NO851458L - Roterbart paasprutingsapparat - Google Patents

Roterbart paasprutingsapparat

Info

Publication number
NO851458L
NO851458L NO851458A NO851458A NO851458L NO 851458 L NO851458 L NO 851458L NO 851458 A NO851458 A NO 851458A NO 851458 A NO851458 A NO 851458A NO 851458 L NO851458 L NO 851458L
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
tubular part
accordance
cathode
spray
tubular
Prior art date
Application number
NO851458A
Other languages
English (en)
Inventor
Harold E Mckelvey
Original Assignee
Schatterproof Glass Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Schatterproof Glass Corp filed Critical Schatterproof Glass Corp
Publication of NO851458L publication Critical patent/NO851458L/no

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3402Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
    • H01J37/3405Magnetron sputtering

Description

Oppfinnelsens bakgrunn
Den foreliggende oppfinnelse har i hovedtrekk befatning med magnetronkatode-påsprutingsapparater og vedrører, nærmere bestemt, en forbedret, roterbar katodekonstruksjon.
US-patentskrift 4.356.073 beskriver en roterbar magnetronkatode som er bestemt for å fungere i et lufttrykkminskende beleggpåføringskammer og som omfatter en langstrakt, sylindrisk og rørformet del som over hele sin lengde har stort sett uforan-dret diameter og er utstyrt med et lag av det belegningsmateriale som skal påsprutes forbipasserende, stort sett plane underlagsmaterialer .
Den foreliggende oppfinnelse vedrører en roterbar magnetronkatode av betydelig endret type hvor den langstrakte, rør-formete del er aksialt profilert for påspruting av belegg på ikke-plane underlagsmaterialer av form som stort sett overens-stemmer med konturen av den rørformete del.
Et annet formål med oppfinnelsen er å frembringe en roterbar magnetronkatode hvor den langstrakte, rørformete del er utstyrt med en langsgående, bueformet spruteflate for påføring av belegg på underlagsflater av stort sett samme kurvatur.
Et annet formål med oppfinnelsen er å frembringe en roterbar magnetronkatode av stort sett tønneliknende form, hvor midt-partiet er bredere enn endepartiene.
Et ytterligere formål med oppfinnelsen er å frembringe en roterbar magnetronkatode av ikke-sylindrisk profilform og egnet for anvendelse ved påspruting av belegg på bøyde eller bueformete flatepartier.
Sammenfatning av oppfinnelsen
Det er beskrevet en sprutekatode som er bestemt for påspruting av belegg på ikke-plane underlagsmaterialer, og som omfatter en dreibar, langstrakt og rørformet del hvis ytterflate er påført et lag av belegningsmaterialet som skal påsprutes, og som kjennetegnes ved at den rørformete del er profilert i langsgående<e1>r^r^opprettelse av en ikke-sylindrisk spruteflate.
Videre er det beskrevet et magnetronkatode-påsprutingsapparat som omfatter et lufttrykkminskende beleggpåføringskammer og som kjennetegnes ved at katoden av den ovennevnte type er innmontert i påsprutingsapparatet hvor det i den rørformete del er anordnet magnetiske midler, og at apparatet er utstyrt med midler for dreining av den rørformete del om dens lengdeakse og midler for fremføring av underlagsmaterialene som skal belegges, i en retning vinkelrett mot lengdeaksen for den rørformete del.
Kort beskrivelse av tegningene
Oppfinnelsen er nærmere beskrevet i det etterfølgende under henvisning til de medfølgende tegninger, hvor: Fig. 1 viser et vertikalt lengdesnitt av et beleggpå-føringskammer hvori det er innmontert en dreibar magnetronkatode ifølge den foreliggende oppfinnelse. Fig. 2 viser et vertikalsnitt stort sett langs linjen 2-2 i fig. 1. Fig. 3 viser et vertikalsnitt stort sett langs linjen 3-3 i fig. 1. Fig. 4 viser et vertikalsnitt stort sett langs linjen 4-4 i fig. 1.
Beskrivelse av en foretrukket utførelsesform
Det er på tegningene vist et lufttrykkminskende belegg-påf øringskammer 10 med en innmontert, dreibar magnetronkatode 11 ifølge oppfinnelsen.
Beleggpåføringskammeret 10 som fortrinnsvis er rektangu-lært, består av en undervegg 12, en overvegg 13, motsatt belig-gende endevegger 14 og 15 og sidevegger (ikke vist), hvor samt-lige vegger er tettsluttende forbundet med hverandre, for opprettelse av et hermetisk forseglet kammer.
Katoden 11 omfatter en langstrakt, rørformet del 16 som er aksialt profilert for beleggpåspruting av ikke-plane underlagsmaterialer S. Som det fremgår av tegningene, er den rørformete del av stort sett tønneliknende fasong, med et relativt bredt midtparti 17 som går over i avsmalnende endepartier 18 og 19. Et belegg 20 av et utvalgt materiale som skal påsprutes, er anbrakt på yttersiden av den rørformete del.
Ved hjelp av en vakuumpumpe 21 kan luften i beleggpå- føringskammeret 10 utpumpes til ønsket trykk. Dersom det er ønskelig å injisere gasser i kammeret, kan dette foregå gjennom en ledning 22 under styring av en ventil 23.
Den rørformete del 16 er ved sine motsatte endepartier horisontalt opplagret ved hjelp av flenser 24 og 25 som er utformet i ett med aksler henholdsvis 26 og 27. Den rørformete del kan være fastgjort til flensene 24 og 25 ved hjelp av skruer henholdsvis 28 og 29. Akslene 26 og 27 opptas dreibart i lager-blokker henholdsvis 30 og 31 som er fastgjort med skruer 20a til overveggen 13 av beleggpåføringskammeret. Lagerblokkene 30 og 31 fastholdes atskilt fra beleggpåføringskammerets overvegg 13 ved hjelp av strimler av isolasjonsmateriale henholdsvis 32 og 33.
Åpningene i lagerblokkene 30 og 31 har litt større diameter enn de tilhørende aksler 26 og 27, for opprettelse av relativt grunne, ringformete kanaler henholdsvis 34 og 35 som omgir akslene. De ringformete kanaler 34 og 35 er lukket på sine motsatte sider med lagerpakninger 36 og 37 som også tjener for sentrering av akslene i lagerblokkåpningene. Isolerende brikker 40 og 41 er anordnet mellom flensene 24 og 25 på akslene 26 og 27 og lagerblokkene henholdsvis 30 og 31, for å forhindre at kjøle-medium som fremføres til den rørformete del, inntrenger i belegg-påf øringskammeret .
Akselen 25 er utstyrt med et par horisontale rør 42 og 43 som utgår fra den ringformete kanal 34 og står i forbindelse med den rørformete del 11. Et kort, vertikalt rør 44 i lagerblokken 30 fører fra kanalen 34 til en innløpsledning 45 som er innskrudd i lagerblokken. Gjennom ledningen 45 og røret 44 innføres et kjølemedium, såsom vann, i kanalen 34 hvorfra det, gjennom rørene 42 og 43, innstrømmer i den rørformete del. Kjølemediet sirku-lerer gjennom den rørformete del og utstrømmer fra den motsatte ende av denne, gjennom horisontale rør 46 og 47 i akselen 27, inn i kanalen 35 og videre, gjennom et vertikalt rør 48 i lagerblokken 31, til en utløpsledning 49.
Den rørformete del 11 drives fra den ene ende ved hjelp av en motor 50 som er montert på beleggpåføringskammerets overvegg 13 og som gjennom en isolert kopling 51 er forbundet med en ver-tikal aksel 52 med en påkilt snekke 53 som står i inngrep med et snekkedrev 54 som er fastgjort på den tilknyttede aksel 26.
De magnetiske midler 55 omfatter en gruppe U-formete permanentmagneter 56 som er anordnet i to rette, parallelle rekker A og B (fig. 4) som strekker seg i langsgående retning i det nedre parti av den rørformete del. Magneten i hver rekke flukter inn-byrdes, og magnetene i den ene rekke er plassert vekselvis og overlappende med magnetene i den annen rekke. Videre er magnetene i de to rekker A og B plasser i en vinkel i forhold til hverandre, som vist i fig. 4. De ytre ben 57 av magnetene 56 i hver magnetrekke ligger an mot en langsgående, relativt smal strimmel 58 av et egnet, magnetisk materiale, mens magnetenes innerben 59 ligger an mot en tilsvarende, magnetisk strimmel 60 som forløper parallelt med strimlene 58.
Permanentmagneten er fastgjort til de magnetiske strimler 58 og 60 som er profilert i langsgående retning i motsvarighet til den rørformete dels aksialkurvatur, og undersidene 63 er utformet i overensstemmelse med den tversgående kurvatur av den rørformete dels innervegg.
De U-formete magneter 56 er fortrinnsvis slik plassert at magnetenes nordpoler ligger an mot den magnetiske strimmel 60. Det bør imidlertid bemerkes, at de U-formete magneter kan erstat-tes av permanentmagneter av andre typer eller også av elektro-magneter.
Magnetene 56 er anbrakt tett ved den rørformete dels innervegg og er opphengt i stropper 65 på en horisontal stang 64 hvis motsatte endepartier er innført i lagerblokkene 26 og 27.
Som tidligere omtalt er oversidene av de underlagsmaterialer S som skal belegges, utformet stort sett i motsvarighet til lengdekonturen av den rørformete del 11. Underlagsmaterialene understøttes horisontalt og fremføres forbi den rørformete del, ved hjelp av egnete transporteringsmidler, f.eks. ruller 66 og 67 som er fastkilt på aksler som er opplagret i lagerbukker 69 og 70 på beleggpåføringskammerets undervegg, for å motta belegningsmaterialet som påsprutes fra den rørformete del.
En katodespenning som er tilstrekkelig til å fremkalle sprutevirkning, overføres til den rørformete del 16 fra en like-strømkilde (ikke vist) og gjennom en kraftledning 71 som er forbundet med en elektrisk kontakt 72 som ligger glidbart an mot den rørformete del. Apparatet kan jordes på hensiktsmessig måte.
Det er åpenbart at endringer og modifiseringer vil kunne foretas innenfor rammen av de etterfølgende krav.

Claims (11)

1 »
1. Sprutekatode for påspruting av belegg på ikke-plane underlagsmaterialer5, og omfattende en dreibar, langstrakt og rørformet del^hvis ytterflate er påført et lag av belegningsmaterialet^som skal påsprutes, karakterisert ved at den rør-formete delder profilert i langsgående retning, for opprettelse av en ikke-sylindrisk spruteflate. •
2. Sprutekatode i samsvar med krav 1, karakterisert ved at den rørformete delder av stort sett tønne-liknende fasong.
3. Sprutekatode i samsvar med krav 1, karakterisert ved at den rørformete delder av ikke-sylindrisk profilform.
4. Sprutekatode i samsvar med krav 1, karakterisert ved at den rørformete del^har varierende diameter i langsgående retning.
5. Sprutekatode i samsvar med krav 1, karakterisert ved magnetiske midler som er innmontert i den rørformete del.^6
6. Sprutekatode i samsvar med krav 5, karakterisert ved at de magnetiske midler er anordnet i den rørformete dels lengderetning og er profilert i motsvarighet til delens konturform. H,^!^
7. Magnetronkatode-påsprutingsapparat med et lufttrykkminskende beleggpåo føringskammeri , o karakterisert ved at katoden i samsvar med krav 1 er anbrakt i påsprutingsapparatet hvor magnetiske midler^er innmontert i den rørformete del, og at det er anordnet midler for dreining av den rørformete del om dens lengdeakse, og midler for fremføring av underlagsmaterialene som skal belegges, i en retning vinkelrett mot lengdeaksen for den rørformete del.
8. Magnetronkatode-påsprutingsapparat i samsvar med krav 7, karakterisert ved at den rørformete del er av stort sett tønneliknende fasong.
9. Magnetronkatode-påsprutingsapparat i samsvar med krav 7, karakterisert ved at den rørformete del har ikke-sylindrisk profilform.
10. Magnetronkatode-påsprutingsapparat i samsvar med krav 7, karakterisert ved at den rørformete dels diameter varierer langs delen.
11. Magnetronkatode-påsprutingsapparat i samsvar med krav 7, karakterisert ved at de magnetiske midler er anordnet i den rørformete dels lengderetning og er profilert i motsvarighet til konturformen av den rørformete del.
NO851458A 1983-08-17 1985-04-12 Roterbart paasprutingsapparat NO851458L (no)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/523,969 US4445997A (en) 1983-08-17 1983-08-17 Rotatable sputtering apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NO851458L true NO851458L (no) 1985-04-12

Family

ID=24087180

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO851458A NO851458L (no) 1983-08-17 1985-04-12 Roterbart paasprutingsapparat

Country Status (11)

Country Link
US (1) US4445997A (no)
EP (1) EP0152472A1 (no)
JP (1) JPS61500025A (no)
AU (1) AU574723B2 (no)
BR (1) BR8407018A (no)
CA (1) CA1221335A (no)
DK (1) DK170685A (no)
FI (1) FI79917C (no)
HU (1) HU196011B (no)
NO (1) NO851458L (no)
WO (1) WO1985000925A1 (no)

Families Citing this family (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5096562A (en) * 1989-11-08 1992-03-17 The Boc Group, Inc. Rotating cylindrical magnetron structure for large area coating
US5047131A (en) * 1989-11-08 1991-09-10 The Boc Group, Inc. Method for coating substrates with silicon based compounds
BE1003701A3 (fr) * 1990-06-08 1992-05-26 Saint Roch Glaceries Cathode rotative.
WO1992002659A1 (en) * 1990-08-10 1992-02-20 Viratec Thin Films, Inc. Shielding for arc suppression in rotating magnetron sputtering systems
US5200049A (en) * 1990-08-10 1993-04-06 Viratec Thin Films, Inc. Cantilever mount for rotating cylindrical magnetrons
US5100527A (en) * 1990-10-18 1992-03-31 Viratec Thin Films, Inc. Rotating magnetron incorporating a removable cathode
US5106474A (en) * 1990-11-21 1992-04-21 Viratec Thin Films, Inc. Anode structures for magnetron sputtering apparatus
WO1992018663A1 (en) * 1991-04-19 1992-10-29 Surface Solutions, Incorporated Method and apparatus for linear magnetron sputtering
US5262032A (en) * 1991-05-28 1993-11-16 Leybold Aktiengesellschaft Sputtering apparatus with rotating target and target cooling
US5567289A (en) * 1993-12-30 1996-10-22 Viratec Thin Films, Inc. Rotating floating magnetron dark-space shield and cone end
US5620577A (en) * 1993-12-30 1997-04-15 Viratec Thin Films, Inc. Spring-loaded mount for a rotatable sputtering cathode
US5571393A (en) * 1994-08-24 1996-11-05 Viratec Thin Films, Inc. Magnet housing for a sputtering cathode
US5445721A (en) * 1994-08-25 1995-08-29 The Boc Group, Inc. Rotatable magnetron including a replacement target structure
US5518592A (en) * 1994-08-25 1996-05-21 The Boc Group, Inc. Seal cartridge for a rotatable magnetron
TW347369B (en) * 1996-12-17 1998-12-11 Asahi Glass Co Ltd Organic substrate provided with a light absorptive antireflection film and process for production
WO2000028104A1 (en) 1998-11-06 2000-05-18 Scivac Sputtering apparatus and process for high rate coatings
US6488824B1 (en) 1998-11-06 2002-12-03 Raycom Technologies, Inc. Sputtering apparatus and process for high rate coatings
US6436252B1 (en) 2000-04-07 2002-08-20 Surface Engineered Products Corp. Method and apparatus for magnetron sputtering
DE10102493B4 (de) 2001-01-19 2007-07-12 W.C. Heraeus Gmbh Rohrförmiges Target und Verfahren zur Herstellung eines solchen Targets
WO2002086185A1 (en) 2001-04-20 2002-10-31 Applied Process Technologies Penning discharge plasma source
US7294283B2 (en) * 2001-04-20 2007-11-13 Applied Process Technologies, Inc. Penning discharge plasma source
US7399385B2 (en) * 2001-06-14 2008-07-15 Tru Vue, Inc. Alternating current rotatable sputter cathode
DE10145201C1 (de) * 2001-09-13 2002-11-21 Fraunhofer Ges Forschung Einrichtung zum Beschichten von Substraten mit gekrümmter Oberfläche durch Pulsmagnetron-Zerstäuben
BR0105474A (pt) * 2001-09-26 2003-09-23 Fundacao De Amparo A Pesquisa Processo de deposição de filme de carbono amorfo hidrogenado, filme de carbono amorfo hidrogenado e artigo revestido com filme de carbono amorfo hidrogenado
US20030173217A1 (en) * 2002-03-14 2003-09-18 Sputtering Components, Inc. High-power ion sputtering magnetron
US20040074770A1 (en) * 2002-07-02 2004-04-22 George Wityak Rotary target
US20050276381A1 (en) * 2003-07-02 2005-12-15 Academy Corporation Rotary target locking ring assembly
WO2005028697A1 (en) * 2003-09-12 2005-03-31 Applied Process Technologies, Inc. Magnetic mirror plasma source and method using same
US20050224343A1 (en) * 2004-04-08 2005-10-13 Richard Newcomb Power coupling for high-power sputtering
US20060049043A1 (en) * 2004-08-17 2006-03-09 Matuska Neal W Magnetron assembly
US20060065524A1 (en) * 2004-09-30 2006-03-30 Richard Newcomb Non-bonded rotatable targets for sputtering
EP1799876B1 (en) * 2004-10-18 2009-02-18 Bekaert Advanced Coatings Flat end-block for carrying a rotatable sputtering target
US20060096855A1 (en) * 2004-11-05 2006-05-11 Richard Newcomb Cathode arrangement for atomizing a rotatable target pipe
WO2006094905A1 (en) * 2005-03-11 2006-09-14 Bekaert Advanced Coatings Single, right-angled end-block
US20060260938A1 (en) * 2005-05-20 2006-11-23 Petrach Philip M Module for Coating System and Associated Technology
US20060278521A1 (en) * 2005-06-14 2006-12-14 Stowell Michael W System and method for controlling ion density and energy using modulated power signals
US20060278524A1 (en) * 2005-06-14 2006-12-14 Stowell Michael W System and method for modulating power signals to control sputtering
ATE415503T1 (de) * 2005-08-10 2008-12-15 Applied Materials Gmbh & Co Kg Vakuumbeschichtungsanlage mit motorisch angetriebener drehkathode
US20070095281A1 (en) * 2005-11-01 2007-05-03 Stowell Michael W System and method for power function ramping of microwave liner discharge sources
US7842355B2 (en) * 2005-11-01 2010-11-30 Applied Materials, Inc. System and method for modulation of power and power related functions of PECVD discharge sources to achieve new film properties
US8273222B2 (en) * 2006-05-16 2012-09-25 Southwest Research Institute Apparatus and method for RF plasma enhanced magnetron sputter deposition
KR20090029213A (ko) * 2006-06-19 2009-03-20 베카에르트 어드벤스드 코팅스 스퍼터링 장치의 엔드-블록용 삽입편
US8277617B2 (en) * 2007-08-14 2012-10-02 Southwest Research Institute Conformal magnetron sputter deposition
DE102008018609B4 (de) * 2008-04-11 2012-01-19 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Antriebsendblock für ein rotierendes Magnetron
US8182662B2 (en) * 2009-03-27 2012-05-22 Sputtering Components, Inc. Rotary cathode for magnetron sputtering apparatus
JP5730888B2 (ja) 2009-10-26 2015-06-10 ジェネラル・プラズマ・インコーポレーテッド ロータリーマグネトロンマグネットバー、およびこれを含む高いターゲット利用のための装置
US8747631B2 (en) * 2010-03-15 2014-06-10 Southwest Research Institute Apparatus and method utilizing a double glow discharge plasma for sputter cleaning
US8398834B2 (en) 2010-04-02 2013-03-19 NuvoSun, Inc. Target utilization improvement for rotatable magnetrons
WO2013083205A1 (en) * 2011-12-09 2013-06-13 Applied Materials, Inc. Rotatable sputter target
GB201200574D0 (en) * 2012-01-13 2012-02-29 Gencoa Ltd In-vacuum rotational device
CN103074587B (zh) * 2013-02-01 2014-10-15 湘潭宏大真空技术股份有限公司 大面积连续磁控溅射镀膜均匀性调整装置及调整方法
DE102021129523A1 (de) 2021-11-12 2023-05-17 VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG Magnetsystem, Sputtervorrichtung und Gehäusedeckel

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2139313C3 (de) * 1971-08-05 1975-09-11 Inst Fiz An Gssr Vorrichtung zum Autbringen von homogenen, dünnen Schichten auf Werkstücke
US4362632A (en) * 1974-08-02 1982-12-07 Lfe Corporation Gas discharge apparatus
JPS51117933A (en) * 1975-04-10 1976-10-16 Tokuda Seisakusho Spattering apparatus
ATE10512T1 (de) * 1980-08-08 1984-12-15 Battelle Development Corporation Vorrichtung zur beschichtung von substraten mittels hochleistungskathodenzerstaeubung sowie zerstaeuberkathode fuer diese vorrichtung.
US4290877A (en) * 1980-09-08 1981-09-22 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Interior Sputtering apparatus for coating elongated tubes and strips
US4356073A (en) * 1981-02-12 1982-10-26 Shatterproof Glass Corporation Magnetron cathode sputtering apparatus
US4376025A (en) * 1982-06-14 1983-03-08 Battelle Development Corporation Cylindrical cathode for magnetically-enhanced sputtering

Also Published As

Publication number Publication date
EP0152472A1 (en) 1985-08-28
BR8407018A (pt) 1985-07-30
US4445997A (en) 1984-05-01
WO1985000925A1 (en) 1985-02-28
JPS61500025A (ja) 1986-01-09
CA1221335A (en) 1987-05-05
AU3390784A (en) 1985-03-12
AU574723B2 (en) 1988-07-14
FI851516L (fi) 1985-04-16
DK170685D0 (da) 1985-04-16
DK170685A (da) 1985-04-16
FI851516A0 (fi) 1985-04-16
FI79917B (fi) 1989-11-30
FI79917C (fi) 1990-03-12
HUT37294A (en) 1985-11-28
HU196011B (en) 1988-08-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NO851458L (no) Roterbart paasprutingsapparat
JPH0232684Y2 (no)
US20060000705A1 (en) Cylindrical target with oscillating magnet for magnetron sputtering
US20160273102A1 (en) Tape-substrate coating line having a magnetron arrangement
GB9814405D0 (en) Cooling apparatus
CN104294232A (zh) 离子溅射镀膜机
KR20050121637A (ko) 피복공정용 스퍼터링 음극
JP2008533297A (ja) 単一の直角エンドブロック
CN110128022B (zh) 一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置
CN201614407U (zh) 真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶
JP5467173B1 (ja) スパッタリング成膜装置及び真空成膜設備
GB1318141A (en) Sputtering apparatus
JP5764467B2 (ja) スパッタ装置、ターゲット装置
CN107779826A (zh) 电弧离子镀膜设备
CN108193180B (zh) 旋转靶材制备设备
US5338913A (en) Electron beam gun with liquid cooled rotatable crucible
CN207347652U (zh) 阴极弧靶装置及真空多弧离子镀膜机
CN210287144U (zh) 一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置
CN111389798B (zh) 用于大尺寸光电倍增管异形玻璃壳的自动清洗装置
KR101924739B1 (ko) 진공 코팅 설비에서 에너지를 절감하는 동시에 이송 속도를 증가시키기 위한 방법 및 장치
ES2200203T3 (es) Procedimiento y dispositivo para la formacion de un revestimiento sobre un substrato por pulverizacion catodica.
CN203668497U (zh) 用于非晶硒薄膜的蒸发镀膜机
RU130224U1 (ru) Свч-стерилизатор
FR2913485B1 (fr) Dispositif de chauffage et de rafraichissement par tube caloporteur et procede d&#39;installation
PE499A1 (es) Metodo y dispositivo para el calentamiento, pasteurizacion y esterilizacion de liquidos