PL129735B1 - Apparatus for drying and granulating moist fusible and/or pasty materials - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do suszenia i granulowania wilgotnych materialów topliwych i/lub majacych konsystencje pasty, a zwlaszcza wrazliwych na cieplo, nie fluidyzujacych sie, mazistych, lepkich, papkowatych, brzeczek pofermentacyjnych, szlamów, np. pochodzacych z biologicznej obróbki scieków i tym podobnych cieczy oraz scinków i tym podobnych odpadów z rzezni, zawierajace przestrzen suszaca we wnetrzu cylindrycznego korpusu ogrzewanego z zewnatrz, umieszczonego poziomo lub pod niewielkim katem, zaopatrzone w elementy mieszajace oraz wprowadzajace wilgotny material i gazowy srodek suszacy do przestrzeni suszacej, a takze w elementy usuwajace wysuszony material i srodek suszacy z przestrzeni suszacej.Do suszenia materialów o konsystencji pasty i papkowatych materialów o wysokiej zawartosci wilgoci oraz materialów o podobnej konsynstencji stosowane sa rózne typy suszarek, które ze wzgledu na metode przenoszenia ciepla dziela sie na dwie glówne grupy: suszarki kontaktowe czyli o posrednim przenoszeniu ciepla oraz konwekcyjne czyli o bezposrednim przenoszeniu ciepla.Ostatnio w wyniku polaczenia tych dwóch systemów skonstruowano tak zwane suszarki kontaktowo-konwekcyjne.W belgijskim opisie patentowym nr 485 255 przedstawiono urzadzenie typu konwekcyjnego przeznaczone do suszenia luznych, granulowanych materialów, w którym wal zaopatrzony w tarcze obraca sie w umieszczonym w stalej pozycji cylindrycznym bebnie. Tarczesa perforowane na obwodzie i wyposazone w poprzeczne np. kolowe wyciecia oraz talerzowe przenosniki wystajace z tarcz. Powietrze suszace i material przeznaczony do suszenia przechodza w jednym strumieniu przez beben, powietrze przez perforacje na obwodzie, natomiast material przez system otworów utworzony przez wyciecia. Wada tego rozwiazania jest jego ograniczony zakres zastosowan, poniewaz nawet lekko lepkie materialy granulowane trudnojest przerabiac w tym urzadzeniu, a nie nadaje sie ono zupelnie do przerobu materialów papkowatych i materialów o konsystencji pasty, poniewaz perforacje moga ulec zatkaniu, a material bedzie przylegal do cylindrycznych scianek i do wystajacych talerzy. Perforowane tarcze powoduja znaczne straty w przeplywie powietrza, pocia¬ gajace za soba koniecznosc zwiekszenia mocy zasilania. Tarcze maja skomplikowanakonstrukcje, a technologia ich wytwarzania stwarza szereg problemów.2 129 735 Urzadzenie nie nadaje sie do granulacji materialu suszonego (rozdrabniania, kruszenia).Urzadzenie „Rota-Disc" jest szeroko stosowana suszarka kontaktowa, w której worki sa zamocowane w poziomej rynnie w cylindrze. Worki sa ogrzewane wewnetrznie, a rynna zewnetr¬ znie para wodna. Material przeznaczony do wysuszenia znajduje sie w przestrzeni miedzy obracaja¬ cymi sie workami i jest odspajany przez lopatki przymocowane do worków. Pionowe lopatki ciagnace sie miedzy workami zapobiegaja wspólbieznej rotacji. Wada urzadzenia jest ograniczenie suszenia do waskiej grupy materialów, zlozona konstrukcja i niewygodne operowanie nim. Trud¬ nosc sprawia stale odnawianie powierzchni suszacej, czyszczenie wnetrza i duze zuzycie energii.Wysokie koszty inwestycyjne i operacyjne stanowia takze strone ujemna tego urzadzenia.Tak zwana suszarka typu „Devi" znana jest jako urzadzenie suszace kontaktowo- konwekcyjne, w którym elementem suszacym jest powielany slimak wielozwojowy o kolyskowym ksztalcie umieszczony na wale obrotowym. Srodek suszacy wdmuchuje sie do dolnej czesci kolyski.Mieszadlo odcina ciagle stwardnialy material, który staje sie fluidyzowalny pod koniec pierwszej fazy procesu suszenia. Dalsze suszenie odbywa sie juz w materiale sfluidyzowanym. Srodek fluidyzacyjny stanowi gorace powietrze wprowadzane w dolnej czesci tej kolyski. Mieszadlo, zaleznie od stanu materialu, jest stacjonarne lub obrotowe. Wade tego urzadzenia stanowi przery- walnosc operacji, w poczatkowej fazie suszenia przewaza suszenie kontaktowe na powierzchni, natomiast w ostatniej fazie suszenia skuteczne jest jedynie przenoszenie ciepla przez gorace powietrze. Dysze powietrzne moga zatkac sie latwo powodujac z jednej strony strate wydajnosci, a z drugiej wydluzenie czasu suszenia.Materialy otrzymywane ze znanych suszarek granuluje sie w odrebnych operacjach np. granulacji, kruszenia, siania, albo za pomoca kombinacji róznych urzadzen, uzyskujac w ten sposób wymagana wielkosc ziaren. Dotychczas nie jest znane rozwiazanie, które umozliwialoby jednoczesne suszenie i granulacje materialu do wymaganej wielkosci ziaren.Urzadzenie wedlug wynalazku nalezy do typu konwekcyjno-kontaktowego,jest przeznaczone do suszenia wilgotnych materialów, topliwych i/lub majacych konsystencje pasty, w procesie ciaglym i nadaje sie do suszenia materialów o zasadniczo róznej konsystencji i/lub zasadniczo róznych wlasciwosciach fizycznych i/lub chemicznych, a w szczególnosci papkowatych, lepkich, mazistych, nie fluidyzujacych sie materialów o wysokiej zawartosci wilgoci, brzeczek pofermenta¬ cyjnych, szlamów pochodzacych z biologicznej przeróbki scieków i podobnych cieczy, scinki i podobne odpady z rzezni, o wzglednej wysokiej jakosci w stosunkowo niskiej temperaturze, z którego otrzymuje sie material o zadanej wielkosci ziaren.W oparciu o urzadzenie wedlug wynalazku mozna znacznie zwiekszyc wydajnosc suszenia przez rozsmarowanie materialu suszonego na ogrzewanej z zewnatrz sciance, a nastepnie dyspergo¬ wanie utwardzonej warstwy materialu (skorupy) w gazowym srodku suszacym przeplywajacym przez przestrzen suszaca, natomiast powierzchnie kontaktowa przenoszaca cieplo odnawia sie w sposób ciagly, przy czym material suszony oraz gazowy srodek suszacy pozostaja w przestrzeni suszacej tak dlugo jak tylko mozliwe. Toostatnie kryterium moze byc spelnione przez wydluzenie drogi ruchu materialu i srodka suszacego. Rezultatem zwiekszonej wydajnosci suszeniajest obnize¬ nie temperatury pracy potrzebnej w tym procesie, co umozliwia suszenie bez uszkodzen wrazliwych na cieplo materialów, np. zawierajacych bialka, w stosunkowo niskiej temperaturze, ponizej 100°C.Ponadto przyrzad stosowany do rozsmarowania wilgotnego materialu nadaje sie równiez do jego granulacji, poniewaz mniejsze czastki ciagle jeszcze wilgotnego materialu sa powiekszone, natomiast duze kawalki wysuszonego materialu sa odrywane od scianki i granulowane przez kruszenie tak, ze material opuszcza przestrzen suszaca w postaci granulacji o zadanej wielkosci ziarna i rozkladzie tych wielkosci w mieszaninie.Proszek i bardzo male ziarna mozna zawracac z wylotu i wdmuchiwac do przestrzeni suszacej w strumieniu gazu suszacego, dzieki czemu z przestrzeni suszacej wychodzi material gruboziarnisty o wymaganej wielkosci ziaren.Urzadzenie wedlug wynalazku posiada przestrzen suszaca utworzona we wnetrzu cylindry¬ cznego korpusu ogrzewanego z zewnatrz, umieszczonego poziomo lub pod pewnym katem, zawierajace w przestrzeni suszacej elementy mieszajace, a ponadto elementy wprowadzajace wilgotny material i gazowy srodek suszacy do przestrzeni suszacej, jak równiez elementy usuwajace129 735 3 wysuszony material i gazowy srodek suszacy z tej przestrzeni w postaci gazoszczelnego podajnika slimakowego i/lub podajnika komorowego. Cylidryczna przestrzen suszaca jest podzielona na komory umieszczonymi w odstepach, poprzecznymi plytkami, korzystnie prostopadlymi do pozio¬ mej lub prawie poziomej osi geometrycznej podluznej cylindrycznej przestrzeni suszacej, przy czym plytki poprzeczne zawieraja otwory umozliwiajace przeplyw suszonego materialu oraz gazowego srodka suszacego przez poszczególne komory.Plytki poprzeczne i cylindryczna scianka przestrzeni suszacej zainstalowane sa obrotowo wzgledem siebie, zas do plytek poprzecznych zamocowane sa lopatki zagarniajaco-mieszajace umieszczone w sasiedztwie wewnetrznej powierzchni cylindry¬ cznej scianki.Ponadto w przestrzeni suszacej znajduja sie elementy rozsmarowujace material suszony na sciankach cylindrycznych przestrzeni suszacej i kruszace wysuszony material, zamocowane do plytek poprzecznych zaopatrzonych w lopatki zagarniajaco-mieszajace i/lub do innych plytek poprzecznych i umieszczone w sasiedztwie wewnetrznej cylindrycznej scianki. W sasiadujacych plytkach poprzecznych rozmieszczone sa naprzemiennie w srodkowej i obwodowej czesci otwory, umozliwiajace przeplyw materialu suszonego i gazowego srodka suszacego. Plytki poprzeczne sa formowane naprzemiennie jako pierscienie redukcyjne i krazki redukcyjne, zas otwór w srodkowej czesci pierscienia redukcyjnego jest otoczony pelnym pierscieniem, którego zewnetrzny brzeg znajduje sie w sasiedztwie wewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki przestrzeni suszacej, natomiast krazek redukcyjny posiada centralnie umieszczona okragla plytke, której brzeg jest oddalony od cylindrycznej scianki bardziej niz zewnetrzny brzeg pierscienia redukcyjnego.Ponadto krazek redukcyjny posiada kilka zaokraglonych ramion, korzystnie cztery ramiona, usytuowanych pod katem 90° wzgledem siebie, wystajacych z centralnie umieszczonej plytki w kierunku powierzchni cylindrycznej scianki przestrzeni suszacej i konczacych sie z pozostawieniem odstepu od tej scianki.Plytki poprzeczne sa zamontowane na wale umieszczonym w geometrycznej osi podluznej przestrzeni suszacej, korzystnie z regulacja osiowa umozliwiajaca odpowiednie zmiany dlugosci komór.Element} rozsmarowujaco-kruszace tworza korzystnie swobodnie obracajace sie walki, któ¬ rych tworzaca jest równolegla do tworzacej cylindrycznej scianki przestrzeni suszacej, przy czym walki sa umieszczone w odleglosci od wewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki. Lopatki zagarniajaco-mieszajace stanowia ewentualnie proste plytki umieszczone w plaszczyznie tworzacej pewien kat, korzystnie kat ostry. Z hipotetyczna plaszczyzna styczna do cylindrycznej scianki w punkcie ich styku z ta scianka, kat jest rozwarty w kierunku rotacji. Dwie lopatki zagarniajaco- mieszajace, umieszczane sa naprzeciw siebie na kazdym z pierscieni redukcyjnych i krazków redukcyjnych i analogicznie dwa walki sa umieszczone naprzeciwlegle na kazdym krazku redukcyj¬ nym i zamocowane na zewnetrznych koncach dwóch przeciwleglych ramion, przy czym lopatki zagarniajaco-mieszajace ustawione sa wzgledem siebie pod katem 180° na kazdym krazku i pierscieniu redukcyjnym.Plytki poprzeczne mocowane sa na stale na wale obrotowym umieszczonym w podluznej geometrycznej osi przestrzeni suszacej ograniczonej nieruchoma scianka cylindryczna i dwoma koncowymi plytkami zamocowanymi na obu koncach cylindrycznej scianki, przy czym wal pola¬ czony jest z napedem i umieszczony w lozyskach korzystnie zamocowanych do plytek koncowych.Urzadzenie wedlug wynalazku ma gazoszczelny podajnik slimakowy i/lub podajnik komo¬ rowy wprowadzajacy wilgotny material w sasiedztwie jednej z plytek koncowych, kierujacy mate¬ rial z góry do przestrzeni suszacej oraz gazoszczelny podajnik slimakowy i/lub podajnik komorowy usuwajace suchy, pokruszony material, podlaczone do cylindrycznego korpusu w sasiedztwie drugiej plytki koncowej, z wylotem w spodniej czesci przestrzeni suszacej.Urzadzenia ze wzgledu na przeplyw materialu suszonego i gazowego srodka suszacego w przestrzeni suszacej moga byc konstruowane jako „czysto" wspólpradowe, „czysto" przeciwpra- dowe lub o przeplywie mieszanym. Urzadzenie „czysto" przeciwpradowe posiada element wprowa¬ dzajacy wilgotny material oraz wlot gazowego srodka suszacego na przeciwleglym koncu przestrzeni suszacej w stosunku do elementu wyladowujacego wysuszony material i wylotu gazo¬ wego srodka suszacego. W urzadzeniu „czysto" wspólpradowym element wprowadzajacy wilgotny material, wlot gazowego srodka suszacego a takze element wyladowujacy i wylot gazowego srodka suszacego usytuowane sa na przeciwleglych koncach przestrzeni suszacej. W tych rozwiazaniach4 129 735 gazowy srodek suszacy wychodzacy z przestrzeni suszacej kieruje sie do separatora, np. do cyklonu.Przestrzen suszaca urzadzenia o przeplywie mieszanym zawiera dwie sekcje wspólpradowa i przeciwpradowa, przy czym do pierwszej wprowadza sie wilgotny material, a druga posiada konstrukcje umozliwiajaca wyladowanie osuszonego materialu i wprowadzanie gazowego srodka suszacego przez wloty w plytkach koncowych, podczas gdy wylot gazu umieszczony jest w przestrzeni suszacej korzystnie ku górze miedzy sekcja wspólpradowa i przeciwpradowa. Odpy- lacz, np. worek pylowy lub cyklon podlacza sie do wylotu gazowego srodka suszacego.Urzadzenie zawiera koncówke wylotowa, podlaczona do otworu wylotowego gazowego srodka suszacego, do której z kolei przylaczona jest korzystnie cylindryczna komora zaopatrzona w koncówke wylotowa, wychodzaca z górnej jej czesci, w komorze zawieszony jest worek pylowy polaczony z wibratorem w celu zawracania drobnoziarnistego materialu do wlotu wilgotnego materialu, albo do otworu wylotowego gazowego srodka suszacego podlaczony jest cyklon.Urzadzenie zawiera element zawracajacy drobnoziarnisty sproszkowany material oddzielony z odpylacza, do wilgotnego materialu przeznaczonego do suszenia. Gazowy srodek suszacy wprowa¬ dza sie do przestrzeni suszacej przez styczne krócce rurowe. W urzadzeniu wedlug wynalazku do przewodów rurowych i odprowadzajacych gazowy srodek suszacy wbudowane sa osobno regulo¬ wane podgrzewacze, takie jak generatory goracego powietrza, podlaczone oddzielnie do sekcji wspólpradowej i przeciwpradowej.Cylindryczna scianka otaczajaca przestrzen suszaca jest podwójna osobno w sekcji wspólpra¬ dowej i przeciwpradowej, przy czym zamkniete przestrzenie sa utworzone niezaleznie od siebie wzdluz zewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki i podlaczone do podgrzewaczy wyposazo¬ nych w niezalezne regulatory przeplywu np. do przewodów parowych. Rozwiazanie niektórych problemów wymagaloby ogrzewania powierzchni zewnetrznej scianki otaczajacej przestrzen suszaca do róznych temperatur, w wiecej niz dwóch zakresach. Wzdluz zewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki tworzone sa wiecej niz dwie zamkniete przestrzenie podlaczone do zródel ciepla o róznych temperaturach.Odmiana urzadzenia wedlug wynalazku o przeplywie mieszanym posiada króciec wlotowy gazowego srodka suszacego umieszczony w cylindrycznej sciance przy koncu sekcji przeciwprado¬ wej w ten sposób, ze nadaje ruch wirowy materialowi suszonemu kierujac go do elementu usuwaja¬ cego, natomiast w sekcji wspólpradowej króciec wlotowy gazowego srodka suszacego umieszczony jest w czolowej czesci w ten sposób, ze nadaje ruch wirowy materialowi suszonemu kierujac go do wylotu materialu mokrego z urzadzenia wprowadzajacego. Sekcja wspólpradowa i przeciwpradowa maja rózna dlugosc, to znaczy pierwsza z nich jest dluzsza od drugiej.Czas przebywania suszonego materialu w przestrzeni suszacej mozna regulowac za pomoca zastawki o regulowanej wysokosci, umieszczonej w przestrzeni na wprost wylotu suchego i pokru¬ szonego materialu, ustawionej poprzecznie, korzystnie prostopadle do geometrycznej osi podluz¬ nej przestrzeni suszacej.Urzadzenie wedlug wynalazku posiada przyrzady do rozsmarowywania wilgotnego materialu na cylindrycznych sciankach przestrzeni suszacej i kruszenia wysuszonego materialu jako zakrzy¬ wione plytki umieszczone w sasiedztwie wewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki, porusza¬ jace sie w obszarze obwodowym wzdluz co najmniej czesci scianek poprzecznych.Urzadzenie wedlug wynalazku wykazuje nastepujace zalety: wykorzystane jest równoczesne przenoszenie ciepla kontaktowe i konwekcyjne w przestrzeni suszacej, przy czym dodatkowo dzialanie grzewcze górnej scianki wykorzytane jest do powtórnego ogrzania srodka suszacego przeplywajacego wewnatrz korpusu. Zastosowany podzial przestrzeni suszacej na komory za pomoca pierscieni i krazków redukcyjnych wplywa na czas przebywania wsadu w przestrzeni suszacej, co z kolei zwieksza jego efektywny czas kontaktu. Warstwa przylegajaca do wewnetrznej powierzchni cylindrycznej suszarki jest intensywnie suszona cieplem dzialajacym od srodka i od zewnatrz tak, ze peka w trakcie procesu suszenia i odspaja sie od scianki nawet w tych miejscach, w których lopatki zagarniajaco-mieszajace nie stykaja sie z powierzchnia, dzieki temu, ze odparo¬ wana woda odbija sucha skorupe od scianki. Mniejsze czastki poruszajace sie w dolnej czesci suszarki wywieraja dzialanie mielaco-erodujace na wieksze czastki odpadajace ze scianek, dzieki czemu dolna partia scianki, w której niebezpieczenstwo spiekania jest najwyzsze, jest ciagle oczyszczana.129735 5 Proces suszenia kontaktowego jest dalej intensyfikowany przez dzialanie lopatek zagarniajaco-mieszajacych dyspergujacych stale material przylegajacy do wewnetrznej powierzch¬ ni w strumieniu gazu suszacego, przy czym powierzchnia kontaktowa przenoszaca cieplojest ciagle odnawiana. Wszystkie te czynniki w odniesieniu do znanych metod, znacznie zwiekszaja wydaj¬ nosc suszenia, dzieki czemu moga byc budowane suszarki o nizszym jednostkowym zuzyciu energii, mniejszej objetosci i nizszych kosztach inwestycyjnych, przy czym tym sposobem mozna praktycznie wykonac suszenie takich materialów majacych konsystencje pasty, papkowatych, mazistych, nie fluidyzujacych sie o specjalnej konsy stencji, które dotychczas nie mogly byc suszone lub suszenie ich pociagalo bardzo wysoki koszt inwestycyjny.Intensyfikacja, zwiekszona wydajnosc suszenia umozliwiaja stosowanie nizszych temperatur suszenia, dzieki czemu moga byc suszone materialy wrazliwe na cieplo, np. materialy zawierajace bialko, które mozna suszyc w tym urzadzeniu bez niebezpieczenstwa ich uszkodzenia. Szczególnie wydajne sa urzadzenia o przeplywie mieszanym, czesciowo wspólpradowym i czesciowo przeciw- pradowym, w których przy danej objetosci suszacej moze byc nie tylko zwiekszona ilosc gazowego srodka suszacego, ale moze byc regulowane natezenie przeplywu i/lub temperatura gazu suszacego wprowadzanego w dwóch miejscach, a ponadto przez ogrzewanie plaszcza w róznym stopniu mozna uzyskac optymalne warunki dla rozwiazania najtrudniejszych procesów w dwóch sekcjach.Zadana wielkosc ziarna materialu uzyskuje sie za pomoca walków kruszacych, dzieki czemu suszenie i granulowanie odbywa sie w jednym urzadzeniu. Regulowana wysokosc zastawki umie¬ szczonej przed wylotem umozliwia zwiekszenie ilosci materialu w przestrzeni suszacej, a tym samym regulacje czasu przebywania wsadu.Urzadzenie wedlug wynalazku opisano szczególowo w oparciu o zalaczone rysunki, przedsta¬ wiajace niektóre z korzystnych rozwiazan tego urzadzenia. Fig. 1 - schematyczny przekrój pionowy wzdluzny urzadzenia, fig. 2 — przekrój pierscienia redukcyjnego wzdluz linii A-A oznaczonej na fig. 1, w powiekszeniu, fig. 3 — przekrój krazka redukcyjnego wzdluz linii B-B oznaczonej na fig. 1, w powiekszeniu, fig. 4 — przekrój ukazujacy komore ograniczona z jednej strony pierscieniem redukcyjnym, a z drugiej krazkiem redukcyjnym, identyczny z fig. 1, w powiekszeniu, fig. 5 — schematyczny przekrój pionowy wzdluzny urzadzenia wspólpradowego wedlug wynalazku, fig. 6 — schematyczny przekrój wzdluzny urzadzenia przeciwpradowego wedlug wynalazku.Cylindryczny korpus 1 umieszczony poziomo lub pod katem jest zamocowany w tym poloze¬ niu, w.tym przypadku jego geometryczna os podluzna X jest pozioma. Korpus zawiera przestrzen suszaca 2 ograniczona cylindryczna scianka 3, plytkami koncowymi 4 i 5. Przestrzen suszaca 2 posiada sekcje wspólpradowa I i przeciwpradowa II. Wzdluz tej sekcji scianka cylindryczna 3 korpusu 1 jest podwójna, to znaczy otoczona z zewnatrz plaszczem 6 z dystansem a od zewnetrznej powierzchni tej scianki, z utworzeniem przestrzeni zamknietych 7a i 7b o przekroju pierscieniowym ze scianka 3. Do tych przestrzeni zamknietych 7a i Tb doprowadzany jest czynnik grzewczy (patrz ponizej).Wprowadzanie materialu odbywa sie za pomoca przyrzadu zasilajacego 8, skladajacego sie z podajnika slimakowego 8a i umieszczonego pod nim podajnika komorowego Sb, ciagnacego sie od szczytu do korpusu 1, po lewej jego stronie. Podajnik slimakowy i/lub podajnik komorowy maja konstrukcje gazoszczelna. Walslimacznicy Y napedzany jest przez kolo lancuchowe 9 polaczone z kolem lancuchowym 10 przez lancuch 9a. Kolo lancuchowe 10 jest zamocowane na wale 11 poruszanym napedem 12. Wal Z podajnika komorowego 8b napedzany jest przez kolo lancuchowe 13 poprzez lancuch 13a przechodzacy przez kolo lancuchowe 14 zamocowane na wale 11.Wal 15 obraca sie w korpusie 1, wzdluz poziomej osi geometrycznej X przestrzeni suszacej 2, podlaczonej do napedu 12 za pomoca dlawicy 16 i lozysk 17 usytuowanych na zewnatrz przestrzeni suszacej 2 utrzymywanych przez wsporniki 17a przyspawane do plyty koncowej 4. Drugi koniec walu 15 po prawej stronie fig. 1, jest analogicznie osadzony we wspornikach.Plytki poprzeczne, w tym przypadku pierscienie redukcyjne 18 i krazki redukcyjne 19 sa polaczone sztywno, obracaja sie z walem 15 w odleglosci C jeden od drugiego, dzielac przestrzen suszaca 2 korpusu 1 na komory 20. W obwodowej czesci pierscieni redukcyjnych 18 i krazków redukcyjnych 19 zamocowane sa lopatki zagarniajaco-mieszajace 21 ustawione wzdluz wewne¬ trznej powierzchni cylindrycznej scianki 3, w bliskim sasiedztwie tej scianki, z dystansem kilku milimetrów, W czesci obwodowej pierscienia redukcyjnego 18 zamocowane sa swobodnie obraca¬ jace sie walki 22, które sa takze w bliskim sasiedztwie wewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki 3. Walki 22 sluza jako przyrzady do rozsmarowywania wilgotnego materialu na wewne-6 129 735 trznej powierzchni cylindrycznej scianki 3 i do kruszenia wysuszonego materialu. Material oraz gazowy srodek suszacy przeplywaja z jednej strony komory 20 do drugiej przez otwory 18a wykonane w pierscieniach redukcyjnych 18 i przez otwory 19a wv konane w krazkach redukcyjnych 19 (porównaj fig. 2 i 3).Do wydalania granulatu (suchego materialu) z przestrzeni 2 sluzy gazoszczelny podajnik komorowy 23 umocowany po prawej stronie korpusu 1, to znaczy po przeciwnej stronie do wlotu wilgotnego materialu, podlaczony do krócca w dolnej czesci korpusu 1. Powyzej podajnika 23, na¬ przeciwko plyty koncowej 5 do sciany cylindrycznej 3 zamocowana jest przegroda 23a, utworzona przez plytke w formie wycinka z pierscienia, w której wysokosc górnej krawedzi odpowiada okolo 1/4-1/5 wysokosci wewnetrznej srednicy D korpusu 1. Wysokosc przegrody 23a jest nastawna, co umozliwia regulacje przetrzymywania materialu w przestrzeni suszacej 2. Koncówka wylotowa (króciec rurowy) 24 wystajacy ku górze wychodzi z górnej czesci korpusu 1 miedzy sekcja wspólpra- dowa I i przeciwpradowa II przestrzeni suszacej 2 i jest polaczona z cylindryczna komora 26. W komorze 26 umieszczony jest worek pylowy 25 zamocowany przv dnie na koncówce wylotowej 24i zawieszony na szczycie z mechanicznym wibratorem 27. Wylot 26a wychodzi poziomo z górnej czesci komory 26.Do wprowadzania gazowego srodka suszacego, w tym przypadku powietrza, sluzy przyrzad z wentylatorem 28, kierujacy zasysane powietrze przez rure 29 do rozgalezien rurowych 30 i 31. W rozgalezieniach rurowych wbudowane sa podgrzewacze 32 i 33, a przed nimi w strone doplywu powietrza znajduja sie zawory do regulacji przeplywu powietrza. Rozgalezienie rurowe 30 pola¬ czone jest do krócca 34, a rozgalezienie 31 do krócca 35, wchodzacych stycznie do przestrzeni suszacej 2 odpowiednio z lewej i z prawej strony korpusu 1. Otwory wlotowe oznaczone sa odpowiednio 34a i 35a.Scianka cylindryczna 3 korpusu 1 jest podwójna osobno w sekcjach I i II, a przestrzenie zamkniete 7a i 7b sa ogrzewane z sieci zasilanej para 36. Przewód parowy 37 wchodzi do przestrzeni zamknietej 7a rozciagajacej sie wzdluz plaszcza obejmujacego sekcje wspólpradowa I, natomiast przewód parowy 38 prowadzi do zamknietej przestrzeni rozciagajacej sie wzdluz sekcji przeciwpra- dowej II. Przewody parowe zaopatrzone sa w regulatory 37a i 38a umozliwiajace kontrole doplywu ciepla do przestrzeni suszacej. Do usuwania skroplonej cieczy z przestrzeni zamknietych 7ai 7b sluza separatory 39 i 40. Zamiast pary moze byc stosowany dowolny srodek grzejny nadajacy sie do tego celu.Szczególy konstrukcji pierscienia redukcyjnego 18 przedstawione sa na fig. 2. Promien zewnetrzny rx pierscienia redukcyjnego 18 jest mniejszy od promienia R cylindrycznej scianki 3 o dystans d. Promien wewnetrzny pierscienia redukcyjnego oznaczono ti. Otwór 18a o promieniu ti (zakreskowany dla przejrzystosci) jest rozbity tylko przez dwa zeberka 42 laczace plytke pierscie¬ niowa 43 z piasta 41 umocowana do walu 15. Material suszony i gazowy srodek suszacy przeply¬ waja przez otwór 18a, przez tak zwany „przekrój otwarty" (we wspólpradzie i/lub przeciwpradzie).W zewnetrznej obwodowej czesci pierscieniowej plytki 43 zamontowane sa lopatki zagarniajaco- mieszajace 21 umieszczone naprzeciw siebie (korzystnie pod katem 170°), które poruszajac sie wzdluz powierzchni wewnetrznej cylindrycznej scianki 3 ciagle usuwaja osadzony material.Lopatki zagarniajaco-mieszajace 21 ustawione sa pod katem a do plaszczyzny f stycznej do cylindrycznej scianki 3 w punkcie ich styku z ta scianka, przy czym kat ten rozwiera sie naprzeciw kierunku obrotu zaznaczonego strzalka, czyli pod katem zbieznym w kierunku zgodnym z obro¬ tem. Kat a jest korzystnie katem ostrym.Szczególy konstrukcji krazka redukcyjnego 19 przedstawiono w powiekszonej skali na fig. 3.Piasta 44 osadzona na wale 15 zamocowana jest do pierscieniowej plytki 45 o promieniu n, z której wystaja promieniowo 4 ramiona 46, konczace sie przy cylindrycznej sciance 3. Ramiona 46 rozmieszczone sa wzgledem siebie pod katem 90°. Miedzy ramionami 46 pozostaje zasadniczo pierscieniowy otwór (zakreskowany dla przejrzystosci) oznaczony 19a, o szerokosci R-n. Material suszony oraz srodek suszacy przeplywaja przez ten otwór (wspólpradowo i/lub przeciwpradowo), to znaczy przez tak^zwany „Przekrój wolny". Na koncach dwóch przeciwleglych ramion 46 zamocowane sa walki 22 tak, aby mialy zapewniony swobodny obrót, których zewnetrzna powierzchnia pozostaje w odleglosci g od wewnetrznej scianki cylindrycznej 3. Kierunek obrotu walków 22 oznaczono strzalka f. Tworzace walków 22 sa równolegle do tworzacej cylindrycznej scianki 3. Kierunek obrotu krazka redukcyjnego 19 wskazuje strzalka e. Na koncach dwóch129 735 7 pozostalych ramion 46, tak jak na pierscieniu redukcyjnym pokazanym na fig. 2, zamocowane sa lopatki zagarniajaco-mieszajace 21 pod katem ostrym (zwierajacym sie) a do plaszczyzny stycznej do cylindrycznej scianki 3, w punkcie ich styku z ta scianka. Kat a rozwiera sie na przeciw kierunku obrotu.Figura 4 pokazuje w skali powiekszonej w stosunku do fig. 1 pionowy przekrój komory 20 ograniczonej cylindryczna scianka 3, krazkiem redukcyjnym 19 i pierscieniem redukcyjnym 18. \ Dlugosc komory 20 wynosi C, srednica D (D = 2R, patrz oznaczenia na fig. 2 i 3). Elementy wyzej opisane oznaczone sa tymi samymi numerami. Ply tki poprzeczne, pierscienie redukcyjne 18 i krazki redukcyjne 19 sa montowane na wale nastawnie wzdluz osi X, co umozliwia regulacje dlugosci C komór 20.Odmiane urzadzenia wedlug wynalazku przedstawia fig. 5, pokazanego jedynie schematy¬ cznie, które jest prostsze od urzadzenia na fig. 1 — jest to „czysto" wspólpradowe urzadzenie w odniesieniu do suszonego materialu i gazowego srodka suszacego, podczas gdy fig. 1 pokazuje urzadzenie o przeplywie mieszanym. Przestrzen suszaca 2 ograniczona scianka 3 i plytkami 4 i 5 podzielona jest na komory 20 przez krazki redukcyjne 19 i pierscienie redukcyjne 18. Czynnik ogrzewajacy zewnetrzna cylindryczna scianke 3 doprowadzany jest do przestrzeni pustej 7 przez króciec 47, natomiast kondensat wychodzi przez króciec 48 do odwadniacza 39. Doprowadzanie gazowego srodka suszacego odbywa sie przez króciec 34 i otwór wlotowy 34a, natomiast material do suszenia wprowadza sie przez komore zasilajaca 23, po czym jego drobnoziarnista frakcja przechodzi ze srodkiem suszacym przez otwór 35a i rurke 49 do cyklonu 50 umieszczonego na koncu wlotowym urzadzenia.Przebieg procesu w urzadzeniu o przeplywie mieszanym, przedstawionym na fig. 1, jest nastepujacy. Wilgotny material przeznaczony do suszenia doprowadza sie do przyrzadu zasilaja¬ cego 8 z kierunku oznaczonego kropkowana strzalka b, po czym dalsza droga poruszania sie materialu w urzadzeniu oznaczona jest kropkowanymistrzalkami b. Kierunek wprowadzania pary grzejacej cylindryczna scianke 3 wskazuja strzalki i (narysowane na rurach parowych), natomiast przeplyw gazowego srodka suszacego - w tym przypadku goracego powietrza — pokazuja strzalki j. Wilgotny material spadajacy z przyrzadu zasilajacego 8 do przestrzeni suszacej 2jest przesuwany do przodu, podnoszony i opuszczany przez lopatki zagarniajaco-mieszajace 21, podczas gdy walki 22 rozsmarowuja pewna czesc materialu na powierzchni wewnetrznej cylindrycznej scianki 3.Rozsmarowany material stanowi stosunkowo niewielka czesc wsadu w przestrzeni suszacej 2. W przestrzeni suszacej 2 material jest ogrzewany, przy czym zawarta w nim woda odparowuje czesciowo w wyniku ciepla dostarczonego kontaktowo przez cylindryczne scianki 3 ogrzewane przez zamkniete przestrzenie 7a i 7b, a czesciowo przez konwekcyjne przenoszenie ciepla w wyniku kontaktu z goracym strumieniem powietrza.Niezbedny — zwiekszony — czas przebywania materialu suszonego oraz wlasciwe mieszanie w przestrzeni suszacej, a takze wydajny kontakt z goracym powietrzem sa zapewnione przez naprzemiennie umieszczone obrotowo pierscienie redukcyjne 18 i krazki redukcyjne 19, które wymuszaja zmiane drogi przeplywu materialu i goracego powietrza przy przejsciu z jednej komory 20 do nastepnej. Cienka warstwa materialu rozsmarowanego na cylindrycznej sciance 3 przez walki 22 jest intensywnie suszona z obu stron: z zewnatrz przez scianke 3 i od wewnatrz przez przeplywa¬ jacy gazowy srodek suszacy. Wysuszony material oddzielony od scianki 3 przez lopatki zagarniajaco-mieszajace 21 lub wskutek pekania jest kruszony przez walki 22. Przez wlasciwy dobór liczby, rozmieszczenia i odleglosci walków 22 (odleglosc g mierzona od scianki 3), mozna ustawic wymagana wielkosc ziaren suchego materialu (fig. 3).Ruch skladników w stycznosci wzajemnej oraz skutecznosc zetkniecia maja istotne znaczenie w pracy urzadzenia przedstawionego na fig. 1, to znaczy w przypadku, gdy kazda z komór jest otoczona przez pierscien redukcyjny 18 z jednej strony i krazek redukcyjny z drugiej strony.Intensywnosc kontaktu skladników i tym samym suszenia jest zwiekszana przez lopatki zagarniajaco-mieszajace 21, które odnawiaja powierzchnie przewodzaca, przenoszaca cieplo oraz rozpraszaja czesc materialu rozsmarowanego na wewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki 3 w kazdej z komór 20, w strumieniu gazu wtedy, gdy wal obraca sie z odpowiednia szybkoscia w kierunku oznaczonym strzalka e (fig. 1-3). Dzieki odnawianiu powierzchni przez lopatki zagarniajaco-mieszajace 21 material nie moze zanieczyszczac scianek cylindra, co daje wzrost wydajnosci kontaktowego przenoszenia ciepla.8 129 735 Dyspergowanie wilgotnego materialu w strumieniu gazowego srodka suszacego za pomoca lopatek zagarniajaco-mieszajacych 21 powoduje przyspieszenie konwekcyjnego przenoszenia ciepla miedzy gazem i stalymi czastkami, poniewaz stale czastki i gaz sa intensywnie kontaktowane ze soba w szczególnie duzym obszarze, co z kolei powoduje szybkie odparowywanie srodka zwilzajacego staly material. Suszenie calej masy materialu ulatwione jest przez absorpcje wilgoci z materialu mokrego poruszajacego sie w dolnej czesci przestrzeni suszacej 2, przez czesciowo wysuszone kawalki oddzielone z cylindrycznej scianki 3, co przynosi zwiekszona wydajnosc suszenia.Szczególowy opis dzialania kruszacego walków 22 jest pokazany na fig. 1-3. Koniecznosc dalszej obróbki wysuszonego materialu np. przez ekstrakcje rozpuszczalnikiem materialu uwolnio¬ nego od srodka zwilzajacego, stwarza szereg problemów technologicznych w procesie suszenia. W tym przypadku, w celu uzyskania jednorodnych ziaren, poza suszeniem musi byc prowadzone znaczne rozdrabnianie materialu. Ten problem rozwiazany jest w urzadzeniu wedlug wynalazku za pomoca walków 22 zamocowanych na ramionach 46 cylindrycznych obrotowych krazków reduk¬ cyjnych 19 (fig. 1-3 i 4), które równoczesnie z obrotem krazka redukcyjnego moga swobodnie obracac sie na swoich trzpieniach równoleglych do tworzacej cylindrycznej scianki 3, w wyniku sily / tarcia przy kontakcie z materialem suszacym znajdujacym sie miedzy walkami 22 i wewnetrzna powierzchnia cylindrycznej scianki 3. Walki 22 znajduja sie w odleglosci g od wewnetrznej powierzchni scianki cylindrycznej 3 (fig. 3). Odleglosc g — zalezna od wymaganej wielkosci ziaren, moze byc odpowiednio regulowana.Praca urzadzenia przedstawionego na fig. 1 przebiega nastepujaco. Duza ilosc suchego pro¬ duktu poruszajacego sie w przestrzeni suszacej 2, tak jak oznaczono strzalkami b zostaje usunieta za pomoca podajnika, w tym przypadku podajnika komorowego 23, wychodzac w dolnej czesci przestrzeni suszacej po prawej stronie korpusu 1. Druga czesc suchego (sproszkowanego) materialu tworzona przez frakcje zawierajaca mniejsze ziarna przechodzi przez króciec 24 lacznie ze strumie¬ niem powietrza oznaczonym strzalkami j, do worka pylowego 25 umieszczonego w komorze 26.Dalsza czesc suchego materialu wskutek dzialania strumienia powietrza j wystepujacego w prze¬ strzeni suszacej w wyniku zasilania przez otwór 35a (patrz prawa czesc fig. 1)powraca do niecalko¬ wicie wysuszonego materialu poruszajacgo sie w srodkowej czesci przestrzeni suszacej 2. Po zebraniu sie pewnej ilosci suchego materialu na wewnetrznej powierzchni worka pylowego 25 . zostaje uruchomiony wibrator 27, przy czym pyl opada do przestrzeni suszacej 2, natomiast powietrze wolne od pylu wychodzi do otoczenia w kierunku oznaczonym strzalka k. Zamiast worka pylowego moze byc uzyty inny odpylacz, np. cyklon. Oddzielony pyl mozna zawrócic do wilgotnego materialu w celu zwiekszenia skutecznosci suszenia.W przypadku metody zasilania goracym powietrzem w urzadzeniu na fig. 1, gdy gazowy srodek suszacy jest doprowadzany do cylindrycznej przestrzeni suszacej równoczesnie z dwóch konców i odprowadzany w srodkowej czesci, wtedy urzadzenie zawiera dwie sekcje suszace. W sekcji wspólpradowej I material przeznaczony do suszenia i powietrze wprowadzone przez otwór wlotowy 34a przechodza przez te sekcje lacznie, zgodnie ze strzalkami b oraz j, po czym powietrze wychodzi z przestrzeni suszacej 2 przez króciec 24. W sekcji przeciwpradowej II material suszony przechodzi drogi oznaczone strzalkami b w kierunku przeciwnym do ruchu goracego powietrza poruszajacego sie jak wskazuja strzalki j, które takze wychodzi przez króciec 24. W ten sposób w trakcie suszenia przenoszenie konwekcyjne ciepla miedzy ziarnami i gazowym srodkiem suszacym odbywa sie w przeplywie mieszanym, to znaczy w polowie wspólpradowo i w polowie przeciwpra- dowo, równoczesnie z kontaktowa wymiana ciepla wystepujaca miedzy ziarnami i cylindryczna scianka 3.Ponadto wystepuje dodatkowy efekt przenoszenia ciepla przekazywanego przez cylindryczna scianke 3 do gazowego srodka suszacgo. W rezultacie, zamkniete przestrzenie 7a i 7b znajdujace sie na zewnatrz cylindrycznej scianki 3 podgrzewaja nie tylko suszony material, ale takze gazowy srodek suszacy przeplywajacy przez przestrzen suszaca 2. W wyniku tego dodatkowego efektu ilosc pary ogrzewczej potrzebnej do usuniecia jednostkowej ilosci wilgoci jest niewielka.Dlugosc sekcji suszacych I i II jest korzystnie rózna. Do suszenia materialów o wysokiej zawartosci wilgoci ogólnie korzystne jest stosowanie sekcji wspólpradowej I dluzszej od sekcji przeciwpradowej II. Okreslenie dlugosci sekcji jest szczególnie zalezne od fizycznych wlasciwosci materialu przeznaczonego do suszenia.129735 9 Oplaszczenie korpusu 1, gdzie nastepuje kontaktowe przenoszenie ciepla, jest podzielone zgodnie z sekcjami I i II. Na fig. 1 zamknieta przetrzen 7a nalezy do sekcji wspólpradowej I, a zamknieta przestrzen 7b nalezy do sekcji przeciwpradowej II, przy czym przestrzenie te mozna ogrzewac w rózny sposób, a w rezultacie róznej wymiany ciepla w obu sekcjach ogrzewanie moze byc rózne. Oczywiscie mozna stosowac wiecej niz dwie przestrzenie zamkniete utworzone wzdluz zewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki 3, oddzielone wzajemnie i podlaczone do zródel ciepla o róznych temperaturach. Tym sposobem poszerza sie zakres zastosowan suszarki. Dopóki suszy sie material niewrazliwy na cieplo, temperatura cylindrycznej scianki w poblizu zasilania moze miec temperature 140°C, która moza byc obnizona kilkustopniowo w strone miejsca wylotu do temperatury 80°C.Przez wprowadzenie gazowego srodka suszacego w dwóch miejscach naprzeciwleglych mozna zwiekszyc przepustowosc urzadzenia bez zwiekszania jego rozmiarów.Nastepna zalete stanowi mozliwosc wprowadzania gazowego srodka suszacego o róznej temperaturze do sekcji I i II, który mozna regulowac niezaleznie dla kazdej sekcji (patrz podgrze¬ wacze 32 i 33 wbudowane w obieg rur 30 i 31 pokazane na fig. 1). Rozwiazanie to umozliwia wprowadzenie gazu o wyzszej temperaturze do sekcji wspólpradowej I niz do sekcji przeciwprado¬ wej II, w wyniku czego obniza sie temperatura wydalanego suchego materialu, to znaczy, ze moze byc on chlodzony gazem o nizszej temperaturze.Poniewaz temperatura procesu suszenia i czas przebywania materialu suszonego w przestrzeni suszacej 2 z reguly przekraczaja granice odpornosci termicznej wegetatywnych form drobnoustro¬ jów, w rezultacie obróbki cieplnej w trakcie procesu suszenia moze byc znacznie zredukowany stopien przypadkowego zakazenia mikrobiologicznego. Todzialanie sterylizujace jest szczególnie istotne w przypadku suszenia niesyntetycznych, naturalnych materialów, gdzie niebezpieczenstwo zakazenia jest wyzsze.Regulacji podlega nie tylko temperatura gazu suszacego wprowadzanego do sekcji I i II, ale równiez ilosc tego gazu (patrz regulatory 30a i 31a umieszczone w rurach 30 i 31 na fig. 1). Zaleta regulacji ilosci gazu jest to, ze z wieksza iloscia gazu wieksza ilosc ciepla moze byc doprowadzona do pierwszej wspólpradowej sekcji I, co stanowi istotne wymaganie, zwlaszcza przy suszeniu materialów o wysokiej zawartosci wilgoci. Równoczesnie z prosta regulacja ilosci gazu wprowa¬ dzonego do drugiej przeciwpradowej sekcji II mozliwe jest uzyskanie zawrotu czesci materialu w strumieniu gazu w poblize wilgotnego materialu w sekcji II przestrzeni suszacej 2, zwiekszajac tym samym wydajnosc suszenia.Przy odpowiedniej regulacji ilosci gazu wprowadzanego do sekcji II, zloze stalych czastek utworzone z materialu przeznaczonego do suszenia podlega samoregulacji w sposób ciagly i odnawianiu w trakcie procesu suszenia. Zjawisko to wyjasnia mozliwosc zadawalajacego suszenia w urzadzeniu wedlug wynalazku materialów o specjalnej konsystencji np. mazistych, papkowa- tych, nie fluidyzujacych sie.Jak wyzej wspomniano, gaz jest wprowadzany stycznie tak, aby nadac mu ruch wirowy przy wejsciu przez otwory 34a i 35a do przestrzeni suszacej 2. Króciec 34 jest ustawiony w ten sposób, aby wilgotny material przechodzil z przyrzadu wprowadzajacego 8 w goracym strumieniu wiruja¬ cego gazu, w wyniku czego nastepuje wymieszanie z suchym proszkiem zawartym w strumieniu tego gazu. Króciec 35jest ustawiony tak, aby partia materialu suchego byla prowadzona do otworu wylotowego 23b przez strumien gazu wplywajacy ruchem wirowym do przestrzeni suszacej 2 przez otwór wlotowy 35a ulatwiajac wydalanie materialu. Szybkosc podajnika komorowego wydalaja¬ cego 23 jest wyzsza od predkosci podajnika komorowego 8b, co zapobiega nagromadzeniu sie materialu w przestrzeni suszacej 2.Przedwczesnemu wydalaniu materialu zapobiegaja czesciowo komory 20 usytuowane wew¬ natrz przestrzeni suszacej 2, a czesciowo styczne wprowadzanie gazu przez króciec 35 i wreszcie strumien gazu czesciowo zawierajacy suchy material do sekcji przeciwpradowej II. Przez ustawie¬ nie wysokosci przegrody 23a mozna kontrolowac i regulowac ilosc materialu w przestrzeni suszacej 2.Urzadzenie wedlug wynalazku nadaje sie szczególnie do suszenia pólproduktów i produktów koncowych w przemysle spozywczym i farmaceutycznym, np. galaretowato-koloidalne materialy, pochodzace ze scieków z rzezni mozna doskonale wysuszyc. Urzadzenie nadaje sie do suszenia wyekstrahowanych organów i scinków z rzezni o zawartosci wilgoci 70-80%, w przypadku których10 129 735 mikrobiologiczne procesy wystepuja w trakcie ich zbierania i przechowywania, stanowia powazne zagrozenie z punktu widzenia ochrony srodowiska i warunków sanitarno-epidemiologicznych.Wyekstrahowane scinki organów zwierzecych stanowia zródlo zanieczyszczen poza stalym zród¬ lem odoru. Urzadzenie wedlug wynalazku umozliwia wysuszenie tych scinków, co z kolei rozwia¬ zuje problemy ochrony srodowiska i higieny. Niektóre wysuszone scinki organów, które nie ulegly rozpadowi, moga byc wykorzystane jako surowiec w przemysle farmaceutycznym.Urzadzenie wedlug wynalazku nadaje sie do suszenia i granulowania dowolnego rodzaju wilgotnych materialów topliwych i/lub majacych konsystencje pasty. Podane wyzej szczególowe przyklady realizacji urzadzen nie ograniczaja zakresu wynalazku. Para wodna uzyta do kontakto¬ wego przenoszenia ciepla oraz gorace powietrze stosowane do konwekcyjnego przenoszenia ciepla moga byc zastapione innymi osrodkami przenoszacymi cieplo.Zastrzezenia patentowe 1. Urzadzenie do suszenia i granulowania wilgotnych materialów topliwych i/lub majacych konsystencje pasty, zwlaszcza wrazliwych na cieplo, nie fluidyzujacych sie, mazistych, lepkich, papkowatych, brzeczek pofermentacyjnych, szlamów pochodzacych z biologicznej przeróbki scie¬ ków i podobnych cieczy, scinków i podobnych odpadów z rzezni, posiadajace przestrzen suszaca we wnetrzu cylindrycznego korpusu ogrzewanego z zewnatrz, umieszczonego poziomo lub pod pewnym katem, zawierajacego w przestrzeni suszacej elementy mieszajace, a ponadto elementy do wprowadzania wilgotnego materialu i gazowego srodka suszacego do przestrzeni suszacej, jak równiez elementy do usuwania wysuszonego materialu i gazowego srodka suszacego z przestrzeni suszacej, znamienne tym, ze cylindryczna przestrzen suszaca (2) jest podzielona na komory (20) umieszczonymi w odleglosci (c) plytkami poprzecznymi, korzystnie prostopadlymi do poziomej lub prawie poziomej osi geometrycznej podluznej (X) cylindrycznej przestrzeni suszacej (2) i zawierajacymi otwory (18a) i (19a) umozliwiajace przeplyw materialu i gazowego srodka suszacego przez komory (20), przy czym plytki poprzeczne i cylindryczna scianka (3) przestrzeni suszacej zainstalowane sa obrotowo wzgledem siebie, zas do plytek poprzecznych zamocowane sa lopatki zagarniajaco-mieszajace (21) umieszczone w sasiedztwie wewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki (3) oraz zawiera elementy do rozsmarowywania czesci wilgotnego materialu na cylindry¬ cznych sciankach (3) i do kruszenia wysuszonego materialu, zamocowane do plytek poprzecznych zaopatrzonych w lopatki zagarniajaco-mieszajace (21) i/lub do innych plytek poprzecznych, umieszczone w sasiedztwie wewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki (3). 2. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze otwory (18a) i (19a) rozmieszczone sa naprzemiennie w srodkowej i w obwodowej czesci sasiadujacych plytek poprzecznych. 3. Urzadzenie wedlug zastrz. 2, znamienne tym, ze plytki poprzeczne stanowia rozmieszczone naprzemiennie pierscienie redukcyjne (18) i krazki redukcyjne (19), zas otwór (18a) w srodkowej czesci pierscienia redukcyjnego (18) jest otoczony stala czescia pierscieniowa, której brzeg zewne¬ trzny znajduje sie w sasiedztwie wewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki (3), a brzeg umie¬ szczonej centralnie pierscieniowej plytki (45) krazka redukcyjnego (19) znajduje sie w odleglosci (h) od cylindrycznej scianki wiekszej niz odleglosc brzegu zewnetrznego pierscienia redukcyjnego (18) od tej scianki, ponadto krazek redukcyjny (19) posiada kilka ramion (46), korzystnie cztery ramiona (46), usytuowanych pod katem 90° wzgledem siebie, wystajacych z centralnie umiesz¬ czonej plytki (45) w strone powierzchni cylindrycznej scianki (3) i konczacych sie z dystansem od tej powierzchni. 4. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze posiada plytki poprzeczne zamocowane na wale (15) umieszczonym w geometrycznej osi podluznej (X) przestrzeni suszacej (2), nastawne wzdluz walu z mozliwoscia zmiany dlugosci (C) komór (20). 5. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze elementy rozsmarowujaco-kruszace stano¬ wia swobodnie obracajace sie cylindryczne walki (22), których tworzaca jest równolegla do tworzacej cylindrycznej scianki (3) przestrzeni suszacej (2), przy czym walki (22) sa umieszczone w odleglosci (g) od wewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki (3). 6. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze lopatki zagarniajaco-mieszajace (21) stano¬ wia proste plytki umieszczone w plaszczyznie tworzacej pewien kat, korzystnie kat ostry (a) z plaszczyzna styczna do cylindrycznej scianki (3) w punkcie ich styku z ta scianka, kat (a) jest rozwarty w kierunku rotacji (e).129735 U 7. Urzadzenie wedlug zastrz. 6, znamienne tym, ze dwie lopatki zagarniajaco-mieszajace (21) umieszczone sa naprzeciw siebie na kazdym z pierscieni redukcyjnych (18) i krazków redukcyjnych (19), zas dwa walki (22) umieszczone sa naprzeciw siebie na kazdym krazku redukcyjnym (19) i zamocowane na zewnetrznych koncach dwóch przeciwleglych ramion (46), przy czym lopatki zagarniajaco-mieszajace (21) na kazdym pierscieniu redukcyjnym (18) i krazku redukcyjnym (19) umieszczone sa pod katem 180°C wzgledem siebie. 8. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze plytki poprzeczne przytwierdzone sa do obrotowego walu (15) umieszczonego w podluznej osi geometrycznej (X) przestrzeni suszacej (2) ograniczonej cylindryczna scianka (3) i dwoma koncowymi plytkami (4) i (5) zamocowanymi na obu koncach cylindrycznej scianki (3), wal (15) polaczony jest z napedem (12) i umieszczony w lozyskach (17), korzystnie zamocowanych do plytek koncowych (4) i (5). 9. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze posiada gazoszczelny podajnik slimakowy (8a) i/lub podajnik komorowy (8b) wprowadzajacy wilgotny material w sasiedztwie jednej z plytek koncowych (4) kierujacy material z góry do przestrzeni suszacej (2) oraz gazoszczelny podajnik slimakowy (8a) i/lub podajnik komorowy (8b) usuwajace suchy, pokruszony material, podlaczone do cylindrycznego korpusu (1) w sasiedztwie drugiej plytki koncowej (5), z wylotem w spodniej czesci przestrzeni suszacej (2). 10. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze elementy wprowadzajace wilgotny mate¬ rial oraz otwór wlotowy (34a) i (34c) dla gazowego srodka suszacego znajduja sie na przeciwleglym koncu przestrzeni suszacej (2) w stosunku do elementu usuwajacego suchy material i wylotu (35c) gazowego srodka suszacego. 11. Urzadzenie wedlug zastrz. 10, znamienne tym, ze przestrzen suszaca (2) polaczona jest z cyklonem (50). 12. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze stanowi urzadzenie o przeplywie miesza¬ nym, czesciowo wspólpradowe, a czesciowo przeciwpradowe, w którym przestrzen suszaca (2) zawiera sekcje wspólpradowa (I) oraz sekcje przeciwpradowa (II), przy czym pierwsza z nich znajduje sie w czesci wprowadzania wilgotnego materialu, a druga w czesci usuwania suchego materialu, ponadto przestrzen suszaca (2) zawiera otwory wlotowe (34a) i (35a) dla gazowego srodka suszacego z obu stron swoich konców w sasiedztwie plytek koncowych (4) i (5) oraz otwór wylotowy dla gazowego srodka suszacego, korzystnie skierowany ku górze, miedzy sekcja wspól¬ pradowa (I) i przeciwpradowa (II). 13. Urzadzenie wedlug zastrz. 12, znamienne tym, ze zawiera podlaczony odpylacz, korzystnie worek pylowy (25) lub cyklon do otworu wylotowego gazowego srodka suszacego. 14. Urzadzenie wedlug zastrz. 13, znamienne tym, ze zawiera koncówke wylotowa (króciec rurowy) (24) podlaczona do otworu wylotowego gazowego srodka suszacego, do której z kolei przylaczona jest korzystnie cylindryczna komora (26) zaopatrzona w koncówke wylotowa (26a) wychodzaca z górnej jej czesci, w komorze (26) zawieszony jest worek pylowy (25) polaczony z wibratorem (27) w celu zawracania drobnoziarnistego materialu do wlotu wilgotnego materialu, albo do otworu wylotowego gazowego srodka suszacego podlaczony jest cyklon. 15. Urzadzenie wedlug zastrz. 13 albo 14, znamienne tym, ze zawiera element zawierajacy drobnoziarnisty sproszkowany material, oddzielony z odpylacza, do wilgotnego materialu prze¬ znaczonego do suszenia. 16. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze cylindryczna przestrzen suszaca (2) zawiera stycznie do niej skierowane krócce rurowe (34) i (35) wprowadzajace gazowy srodek suszacy. 17. Urzadzenie wedlug zastrz. 12, znamienne tym, ze do przewodów rurowych (30) i (31) doprowadzajacych gazowy srodek suszacy wbudowane sa osobno regulowane podgrzewacze, takie jak generatory goracego powietrza, podlaczone oddzielnie do sekcji wspólpradowej i przeciwpradowej. 18. Urzadzenie wedlug zastrz. 12, znamienne tym, ze cylindryczna scianka (3) otaczajaca przestrzen suszaca (2) jest podwojona osobno w sekcji wspólpradowej (I) i sekcji przeciwpradowej (II), przy czym zamkniete przestrzenie (7a) i (7b) sa utworzone niezaleznie od siebie wzdluz zewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki (3) i podlaczone do podgrzewaczy wyposazonych w niezalezne regulatory przeplywu (37a) i (38a) np. do przewodów parowych (37), (38).12 129 735 19. Urzadzenie wedlug zastrz. 12, znamienne tym, ze zawiera wiecej niz dwie zamkniete przestrzenie wzdluz zewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki (3) otaczajace przestrzen suszaca (2), które sa polaczone ze zródlami srodka grzejnego o róznych temperaturach. 20. Urzadzenie wedlug zastrz. 12, znamienne tym, ze króciec doprowadzajacy gazowy srodek suszacy (35) przy koncu sekcji przeciwpradowej (II) podlaczony jest do cylindrycznej scianki (3) tak, aby nadac ruch wirowy wysuszonemu materialowi kierujac go do przyrzadu usuwajacego, a króciec doprowadzajacy gazowy srodek suszacy w nozowej czesci sekcji wspólpradowej jest podlaczony do cylindrycznej scianki (3) tak, aby nadac ruch wirowy suchemu materialowi kierujac go do wylotu materialu mokrego z urzadzenia wprowadzajacego (8). 21. Urzadzenie wedlug zastrz. 12, znamienne tym, ze sekcja wspólpradowa (I) i sekcja przeciw- pradowa (II) maja rózna dlugosc, to znaczy pierwsza z nich jest dluzsza niz druga. 22. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze zawiera zastawke (23a) o nastawnej wysokosci, umieszczona w przestrzeni suszacej na wprost wylotu suchego materialu, poprzecznie — korzystnie prostopadle — do osi podluznej (X) przestrzeni suszacej (2). 23. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze zawiera zakrzywione plytki jako przy¬ rzady do rozsmarowy wania wilgotnego materialu na cylindrycznych sciankach (3) i do kruszenia suchego materialu, umieszczone w sasiedztwie wewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki (3) poruszajace sie w obszarze obwodowym wzdluz co najmniej czesci scianek poprzecznych.Fig. 1129 735129 735 2/ '3 ^heSs CHOl I k? lsr %* %s129 735 Fig.6 PL PL PL

Claims (6)

1.Zastrzezenia patentowe 1. Urzadzenie do suszenia i granulowania wilgotnych materialów topliwych i/lub majacych konsystencje pasty, zwlaszcza wrazliwych na cieplo, nie fluidyzujacych sie, mazistych, lepkich, papkowatych, brzeczek pofermentacyjnych, szlamów pochodzacych z biologicznej przeróbki scie¬ ków i podobnych cieczy, scinków i podobnych odpadów z rzezni, posiadajace przestrzen suszaca we wnetrzu cylindrycznego korpusu ogrzewanego z zewnatrz, umieszczonego poziomo lub pod pewnym katem, zawierajacego w przestrzeni suszacej elementy mieszajace, a ponadto elementy do wprowadzania wilgotnego materialu i gazowego srodka suszacego do przestrzeni suszacej, jak równiez elementy do usuwania wysuszonego materialu i gazowego srodka suszacego z przestrzeni suszacej, znamienne tym, ze cylindryczna przestrzen suszaca (2) jest podzielona na komory (20) umieszczonymi w odleglosci (c) plytkami poprzecznymi, korzystnie prostopadlymi do poziomej lub prawie poziomej osi geometrycznej podluznej (X) cylindrycznej przestrzeni suszacej (2) i zawierajacymi otwory (18a) i (19a) umozliwiajace przeplyw materialu i gazowego srodka suszacego przez komory (20), przy czym plytki poprzeczne i cylindryczna scianka (3) przestrzeni suszacej zainstalowane sa obrotowo wzgledem siebie, zas do plytek poprzecznych zamocowane sa lopatki zagarniajaco-mieszajace (21) umieszczone w sasiedztwie wewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki (3) oraz zawiera elementy do rozsmarowywania czesci wilgotnego materialu na cylindry¬ cznych sciankach (3) i do kruszenia wysuszonego materialu, zamocowane do plytek poprzecznych zaopatrzonych w lopatki zagarniajaco-mieszajace (21) i/lub do innych plytek poprzecznych, umieszczone w sasiedztwie wewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki (3).

2. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze otwory (18a) i (19a) rozmieszczone sa naprzemiennie w srodkowej i w obwodowej czesci sasiadujacych plytek poprzecznych.

3. Urzadzenie wedlug zastrz. 2, znamienne tym, ze plytki poprzeczne stanowia rozmieszczone naprzemiennie pierscienie redukcyjne (18) i krazki redukcyjne (19), zas otwór (18a) w srodkowej czesci pierscienia redukcyjnego (18) jest otoczony stala czescia pierscieniowa, której brzeg zewne¬ trzny znajduje sie w sasiedztwie wewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki (3), a brzeg umie¬ szczonej centralnie pierscieniowej plytki (45) krazka redukcyjnego (19) znajduje sie w odleglosci (h) od cylindrycznej scianki wiekszej niz odleglosc brzegu zewnetrznego pierscienia redukcyjnego (18) od tej scianki, ponadto krazek redukcyjny (19) posiada kilka ramion (46), korzystnie cztery ramiona (46), usytuowanych pod katem 90° wzgledem siebie, wystajacych z centralnie umiesz¬ czonej plytki (45) w strone powierzchni cylindrycznej scianki (3) i konczacych sie z dystansem od tej powierzchni.

4. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze posiada plytki poprzeczne zamocowane na wale (15) umieszczonym w geometrycznej osi podluznej (X) przestrzeni suszacej (2), nastawne wzdluz walu z mozliwoscia zmiany dlugosci (C) komór (20).

5. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze elementy rozsmarowujaco-kruszace stano¬ wia swobodnie obracajace sie cylindryczne walki (22), których tworzaca jest równolegla do tworzacej cylindrycznej scianki (3) przestrzeni suszacej (2), przy czym walki (22) sa umieszczone w odleglosci (g) od wewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki (3).6. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze lopatki zagarniajaco-mieszajace (21) stano¬ wia proste plytki umieszczone w plaszczyznie tworzacej pewien kat, korzystnie kat ostry (a) z plaszczyzna styczna do cylindrycznej scianki (3) w punkcie ich styku z ta scianka, kat (a) jest rozwarty w kierunku rotacji (e).129735 U7. Urzadzenie wedlug zastrz. 6, znamienne tym, ze dwie lopatki zagarniajaco-mieszajace (21) umieszczone sa naprzeciw siebie na kazdym z pierscieni redukcyjnych (18) i krazków redukcyjnych (19), zas dwa walki (22) umieszczone sa naprzeciw siebie na kazdym krazku redukcyjnym (19) i zamocowane na zewnetrznych koncach dwóch przeciwleglych ramion (46), przy czym lopatki zagarniajaco-mieszajace (21) na kazdym pierscieniu redukcyjnym (18) i krazku redukcyjnym (19) umieszczone sa pod katem 180°C wzgledem siebie.8. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze plytki poprzeczne przytwierdzone sa do obrotowego walu (15) umieszczonego w podluznej osi geometrycznej (X) przestrzeni suszacej (2) ograniczonej cylindryczna scianka (3) i dwoma koncowymi plytkami (4) i (5) zamocowanymi na obu koncach cylindrycznej scianki (3), wal (15) polaczony jest z napedem (12) i umieszczony w lozyskach (17), korzystnie zamocowanych do plytek koncowych (4) i (5).9. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze posiada gazoszczelny podajnik slimakowy (8a) i/lub podajnik komorowy (8b) wprowadzajacy wilgotny material w sasiedztwie jednej z plytek koncowych (4) kierujacy material z góry do przestrzeni suszacej (2) oraz gazoszczelny podajnik slimakowy (8a) i/lub podajnik komorowy (8b) usuwajace suchy, pokruszony material, podlaczone do cylindrycznego korpusu (1) w sasiedztwie drugiej plytki koncowej (5), z wylotem w spodniej czesci przestrzeni suszacej (2).10. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze elementy wprowadzajace wilgotny mate¬ rial oraz otwór wlotowy (34a) i (34c) dla gazowego srodka suszacego znajduja sie na przeciwleglym koncu przestrzeni suszacej (2) w stosunku do elementu usuwajacego suchy material i wylotu (35c) gazowego srodka suszacego.11. Urzadzenie wedlug zastrz. 10, znamienne tym, ze przestrzen suszaca (2) polaczona jest z cyklonem (50).12. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze stanowi urzadzenie o przeplywie miesza¬ nym, czesciowo wspólpradowe, a czesciowo przeciwpradowe, w którym przestrzen suszaca (2) zawiera sekcje wspólpradowa (I) oraz sekcje przeciwpradowa (II), przy czym pierwsza z nich znajduje sie w czesci wprowadzania wilgotnego materialu, a druga w czesci usuwania suchego materialu, ponadto przestrzen suszaca (2) zawiera otwory wlotowe (34a) i (35a) dla gazowego srodka suszacego z obu stron swoich konców w sasiedztwie plytek koncowych (4) i (5) oraz otwór wylotowy dla gazowego srodka suszacego, korzystnie skierowany ku górze, miedzy sekcja wspól¬ pradowa (I) i przeciwpradowa (II).13. Urzadzenie wedlug zastrz. 12, znamienne tym, ze zawiera podlaczony odpylacz, korzystnie worek pylowy (25) lub cyklon do otworu wylotowego gazowego srodka suszacego.14. Urzadzenie wedlug zastrz. 13, znamienne tym, ze zawiera koncówke wylotowa (króciec rurowy) (24) podlaczona do otworu wylotowego gazowego srodka suszacego, do której z kolei przylaczona jest korzystnie cylindryczna komora (26) zaopatrzona w koncówke wylotowa (26a) wychodzaca z górnej jej czesci, w komorze (26) zawieszony jest worek pylowy (25) polaczony z wibratorem (27) w celu zawracania drobnoziarnistego materialu do wlotu wilgotnego materialu, albo do otworu wylotowego gazowego srodka suszacego podlaczony jest cyklon.15. Urzadzenie wedlug zastrz. 13 albo 14, znamienne tym, ze zawiera element zawierajacy drobnoziarnisty sproszkowany material, oddzielony z odpylacza, do wilgotnego materialu prze¬ znaczonego do suszenia.16. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze cylindryczna przestrzen suszaca (2) zawiera stycznie do niej skierowane krócce rurowe (34) i (35) wprowadzajace gazowy srodek suszacy.17. Urzadzenie wedlug zastrz. 12, znamienne tym, ze do przewodów rurowych (30) i (31) doprowadzajacych gazowy srodek suszacy wbudowane sa osobno regulowane podgrzewacze, takie jak generatory goracego powietrza, podlaczone oddzielnie do sekcji wspólpradowej i przeciwpradowej.18. Urzadzenie wedlug zastrz. 12, znamienne tym, ze cylindryczna scianka (3) otaczajaca przestrzen suszaca (2) jest podwojona osobno w sekcji wspólpradowej (I) i sekcji przeciwpradowej (II), przy czym zamkniete przestrzenie (7a) i (7b) sa utworzone niezaleznie od siebie wzdluz zewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki (3) i podlaczone do podgrzewaczy wyposazonych w niezalezne regulatory przeplywu (37a) i (38a) np. do przewodów parowych (37), (38).12 129 73519. Urzadzenie wedlug zastrz. 12, znamienne tym, ze zawiera wiecej niz dwie zamkniete przestrzenie wzdluz zewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki (3) otaczajace przestrzen suszaca (2), które sa polaczone ze zródlami srodka grzejnego o róznych temperaturach.20. Urzadzenie wedlug zastrz. 12, znamienne tym, ze króciec doprowadzajacy gazowy srodek suszacy (35) przy koncu sekcji przeciwpradowej (II) podlaczony jest do cylindrycznej scianki (3) tak, aby nadac ruch wirowy wysuszonemu materialowi kierujac go do przyrzadu usuwajacego, a króciec doprowadzajacy gazowy srodek suszacy w nozowej czesci sekcji wspólpradowej jest podlaczony do cylindrycznej scianki (3) tak, aby nadac ruch wirowy suchemu materialowi kierujac go do wylotu materialu mokrego z urzadzenia wprowadzajacego (8).21. Urzadzenie wedlug zastrz. 12, znamienne tym, ze sekcja wspólpradowa (I) i sekcja przeciw- pradowa (II) maja rózna dlugosc, to znaczy pierwsza z nich jest dluzsza niz druga.22. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze zawiera zastawke (23a) o nastawnej wysokosci, umieszczona w przestrzeni suszacej na wprost wylotu suchego materialu, poprzecznie — korzystnie prostopadle — do osi podluznej (X) przestrzeni suszacej (2).23. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze zawiera zakrzywione plytki jako przy¬ rzady do rozsmarowy wania wilgotnego materialu na cylindrycznych sciankach (3) i do kruszenia suchego materialu, umieszczone w sasiedztwie wewnetrznej powierzchni cylindrycznej scianki (3) poruszajace sie w obszarze obwodowym wzdluz co najmniej czesci scianek poprzecznych. Fig. 1129 735129 735 2/ '3 ^heSs CHOl I k? lsr %* %s129 735 Fig.

6.PL PL PL