JPS60112804A - ポリオレフインパウダ−の後処理装置 - Google Patents

ポリオレフインパウダ−の後処理装置

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JPS60112804A
JPS60112804A JP58221163A JP22116383A JPS60112804A JP S60112804 A JPS60112804 A JP S60112804A JP 58221163 A JP58221163 A JP 58221163A JP 22116383 A JP22116383 A JP 22116383A JP S60112804 A JPS60112804 A JP S60112804A
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cylinder
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Takeshi Suzuki
武 鈴木
Takashi Koizumi
隆 小泉
Takehiko Takahashi
武彦 高橋
Kazumasa Shibata
和正 柴田
Nobutoshi Komori
信敏 小森
Atsuo Shimizu
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    • B01J2219/18—Details relating to the spatial orientation of the reactor
    • B01J2219/182—Details relating to the spatial orientation of the reactor horizontal

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はポリオレフィンパウダーの彼処埋装に関し、殊
に１合終了後の粘着性を帯びたポリオレフィンパウダー
の脱気や触媒残渣の脱活性化等の後処理を低速で行うの
に好適な横型円筒式のポリオレフィンパウダーの後処理
装置に関する。
近年、オレフィン１合用の高活性触媒の開発が進んで触
媒の使用量が少なくなり、重合終了後における触媒除去
操作を省略し得るようになったため、後処理操作の簡単
な気相重合法やバルク重合法が注目されている。しかし
ながら、量的に少量である理由によって触媒残渣の除去
を年債とする場合であっても、重合終了後のポリオレフ
ィンパウダー中に含まれる触媒残渣には禾だ活性が残っ
てお夛、そのため触媒残渣を脱活性化し安定化すること
が必要である。また、気相重合法やバルク重合法で得ら
れたポリオレフィンパウダー中にでもモノマーや触媒の
添加に伴って重合器中に入った浴媒が微址残存しておシ
、これらの脱気が必要である。従って触媒残渣の除去が
不債であってもその脱活性化やモノマー等の脱気のため
の後処理を必要とする。
従来、ポリオレフィンパウダーの後処理装置として次の
ような乾燥機が一般に用いられていた。
（１）フラッシュ乾燥機や流動層乾燥機などの熱風受熱
型乾燥機、 （ｉｉ）　ジャケットやパドル等の間接加熱装置を備え
た横型板軸パドル型乾燥機、 ０１０　ジャケットによる間接加熱と熱風による直接加
熱とを併用する中高速回転型（回転数２０　Ｏｒ、ｐ、
ｍ程度以上）の横型−軸乾燥機。
しかしながら、例えばプロピレン−エチレン共重合体、
プロビレ／−ブテン共重合体、エチレン−ブテン共重合
体等のコモノマー含量の高い共重合体のパウダーを上記
の如き乾燥＋！＆を用いて後処理した場合は、これらの
パウダーが粘着性を帯びてその流動性が著しく低いため
、次の如き問題点があった。
（１）熱風受熱型乾燥機を用いた場合は、熱風による粘
着性ポリオレフィンパウダーの流動化が困難であり、脱
気及び触媒の脱活性化は共に不十分であった。
（１１）横型複軸パドル型乾燥機を用いた場合は、粘着
性ポリオレフィンパウダーがパドル翼によっては流動し
ない。そしてパドルの加熱面にポリオレフィンパウダー
が激しく付着して共回力をおこすため撹拌効果もなけれ
ばオレフィンパウダーの移送も起らず、更にはポリオレ
フィンパウダーの伺盾が逆行してパドル翼を駆動するモ
ータがオーバーロードすることがしばしばあった。
０１０　中高速回転型の横型−軸乾燥機を用いた場合は
、粘着性ポリオレフィンパウダーでも温贋は上昇するが
、機内のパウダー保有社が少なくて短時間で通過してし
まうから、脱気や触媒残渣脱活性化に必要かつ十分な滞
留時間を確保するためには多くの台数を必要とし、工業
的規模で実施するには甚だしく不経済であった。また、
横型−軸転ｆ＃機でもダブルリボン型や平板パドル翼型
のものでは撹拌翼や回転軸にパウダーが甚だしく付着し
て使用に堪えなかった。
本発明の目的は、上記従来の乾燥機の欠点がないだけで
なく、ポリオレフィンパウダー特に、 の後処理装置として要求される性鹸Ｊ警着性あるポリオ
レフィンパウダーの場合でも、パウダーに含有される触
媒の失活や微量の溶媒、モノマー、オリゴマー、揮発性
触媒分解物等の脱気を十分に行うことのできる優れた性
能を備えたポリオレフィンパウダーの後処理装置を提供
することＫある。
上記目的を達成するために本発明に係るポリオレフィン
パウダーの後処理装置の−っは、以下の構成要素から成
ることを特徴とする。
（イ）その中でポリオレフィンパウダーが処理される容
器を構成する有効長と直径との比が３以上の横型円筒体
、 （ロ）上記＋Ａ型同円筒体長手方向に取り付けられてい
て駆動手段によシ駆動される１本の回転軸と、該回転軸
の複数個所の各個所毎に該回転軸回フに放射状に取力付
けられている帯状板から主として成る１組４枚以下の撹
拌翼であって同−組では各撹拌翼は回転軸に対して同じ
方向に傾斜していると共に隣接する各組紐に回転軸に対
して傾斜する方向を交互に反転せしめられており且つ撹
拌翼の幅の０．３〜２．０倍の間隔で回転軸に取シ付け
られている機数組の撹拌翼とを備えている撹拌機、 （ハ）上記横型円筒体の一端に設けられた未処理ポリオ
レフィンパウダーと加熱ガスとを導入するパウダー・加
熱ガス尋人譬、 に）上記横型円筒体の他端に設けられた該横型円筒体内
のポリオレフィンパウダーの保有証を詞食する可変式堰
、 （ホ）上記横型円筒体の他端において上記可変式堰に連
続して設けられている後処理済ポリオレフィンパウダー
及びガスを排出させるパウダー・ガス排出路、 （へ）上記横型円筒体の長手方向に沿って底部に開口し
て複数個所に設けられており、それぞれ後処理剤導入管
を接続されている後処理剤注入管付き加熱ガス導入管、 （ト）上記横型円筒体の筒壁を通して該横型円筒体の内
部音加熱するための間接加熱手段。
更に、本発明に係るポリオレフィンパウダーの後処理装
置の他の一つは、上記の構成要素に加えて、（カボリオ
レフインパウダーが通過する開口部を有する円板から成
シ上記撹拌機の回転軸に同心的に固定されて上記横型円
筒体の内部を複数の小室に仕切る１枚以上の回転仕切円
板なる構成要素から成ることｔ％徴とする。
以下に本発明装置を図によって詳細に説明する。
第１図は本発明装置の１例を横置円筒体の筒壁を含む外
側壁の一部を切り欠いて示す全体側面説明図、第２図は
撹拌翼の１例が回転軸回りに取シ付けられている状態の
例を１組についてだけ示す正面説明図、ｍ３図は撹拌翼
の１例が回転軸に所定の間隔及び傾斜角で取り付けられ
ている状態の１例を２組についてだけ示す側面説明図、
第４図は回転Ｉｌ仙に取り付けられた回転仕切円板の１
例を示す正面説明図、第５図は第１図中のＡ−Ａ＃ｌ＃
＃−断面図である。
図において、ｌは本発明に係るポリオレフィンパウダー
の後処理装置であって、その構成として、次の各構成要
素すなわち横型円筒体２、撹拌機３、パウダー・加熱ガ
ス導入管４、可変式堰５、パウダー・ガス排出路６、後
処理剤注入管付き加熱ガス導入管７、及び間接加熱手段
としてのジャケット８力）ら成る構成と、上記構成に更
に回転仕切円板９なる構成要素が加えられて成る構成と
カニある。
゛　横型円筒体２は、両端が閉塞されてその中で未処理
のポリオレフインノ（ウターー力（処理される容器を構
成しており、その有効長（Ｌ）と内径（Ｄ）との比（Ｌ
／Ｄ）は３以上である。ここで有効長とは、パウダー・
加熱ガス導入管４と堰開口部５１との水平距離を言う。
上記Ｌ／Ｄが３未満ではショートパスしただけのポリオ
レフィンパウダーも混じって排出されるようになり、脱
気や触媒残渣の脱活性化のされていないポリオレフィン
パウダーが混入するので好ましくない。
撹拌機３は、横型円筒体２の長手方向に筒軸の位置に取
り付けられていて原動機等へ駆動手段３１１により駆動
される１本の回転軸３１と、次の如き構成の複数組の撹
拌翼３２とから成る。撹拌翼３２は帯状板から主として
成り、４枚以下で１組を構成し、回転軸３１のａ数個所
の各個所毎に第２図及び第３図に示す如く回転軸３１に
対する垂直ｒｋｉＫ沿って回転軸３１回りに放射状に取
り付けられている。放射状に相隣る撹拌翼３２間の成す
角度は１組が２枚、３枚、又は４枚の撹拌翼３２で構成
されるに従ってそれぞれ１８０夏、１２０度、又は９０
度のように均等であるのが好ましい。撹拌翼３２０回転
軸３１に対して傾斜する方向に関しては、第３図に示す
如く同−組では同じ方向に傾斜していると共に隣接する
組では反対方向に傾斜しており、すなわち隣接する組紐
に傾斜方向が交互に反転している。この回転軸３１に対
する撹拌翼３２の傾斜角（第３図中に示すα、−αで示
す）の大きさは同−組ては同じであって隣接する組では
傾斜角の絶対値が同じで傾斜方向だけが反対であるのが
好ましい。傾斜角αの大きさは５〜８５度、特に３０〜
６０度の範囲にあるのが好ましい。傾斜角αが上記範囲
外にある場合は、撹拌翼３２の裏面や回転軸３１にポリ
オレフィンパウダーが付着し易くなる。複数組の撹拌Ｘ
３２は回転軸３１に撹拌翼３２の幅Ｗの０．３〜２，０
倍の間隔ｌを隔てて第３図に示す如く１組ずつ取υ付け
られている。この間隔ノが撹拌翼３２の幅Ｗの０．３倍
未満の場合は撹拌翼３２の裏面にポリオレフィンパウダ
ーが付着するようになシ、２．０倍を超えると撹拌Ａ３
２による後処理剤との混合作用の及ばない領域が生じて
脱活性化が十分でなくなシ好ましくない。撹拌Ｘ３２の
幅Ｗは横型円筒体２の内径りのし。以下が好ましく、１
４を超えると撹拌翼３２の裏面や回転軸３１にポリオレ
フィンパウダーが付着し易くなるので好ましくない。撹
拌翼３２の先端と横型円筒体２の内壁とのクリア２ンス
は３〜１５１１１１が適当であり、３鴎未満では製作が
困難となり、１５１１ｍ１を超えると横型円筒体２の内
壁へポリオレフィンパウダーが付着して溶融するので好
ましくない。なお、撹拌翼３２として次に示す態様のも
のが好ましく示される。すなわち、１ｍ４枚以下の撹拌
液３２の少なくとも１枚が、第３図に示す如くその先端
に横型円筒体２の内壁にほぼ平行な掻き棒３２１を瞬接
する組の撹拌Ｘ３２までの長さ以下に付設されて構成さ
れてお如、第３図の如く何れの組の撹拌翼３２もそれぞ
れ同じ方向に掻き棒３２１會付設されて構成されていて
このような組合逐次隣接せしめるか、又は図示してぃな
いが両側に互に方向反対の掻き椰３２１をそれぞれ付設
されて構成された撹拌翼３２を例えば１つ置きに配置す
ることにより、隣接する組と組との間に少なくとも１本
の偵き俸５ｚｌｔ−存在せしめる撹拌翼３２である。こ
のような掻き禅３２１を備えた撹拌翼３２は横型円筒体
２の内壁にａって回転するから、隣接する撹拌ｌＸ３２
の本体である帝状板の間の上記内壁へのスケール付着を
防止することができる。
パウダー・加熱ガス導入管４は、ロータリバルブ等の気
密構造を有するノ（ウダー供給手段に接続されている）
くウダー導入管４１に、第１図に示す如く加熱ガス供給
嘗４２力五接紐されて成り、横型円筒体２の一端に設け
られていたパウダー供給手段から供給される未処理のポ
リオレフインノくウダーを加熱ガスと共に横型円筒体２
内に導入する。
可変式壇５は、第１図、第５図に示す如く基間口部５１
、堰スライド板５２、及び堰スライド板駆動装置５３か
ら主として成り、更に詳しくは基間口部５１横型円筒体
２０筒壁を長方形に切除して形成されており、堰スライ
ド板５２は金形状であって筒壁を摺動して基間口部５１
を開閉する毫秦※※※※※※※※※構造を有しておυ、
横型円筒体２のパウダー・加熱ガス導入ｖ４と反対側の
端部に設けられている。基間口部５１の開度は、堰スラ
イド板駆動装置５３により堰スライド板５２を移動する
ことによりａｌｌ整可能であり、従って横型円筒体２内
のポリオレフィンパウダーの保有量を任意に副食するこ
とができる。基間口部５１からは後処理済みポリオレフ
ィンパウダーがオーバーフローしてガスと共に次に説明
するように排出される。
パウダー・ガス排出路６＃−１横型円筒体２の可変式壇
５と同じ側の端部においてｌ’Ｊ　ｆ大垣５に連続して
設けられているが、通常、その態様として第１図の如く
可変式壇５と共に一室にまとめられて構成されており、
基間口部５１の出口から下方に向うパウダー排出路６１
と上方に向うガス排出路６２とに分れ、後処理済みポリ
オレフィンパウダーとガスとがほぼ分離された状態でそ
れぞれの排出路から排出される。
後処理剤注入管付き加熱ガス導入管マは第１図に示す如
く横型円筒体２の長手方向に沿って底部に開口して複数
個所に設けられており、それぞれは加熱ガス導入管本体
に独立して開閉可能な後処理剤注入管７１が取り伺けら
れて構成されており、必要に応じ適宜な位置で加熱ガス
及び／または後処理剤を横型円筒体２内へ導入又は注入
する。この後処理剤注入管付き加熱ガス導入管７社はぼ
一定間隔に設けられていることが後処理条件をコントロ
ールする上で好ましい。
間接加熱手段としてのジャケット８は横型円筒体２の筒
壁外側のｔヨぼ全面に設けられており、熱媒体入口管８
１及び熱媒体出口管８２を経て熱媒体がジャケット８を
通過し、横型円筒体２内のポリオレフィンパウダーを間
接に加熱する。本例では間接加熱手段としてジャケット
８を用いているが、その他例えば熱媒体の通る蛇管を巻
き伺けだものでも良い。
上記説明の諸構成要素から本発明の一つは構成されるが
、これに加えて本発明の他の一つを構成する構成要素で
ある回転仕切円板９は、第４図Ａ、Ｂ、Ｃに示す如くポ
リオレフィンパウダーが通過する扇形又は四角形の開口
部９１を有するか又は第４図りに示す如く横型円筒体２
の内壁との間に広い間隙を有する円板から成り、その１
枚以上が撹拌機３０回転軸３１に同心的に固定されて横
型円筒体２の内部を複数の小室に仕切っている。そして
撹拌機３と共に回転して横型円筒体２の内部を流れるポ
リオレフィンパウダーに対して流れ方向に垂直な断面に
おいて連続的にかつ均等に位置の変化する邪魔板作用を
なすことにより、ポリオレフィンパウダーのショートパ
スを防止することができる。回転仕切円板９の直径は横
型円筒板の内径りの０．５〜０．９５が好ましく、また
開口部９１の面積は回転仕切円板９の全面積（回転軸３
１部分を除く）の２〜２５が好ましい。
上記の如く構成される本発明装置は次のように運転され
、種々な効果を以てポリオレフィンパウダーの後処理が
なされる。すなわち、重合終了後、未反応モノマーをフ
ラッシュした触媒（ハロゲン含有金輌触媒）を含むポリ
オレフィンパウダーは、加熱ガス供給管４２から供給さ
れる加熱ガスと共にパウダー・ガス導入管４から横型円
筒体２内に導入される。このとき加熱ガスはポリオレフ
ィンパウダーを横型円筒体２内に入るまでの間に予備加
熱すると共に、ポリオレフィンパウダーがパウダー・加
熱ガス導入管４に付着して閉塞することを防止する。こ
の加熱ガスとして加熱窒素ガスやガス排出管６２から排
出される排ガスを再生した加熱再生ガスを使用すること
ができる。
横型円筒体２内では撹拌機３が回転していると共に、底
部の後処理剤注入管付き加熱ガス導入管７から供給され
る加熱ガスによる直接加熱とジャケット８による間接加
熱とによって加熱状態にあり、横型円筒体２内に導入さ
れたポリオレフィンパウダーは加熱され、特別に構成さ
れた撹拌機３により粘着性あるポリオレフィンパウダー
でも均一に流動、撹拌されながら進行して十分に脱気さ
れる。ポリオレフィンノくウダーの加熱温度は室温以上
、好ましくは４０℃以上であって被処理ポリオレフィン
パウダーの溶融温度以下、好ましくは溶融温度より１０
℃低い温度以下の範囲である。処理剤注入管付き加熱ガ
ス導入管７から供給される加熱ガスとしては加熱ガス供
給管４２かも供給される加熱ガスと同様に加熱輩索ガス
や加熱再生ガスを使用することができる。加熱ガスの総
使用量はポリオレフィンＩＫｆ当り０．５〜１ｏｍ’（
標準状態）が適当である。このように直接加熱及び間接
加熱により横型円筒体２内でポリオレフィンパウダーが
加熱されると同時に、後処理剤注入管７１から後処理剤
が加熱ガスと共に後処理剤注入管付き加熱ガス導入管７
を経て横型円筒体２の底部から供給され、加熱ガス流と
撹拌によりポリオレフィンパウダー中の触媒残渣と反応
してこれを脱活性化させ安定化させる。後処理剤の供給
は複数個所の後処理剤注入管７１の全部又は選択した１
部を使用して行うことができる。従って、例えば最初の
後処理剤注入管７１からのみ後処理剤を供給することに
より、横型円筒体２内ではポリオレフィンパウダーの進
行方向に後処理剤の濃度差を生ぜしめ、最初に触媒の脱
活性化を行わせ、その後は専ら乾燥を行わせることも可
能である。後処理剤の供給景はポリオレフィンパウダー
中に含有される１合触媒に基因する不安定な塩素量に対
し１〜１００当量が適当である。
後処理剤としてはスチーム、酸素、アルキレンオキサイ
ド、アルコール、またはこれらの混合物等の公知のもの
を使用することができる。横型円筒体２が回転仕切板９
により複数の小室に仕切られている場合は、ポリオレフ
ィンノくウダーのショートパスを防止して後処理剤との
混合及び反応を十分に行わせるので、触媒残渣の脱活性
化に著しい効果がある。
横型円筒体２内におけるポリオレフィンパウダーと加熱
ガスと処理剤との接触を良くして効率よく後処理するた
めに滞留時間が約５分〜約５時間となるように可変式壇
５によりポリオレフィンパウダーの保有量を調整する。
ポリオレフィンパウダーが横型円筒体２内を加熱ガスと
共に撹拌されると、特に粘着性を帯びたポリオレフィン
パウダーの場合は筒内壁にスケールを付着させ易いが、
撹拌翼３２が掻き棒３２１を付設されて構成されている
ときはこのようなスケールは生じない。
撹拌機の回転数は次式で定義するフルード数（Ｆｒ）が
０．１〜１５、特に０．２〜１０の範囲とするのが好ま
しい。
Ｆｒ＝Ｒω／２ ここで　Ｒ：撹拌翼の半径 ω：角速度 １：重力加速度 フルード数が１５ｔ−超えるとポリオレフィンパウダー
の糸回カが激しくなってその排出量が多くな９、ポリオ
レフィンパウダーの保有量が少なくなって後処理の効率
が態化する。また、フルー　）”数が０．１未満では加
熱ガスとポリオレフィンパウダーとの接触が不十分とな
って好ましくない。
このようにして脱気及び触媒残渣の脱活性化されたポリ
オレフィンパウダーは横型円筒体２の末端に至って可変
式壇５の基間口部５１がらオーバーフローしてパウダー
排出路６１を経て排出され、一方ガスはガス排出路６２
ｔ７経て排出され、再生装置によシ加熱再生ガスとして
利用されることもある。本発明装置によれば加熱には間
接加熱も併用することにより、横型円筒体２内に供給さ
れ排出される加熱ガス値は非常に少なくて済み、排熱ロ
スは少なく、又バッグフィルターやサイクロン等を使用
することなく効率よくポリオレフィンパウダーを捕集す
ることができ１０ 本発明装置によればポリオレフィンの結晶性、非結晶性
の如何を問わずそれらのパウダーを優れて後処理するこ
とができる。ポリオレフィンとしてはエチレン、プロピ
レン、ブテン−１等の単独重合体及び共貞合体を示すこ
とができ、具体的には、プロピレンのホモポリマー、コ
モノマーとしてのエチレン及び／またはブテン−１とプ
ロピレンとのランダムコポリマー及ヒブロックコポリマ
ー、エチレンのホモポリマー、コモノマーとしてのプロ
ピレン及び／またはブテン−１とエチレンとのコポリマ
ー等が挙げられる。
以上、本発明装置は、１本の回転軸に各組紐に傾斜角を
反転させた複数組の撹拌翼を所定間隔で取り付けた構成
のポリオレフィンパウダーを十分に撹拌する撹拌機、排
出時にポリオレフィンパウダーを伴い易い加熱ガス量を
少なくする間接加熱手段、横型円筒体内の滞溜時間を左
右するポリオレフィンパウダーの保有量を調整する可変
式壇、選択した個所から独立して処理剤を注入でき横型
円筒体の底部に加熱ガスを供給する後処理剤注入管付き
加熱ガス導入管等を備えた構成を採ることにより、粘着
性あるポリオレフィンパウダーの脱気及び触媒の脱活性
化を十分に行うことができ、更に粉体処理に通常を含む
外側壁の一部を切シ欠いて示す全体側面説明図、第２図
は撹拌翼の１例が回転軸回りに取り付けられている状態
の例を１組についてだけ示す正面説明図、第３図は撹拌
翼の１例が回転軸に所定間隔及び傾斜角で取り付けられ
ている状態を２組についてだけ示す側面説明図、第４図
は回転軸に取り付けられた回転仕切円板の１例を示す正
面説明図、第５図は第１図中のＡ−Ａ線断面図である。
１・・・後処理装置、２・・・横型円筒体、３・・・撹
拌機、３１・・・回転軸、３１１・・・駆動手段、３２
・・・撹拌翼、３２１・・・掻き棒 ４・・・パウダー・加熱ガス導入管、４１・・・パウダ
ー導入管、４２・・・加熱ガス導入管、 ５・・・可変式壇、　５１・・・基間口部　５２・・・
塩スライド板、５３・・・堰スライドａＷｉｉｈ装置、
５４・・・堰スライド板支え６・・・パウダー・ガス排
出路、６１・・・パウダー排出路６２・・・ガス排出路 ７・・・後処理剤注入管付き加熱ガス専大管７１・・・
後処理剤注入管 ８・・・ジャケット、８１・・・熱媒体入口管、８２・
・・熱媒体出口管９・・・回転仕切円板、９１・・・Ｍ
形開口部以上 手　続　補　正　誓 昭和５９年９月材日 Ｉ特許庁長官　志　賀　学　殿 り事件の表示 昭和５８年特許願第２２１１６３号 λ発明の名称 ポリオレフィンパウダーの後処理装置 ＆補正をする者 事件との関係　特許出願人 大阪府大阪市北区中之島三丁目６番３２号（〒５３０）
（２０７）チッソ株式会社 代衣者野木貞雄 也代理人 東京都新宿区新宿２丁目８＠１号（〒１６０）６補正の
対象 願書及び明細書の特許請求の範囲の欄及び発明の詳細な
説明の欄 を補正の内容 （１）願書面における適用法規を表示する肩書の欄に「
（特許法第３８条ただし書の規定による特許出願）」を
挿入する。
（２）願書の「発明者」の欄の前に「特許請求の範囲に
記載された発明の数　２」を挿入する。
（３）明細書の特許請求の範囲の欄を別紙のとおりに補
正する。
（４）明細書第５頁丁から２行目の末尾に「置」を挿入
する。
（５）明細書第５頁１行目［０，９５Ｊの後に「倍」を
挿入する。
（６）明細書第５頁４行目「２５」の後に「チ」を挿入
する。
ａ　添付書類の目録 別　紙（特許請求の範囲の全文）　１通以上 別紙 特ｎｆｒ＊求の範囲（全文） （１）以下の構成要素から成ることを特徴とするポリオ
レフィンパウダーの後処理装置。
（イ）　その中でポリオレフィンパウダーが処理される
容器を構成する有効長と直径との比が３以上の横型円筒
体、 （ロ）　上記横型円筒体の長手方向に取り付けられてい
て駆動手段により駆動される１本の回転軸と、該回転軸
の複数個所の各個所毎に該回転軸に対する垂直面に沿っ
て回転軸回りに放射状に取り（＝Ｊけられている帯状板
から主として成る１組４枚以下の撹拌翼であって同−組
では各撹拌翼は回転軸に対して同じ方向に傾斜している
と共に隣接する各組紐に回転軸に対して傾斜する方向を
交互に反転せしめられており且つ撹拌具の幅のＯ０３〜
２．０倍の間隔で回転軸に取り付けられている複数組の
撹拌翼とを備えている撹拌機、 （〕→　上記横型円筒体の一端に設けられた未処理ポリ
オレフィンパウダーと加熱ガスとを導入するパウダー・
加熱ガス導入管、 に）上記横型円筒体の他端に設けられた該横型円筒体内
のポリオレフィンパウダーの保有量を調整する可変式堰
、 （ホ）上記横型円筒体の他端において上記可変式堰に連
続して設けられている後処理済ポリオレフィンパウダー
及びガスを排出させるパウダー・ガス排出路、 （へ）上記横型円筒体の長手方向に沿って底部に開口し
て複数個所に設けられており、それぞれ後処理剤導入管
を接続されている後処理剤注入管付き加熱ガス導入管、 （ト）上記横型円筒体の筒壁全通して該横型円筒体の内
部を加熱するための間接加熱手段。
（２）１組４枚以下の撹拌翼の少なくとも１枚がその先
端に横型円筒体の内壁にほぼ平行な掻き棒を＠接する組
の撹拌翼談での長さ以下に付設されて構成されており、
隣接する組と組との間に少なくとも１本の上記掻き棒が
存在する特許請求の範囲第１項に記載のポリオレフィン
パウダーの後処理装置。
（３）後処理剤注入管付き加熱ガス導入管がほぼ一定間
隔で設けられている特許請求の範囲第１項に記載のポリ
オレフィンパウダーの後処理装置。
（４）以下の構成要素から成ることを特徴とするポリオ
レフィンパウダーの後処理装置。
（イ）　その中でポリオレフィンパウダーが処理すれる
容器を構成する有効長と直径との比が３以上の横型円筒
体、 （ロ）　上記横型円筒体の長手方向に取り付岐られてい
て駆動手段により駆動される１本の回転軸と、該回転軸
の複数個所の各個所＊に該回転軸に対する垂直面に沿っ
て回転軸回りに放射状に取り付けられている帯状板から
主として成る１組４枚以下の撹拌翼であって同−組では
各撹拌翼は回転軸に対して同じ方向に傾斜していると共
に隣接する各組紐に回転軸に対して傾斜する方向を交互
に反転せしめられており且つ撹拌翼の幅の０，３〜２．
０倍の間隔で回転軸に取り付けられている複数組の撹拌
翼とを備えている撹拌機、 （ハ）上記横型円筒体の一端に設けられた未処理ポリオ
レフィンパウダーと加熱ガスとを導入するパウダー・加
熱ガス導入管、 に）上記横型円筒体の他端に設けられた該υを型円筒体
内のポリオレフィンパウダー（Ｄ保有量を調整する可変
式堰、 （ホ）上記横型円筒体の他端値おいて上記可変式に連続
して設けられている後処理済ポリオレフィンパウダー及
びガスを排出させるパウダー・ガス排出路、 （へ）上記横型円筒体の長手方向に沿って底部に開口し
て複数個所に設けられており、それぞれ後処理剤導入管
が接続されている後処理剤注入管付き加熱ガス導入管、 （ト）上記横型円筒体の筒壁を通して該横型円筒体の内
部を加熱するための間接加熱手段、（ト）　ポリオレフ
ィンパウダーが通過する開口部を有する円板から成り上
記撹拌機の回転軸に同心的に固定されて上記横型円筒体
の内部を複数の小室に仕切る１枚以上の回転仕切円板。
（５）１組４枚以下の撹拌翼の少なくとも１枚がその先
端に横型円筒体の内壁にほぼ平行な掻き棒を隣接する組
の撹拌翼筐での長さ以下に付設されて構成されており、
隣接する組と組との間に少なくとも１本の上記掻き棒が
存在する特許請求の範囲第４項に記載のポリオレフィン
パウダーの後処理装置。
（６）後処理剤注入管付き加熱ガス導入管がほぼ一定間
隔で設けられている特許請求の範囲第４項に記載のポリ
オレフィンパウダーの後処理装置。
以上

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）　以Ｆの構成要素から成ることを％徴とするポリ
    オレフィンパウダーの後処理装置。 （イ）その中でポリオレフィンパウダーが処理される容
    器を構成する有効長と直径との此が３以上の横型円筒体
    、 （ロ）上記横型円筒体の長手方向に取り付けられていて
    駆動手段により駆動される１本Ｃ回転軸と、該回転軸の
    複数個所の各個所旬に該回転軸に対する垂直面に沿って
    回転−回ルに放射状に取シ付けられている帯状板から主
    として成る１組４枚以Ｆの撹拌翼てあって同−組では各
    撹拌翼は回転軸に対して同じ方向に１唄斜していると共
    に隣接する各組紐に回転軸に対して傾斜する方向を夕互
    に反転せしめられておシ且つ撹拌翼の軸００．３〜２．
    ０倍の間隔゛で回転軸に取り＋Ｊ０られている複数組の
    撹拌翼とを備えている撹拌機、 （ハ）上記横型円筒体の一端に設けられた未処理ポリオ
    レフィンパウダーと加熱ガスとを導入するパウダｍ−加
    熱ガス導入管、 に）上記横型円筒体の他端に設けられた該横型円筒体内
    のポリオレフィンパウダーの保有量を調整する可変式堰
    、 （ホ）上記横型円筒体の他端において上記ｔ＋Ｊ変式堰
    に連続して設けられている後処理済ポリオレフィンパウ
    ダー及びガスを排出させるバウダタ―・ガス排出路、 １　（へ）上記横型円筒体の長手方向に沿って低部に開
    口して複数個所に設けられておシ、それぞれ後処理剤導
    入管を接続されている後処理剤注入管付き加熱ガス導入
    管、 （ト）上記横型円筒体の筒壁全通して該横型円筒体の内
    部を加熱するための間接加熱手段。
  2. （２）１組４枚以下の撹拌翼の少なくとも１枚がその先
    端に横型円筒体の内壁にほぼ平行な掻き棒を隣接する組
    の撹拌具までの長さ以下に付設されて構成されており、
    隣接する組と組との間に少なくとも１本の上記掻き棒が
    存在する特許請求の範囲第１項に記載のポリオレフィン
    パウダーの後処理装置。
  3. （３）　後処理剤注入管付き加熱ガス導入管がほぼ一定
    間隔で設けられている特許請求の範囲第１項に記載のポ
    リオレフィンパウダーの後熟ｊ里装置。
  4. （４）　以下−の構成吸素から成ることを特徴とするポ
    リオレフィンパウダーの後処理装置。 （イ）その中でポリオレフィンパウダーが処理される容
    器を構成する有効長と直径との比が３以上の横型円筒体
    、 （ロ）上記横型円筒体の長手方向に取り付けられていて
    駆動手段により駆動される１本の回鴨軸と、該回転軸の
    複数個所の各個所毎に該回転軸に対する垂直面に沿って
    回転軸回りに放射状に取り１勺けられている帯状板から
    主として成る１組４枚以Ｆの撹拌翼であって同−組では
    各撹拌具は回転軸に対して同じ方向に傾斜していると共
    に隣接する缶組紐に回転軸に対して傾斜する方向を交互
    に反転せしめられており且つ撹拌ｔ４の幅の０．３〜２
    ．０倍の間隔で回転軸に取り伺けらｉｔている複Ｖ組の
    撹拌翼とを備えている攪拌機、（ハ）上記横型円筒体の
    一端に設けられた未処理ポリオレフィン／くウダーと加
    熱ガスとを導入するパウダー・加熱ガス導入管、 に）上記横型円筒体の他端に設けられた該横型円筒体内
    のポリオレフインノくウタ゛−の保有量を調整する可変
    式堰、 スを排出させるパウダー・ガス排出路、（へ）上記横型
    円筒体の長手方向に沿って底部に開口して複数個所に設
    けられており、それぞれ後処理剤導入管が接続されてい
    る後処理剤注入管付き加熱ガス導入管、 （ト）上記横型円筒体の筒壁を通して該横型円筒体の内
    部を加熱するための間接加熱手段、（カ　ポリオレフィ
    ンパウダーが通過する開口部を有する円板から成り上記
    撹拌機の回転軸に同心的に固定されて上記横型円筒体の
    内部を複数の小室に仕切る１枚以上の回転仕切円板。
  5. （５）１組４枚以Ｆの撹拌翼の少なくとも１枚がその先
    端に横型円筒体の内壁にはは平行な掻き棒を隣接する組
    の撹拌翼までの長さ以下に付設されて構成されており、
    隣接する組と組との間に少なくとも１本の上記掻き棒が
    存在する特許請求の範囲第４項に記載のポリオレフィン
    パウダーの後処理装置。
  6. （６）　後処理剤注入管付き加熱ガス導入管がほは一定
    間隔で設けられている特許請求の範囲第４項に記載のポ
    リオレフィンパウダーの後処理装置。
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