CN110344014B - 一种磁控溅射镀膜机的旋转靶 - Google Patents
一种磁控溅射镀膜机的旋转靶 Download PDFInfo
- Publication number
- CN110344014B CN110344014B CN201910770176.8A CN201910770176A CN110344014B CN 110344014 B CN110344014 B CN 110344014B CN 201910770176 A CN201910770176 A CN 201910770176A CN 110344014 B CN110344014 B CN 110344014B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- target
- target material
- rear side
- cover plate
- tube
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开了一种磁控溅射镀膜机的旋转靶,属于镀膜机领域,一种磁控溅射镀膜机的旋转靶,包括靶材,所述靶材的后侧表面固定安装有第一盖板,所述靶材的前侧表面固定安装有第二盖板,所述第二盖板的后侧表面中间位置固定安装有冷却管,所述冷却管的外表面后端设有连通孔,所述冷却管的外表面中间位置固定连接有磁铁环,所述冷却管的外表面两端均固定粘连有密封支撑板,所述密封支撑板的外表面滑动连接于靶材的内侧表面两端,所述密封支撑板的内部表面固定镶嵌有连接管,所述第二盖板的内部中心处固定连接有连接座,所述连接座的内部设有内管,这样能够大大提高使用的便利性和稳定性,保证安全高效。
Description
技术领域
本发明涉及镀膜机领域,更具体地说,涉及一种磁控溅射镀膜机的旋转靶。
背景技术
真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜,近十年来发展相当快,已经成为当今最先进的表面处理方式之一,真空溅射镀膜是利用靶材发生溅射,使溅射物附着在工件表面形成膜层,即达到镀膜。
但是现有的镀膜机的旋转靶结构在实际使用时存在一些不足至此,比如溅射镀膜时,靶材会产生较多的热量,需要进行降温处理,而现有的结构多是直接将冷却水通入靶材内部,这样不仅无法形成有效回路,换热效率低,降温效果差,而且还容易对磁铁部件造成干涉影响,同时由于需要在靶材内部安装部件,这样就只能够在靶材外侧安装轴承进行支撑,造成外径较大,支撑稳定性不高,使用效果不理想。
发明内容
1.要解决的技术问题
针对现有技术中存在的问题,本发明的目的在于提供一种磁控溅射镀膜机的旋转靶,通过在靶材内部安装冷却管,结合带有连接管的密封支撑板进行支撑,利于安装到内部定位,同时可以与磁铁环隔离放置,方便冷却,同时比较稳定,再有就是通过连接座转动安装连接筒,可以在同一个位置接通进水和出水,利于安装,避免干涉,同时通过弧形链接板来连接支撑板和转动轴,可以减小支撑半径,利于稳定安装,这样能够大大提高使用的便利性和稳定性,保证安全高效性。
2.技术方案
为解决上述问题,本发明采用如下的技术方案。
一种磁控溅射镀膜机的旋转靶,包括靶材,所述靶材的后侧表面固定安装有第一盖板,所述靶材的前侧表面固定安装有第二盖板,所述第二盖板的后侧表面中间位置固定安装有冷却管,所述冷却管的外表面后端设有连通孔,所述冷却管位于靶材的内部中心处,所述冷却管的外表面中间位置固定连接有磁铁环,所述冷却管的外表面两端均固定粘连有密封支撑板,所述密封支撑板的外表面滑动连接于靶材的内侧表面两端,所述密封支撑板的内部表面固定镶嵌有连接管,所述第二盖板的内部中心处固定连接有连接座,所述连接座的内部设有内管,所述内管的后侧表面固定连接于冷却管的前端表面。
进一步的,所述连接座的内部前端设有环形槽,所述环形槽的内部底面设有外管连接孔,所述外管连接孔的后侧表面连接于靶材的内部前端,通过在连接座内部设置环形槽和外管连接孔,可以与内管分离放置,利于出水,方便稳定。
进一步的,所述连接管至少有三个,且等角度均匀分布于密封支撑板的内部表面,通过均匀排布三个连接管,可以与磁铁环隔离放置,避免水流影响,安全稳定。
进一步的,所述连接座的外表面前端通过环形密封环转动连接有连接筒,所述连接筒位于靶材的前端位置,通过环形密封环转动安装连接筒,可以保证连接密封性,同时利于转动,避免干涉。
进一步的,所述连接筒的的内部中心处设有进水管,所述进水管的后端对接于内管的前端表面,所述连接筒的前端表面固定连接有出水管,通过在连接筒内部设置进水管和出水管,可以分别接通内管和外连接孔,利于分离流道,方便循环降温。
进一步的,所述靶材的外表面后端两侧均通过固定螺钉固定安装有弧形连接板,所述弧形连接板的内侧表面固定连接于靶材的外表面两侧,通过固定螺钉安装弧形连接板,利于对接到靶材外表面,方便安装固定。
进一步的,所述弧形连接板的后侧表面固定安装有支撑板,所述支撑板的后侧表面中间位置设有转动轴,通过弧形连接板连接的支撑板安装转动轴,可以减小支撑半径,使用较小的轴承定位,方便安装,利于使用。
3.有益效果
相比于现有技术,本发明的优点在于:
(1)本方案通过在靶材内部安装冷却管,结合带有连接管的密封支撑板进行支撑,利于安装到内部定位,同时可以与磁铁环隔离放置,方便冷却,同时比较稳定。
(2)通过在连接座内部设置环形槽和外管连接孔,可以与内管分离放置,利于出水,方便稳定。
(3)通过均匀排布三个连接管,可以与磁铁环隔离放置,避免水流影响,安全稳定。
(4)通过环形密封环转动安装连接筒,可以保证连接密封性,同时利于转动,避免干涉。
(5)通过在连接筒内部设置进水管和出水管,可以分别接通内管和外连接孔,利于分离流道,方便循环降温。
(6)通过固定螺钉安装弧形连接板,利于对接到靶材外表面,方便安装固定。
(7)通过弧形连接板连接的支撑板安装转动轴,可以减小支撑半径,使用较小的轴承定位,方便安装,利于使用。
附图说明
图1为本发明的整体结构示意图;
图2为本发明的密封支撑板连接的侧面示意图;
图3为本发明的连接座的连接结构示意图;
图4为本发明的连接座的的侧面截面图;
图5为本发明的弧形连接板连接的侧面示意图。
图中标号说明:
1靶材、11第一盖板、12第二盖板、13冷却管、14连通孔、15磁铁环、16密封支撑板、17连接管、2连接座、21内管、22环形槽、23外管连接孔、24环形密封环、25连接筒、26出水管、27进水管、3固定螺钉、31弧形连接板、32支撑板、33转动轴。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述;显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例,基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”、“内”、“外”、“顶/底端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“设置有”、“套设/接”、“连接”等,应做广义理解,例如“连接”,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
请参阅图1-5,一种磁控溅射镀膜机的旋转靶,包括靶材1,请参阅图1、和图2,靶材1的后侧表面固定安装有第一盖板11,可以对后端进行密封,避免泄露,靶材1的前侧表面固定安装有第二盖板12,第二盖板12的后侧表面中间位置固定安装有冷却管13,冷却管13的外表面后端设有连通孔14,可以通入冷却水,进而从连通孔14进入到靶材1内部,可以起到换热冷却的作用,稳定高效,冷却管13位于靶材1的内部中心处,冷却管13的外表面中间位置固定连接有磁铁环15,具体原理和结构属于现有技术,不再赘述,冷却管13的外表面两端均固定粘连有密封支撑板16,密封支撑板16的外表面滑动连接于靶材1的内侧表面两端,密封支撑板16的内部表面固定镶嵌有连接管17,通过密封支撑板16从两侧支撑,既可以稳定放置,又可以从两侧密封,进而将冷却水和内部的磁铁环15隔离开,保证工作安全性,第二盖板12的内部中心处固定连接有连接座2,连接座2的内部设有内管21,内管21的后侧表面固定连接于冷却管13的前端表面。
请参阅图3和图4,连接座2的内部前端设有环形槽22,环形槽22的内部底面设有外管连接孔23,可以对接到靶材1内部,可以实现回流,进而循环散热,外管连接孔23的后侧表面连接于靶材1的内部前端,连接座2的外表面前端通过环形密封环24转动连接有连接筒25,连接筒25位于靶材1的前端位置,连接筒25的的内部中心处设有进水管27,进水管27的后端对接于内管21的前端表面,连接筒25的前端表面固定连接有出水管26,可以接通循环水箱,进而进行循环冷却。
请参阅图1和图5,靶材1的外表面后端两侧均通过固定螺钉3固定安装有弧形连接板31,弧形连接板31的内侧表面固定连接于靶材1的外表面两侧,弧形连接板31的后侧表面固定安装有支撑板32,支撑板32的后侧表面中间位置设有转动轴33,通过弧形连接板31和支撑板32转接到转动轴33上,可以改变后端支撑的直径,使用较小的轴承就可以支撑定位,方便安装,避免干涉,利于使用。
使用时,可以安装到镀膜机上使用,具体安装方式和工作原理均属于现有技术,不再赘述,而同时可以将连接筒25接通循环水箱,可以从进水管27通入冷却水,然后从内管21进入到冷却管13内部,实现换热,同时可以从连通孔14进入到靶材1内部,可以对靶材1进行降温,然后从连接管17通入到靶材1的前端,也就可以与磁铁环15隔离开,安全稳定,然后冷却水经过外管连接孔23进入到环形槽22,可以回流到连接筒25内部,可以实现循环冷却,安全高效,方便快捷,而后端安装支撑时,过弧形连接板31和支撑板32转接到转动轴33上,可以改变后端支撑的直径,使用较小的轴承就可以支撑定位,方便安装。
以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式;但本发明的保护范围并不局限于此。任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其改进构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围内。
Claims (1)
1.一种磁控溅射镀膜机的旋转靶,包括靶材(1),其特征在于:所述靶材(1)的后侧表面固定安装有第一盖板(11),所述靶材(1)的前侧表面固定安装有第二盖板(12),所述第二盖板(12)的后侧表面中间位置固定安装有冷却管(13),所述冷却管(13)的外表面后端设有连通孔(14),所述冷却管(13)位于靶材(1)的内部中心处,所述冷却管(13)的外表面中间位置固定连接有磁铁环(15),所述冷却管(13)的外表面两端均固定粘连有密封支撑板(16),所述密封支撑板(16)的外表面滑动连接于靶材(1)的内侧表面两端,所述密封支撑板(16)的内部表面固定镶嵌有连接管(17),所述第二盖板(12)的内部中心处固定连接有连接座(2),所述连接座(2)的内部设有内管(21),所述内管(21)的后侧表面固定连接于冷却管(13)的前端表面,所述连接座(2)的内部前端设有环形槽(22),所述环形槽(22)的内部底面设有外管连接孔(23),所述外管连接孔(23)的后侧表面连接于靶材(1)的内部前端,所述连接管(17)至少有三个,且等角度均匀分布于密封支撑板(16)的内部表面,所述连接座(2)的外表面前端通过环形密封环(24)转动连接有连接筒(25),所述连接筒(25)位于靶材(1)的前端位置,所述连接筒(25)的的内部中心处设有进水管(27),所述进水管(27)的后端对接于内管(21)的前端表面,所述连接筒(25)的前端表面固定连接有出水管(26),所述靶材(1)的外表面后端两侧均通过固定螺钉(3)固定安装有弧形连接板(31),所述弧形连接板(31)的内侧表面固定连接于靶材(1)的外表面两侧,所述弧形连接板(31)的后侧表面固定安装有支撑板(32),所述支撑板(32)的后侧表面中间位置设有转动轴(33)。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910770176.8A CN110344014B (zh) | 2019-08-20 | 2019-08-20 | 一种磁控溅射镀膜机的旋转靶 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910770176.8A CN110344014B (zh) | 2019-08-20 | 2019-08-20 | 一种磁控溅射镀膜机的旋转靶 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110344014A CN110344014A (zh) | 2019-10-18 |
CN110344014B true CN110344014B (zh) | 2021-07-23 |
Family
ID=68180906
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201910770176.8A Active CN110344014B (zh) | 2019-08-20 | 2019-08-20 | 一种磁控溅射镀膜机的旋转靶 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN110344014B (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111155062B (zh) * | 2019-12-31 | 2021-12-03 | 中山市博顿光电科技有限公司 | 靶材旋转结构、靶材安装结构以及离子源溅射系统 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20010047936A1 (en) * | 2000-06-01 | 2001-12-06 | Seagate Technology Llc | Target fabrication method for cylindrical cathodes |
CN202658221U (zh) * | 2012-05-24 | 2013-01-09 | 广东友通工业有限公司 | 一种磁控溅射镀膜机的磁控溅射靶 |
CN109943817A (zh) * | 2017-12-20 | 2019-06-28 | 佳能特机株式会社 | 溅射装置及其使用方法 |
-
2019
- 2019-08-20 CN CN201910770176.8A patent/CN110344014B/zh active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20010047936A1 (en) * | 2000-06-01 | 2001-12-06 | Seagate Technology Llc | Target fabrication method for cylindrical cathodes |
CN202658221U (zh) * | 2012-05-24 | 2013-01-09 | 广东友通工业有限公司 | 一种磁控溅射镀膜机的磁控溅射靶 |
CN109943817A (zh) * | 2017-12-20 | 2019-06-28 | 佳能特机株式会社 | 溅射装置及其使用方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110344014A (zh) | 2019-10-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN110344014B (zh) | 一种磁控溅射镀膜机的旋转靶 | |
JP2017133111A (ja) | 物理気相堆積チャンバターゲット用の冷却リング | |
CN103849843B (zh) | 一种具有五靶头的磁控共溅射设备 | |
CN102108489A (zh) | 真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶 | |
KR102354877B1 (ko) | 스퍼터 장치 및 그 사용 방법 | |
CN212250610U (zh) | 一种磁悬浮分子泵水冷却装置 | |
CN201614407U (zh) | 真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶 | |
CN211151694U (zh) | 一种高效散热的洗衣机永磁直流无刷电机 | |
CN205407539U (zh) | 水冷电机 | |
CN213507172U (zh) | 内置式结构紧凑型旋转阴极装置 | |
CN203768449U (zh) | 具有五靶头的磁控共溅射设备 | |
CN113540514B (zh) | 用于燃料电池系统的氢气循环装置 | |
CN111850499A (zh) | 内置式结构紧凑型旋转阴极装置 | |
CN209128531U (zh) | 一种真空镀膜机 | |
CN211527057U (zh) | 一种桨叶干燥机用强导热导流板 | |
KR19990014667A (ko) | 고립된 냉각제 및 스퍼터링 타겟을 가진 스퍼터링 장치 | |
JPH0519647Y2 (zh) | ||
CN212278704U (zh) | 一种用于室内显示屏的显示模块 | |
CN218175085U (zh) | 一种真空镀膜机用冷却装置 | |
CN220185340U (zh) | 引线框架电镀设备的多层防水水泵 | |
CN217928954U (zh) | 一种污水源热泵复合型集中供热装置 | |
CN204644452U (zh) | 一种靶管旋转磁控柱弧靶 | |
CN217031815U (zh) | 一种石墨碳素煅烧出料水冷装置 | |
CN210623647U (zh) | 一种密封性良好的不锈钢球阀 | |
CN210327627U (zh) | 一种无线wifi路由器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |