI943129A0 (fi) 1994-06-29
NO302026B1 (no) 1998-01-12
EP0632329B1 (de) 1997-12-03
DE59404708D1 (de) 1998-01-15
HU9402005D0 (en) 1994-09-28
CZ161094A3 (en) 1995-01-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL180201B1 (pl) Pochodne izocyjanianowe podstawionych acetofenonów, sposób wytwarzania pochodnych izocyjanianowych podstawionych acetofenonów i sposób modyfikacji powierzchni wyprasek organicznych PL PL PL PL PL PL PL PL
EP0800511B1 (en) Functionalised photoinitiators, derivatives and macromers therefrom and their use
US9371308B2 (en) Polymeric photoinitiators
AU701751B2 (en) NCO-terminated vinyl telomers
AU698098B2 (en) Process for the functionalisation of surfaces
CA1200647A (en) Actinic radiation cured polyurethane acrylic copolymer
EP1017734B1 (en) Crosslinkable polyurea polymers
HK1003846B (en) Functionalised photoinitiator, macromeres and their use
JPH10512239A5 (pl)
CN105693950B (zh) 一种自引发光聚合型有机硅纳米凝胶、其制备方法及用途
CN109957083A (zh) 一种不饱和多元醇及由其制备的可光固化聚氨酯和它们的制造方法
CN111514380B (zh) 一种输尿管支架及其制备方法
US4125671A (en) Acrylated dithiocarbamyl esters
KR100432211B1 (ko) 내열성이우수한광경화형불소변성우레탄아크릴레이트올리고머의제조방법
İnan et al. Synthesis and characterization of phosphorus‐containing methacrylate‐based difunctional crosslinkers and their use in UV‐curable resin systems
CN110835307A (zh) 可聚合光敏单体、基于其的光敏聚合物及生物材料表面改性方法
MXPA97004917A (en) Vinyl telomeros nco-termina