PL122271B1 - Bath for chromium plating - Google Patents

Bath for chromium plating Download PDF

Info

Publication number
PL122271B1
PL122271B1 PL1979219515A PL21951579A PL122271B1 PL 122271 B1 PL122271 B1 PL 122271B1 PL 1979219515 A PL1979219515 A PL 1979219515A PL 21951579 A PL21951579 A PL 21951579A PL 122271 B1 PL122271 B1 PL 122271B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
chromium
bath
electroplating
solution
layer
Prior art date
Application number
PL1979219515A
Other languages
English (en)
Other versions
PL219515A1 (pl
Inventor
James M Hinford
Donald J Barelay
Original Assignee
Ibm
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ibm filed Critical Ibm
Publication of PL219515A1 publication Critical patent/PL219515A1/xx
Publication of PL122271B1 publication Critical patent/PL122271B1/pl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/10Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
    • C25D5/12Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium
    • C25D5/14Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium two or more layers being of nickel or chromium, e.g. duplex or triplex layers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/04Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
    • C25D3/06Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium from solutions of trivalent chromium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/627Electroplating characterised by the visual appearance of the layers, e.g. colour, brightness or mat appearance

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest kapiel do chromo¬ wania galwanicznego, w której zródlo chromu sta¬ nowi wodny roztwór kompleksowego zwiazku tio- cyjanianowego chromu (III).W znanych procesach chromowania galwanicz¬ nego stosowane sa wodne kapiele kwasu chromo¬ wego, sporzadzone z trójtlenku chromu (Cr03) i kwasu siarkowego. Kapiele takie, w których chrom wystepuje w postaci szesciowartosciowej, charakteryzuja sie niska wydajnoscia pradowa.Dymy kwasu chromowego, emitowane w wyniku wydzielania wodoru, stwarzaja równiez znaczne zagrozenie dla zdrowia. Dalsza niedogodnosc sta¬ nowi tó, ze stezenie chromu w takich kapielach jest niezwykle wysokie, z czego wynikaja trud¬ nosci zwiazane z powstawaniem odpadów i od¬ zyskiem, powodowane wynoszeniem zwiazków chromu z wanny do zbiorników plucznych, które stosowane sa po kapieli galwanicznej. Szesciowar¬ tosciowy, naniesiony galwanicznie chrom ma ble- kitno-bdaly wyglad, kojarzacy sie konsumentom z terminem „chromowanie".W celu unikniecia wielu wad galwanicznego po¬ wlekania szesciowartosciowym chromem, wysuniete zostaly propozycje galwanicznego powlekania chro*- mem w postaci trójwartosciowej. Jeden z takich znanych -sposobów powlekania chromem z wodne¬ go roztworu kompleksowego zwiazku tiocyjaniano- wego chromu (HI) przedstawiono w opisie paten¬ towym Wlk. Brytanii nr 1431630. Inny taki spo- 10 15 sób przedstawiono w opisie patentowym RFN DOS nr 2 818 780, w którym opisany jest roztwór do galwanicznego powlekania chromem oraz sposób powlekania chromem, w którym równiez stosowa¬ ny jest wodny roztwór kompleksowego zwiazku tiocyjanianowego chromu (HI), lecz jeden z ligan- dów dla kompleksowego zwiazku chromu dostar¬ czany jest przez suibstancje buforowa. Substancja buforowa wybrana jest sposród aminokwasów (np. glicyna, kwas asparaginowy), peptydów, mrówcza¬ nów, octanów i podfosforynów.W czasie galwanicznego powlekania trójwartos¬ ciowym chromem tymi sposobami nie obserwuje sie wydzielania dymów kwasu chromowego. Cha¬ rakteryzuja sie one wysoka wydajnoscia w szero¬ kim zakresie wartosci parametrów procesu galwa¬ nicznego oraz doibra zdolnoscia krycia. W kapieli potrzebna jest znacznie mniejsza ilosc chromu niz w przypadku procesów z zastosowaniem szescio¬ wartosciowego chromu, co prowadzi do zmniejsze¬ nia trudnosci zwiazanych z wynoszeniem zwiazków chromu z ciecza z wanny. Stezenie chromu wy¬ nosilo w granicach od 0,03 do 0,5 M.Mimo, ze sposoby galwanicznego powlekania trójwartosciowym chromem wedlug opisu "paten¬ towego Wlk. Brytanii nr 1431 609 i opisu patento¬ wego RFN DOS nr 2818 780 sa wolne od wszyst¬ kich glównych wad charakteryzujacych sposoby galwanicznego powlekania szesciowartosciowym chromem, to wyglad osadzonego chromu jest za- 122 271122 271 4 zwyczaj nieco ciemniejszy. Wprawdzie zabarwie¬ nie to jest mozliwe do przyjecia hib nawet ko¬ rzystne dla wielu zastosowan, lecz korzystnym by¬ loby zapewnienie mozliwosci galwanicznego powle¬ kania trójwartosciowym chromem o jasniejszym •zabarwieniu.Podstawe wynalazku stanowi nieoczekiwane od¬ krycie, ze kapiele z tiocyjanianem chromu (III), w których stezenie chromu jest znacznie nizsze od ogólnie stosowanego poziomu ze wzgledu na wydajnosc i trwalosc kapieli, daja osadzona war¬ stwe o znacznie jasniejszym zabarwieniu.Zgodnie z wynalazkiem, roztwór do galwanicz¬ nego powlekania chromem o jasnym zabarwieniu, w^ 0<&rymzródlo Chromu stanowi wodny roztwór kompleksowego zwiazku tiocyjanianowego chromu (III), zawiera chrom w stezeniu mniejszym niz J0,03 M, •dostatecznie niskim dla wytworzenia osa- |dzonej warstwy o dostrzegalnie jasniejszym za¬ barwieniu niz warstwy otrzymywane z takich roz¬ tworów o stezeniiu powyzej 0,00 M.Korzystnie stezenie chromu wynosi 0,015 M lub mniej.Inna korzystna ceche charakterystyczna stanowi to, ze roztwór .zawiera, aminokwas jako suibstan* cje buforowa.Opracowamo równiez sposób galwanicznego po¬ wlekania chromem, obejmujacy etap przepuszcza¬ nia elektrycznego pradu galwanicznego miedzy anoda i katoda w takim roztworze do galwanicz¬ nego powlekania. Korzystnie stosuje sie gestosc pradu w zakresie od 20 do 150 mA • cm"*.W przypadku, gdy potrzelbne jest otrzymanie warstwy chromu o wiekszej griibosci, to powyz¬ szy sposób moze byc korzystnie polaczony z bar¬ dziej wydajnym procesem powlekania galwanicz¬ nego przy wyctezym stezeniu.Zgodnie z tym sposób galwanicznego powlekania chromem przedmiotów, obejmuje powlekanie gal¬ waniczne przedmiotu najfcierw stosunkowo gruba warstwa chromu w pierwszej kapieli, w której zródlo chromu obejmuje wodny roztwór komplek¬ sowego zwiazku tiocyjanianowego chromu (III), przy czym stezenie chromu jest wyzsze od 0,03 M, przenoszenie przedmiotu bez plukania do drugiej kapieli galwanicznej, oraz .galwaniczne powleka¬ nie w drugiej kapieli stosunkowo cienka warstwa chromu na pierwszej warstwie, przy czym po¬ czatkowe stezenie chromu w drugiej kapieli jest nizsze od 0,03 M i dostatecznie niskie dla otrzy¬ mania warstwy o dostrzegalnie jasniejszym zabar¬ wieniu niz pierwsza warstwa.Zalete tego sposobu stanowi to, ze w tym przy¬ padku glówna masa chromu moze byc osadzona w porcesie zoptymalizowania .pod wzgledem wy¬ dajnosci, co moze prowadzic do ciemnego zabar¬ wienia osadzonej warstwy, a mimo to zewnetrzny wyglad pokrytego galwanicznie przedmiotu moze byc" doprowadzony do znacznie jasniejszego zabar¬ wienia przez naniesienie na drodze galwanicznej cienkiej warstwy zewnetrznej z kapieli o niskim stezeniu chromu. " lana istotna zalete stanowi to, ze druga kapiel aaeze zastepowac wanne pluczna, która normalnie .powtona Jagrc stosowana po pierwszej kapieli, tak, ze zwiazki wynoszone z pierwszej kapieli z pokryj wanymi przedmiotami sa wykorzystywane do uzu¬ pelniania chromu zuzywanego w drugiej kapieli.W zrealizowanych badaniach chrom nanoszony byl galwanicznie przy uzyciu kapieli wedlug wy¬ nalazku z roztworów kompleksowych, zwiaz¬ ków chromowo^tiocyjamanowo^minokwa«owych, w których stezenie zwiazków kompleksowych jest bardzo niskie. Stosowanymi aminokwasami byly kwas asparaginowy i glicyna. Z roztworów za¬ wierajacych chrom w stezeniu do 0,015 M otrzy¬ mano blyszczace, biale, zwarte, osadzone warstwy.Warstwy te maja znacznie jasniejsze zabarwienie od warstw osadzonych z roztworów tych samych zwiazków kompleksowych o stezeniu 0,1 M. Bar¬ wa osadzonej warstwy przy obserwacji wzrokowej jest pod wzgledem jasnosci takav*ama, jak war¬ stwy chromu naniesionej przez naparowanie. To subiektywne wrazenie .potwierdzone jest za pomo¬ ca pomiarów wspólczynnika odbicia Próbki mosiadzu i niklu powlekano galwanicz¬ nie z roztworów o niskim stezeniu chromu, lecz glówny nacisk polozono na dodatkowe powlekanie ciemniejszej warstwy otrzymanej z optymalizowa¬ nej kapieli z chromem trójwartosciowym. W tym ostatnim przypadku przy optymalizacji skladu ka¬ pieli pierwotnej wiekszy nacisk kladziono na kry¬ terium wydajnosci pradowej i trwalosci w dlugim okresie czasu, niz zabarwienia. Kapiel optymalna pod wzgledem jasnosci zabarwienia bylaby bar¬ dzo niewydajna, a proces galwanicznego powleka¬ nia prowadzony przy jej zastosowaniu zachodzilby bardzo wolno i w przypadku stosowania do gal¬ wanicznego powlekania chromem o grubosciach normalnie wymaganych w handlu konieczne bylo¬ by jej czeste uzupelnianie, ^twierdzono równiez, ze powloka naniesiona na wierzch warstwy po¬ wlekajacej zapewnia oprócz jasniejszego zabarwie¬ nia równiez wyzsza odpornosc korozyjna próbek, niz w przypadku próbek nie powleczonych dodat¬ kowa powloka.Wynalazek zilustrowany jest nastepujacymi przykladami: Przyklad I. Jest to przyklad kapieli zawie¬ rajacej trójwartosciowy chrom i posiadajacej sklad chemiczny optymalizowany z uwzglednieniem przede wszystkim kryterium wydajnosci i trwa¬ losci, a w mniejszym stopniu zabarwienia. Nie stanowi ona przykladu kapieli wedlug wynalazku jako takiego, lecz moze byc stosowana do realiza¬ cji pierwszego etapu procesu prowadzonego we¬ dlug jednej z dróg realizacji sposobu powlekania.Roztwór do galwanicznego powlekania chromem sporzadzono w nastepujacy sposób: -a) 60 gramów kwasu ortoborowego (H3B03) do¬ dano do 750 ml dejohizowanej wody, która na¬ stepnie ogrzewano i mieszano w celu rozpuszcze¬ nia kwasu ortoborowego. t b) 33,1!2 gramów siarczanu chromowego [CrjtSO^ • 15^0} oraz 32,43 gramów tiocyjariianu sodowego (NaCNS) dodano do roztworu* który na¬ stepnie ogrzewano i mieszano w temperaturze oko¬ lo 70°C w ciagu okolo 30 minut. c) 13,3 gramów kwasu DL»-%a*paragijnowego JNHjCHiCH^COOH)*] dodano do roztworu, który 10 15 20 25 30 35 40 45 50 35 605 122 271 c nastepnie ogrzewano- i mieszano w temperaturze okolo 75°C w ciagu okolo % godzin. W ciagu tego czasu odczyn roztworu doprowadzono od wartosci pH 1,5 do pH 2,8 przez bardzo powolne dodawa¬ nie roztworu wodorotlenku potasowego o stezeniu 10% wagowych. Po osiagnieciu wartosci pH 2,8 utrzymywala sie ona na tym poziomie w ciagu calego okresu ustalania równowagi. d) Do roztworu dodano ilosc chlorku sodowego wystarczajaca dla doprowadzenia stezenia roztwo¬ ru do okolo 1 M, a nastepnie dodano równiez 0,1 grama srodka o nazwie FC 98 (srodek zwilza¬ jacy wytwarzany przez firme 3 M Corporation).Roztwór ogrzewano i mieszano w ciagu dalszych 30 minut. e) Odczyn roztworu doprowadzono ponownie do wartosci pH 2,8 za pomoca roztworu wodorotlen¬ ku sodowego. f) Objetosc roztworu uzupelniono do 1 litra przy uzyciu dejonizowanej wody, zakwaszonej do war¬ tosci pH 3,0 kwasem solnym o stezeniu 10% ob¬ jetosciowych.Sklad chemiczny koncowego roztworu jest na¬ stepujacy: 0,1 M siarczanu chromowego — Cr^SO^ • 15HjO 0,4 M tiocyjanianu sodowego — NaCNS 0,1 M kwasu asparaginowego — NH*Cm2CH(COOH)2 60 g/l kwasu ortoborowego — H3B03 00 g/l chlorku sodowego — NaCl 0*1 g/l FC 98 — (srodek zwilzajacy, produkt 3 M Corp.) Kapiel galwaniczna zawierajaca powyzszy roz¬ twór do osadzania powloki galwanicznej pracowa¬ la przy wartosci pH okolo 2,1 iw temperaturze 25°C przy galwanicznym powlekaniu chromem plytki mosieznej powleczonej galwanicznie niklem i podlaczonej jako katoda w elektrolizerze Hulla.Gestosc pradowa wynosila 50 mA • cm-8, a prad przepuszczano w ciagu 2 minut. Otrzymano war¬ stwe chromu o stosunkowo ciemnym zabarwieniu i grubosci okolo 0,6 ftm.Przyklad II. Jest to przyklad kapieli galwa¬ nicznej wedlug wynalazku, która otrzymano jak nastepuje.Roztwór sporzadzono w dokladnie taki sam spo¬ sób, jak to opisano w przykladzie I, z ta róznica, ze uzyto polowe ilosci tiocyjanianu sodowego, w rezultacie czego stezenie tiocyjanianu sodowego wynosilo 0,2 M. 30 ml roztworu dopelniono do objetosci 1 litra roztworem zawierajacym 60 gra¬ mów kwasu ortoborowego na litr oraz 60 gramów chlorku sodowgo na litr.Zasadniczy sklad chemiczny, koncowej kapieli galwanicznej byl nastepujacy: 0,003 M siarczanu chromowego 0,006 M tiocyjanianu sodowego 0,003 M kwasu asparaginowego 00 g/l kwasu ortoborowego 60 g/l chlorku sodowego Plytke powleczona galwanicznie chromem w sposób opisany w przykladzie I przeniesiono Dez plukania eto drugiego elektrolizera Hulla za¬ wierajacego opisana wyzej kapiel galwaniczna.Wzrost stezenia chromu wskutek wynoszenia z pierwszej kapieli nie byl dokladnie oznaczony, lecz nie jest prawdopodobnym, aby stezanie wzro¬ slo o wiecej niz 0,001 M. Prad galwan&wiy prze¬ puszczano przez elektrolizer w ciagu 2 minut Ze wzgledu na polozenie plytki w elelrtroliserze, *S- 5 stosci pradu plynacego przez plytke lezaly w za¬ kresie od 20 do okolo 150 mA • cm"*. Temperatu¬ ra kapieli wynosila 25°C. Uformowana zostala blyszczaca, biala, zwarta warstwa na ~ pierwotnej warstwie osadzonej z kapieli wtdlug przykladu l. 10 Grubosc warstwy osadzonej na pierwotnej powlo¬ ce galwanicznej oszacowano na nie wiecej niz kil¬ kaset angstremów.Przyklad III. Szereg roztworów do powleka¬ nia galwanicznego sporzadzono w analogiczny spo- 15 sób jak opisano w przykladzie II, z ta róznica, ze zakres poczatkowych stezen chromu obejmowal wartosci od 0,0002—0,025 M. W celu okreslenia wplywu stosunku chromu do tiocyjanianu w roz¬ tworze, w przeprowadzonych doswiadczeniach 20 zmieniono równiez stezenie tiocyjanianu, dla uzy¬ skania stosunków chromu do tiocyjanianu jak 1:2, 1 : 3, 1 : 4.W niektórych przypadkach dodawano równiez srodka zwilzajacego FC 98. Szereg plytek prób- 25 nych powlekano galwanicznie z tych roztworów, w warunkach opisanych w przykladzie II. Jednak w pewnych przypadkach kapiel pracowala w tem¬ peraturze 40°C. W niektórych przypadkach nato¬ miast plytka przed galwanicznym powlekaniem 3q byla plukana. W niektórych kapielach o nizszym stezeniu, które byly wielokrotnie uzywane bez plukania próbki oceniono, ze chrom tracony na wytworzenie powloki galwanicznej uzupelniany byl z nadmiarem przez chrom wynoszony z ciecza 35 z kapieli opisanej w przykladzie I, lecz zadne po¬ miary tego efektu nie byly przeprowadzane.Dla stezen chromu do 0,015 M obserwowano powstawanie osadzonych warstw o jasniejszym zabarwieniu, przeslaniajacych ciemniejsza warstwe 40 poczatkowa. Powyzej stezenia 0,015 M efekt ten ulegl degradacji i naniesione galwanicznie war¬ stwy wierzchnie nie byly juz równomiernie ja¬ sniejsze przy obserwacja wzrokowej.Przyklad IV. Plytke próbna powleczono gal- 45 wanicznie sposobem opisanym w przykladzie I.Plytke przeniesiono bez plukania do drugiego roz¬ tworu, jak to opisano w przykladzie II, i czes¬ ciowo w nim zanurzono. Zanurzona czesc plytki powlekano galwanicznie cienka warstwa chromu 50 w sposób opisany w przykladzie II. Wierzchnia warstwa powlekajaca przeslonila pierwsza war¬ stwe powlekajaca i miala znacznie jasniejsze za¬ barwienie od pierwszej, niepokrytej druga warst¬ wa czesci warstwy. 55 Przy pomocy miernika plamkowego przeprowa¬ dzone zostaly pomiary natezenia swiatla zewnetrz¬ nego odbitego od powleczonej galwanicznie dodat¬ kowa warstwa (jasnej) oraz powleczonej pojedyn¬ cza warstwa (ciemnej) powierzchni plytki. Podob- 6o ne pomiary przeprowadzone zostaly równiez dla swiatla odbitego od zwiereiadlowego naparowane- go chromem odblysnika i równiez od bialego od¬ blysnika dyfuzyjnego. Byly one uzywane w cha¬ rakterze wzorców. Droga porównania natezen 65 mierzonego swiatla odbitego od odblysników oraz122 271 7 8 od jasnych i ciemnych powierzchni plytki prób- pleksowego zwiazku tiocyjanianowego chromu (III), nej, stwierdzono, ze stosunek wspólczynników od- znamienna tym, ze zawiera chrom w stezeniu bicia jasnych i ciemnych powierzchni plytki prób- mniejszym niz 0,03 M. nej wynosil 2,26:1. 2. Kapiel wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze 5 zawiera chrom w stezeniu mniejszym niz 0,015 M..Zastrzezenia patentowe 3. Kapiel wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze jako substancje buforowa dostarczajaca co naj- 1. Kapiel do chromowania galwanicznego, w któ- mniej jednego z ligandów dla zwiazku komplek- rej zródlo chromu stanowi wodny roztwór kom- sowego zawiera aminokwas.PZGraf. Koszalin A-2145 90 A-4 Cena 1C0 zl PL PL PL PL PL PL PL PL PL PL PL PL
PL1979219515A 1978-11-11 1979-11-09 Bath for chromium plating PL122271B1 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB7844177A GB2033427B (en) 1978-11-11 1978-11-11 Chromium electroplating

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL219515A1 PL219515A1 (pl) 1980-08-11
PL122271B1 true PL122271B1 (en) 1982-07-31

Family

ID=10500991

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1979219515A PL122271B1 (en) 1978-11-11 1979-11-09 Bath for chromium plating

Country Status (8)

Country Link
JP (1) JPS5565386A (pl)
AU (1) AU528649B2 (pl)
BE (1) BE879492A (pl)
CS (1) CS214811B2 (pl)
DE (1) DE2930981A1 (pl)
GB (1) GB2033427B (pl)
PL (1) PL122271B1 (pl)
ZA (1) ZA795270B (pl)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2093861B (en) * 1981-02-09 1984-08-22 Canning Materials W Ltd Bath for electrodeposition of chromium
GB2109815B (en) * 1981-11-18 1985-09-04 Ibm Electrodepositing chromium
CN103993336A (zh) * 2014-06-04 2014-08-20 湖南工业大学 离子液体中三价铬电镀无微裂纹晶态铬及铬合金镀层的方法
CN103993337A (zh) * 2014-06-04 2014-08-20 湖南工业大学 硫酸氢盐离子液体中直接电沉积晶态铬镀层的方法

Also Published As

Publication number Publication date
CS214811B2 (en) 1982-06-25
GB2033427B (en) 1982-05-06
DE2930981A1 (de) 1980-05-22
JPS5565386A (en) 1980-05-16
AU528649B2 (en) 1983-05-05
AU5268979A (en) 1980-05-15
ZA795270B (en) 1980-09-24
BE879492A (fr) 1980-02-15
JPS5645996B2 (pl) 1981-10-30
PL219515A1 (pl) 1980-08-11
GB2033427A (en) 1980-05-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2230330A1 (en) Alkaline zinc and zinc alloy electroplating baths and processes
CN102016130B (zh) 改性铜-锡电解液和沉积青铜层的方法
US4278512A (en) Low concentration trivalent chromium electroplating solution and process
US8372259B2 (en) Method of preparing chromium plating bath and method of forming plating film
US3380898A (en) Electrolyte and method for electrodepositing a pink gold alloy
US4913787A (en) Gold plating bath and method
US4137132A (en) Chromite coatings, electrolytes, and electrolytic method of forming the coatings
EP0128358B1 (en) Specular product of bronze-like tone
PL122271B1 (en) Bath for chromium plating
CA1209947A (en) Chromate composition and process for treating zinc- nickel alloys
FI63445B (fi) Process foer avsaettning av tjocka kromskikt fraon trivalentkromplaeteringsloesningar
US4591416A (en) Chromate composition and process for treating zinc-nickel alloys
JPS6021235B2 (ja) コバルト−亜鉛合金電気メツキ浴組成物とメツキ方法
JPS60190588A (ja) 亜鉛または亜鉛合金めつき鋼板の黒色処理方法
KR100402730B1 (ko) 마그네슘합금에 동-니켈 도금층을 전해 도금으로 형성하는방법
JP2678834B2 (ja) 樹脂成品のクロムメッキ方法
JPS5827998A (ja) 金属製品の着色方法
DK151643B (da) Vandig oploesning indeholdende et chrom(iii)thiocyanatkompleks til elektroplettering af chrom eller en chromlegering
GB2057505A (en) Aqueous composition and method for electrodeposition of black nickel
US2973308A (en) Complexed plating electrolyte and method of plating therewith
CA1180676A (en) Electrolytic nickel plating bath containing amine, borate and conductivity salt
US3432337A (en) Process for the currentless deposition of copper-tin layers
JP2717406B2 (ja) 亜鉛合金メッキの黒色化方法
CA2162230C (en) Passivate for tungsten alloy electroplating
KR890002496B1 (ko) 내식성이 우수한 아연-니켈 합금의 전기도금 강판 제조법