CN201614407U

CN201614407U - 真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶

Info

Publication number: CN201614407U
Application number: CN2009202985089U
Authority: CN
Inventors: 甘国工
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 2009-12-25
Filing date: 2009-12-25
Publication date: 2010-10-27
Anticipated expiration: 2019-12-25

Abstract

本实用新型提供了一种真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，包括旋转靶管，位于旋转靶管内的带冷却水通道的磁钢组件，电源引入电极，装于旋转靶管至少一端上的旋转靶用端头，位于旋转靶用端头中的支撑轴承，其特征是旋转靶用端头中有与磁钢组件中冷却水通道相通的旋转空心轴，磁流体密封件套在旋转空心轴上并与旋转空心轴紧密贴合，旋转空心轴上有与旋转靶管连接的卡端。本实用新型旋转靶磁控溅射面积大，端头封水、封气效果好，冷却水通过旋转空心轴直接对磁流体密封件进行冷却，冷却效果好。

Description

真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶

技术领域：

本实用新型与真空镀膜旋转靶有关，特别与采用磁流体密封的真空镀膜磁控溅射旋转靶有关。

背景技术：

已有的真空镀膜磁控溅射旋转靶端头密封采用的是普通的橡胶密封圈或迷宫型密封圈，由于真空镀膜磁控溅射旋转靶工作时所用功率很大，电流也很大，发热量也很大，对旋转靶用端头中的密封件损伤很大，大大地降低了密封件的密封效果和密封件的使用寿命，增加了真空镀膜生产线停机检修时间，增加了生产成本。

实用新型内容：

本实用新型的目的是为了克服以上不足，提供一种密封效果好和密封件的使用寿命长、对密封件冷却效果好、制造容易、生产成本低的真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶。

本实用新型的目的是这样来实现的：

本实用新型真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，包括旋转靶管，位于旋转靶管内的带冷却水通道的磁钢组件，电源引入电极，装于旋转靶管至少一端上的旋转靶用端头，位于旋转靶用端头中的支撑轴承，其特征是旋转靶用端头中有与磁钢组件中冷却水通道相通的旋转空心轴，磁流体密封件套在旋转空心轴上并与旋转空心轴紧密贴合，旋转空心轴上有与旋转靶管连接的卡端。将磁流体密封件引入旋转靶用端头中，并将磁流体密封件套在旋转空心轴上并与旋转空心轴紧密贴合，使通过空心轴的冷却水直接对磁流体密封件冷却，不但密封效果好，而且冷却效果好，提高了磁流体密封件的使用寿命。

上述的真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，采用内表面复合有粘结剂的热收缩膜将磁钢组件表面全包覆。磁钢组件包括磁钢、磁钢座、冷却水管长期泡在冷却水中，由于磁场、电流等作用，产生电腐蚀，大大的缩短了磁钢组件的使用寿命，已有的技术方案是用不锈钢管或套将磁钢组件包覆，占用空间大且增加了磁钢组件重量，由于密封不严防腐效果也不好，而采用热收缩膜，可将磁钢组件表面紧密全包覆，隔气、隔水，结构紧凑，重量轻，防腐效果很好。

上述的真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，旋转靶两端均有旋转靶用端头，其中一个旋转靶用端头中有冷却水入口接口，另一个旋转靶用端头中有冷却水出口接口和电源引入电极。对于大面积的玻璃或薄膜进行真空磁控溅射镀膜，旋转靶很长，两端均有旋转靶用端头作支撑，刚性好，密封效果好。

上述的真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，旋转靶一端为旋转靶用端头，端头中有冷却水入口接口、冷却水出口接口和电源引入电极。

上述的旋转靶另一端悬空布置或用支架或轴承支撑。旋转靶一端有旋转靶用端头，另一端悬空布置，可用在小面积的玻璃或薄膜进行真空磁控溅射镀膜，简化结构，降低成本。

上述的真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，支撑轴承为径向支撑轴承和/或轴向支撑轴承。采用了轴向支撑轴承，旋转靶可用于立式真空磁控溅射镀膜机。

上述的真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，旋转空心轴上有带动旋转空心轴和旋转靶旋转的皮带或链条或齿轮机构。

上述的卡端与旋转空心轴为一整体，将旋转空心轴上的卡端与旋转空心轴做成一整体零件，结构紧凑，旋转靶管及端头安装方便。

本实用新型真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，封水、封气效果好，冷却水通过旋转空心轴直接对磁流体密封件进行冷却，冷却效果好，提高了磁流体密封件及旋转靶的使用寿命。

附图说明：

图1为本实用新型旋转靶结构示意图。

图2为图1中A-A剖视图。

图3为图1中左端旋转靶用端头放大结构示意图。

图4为图1中右端旋转靶用端头放大结构示意图。

图5为本实用新型旋转靶用于立式真空磁控溅射镀膜机结构示意图。

图6为图5中旋转靶用端头磁流体密封件结构示意图。

图7为图5中旋转靶用端头磁流体密封件另一结构示意图。

图8为本实用新型旋转靶用于立式真空磁控溅射镀膜机另一结构示意图。

图9为本实用新型旋转靶磁钢组件表面全包覆热收缩膜结构示意图。

具体实施方式：

实施例1：

图1、图2、图3、图4给出了本实用新型实施例1结构示意图。参见图1，本实用新型旋转靶包括有冷水通道17的磁钢组件1，旋转靶管2，电源引入电极3，带冷却水入口接口9的左端旋转靶用端头4，带冷却水出口接口10的右端旋转靶用端头5，支撑轴承11。旋转靶端头4、5中采用磁流体密封件6密封。旋转靶用端头4、5中有与冷却水通道相通的通冷却水对磁流体密封件冷却的旋转空心轴7，磁流体密封件6套在旋转空心轴7上并与旋转空心轴紧密贴合在一起。旋转空心轴上有与旋转靶管连接的卡端8，卡端8与旋转空心轴7做成一整体零件。左端旋转靶用端头4有带动旋转空心轴和旋转靶旋转的皮带机构12。将磁流体密封件引入旋转靶用端头中，并将磁流体密封件套在旋转空心轴上并与旋转空心轴紧密贴合在一起，使通过空心轴的冷却水直接对磁流体密封件冷却，不但密封效果好，而且冷却效果好，提高了磁流体密封件及旋转靶的使用寿命，将旋转空心轴上的卡端与旋转空心轴做成一整体零件，结构紧凑，旋转靶管及端头安装方便。

实施例2：

图5、图6、图7给出了本实施例2图。本实施例2基本与实施例1同，不同处是在旋转靶用端头中采用了轴向支撑轴承13，旋转靶用于立式真空磁控溅射镀膜机，旋转靶在溅射室16中由靶安装架15固定，电机14通过皮带机构12带动旋转空心轴和旋转靶旋转。

实施例3：

图8给出了本实施例3图。本实施例3基本与实施例2同，不同处是旋转靶一端有旋转靶用端头，另一端悬空布置，可用在小面积的玻璃或薄膜进行真空磁控溅射镀膜，简化结构，降低成本。

实施例4：

图9给出了本实施例4图。本实施例4基本与实施例1同。不同处是采用内表面复合有粘结剂的热收缩膜14将磁钢组件1表面全包覆。磁钢组件包括磁钢15、磁钢座16、冷却水通道17长期泡在冷却水中，由于磁场、电流等作用，产生电腐蚀，大大的缩短了磁钢组件的使用寿命，已有的技术方案是用不锈钢管或套将磁钢组件包覆，占用空间大且增加了磁钢组件重量，由于密封不严防腐效果也不好，而采用热收缩膜，可将磁钢组件表面紧密全包覆，隔气、隔水，结构紧凑，重量轻，防腐效果很好。

上述各实施例是对本实用新型的上述内容作进一步的说明，但不应将此理解为本实用新型上述主题的范围仅限于上述实施例。凡基于上述内容所实现的技术均属于本实用新型的范围。

Claims

1.真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，包括旋转靶管，位于旋转靶管内的带冷却水通道的磁钢组件，电源引入电极，装于旋转靶管至少一端上的旋转靶用端头，位于旋转靶用端头中的支撑轴承，其特征在于旋转靶用端头中有与磁钢组件中冷却水通道相通的旋转空心轴，磁流体密封件套在旋转空心轴上并与旋转空心轴紧密贴合，旋转空心轴上有与旋转靶管连接的卡端。

2.如权利要求1所述的真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，其特征在于采用内表面复合有粘结剂的热收缩膜将磁钢组件表面全包覆。

3.如权利要求1所述的真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，其特征在于旋转靶管两端分别有旋转靶用端头，其中一个旋转靶用端头中有冷却水入口接口，另一个旋转靶用端头中有冷却水出口接口和电源引入电极。

4.如权利要求1所述的真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，其特征在于旋转靶一端有旋转靶用端头，旋转靶用端头中有冷却水入口接口、冷却水出口接口和电源引入电极。

5.如权利要求4所述的真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，其特征在于旋转靶另一端悬空布置或用支架或轴承支撑。

6.如权利要求1～5之一所述的真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，其特征在于支撑轴承为径向支撑轴承和/或轴向支撑轴承。

7.如权利要求1～5之一所述的真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，其特征在于旋转空心轴上有带动旋转空心轴和旋转靶旋转的皮带或链条或齿轮机构。

8.如权利要求1～5之一所述的真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，其特征在于卡端与旋转空心轴为一整体。