PL114532B2 - Process for preparing trialkoxyanilidosilanes - Google Patents
Process for preparing trialkoxyanilidosilanes Download PDFInfo
- Publication number
- PL114532B2 PL114532B2 PL21733278A PL21733278A PL114532B2 PL 114532 B2 PL114532 B2 PL 114532B2 PL 21733278 A PL21733278 A PL 21733278A PL 21733278 A PL21733278 A PL 21733278A PL 114532 B2 PL114532 B2 PL 114532B2
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- pyridine
- organic solvent
- mixture
- general formula
- order
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 13
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- -1 nitro, methyl Chemical group 0.000 claims description 8
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 claims description 8
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 7
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000012467 final product Substances 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 4
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 4
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 150000001448 anilines Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 3
- XVMSFILGAMDHEY-UHFFFAOYSA-N 6-(4-aminophenyl)sulfonylpyridin-3-amine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=N1 XVMSFILGAMDHEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QSNSCYSYFYORTR-UHFFFAOYSA-N 4-chloroaniline Chemical compound NC1=CC=C(Cl)C=C1 QSNSCYSYFYORTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TYMLOMAKGOJONV-UHFFFAOYSA-N 4-nitroaniline Chemical compound NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 TYMLOMAKGOJONV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Chemical group 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- ZVUGYOCGLCLJAV-UHFFFAOYSA-N tris(tert-butoxy)silanethiol Chemical compound CC(C)(C)O[Si](S)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C ZVUGYOCGLCLJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001514 alkali metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006263 metalation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- KUDPGZONDFORKU-UHFFFAOYSA-N n-chloroaniline Chemical compound ClNC1=CC=CC=C1 KUDPGZONDFORKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical group 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- BHAAPTBBJKJZER-UHFFFAOYSA-N p-anisidine Chemical compound COC1=CC=C(N)C=C1 BHAAPTBBJKJZER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- KHDSWONFYIAAPE-UHFFFAOYSA-N silicon sulfide Chemical compound S=[Si]=S KHDSWONFYIAAPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- NRTLTGGGUQIRRT-UHFFFAOYSA-N triethylazanium;bromide Chemical class [Br-].CC[NH+](CC)CC NRTLTGGGUQIRRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób otrzymywania trójalkoksyanilidosilanów o,wzorze ogólnym 1, w którym R oznacza izopropyl, Il-rzedowy izoamyl, Il-rzedowy amyl, Il-rzedowy butyl, III-rzedowy butyl, X oznacza atom wodoru, chloru, grupe nitrowa, metylowa, metoksylowa lub nitrylowa.Dotychczas zwiazki o wzorze ogólnym 1 otrzymywano metoda Andersona LAm. Chem. Soc. 73. 5802 (1951), która do celu otrzymywania trójalkoksyanilidosilanów zastosowali N.Makarowa, E.Kirilenko, AJerma- kow, Z.Analiticzeskoj Chim. 28 972 (1973). Substratem tej reakcji sa trójalkoksychlorosilany, które wymagaja przy rozdziale i wydzielaniu stosowania destylacji frakcyjnej. Otrzymuje sie je w reakcji czterochlorku krzemu z odpowiednim alkoholem, wobec akceptora chlorowodoru jakim jest III-rzedowa amina. Wydziela sie. przy tym objetosciowy osad chlorowodorku aminy, który absorbuje duzo produktu i wymaga do przemywania duzej ilosci rozpuszczalników. Reakcje trójalkoksychlorosilanów z aminami aromatycznymi przebiegaja z wytraceniem osadu chlorowodorku aminy aromatycznej. Powoduje to analogiczne trudnosci jak opisano powyzej.Niektóre mniej zasadowe aminy aromatyczne ulegaja reakcji z chlorosilanem po uprzedniej metalacji za pomoca takich odczynników jak amidek sodu, metale alkaliczne lub butyloHt. Warunkiem koniecznym jest zachowanie zupelnie bezwodnej i beztlenowej atmosfery procesu. W trakcie reakcji wydziela sie objetosciowo osad chlorku metalu alkalicznego, któryjest bezuzytecznym odpadem i utrudnia przebieg reakcji.U Wannagat i wspólpracownicy (U Wannagat, CKruger, KNiederprum, Z.Anorg — Allg. Chem. 314. 80 (1962) otrzymali trójmetoksyanilidosilany przez reakcje trójbromoanilidosilanów z metanolem wobec trójetylo- aminy lub pirydyny jako akceptora bromowodoru. Reakcja ta nie zachodzi jednokierunkowo, w jej trakcie wytracaja sie objetosciowe osady bromowodorków pirydyny lub trójetyloaminy. Z tego wzgledu nie posiada ona praktycznego znaczenia.Trójetoksyanilinosilan wedlug opisu patentowego Stanów Zjednoczonych Ameryki Nr 3.054.818 mozna otrzymac w reakcji czteroetoksysilanu, magnezu i chloroaniliny. W opisie brak danych na temat wydajnosci, a ponadto metoda nie jest potwierdzona przez literature fachowa.Opisane wyzej trudnosci w otrzymywaniu zwiazków tej grupy wplywaja na to, ze dotychczas znanychjest2 114 532 niewiele alkoksyanilidosilanów, przy czym nie sa one produkowane na skale przemyslowa, chociaz ze wzgledu na zróznicowana reaktywnosc grup funkcyjnych sa atrakcyjnymi substratami mogacymi znalezc zastosowanie do produkcji monomerów silikonowych oraz do modyfikacji farb i tworzyw sztucznych.Sposób otrzymywania trójalkoksyanilidosilanów o wzorze ogólnymi, w którym R oznacza izopropyl, II-rzed. izoamyl, II-rzed. amyl, H-rzed. butyl, Ill-rzed. butyl, X oznacza atom wodoru, chloru, grupe nitrowa, metylowa, metoksylowa lub nitrylowa, wedlug wynalazku polega na tym, ze na trójalkoksysilanotiol o wzorze ogólnym 2, w którym R ma podane wyzej znaczenie dziala sie anilina lub podstawiona anilina o wzorze ogól¬ nym 3, w którym X ma podane wyzej znaczenie w srodowisku pirydyny lub mieszaniny pirydyny z rozpuszczal¬ nikiem organicznym lub w srodowisku rozpuszczalnika organicznego z dodatkiem imidazolu. Uzyskany produkt koncowy wyodrebnia sie z mieszaniny przez destylacje prózniowa lub destylacje prózniowa i krystalizacje.W trakcie reakcji mieszanine przedmuchuje sie w sposób ciagly gazem obojetnym w postaci azotu lub argonu.Stosuje sie trójalkoksysilanotiole uzyskane w reakcji technicznego dwusiarczku krzemu z alkoholami alifatycz¬ nymi uzytymi w niedomiarze.Mieszanina pirydyny z rozpuszczalnikiem organicznym zwlaszcza takim jak acetonitryl zawiera 5-70% korzystnie 30% pirydyny.Mieszanina rozpuszczalnika organicznego z imidazolem zawiera 0,5—5% korzystnie 0,5—2% imidazolu.Zalety sposobu wedlug wynalazku polegaja na tym, ze w trakcie procesu nie wydzielaja sie stale odpady.Zuzycie niskowrzacych rozpuszczalników jest niewielkie. Nie wymagana jest równiez uprzednia metalacja amin.Sposób otrzymywania trójalkoksysilanów wedlug wynalazku ilustruja podane nizej przyklady.Przyklad I. W kolbie reakcyjnej, zaopatrzonej w chlodnice zwrotna i doprowadzenie gazu obojetne¬ go umieszcza'sie 0,1 mola trójizópropoksysilanotiolu, 0,2 mola aniliny, 20 cm3 bezwodnej pirydyny i 30 cm3 bezwodnego ksylenu. Mieszanine ogrzewa sie do temperatury 100°C przez 5 godzin przy intensywnym przepusz¬ czaniu argonu. Produkt koncowy wydziela sie przez destylacje pod zmniejszonym cisnieniem wytworzonym za pomoca pompy olejowej. Otrzymuje sie trójizopropoksyanilinosilan o temperaturze wrzenia 105-110°C/ ca 3hPain20 = 1,4669.Przyklad II. W aparaturze jak w przykladzie I miesza sie 0,1 mola trójizópropoksysilanotiolu, 0,1 mola p-nitroaniliny, 20 cm3 pirydyny oraz 80 cm3 acetonitrylu. Mieszanine ogrzewa sie do temperatury 60°C przez okres 4 godzin przepuszczajac odtleniony azot. Nastepnie prózniowo (16 hPa) oddestylowuje sie slady czteroetoksysilanu, pirydyne i acetonitryl, a pozostalosc krystalizuje sie z heksanu uzyskujac trójizopropoksy- /p-nitroanilino/silan z wydajnoscia 80%. Jest to zwiazek o temperaturze topnienia 101-102°C.Przyklad III. W aparaturze jak w przykladzie I miesza sie 0,1 mola trój-II-rzed.-butoksysilanotiolu, 0,1 mola p-anizydyny, 20 cm3 pirydyny i 20 cm3 ksylenu. Zawartosc kolby utrzymuje sie w temperaturze 120°C przez okres 20 godzin, przepuszczajac argon. Produkt wydziela sie przez destylacje prózniowa i otrzymuje sie trój-Il-rzed.-butoksy /p-metoksyanilido/silan, który jest zwiazkiem o temperaturze wrzenia 155—159°C/ ca 3hPain20 = 1,4886.Przyklad IV. W aparaturze jak w przykladzie I miesza sie 0,1 mola trój-II-rzed.-butoksysilanotiolu, 0,1 mola p-chloroaniliny, 20 cm3 pirydyny i 30 cm3 toluenu. Zawartosc kolby utrzymuje sie w temperaturze 120°C przez okres 4 godzin przepuszczajac jednoczesnie azot. Produkt koncowy wyodrebnia sie przez destylacje pod zmniejszonym cisnieniem i otrzymuje sie trój-II-rzed.-butoksy/p-chloroanilino/silan. Jest to zwiazek o tem¬ peraturze wrzenia 155-159°C/4 hPai n20 = 1,4741.Przyklad V. W aparaturze jak w przykladzie I miesza sie 0,1 mola trój-t-butoksysilanotiolu, 0,5 mola aniliny, i 70 cm3 pirydyny. Zawartosc kolby ogrzewa sie do temperatury 120°C i przepuszcza sie odtlenio¬ ny argon. Produkt koncowy wyodrebnia sie przez destylacje prózniowa i otrzymuje sie trój-III-rzed.-butoksyani- linoalan. Jest to zwiazek o temperaturze wrzenia 170—174°C/20 hPa i temperaturze topnienia 44—46°C.Przyklad VI. W aparaturze jak w przykladzie I miesza sie 0,1 mola trójizópropoksysilanotiolu, 100 cm3 benzenu, 0,05 mola imidazolu i 0,1 mola aniliny. Zawartosc kolby utrzymuje sie w temperaturze 80°C przez okres 4 godzin. Produkt koncowy wwyodrebnia sie przez destylacje pod zmniejszonym cisnieniem i otrzy¬ muje sie trójizopropoksy- anilinosilan o temperaturze wrzenia 105-110°C/7 hPa.Sposobem wedlug wynalazku otrzymuje sie trójalkoksyanilidosilany z wydajnoscia 40—80%.Zastrzezenia patentowe 1. Sposób otrzymywania trójalkoksyanilidosilanów o wzorze ogólnym 1, w którym R oznacza izopropyl, D-rzedowy izoamyl, II-rzed. amyl, II-rzed. butyl, Ill-rzed. butyl, X oznacza atom wodoru, chloru, grupe nitrowa, metylowa, metoksylowa oraz nitrylowa, znamienny tym, ze na trójalkoksysilanotiol o wzorze ogólnym 2,114532 3 w którym R ma podane wyzej znaczenie dziala sie anilina lub podstawiona anilina o wzorze ogólnym 3, w którym X ma podane wyzej znaczenie w srodowisku pirydyny lub mieszaniny rozpuszczalnika organicznego i pirydyny w ilosci 5-70% lub w srodowisku rozpuszczalnika organicznego z dodatkiem imidazolu w ilosci 0,5-5%, po czym uzyskany produkt koncowy wyodrebnia sie z mieszaniny przez destylacje prózniowa lub destylacje prózniowa i krystalizacje, przy czym w trakcie reakcji mieszanine przedmuchuje sie w sposób ciagly gazem obojetnym w postaci azotu albo argonu. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze mieszanina pirydyny z rozpuszczalnikiem organicznym zwlaszcza takim jak acetonitryl zawiera 30% pirydyny. 3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze rozpuszczalnik organiczny zawiera 0,5-2% imidazolu.(R0)3S?NHCgH4X W2ÓR1.(ROLjSfSH WZÓR 2.XC6H4NH2 WZÓR 3 PL
Claims (2)
- Zastrzezenia patentowe 1. Sposób otrzymywania trójalkoksyanilidosilanów o wzorze ogólnym 1, w którym R oznacza izopropyl, D-rzedowy izoamyl, II-rzed. amyl, II-rzed. butyl, Ill-rzed. butyl, X oznacza atom wodoru, chloru, grupe nitrowa, metylowa, metoksylowa oraz nitrylowa, znamienny tym, ze na trójalkoksysilanotiol o wzorze ogólnym 2,114532 3 w którym R ma podane wyzej znaczenie dziala sie anilina lub podstawiona anilina o wzorze ogólnym 3, w którym X ma podane wyzej znaczenie w srodowisku pirydyny lub mieszaniny rozpuszczalnika organicznego i pirydyny w ilosci 5-70% lub w srodowisku rozpuszczalnika organicznego z dodatkiem imidazolu w ilosci 0,5-5%, po czym uzyskany produkt koncowy wyodrebnia sie z mieszaniny przez destylacje prózniowa lub destylacje prózniowa i krystalizacje, przy czym w trakcie reakcji mieszanine przedmuchuje sie w sposób ciagly gazem obojetnym w postaci azotu albo argonu. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze mieszanina pirydyny z rozpuszczalnikiem organicznym zwlaszcza takim jak acetonitryl zawiera 30% pirydyny. 3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze rozpuszczalnik organiczny zawiera 0,5-2% imidazolu. (R0)3S?NHCgH4X W2ÓR1. (ROLjSfSH WZÓR
- 2. XC6H4NH2 WZÓR 3 PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL21733278A PL114532B2 (en) | 1978-05-29 | 1978-05-29 | Process for preparing trialkoxyanilidosilanes |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL21733278A PL114532B2 (en) | 1978-05-29 | 1978-05-29 | Process for preparing trialkoxyanilidosilanes |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL217332A2 PL217332A2 (pl) | 1980-03-24 |
| PL114532B2 true PL114532B2 (en) | 1981-02-28 |
Family
ID=19997630
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL21733278A PL114532B2 (en) | 1978-05-29 | 1978-05-29 | Process for preparing trialkoxyanilidosilanes |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL114532B2 (pl) |
-
1978
- 1978-05-29 PL PL21733278A patent/PL114532B2/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL217332A2 (pl) | 1980-03-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN111217850B (zh) | 硅基酯类化合物制备方法、硅基酯类化合物、包含其的电解液及二次电池 | |
| CN100384858C (zh) | 双(叔丁氨基)硅烷的生产和纯化方法 | |
| Yoder et al. | Reactions of the ambidentate substrate chloromethyldimethylchlorosilane with amines and amides | |
| JPH08301882A (ja) | クロル官能性オルガノシランの少ない又はそれを含まないアミノ官能性オルガノシランの製造法 | |
| JPS6033436B2 (ja) | ハロシリルカルバメ−トおよびその製造方法 | |
| JP6165159B2 (ja) | 第iiia族金属のトリアルキル化合物の調製方法 | |
| US4152346A (en) | Beta-aminoethylsilanes and a method of preparing same | |
| JPS61287930A (ja) | ポリシラザンの製造方法 | |
| US4131624A (en) | Reduction of phosphine oxides | |
| JPS61263986A (ja) | 有機けい素化合物 | |
| JPH0331290A (ja) | 第3級炭化水素基含有ハロゲン化シランの製造方法 | |
| JP5219812B2 (ja) | 有機酸若しくはシアン酸と、ハロアルコキシシランを用いたオルガノアルコキシシランの調製方法 | |
| JP2538189B2 (ja) | トリアルキルシリルニトリルの製造 | |
| CN104650357B (zh) | 包含含氮有机氧基硅烷化合物的组合物及其制备方法 | |
| PL114532B2 (en) | Process for preparing trialkoxyanilidosilanes | |
| CA2017699C (en) | Silylating agent | |
| US4814474A (en) | Method for the production of tertiary-alkyldimethylhalosilane | |
| JPH0559072A (ja) | オレフイン系及びアセチレン系アザシラシクロペンタン並びにその調製方法 | |
| JPH06166691A (ja) | ゲルマニウム二ハロゲン化物−エーテル付加物の製造方法 | |
| JPH01502025A (ja) | オキシモシラン類の製造法 | |
| KR100371312B1 (ko) | 알킬(아미노)디알콕시실란의 제조 방법 | |
| EP0195996B1 (en) | Nitrogen-containing organosilicon compounds | |
| JP2713676B2 (ja) | 3−[n−(2−アミノエチル)]アミノプロピルアルコキシシランの製造方法とその製造装置 | |
| Tsai et al. | Reactions of triphenylsilicon,-germanium and-tin azides with their corresponding hydrides | |
| US3652626A (en) | Process for the preparation of compounds with triorganosilylethynyl groups |