NO851458L - Roterbart paasprutingsapparat - Google Patents
Roterbart paasprutingsapparatInfo
- Publication number
- NO851458L NO851458L NO851458A NO851458A NO851458L NO 851458 L NO851458 L NO 851458L NO 851458 A NO851458 A NO 851458A NO 851458 A NO851458 A NO 851458A NO 851458 L NO851458 L NO 851458L
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- tubular part
- accordance
- cathode
- spray
- tubular
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 23
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 5
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
- H01J37/3405—Magnetron sputtering
Description
Oppfinnelsens bakgrunn
Den foreliggende oppfinnelse har i hovedtrekk befatning med magnetronkatode-påsprutingsapparater og vedrører, nærmere bestemt, en forbedret, roterbar katodekonstruksjon.
US-patentskrift 4.356.073 beskriver en roterbar magnetronkatode som er bestemt for å fungere i et lufttrykkminskende beleggpåføringskammer og som omfatter en langstrakt, sylindrisk og rørformet del som over hele sin lengde har stort sett uforan-dret diameter og er utstyrt med et lag av det belegningsmateriale som skal påsprutes forbipasserende, stort sett plane underlagsmaterialer .
Den foreliggende oppfinnelse vedrører en roterbar magnetronkatode av betydelig endret type hvor den langstrakte, rør-formete del er aksialt profilert for påspruting av belegg på ikke-plane underlagsmaterialer av form som stort sett overens-stemmer med konturen av den rørformete del.
Et annet formål med oppfinnelsen er å frembringe en roterbar magnetronkatode hvor den langstrakte, rørformete del er utstyrt med en langsgående, bueformet spruteflate for påføring av belegg på underlagsflater av stort sett samme kurvatur.
Et annet formål med oppfinnelsen er å frembringe en roterbar magnetronkatode av stort sett tønneliknende form, hvor midt-partiet er bredere enn endepartiene.
Et ytterligere formål med oppfinnelsen er å frembringe en roterbar magnetronkatode av ikke-sylindrisk profilform og egnet for anvendelse ved påspruting av belegg på bøyde eller bueformete flatepartier.
Sammenfatning av oppfinnelsen
Det er beskrevet en sprutekatode som er bestemt for påspruting av belegg på ikke-plane underlagsmaterialer, og som omfatter en dreibar, langstrakt og rørformet del hvis ytterflate er påført et lag av belegningsmaterialet som skal påsprutes, og som kjennetegnes ved at den rørformete del er profilert i langsgående<e1>r^r^opprettelse av en ikke-sylindrisk spruteflate.
Videre er det beskrevet et magnetronkatode-påsprutingsapparat som omfatter et lufttrykkminskende beleggpåføringskammer og som kjennetegnes ved at katoden av den ovennevnte type er innmontert i påsprutingsapparatet hvor det i den rørformete del er anordnet magnetiske midler, og at apparatet er utstyrt med midler for dreining av den rørformete del om dens lengdeakse og midler for fremføring av underlagsmaterialene som skal belegges, i en retning vinkelrett mot lengdeaksen for den rørformete del.
Kort beskrivelse av tegningene
Oppfinnelsen er nærmere beskrevet i det etterfølgende under henvisning til de medfølgende tegninger, hvor: Fig. 1 viser et vertikalt lengdesnitt av et beleggpå-føringskammer hvori det er innmontert en dreibar magnetronkatode ifølge den foreliggende oppfinnelse. Fig. 2 viser et vertikalsnitt stort sett langs linjen 2-2 i fig. 1. Fig. 3 viser et vertikalsnitt stort sett langs linjen 3-3 i fig. 1. Fig. 4 viser et vertikalsnitt stort sett langs linjen 4-4 i fig. 1.
Beskrivelse av en foretrukket utførelsesform
Det er på tegningene vist et lufttrykkminskende belegg-påf øringskammer 10 med en innmontert, dreibar magnetronkatode 11 ifølge oppfinnelsen.
Beleggpåføringskammeret 10 som fortrinnsvis er rektangu-lært, består av en undervegg 12, en overvegg 13, motsatt belig-gende endevegger 14 og 15 og sidevegger (ikke vist), hvor samt-lige vegger er tettsluttende forbundet med hverandre, for opprettelse av et hermetisk forseglet kammer.
Katoden 11 omfatter en langstrakt, rørformet del 16 som er aksialt profilert for beleggpåspruting av ikke-plane underlagsmaterialer S. Som det fremgår av tegningene, er den rørformete del av stort sett tønneliknende fasong, med et relativt bredt midtparti 17 som går over i avsmalnende endepartier 18 og 19. Et belegg 20 av et utvalgt materiale som skal påsprutes, er anbrakt på yttersiden av den rørformete del.
Ved hjelp av en vakuumpumpe 21 kan luften i beleggpå- føringskammeret 10 utpumpes til ønsket trykk. Dersom det er ønskelig å injisere gasser i kammeret, kan dette foregå gjennom en ledning 22 under styring av en ventil 23.
Den rørformete del 16 er ved sine motsatte endepartier horisontalt opplagret ved hjelp av flenser 24 og 25 som er utformet i ett med aksler henholdsvis 26 og 27. Den rørformete del kan være fastgjort til flensene 24 og 25 ved hjelp av skruer henholdsvis 28 og 29. Akslene 26 og 27 opptas dreibart i lager-blokker henholdsvis 30 og 31 som er fastgjort med skruer 20a til overveggen 13 av beleggpåføringskammeret. Lagerblokkene 30 og 31 fastholdes atskilt fra beleggpåføringskammerets overvegg 13 ved hjelp av strimler av isolasjonsmateriale henholdsvis 32 og 33.
Åpningene i lagerblokkene 30 og 31 har litt større diameter enn de tilhørende aksler 26 og 27, for opprettelse av relativt grunne, ringformete kanaler henholdsvis 34 og 35 som omgir akslene. De ringformete kanaler 34 og 35 er lukket på sine motsatte sider med lagerpakninger 36 og 37 som også tjener for sentrering av akslene i lagerblokkåpningene. Isolerende brikker 40 og 41 er anordnet mellom flensene 24 og 25 på akslene 26 og 27 og lagerblokkene henholdsvis 30 og 31, for å forhindre at kjøle-medium som fremføres til den rørformete del, inntrenger i belegg-påf øringskammeret .
Akselen 25 er utstyrt med et par horisontale rør 42 og 43 som utgår fra den ringformete kanal 34 og står i forbindelse med den rørformete del 11. Et kort, vertikalt rør 44 i lagerblokken 30 fører fra kanalen 34 til en innløpsledning 45 som er innskrudd i lagerblokken. Gjennom ledningen 45 og røret 44 innføres et kjølemedium, såsom vann, i kanalen 34 hvorfra det, gjennom rørene 42 og 43, innstrømmer i den rørformete del. Kjølemediet sirku-lerer gjennom den rørformete del og utstrømmer fra den motsatte ende av denne, gjennom horisontale rør 46 og 47 i akselen 27, inn i kanalen 35 og videre, gjennom et vertikalt rør 48 i lagerblokken 31, til en utløpsledning 49.
Den rørformete del 11 drives fra den ene ende ved hjelp av en motor 50 som er montert på beleggpåføringskammerets overvegg 13 og som gjennom en isolert kopling 51 er forbundet med en ver-tikal aksel 52 med en påkilt snekke 53 som står i inngrep med et snekkedrev 54 som er fastgjort på den tilknyttede aksel 26.
De magnetiske midler 55 omfatter en gruppe U-formete permanentmagneter 56 som er anordnet i to rette, parallelle rekker A og B (fig. 4) som strekker seg i langsgående retning i det nedre parti av den rørformete del. Magneten i hver rekke flukter inn-byrdes, og magnetene i den ene rekke er plassert vekselvis og overlappende med magnetene i den annen rekke. Videre er magnetene i de to rekker A og B plasser i en vinkel i forhold til hverandre, som vist i fig. 4. De ytre ben 57 av magnetene 56 i hver magnetrekke ligger an mot en langsgående, relativt smal strimmel 58 av et egnet, magnetisk materiale, mens magnetenes innerben 59 ligger an mot en tilsvarende, magnetisk strimmel 60 som forløper parallelt med strimlene 58.
Permanentmagneten er fastgjort til de magnetiske strimler 58 og 60 som er profilert i langsgående retning i motsvarighet til den rørformete dels aksialkurvatur, og undersidene 63 er utformet i overensstemmelse med den tversgående kurvatur av den rørformete dels innervegg.
De U-formete magneter 56 er fortrinnsvis slik plassert at magnetenes nordpoler ligger an mot den magnetiske strimmel 60. Det bør imidlertid bemerkes, at de U-formete magneter kan erstat-tes av permanentmagneter av andre typer eller også av elektro-magneter.
Magnetene 56 er anbrakt tett ved den rørformete dels innervegg og er opphengt i stropper 65 på en horisontal stang 64 hvis motsatte endepartier er innført i lagerblokkene 26 og 27.
Som tidligere omtalt er oversidene av de underlagsmaterialer S som skal belegges, utformet stort sett i motsvarighet til lengdekonturen av den rørformete del 11. Underlagsmaterialene understøttes horisontalt og fremføres forbi den rørformete del, ved hjelp av egnete transporteringsmidler, f.eks. ruller 66 og 67 som er fastkilt på aksler som er opplagret i lagerbukker 69 og 70 på beleggpåføringskammerets undervegg, for å motta belegningsmaterialet som påsprutes fra den rørformete del.
En katodespenning som er tilstrekkelig til å fremkalle sprutevirkning, overføres til den rørformete del 16 fra en like-strømkilde (ikke vist) og gjennom en kraftledning 71 som er forbundet med en elektrisk kontakt 72 som ligger glidbart an mot den rørformete del. Apparatet kan jordes på hensiktsmessig måte.
Det er åpenbart at endringer og modifiseringer vil kunne foretas innenfor rammen av de etterfølgende krav.
Claims (11)
1. Sprutekatode for påspruting av belegg på ikke-plane underlagsmaterialer5, og omfattende en dreibar, langstrakt og rørformet del^hvis ytterflate er påført et lag av belegningsmaterialet^som skal påsprutes, karakterisert ved at den rør-formete delder profilert i langsgående retning, for opprettelse av en ikke-sylindrisk spruteflate. •
2. Sprutekatode i samsvar med krav 1, karakterisert ved at den rørformete delder av stort sett tønne-liknende fasong.
3. Sprutekatode i samsvar med krav 1, karakterisert ved at den rørformete delder av ikke-sylindrisk profilform.
4. Sprutekatode i samsvar med krav 1, karakterisert ved at den rørformete del^har varierende diameter i langsgående retning.
5. Sprutekatode i samsvar med krav 1, karakterisert ved magnetiske midler som er innmontert i den rørformete del.^6
6. Sprutekatode i samsvar med krav 5, karakterisert ved at de magnetiske midler er anordnet i den rørformete dels lengderetning og er profilert i motsvarighet til delens konturform. H,^!^
7. Magnetronkatode-påsprutingsapparat med et lufttrykkminskende beleggpåo føringskammeri , o karakterisert ved at katoden i samsvar med krav 1 er anbrakt i påsprutingsapparatet hvor magnetiske midler^er innmontert i den rørformete del, og at det er anordnet midler for dreining av den rørformete del om dens lengdeakse, og midler for fremføring av underlagsmaterialene som skal belegges, i en retning vinkelrett mot lengdeaksen for den rørformete del.
8. Magnetronkatode-påsprutingsapparat i samsvar med krav 7, karakterisert ved at den rørformete del er av stort sett tønneliknende fasong.
9. Magnetronkatode-påsprutingsapparat i samsvar med krav 7, karakterisert ved at den rørformete del har ikke-sylindrisk profilform.
10. Magnetronkatode-påsprutingsapparat i samsvar med krav 7, karakterisert ved at den rørformete dels diameter varierer langs delen.
11. Magnetronkatode-påsprutingsapparat i samsvar med krav 7, karakterisert ved at de magnetiske midler er anordnet i den rørformete dels lengderetning og er profilert i motsvarighet til konturformen av den rørformete del.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/523,969 US4445997A (en) | 1983-08-17 | 1983-08-17 | Rotatable sputtering apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO851458L true NO851458L (no) | 1985-04-12 |
Family
ID=24087180
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO851458A NO851458L (no) | 1983-08-17 | 1985-04-12 | Roterbart paasprutingsapparat |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4445997A (no) |
EP (1) | EP0152472A1 (no) |
JP (1) | JPS61500025A (no) |
AU (1) | AU574723B2 (no) |
BR (1) | BR8407018A (no) |
CA (1) | CA1221335A (no) |
DK (1) | DK170685A (no) |
FI (1) | FI79917C (no) |
HU (1) | HU196011B (no) |
NO (1) | NO851458L (no) |
WO (1) | WO1985000925A1 (no) |
Families Citing this family (52)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5096562A (en) * | 1989-11-08 | 1992-03-17 | The Boc Group, Inc. | Rotating cylindrical magnetron structure for large area coating |
US5047131A (en) * | 1989-11-08 | 1991-09-10 | The Boc Group, Inc. | Method for coating substrates with silicon based compounds |
BE1003701A3 (fr) * | 1990-06-08 | 1992-05-26 | Saint Roch Glaceries | Cathode rotative. |
WO1992002659A1 (en) * | 1990-08-10 | 1992-02-20 | Viratec Thin Films, Inc. | Shielding for arc suppression in rotating magnetron sputtering systems |
US5200049A (en) * | 1990-08-10 | 1993-04-06 | Viratec Thin Films, Inc. | Cantilever mount for rotating cylindrical magnetrons |
US5100527A (en) * | 1990-10-18 | 1992-03-31 | Viratec Thin Films, Inc. | Rotating magnetron incorporating a removable cathode |
US5106474A (en) * | 1990-11-21 | 1992-04-21 | Viratec Thin Films, Inc. | Anode structures for magnetron sputtering apparatus |
WO1992018663A1 (en) * | 1991-04-19 | 1992-10-29 | Surface Solutions, Incorporated | Method and apparatus for linear magnetron sputtering |
US5262032A (en) * | 1991-05-28 | 1993-11-16 | Leybold Aktiengesellschaft | Sputtering apparatus with rotating target and target cooling |
US5567289A (en) * | 1993-12-30 | 1996-10-22 | Viratec Thin Films, Inc. | Rotating floating magnetron dark-space shield and cone end |
US5620577A (en) * | 1993-12-30 | 1997-04-15 | Viratec Thin Films, Inc. | Spring-loaded mount for a rotatable sputtering cathode |
US5571393A (en) * | 1994-08-24 | 1996-11-05 | Viratec Thin Films, Inc. | Magnet housing for a sputtering cathode |
US5445721A (en) * | 1994-08-25 | 1995-08-29 | The Boc Group, Inc. | Rotatable magnetron including a replacement target structure |
US5518592A (en) * | 1994-08-25 | 1996-05-21 | The Boc Group, Inc. | Seal cartridge for a rotatable magnetron |
TW347369B (en) * | 1996-12-17 | 1998-12-11 | Asahi Glass Co Ltd | Organic substrate provided with a light absorptive antireflection film and process for production |
WO2000028104A1 (en) | 1998-11-06 | 2000-05-18 | Scivac | Sputtering apparatus and process for high rate coatings |
US6488824B1 (en) | 1998-11-06 | 2002-12-03 | Raycom Technologies, Inc. | Sputtering apparatus and process for high rate coatings |
US6436252B1 (en) | 2000-04-07 | 2002-08-20 | Surface Engineered Products Corp. | Method and apparatus for magnetron sputtering |
DE10102493B4 (de) | 2001-01-19 | 2007-07-12 | W.C. Heraeus Gmbh | Rohrförmiges Target und Verfahren zur Herstellung eines solchen Targets |
WO2002086185A1 (en) | 2001-04-20 | 2002-10-31 | Applied Process Technologies | Penning discharge plasma source |
US7294283B2 (en) * | 2001-04-20 | 2007-11-13 | Applied Process Technologies, Inc. | Penning discharge plasma source |
US7399385B2 (en) * | 2001-06-14 | 2008-07-15 | Tru Vue, Inc. | Alternating current rotatable sputter cathode |
DE10145201C1 (de) * | 2001-09-13 | 2002-11-21 | Fraunhofer Ges Forschung | Einrichtung zum Beschichten von Substraten mit gekrümmter Oberfläche durch Pulsmagnetron-Zerstäuben |
BR0105474A (pt) * | 2001-09-26 | 2003-09-23 | Fundacao De Amparo A Pesquisa | Processo de deposição de filme de carbono amorfo hidrogenado, filme de carbono amorfo hidrogenado e artigo revestido com filme de carbono amorfo hidrogenado |
US20030173217A1 (en) * | 2002-03-14 | 2003-09-18 | Sputtering Components, Inc. | High-power ion sputtering magnetron |
US20040074770A1 (en) * | 2002-07-02 | 2004-04-22 | George Wityak | Rotary target |
US20050276381A1 (en) * | 2003-07-02 | 2005-12-15 | Academy Corporation | Rotary target locking ring assembly |
WO2005028697A1 (en) * | 2003-09-12 | 2005-03-31 | Applied Process Technologies, Inc. | Magnetic mirror plasma source and method using same |
US20050224343A1 (en) * | 2004-04-08 | 2005-10-13 | Richard Newcomb | Power coupling for high-power sputtering |
US20060049043A1 (en) * | 2004-08-17 | 2006-03-09 | Matuska Neal W | Magnetron assembly |
US20060065524A1 (en) * | 2004-09-30 | 2006-03-30 | Richard Newcomb | Non-bonded rotatable targets for sputtering |
EP1799876B1 (en) * | 2004-10-18 | 2009-02-18 | Bekaert Advanced Coatings | Flat end-block for carrying a rotatable sputtering target |
US20060096855A1 (en) * | 2004-11-05 | 2006-05-11 | Richard Newcomb | Cathode arrangement for atomizing a rotatable target pipe |
WO2006094905A1 (en) * | 2005-03-11 | 2006-09-14 | Bekaert Advanced Coatings | Single, right-angled end-block |
US20060260938A1 (en) * | 2005-05-20 | 2006-11-23 | Petrach Philip M | Module for Coating System and Associated Technology |
US20060278521A1 (en) * | 2005-06-14 | 2006-12-14 | Stowell Michael W | System and method for controlling ion density and energy using modulated power signals |
US20060278524A1 (en) * | 2005-06-14 | 2006-12-14 | Stowell Michael W | System and method for modulating power signals to control sputtering |
ATE415503T1 (de) * | 2005-08-10 | 2008-12-15 | Applied Materials Gmbh & Co Kg | Vakuumbeschichtungsanlage mit motorisch angetriebener drehkathode |
US20070095281A1 (en) * | 2005-11-01 | 2007-05-03 | Stowell Michael W | System and method for power function ramping of microwave liner discharge sources |
US7842355B2 (en) * | 2005-11-01 | 2010-11-30 | Applied Materials, Inc. | System and method for modulation of power and power related functions of PECVD discharge sources to achieve new film properties |
US8273222B2 (en) * | 2006-05-16 | 2012-09-25 | Southwest Research Institute | Apparatus and method for RF plasma enhanced magnetron sputter deposition |
KR20090029213A (ko) * | 2006-06-19 | 2009-03-20 | 베카에르트 어드벤스드 코팅스 | 스퍼터링 장치의 엔드-블록용 삽입편 |
US8277617B2 (en) * | 2007-08-14 | 2012-10-02 | Southwest Research Institute | Conformal magnetron sputter deposition |
DE102008018609B4 (de) * | 2008-04-11 | 2012-01-19 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Antriebsendblock für ein rotierendes Magnetron |
US8182662B2 (en) * | 2009-03-27 | 2012-05-22 | Sputtering Components, Inc. | Rotary cathode for magnetron sputtering apparatus |
JP5730888B2 (ja) | 2009-10-26 | 2015-06-10 | ジェネラル・プラズマ・インコーポレーテッド | ロータリーマグネトロンマグネットバー、およびこれを含む高いターゲット利用のための装置 |
US8747631B2 (en) * | 2010-03-15 | 2014-06-10 | Southwest Research Institute | Apparatus and method utilizing a double glow discharge plasma for sputter cleaning |
US8398834B2 (en) | 2010-04-02 | 2013-03-19 | NuvoSun, Inc. | Target utilization improvement for rotatable magnetrons |
WO2013083205A1 (en) * | 2011-12-09 | 2013-06-13 | Applied Materials, Inc. | Rotatable sputter target |
GB201200574D0 (en) * | 2012-01-13 | 2012-02-29 | Gencoa Ltd | In-vacuum rotational device |
CN103074587B (zh) * | 2013-02-01 | 2014-10-15 | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 | 大面积连续磁控溅射镀膜均匀性调整装置及调整方法 |
DE102021129523A1 (de) | 2021-11-12 | 2023-05-17 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Magnetsystem, Sputtervorrichtung und Gehäusedeckel |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2139313C3 (de) * | 1971-08-05 | 1975-09-11 | Inst Fiz An Gssr | Vorrichtung zum Autbringen von homogenen, dünnen Schichten auf Werkstücke |
US4362632A (en) * | 1974-08-02 | 1982-12-07 | Lfe Corporation | Gas discharge apparatus |
JPS51117933A (en) * | 1975-04-10 | 1976-10-16 | Tokuda Seisakusho | Spattering apparatus |
ATE10512T1 (de) * | 1980-08-08 | 1984-12-15 | Battelle Development Corporation | Vorrichtung zur beschichtung von substraten mittels hochleistungskathodenzerstaeubung sowie zerstaeuberkathode fuer diese vorrichtung. |
US4290877A (en) * | 1980-09-08 | 1981-09-22 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Interior | Sputtering apparatus for coating elongated tubes and strips |
US4356073A (en) * | 1981-02-12 | 1982-10-26 | Shatterproof Glass Corporation | Magnetron cathode sputtering apparatus |
US4376025A (en) * | 1982-06-14 | 1983-03-08 | Battelle Development Corporation | Cylindrical cathode for magnetically-enhanced sputtering |
-
1983
- 1983-08-17 US US06/523,969 patent/US4445997A/en not_active Expired - Lifetime
-
1984
- 1984-08-02 CA CA000460255A patent/CA1221335A/en not_active Expired
- 1984-08-15 BR BR8407018A patent/BR8407018A/pt not_active IP Right Cessation
- 1984-08-15 EP EP84903242A patent/EP0152472A1/en active Pending
- 1984-08-15 AU AU33907/84A patent/AU574723B2/en not_active Ceased
- 1984-08-15 JP JP59503242A patent/JPS61500025A/ja active Pending
- 1984-08-15 WO PCT/US1984/001299 patent/WO1985000925A1/en active IP Right Grant
- 1984-08-15 HU HU843554A patent/HU196011B/hu not_active IP Right Cessation
-
1985
- 1985-04-12 NO NO851458A patent/NO851458L/no unknown
- 1985-04-16 FI FI851516A patent/FI79917C/fi not_active IP Right Cessation
- 1985-04-16 DK DK170685A patent/DK170685A/da not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0152472A1 (en) | 1985-08-28 |
BR8407018A (pt) | 1985-07-30 |
US4445997A (en) | 1984-05-01 |
WO1985000925A1 (en) | 1985-02-28 |
JPS61500025A (ja) | 1986-01-09 |
CA1221335A (en) | 1987-05-05 |
AU3390784A (en) | 1985-03-12 |
AU574723B2 (en) | 1988-07-14 |
FI851516L (fi) | 1985-04-16 |
DK170685D0 (da) | 1985-04-16 |
DK170685A (da) | 1985-04-16 |
FI851516A0 (fi) | 1985-04-16 |
FI79917B (fi) | 1989-11-30 |
FI79917C (fi) | 1990-03-12 |
HUT37294A (en) | 1985-11-28 |
HU196011B (en) | 1988-08-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NO851458L (no) | Roterbart paasprutingsapparat | |
JPH0232684Y2 (no) | ||
US20060000705A1 (en) | Cylindrical target with oscillating magnet for magnetron sputtering | |
US20160273102A1 (en) | Tape-substrate coating line having a magnetron arrangement | |
GB9814405D0 (en) | Cooling apparatus | |
CN104294232A (zh) | 离子溅射镀膜机 | |
KR20050121637A (ko) | 피복공정용 스퍼터링 음극 | |
JP2008533297A (ja) | 単一の直角エンドブロック | |
CN110128022B (zh) | 一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置 | |
CN201614407U (zh) | 真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶 | |
JP5467173B1 (ja) | スパッタリング成膜装置及び真空成膜設備 | |
GB1318141A (en) | Sputtering apparatus | |
JP5764467B2 (ja) | スパッタ装置、ターゲット装置 | |
CN107779826A (zh) | 电弧离子镀膜设备 | |
CN108193180B (zh) | 旋转靶材制备设备 | |
US5338913A (en) | Electron beam gun with liquid cooled rotatable crucible | |
CN207347652U (zh) | 阴极弧靶装置及真空多弧离子镀膜机 | |
CN210287144U (zh) | 一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置 | |
CN111389798B (zh) | 用于大尺寸光电倍增管异形玻璃壳的自动清洗装置 | |
KR101924739B1 (ko) | 진공 코팅 설비에서 에너지를 절감하는 동시에 이송 속도를 증가시키기 위한 방법 및 장치 | |
ES2200203T3 (es) | Procedimiento y dispositivo para la formacion de un revestimiento sobre un substrato por pulverizacion catodica. | |
CN203668497U (zh) | 用于非晶硒薄膜的蒸发镀膜机 | |
RU130224U1 (ru) | Свч-стерилизатор | |
FR2913485B1 (fr) | Dispositif de chauffage et de rafraichissement par tube caloporteur et procede d'installation | |
PE499A1 (es) | Metodo y dispositivo para el calentamiento, pasteurizacion y esterilizacion de liquidos |