CN110128022B - 一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置，包括：真空箱体和位于所述真空箱体内的被镀件固定架、被镀件移动机构、溅射阴极、阴极运动机构；本发明相比于传统的平面镀膜装置，是两个零件两个表面同时进行磁控溅射镀膜，根据溅射基板的尺寸，可以增加环路磁铁数量，即增加电离子环状封闭跑道数，进而扩大溅射面积，提高生产效率。而且与传统平面溅射阴极相比，同等情况下阴极结构的体积缩小了。磁铁座上下面布置磁铁是为了形成环状封闭跑道，因此主要是在正反面上进行溅射工作。

Description

一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置

技术领域

本发明真空磁控溅射镀膜技术领域，特别涉及一种大尺寸曲面玻璃的表面镀膜装置。

背景技术

真空镀膜技术具有很高的经济价值，可以用来改变工件表面抵抗氧化、腐蚀、磨损的性能，从而增加其使用寿命，同时在光学、电学、半导体薄膜器件的制备上也可以采用真空镀膜技术。目前，磁控溅射由于沉积速度快、基片温升低、溅射所获得的薄膜纯度高、致密性好、成膜均匀性好等优点，在表面镀膜领域被广泛应用。

比如用在建筑上的大尺寸低辐射玻璃(又称为LOOW--E玻璃)，最低镀三层膜，最高级的镀七层膜，目前针对这种大型曲面玻璃的镀膜设备，未见有报导。

常规磁控溅射阴极是在同一平面上溅射，真空箱体内气体电离出的离子只能轰击一面靶材，也就是说只有这一面的物质以分子或分子团的形式溅射出来并射向阳极基板，然后沉积在基板上。这种传统的溅射阴极体积较大，一面溅射使靶材利用率低，工作效率不高。

常规的磁控溅射阴极往往通过绝缘密封框安装在真空箱体壁上，体积大，如果安装在真空腔的内部，占用空间非常大。

常规的磁控溅射镀膜设备，很难实现对两个零件的一个内表面和一个外表面同时镀膜。

常规磁控溅射镀膜装置，很难实现不同曲面的大尺寸玻璃内、外表面的同时镀膜。

因此，如何提供一种能够灵活完成各种不同曲面产品的内、外面镀膜的真空溅射镀膜装置是本领域技术人员亟需解决的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种大型曲面玻璃表面镀膜装置，可以在阴极的两侧进行溅射镀膜，并同时对两个大型曲面玻璃一个内表面和一个外表面进行真空溅射镀膜，生产效率获得成倍提升。

为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置，包括：真空箱体和位于所述真空箱体内的被镀件固定架、被镀件移动机构、溅射阴极、阴极运动机构；

所述被镀件固定架包括底架和夹持架，所述底架和所述夹持架均由不锈钢方管焊接而成；其中所述夹持架设置有两个，分别垂直连接在所述底架两侧，并且两个所述夹持架之间留有所述溅射阴极移动空间；所述夹持架顶部和底部分别设置有多个夹持滑轨，位于所述夹持架顶部的所述夹持滑轨上滑动设置有上夹持件，位于所述夹持架底部的所述夹持滑轨上滑动设置有下夹持件；

所述被镀件移动机构包括安装在所述真空箱体底部的固定架滚珠丝杠机构和固定架滑轨，以及设置在所述固定架滑轨上的固定架滑块；所述固定架滑轨平行设置有两个，所述固定架滚珠丝杠机构位于两个所述固定架滑轨之间；所述固定架滑块和所述固定架滚珠丝杠机构的螺母均与所述底架的底部固定连接；所述固定架滚珠丝杠机构的丝杆传动连接有第一电机，在所述第一电机的驱动下，可实现所述被镀件固定架的往复移动；

所述阴极运动机构包括安装在所述真空箱体内顶部的阴极滚珠丝杠机构和阴极移动滑轨，以及滑动设置所述阴极移动滑轨上的阴极移动滑板；所述阴极移动滑轨设置有两个，所述阴极滚珠丝杠机构安装在两个所述阴极移动滑轨之间；所述阴极移动滑板与所述阴极滚珠丝杠机构的螺母固定连接；所述阴极滚珠丝杠机构的丝杆传动连接有第二电机，在所述第二电机的驱动下可实现所述溅射阴极的往复移动；

所述溅射阴极包括阴极支架、主框架、靶材、电极、磁铁座以及设置在所述磁铁座上的磁铁；所述主框架为前、后、上、下面开口且设置空腔的长方体结构，所述磁铁座位于所述主框架的空腔内，在所述主框架前、后、上、下面开口上安装所述靶材，将所述主框架的空腔进行封闭；所述主框架左右两侧面的顶部与所述阴极支架连接，所述阴极支架与所述阴极移动滑板固定连接；所述主框架的一侧面底部设置有与所述主框架空腔连通的软质进水管，所述主框架的另一侧面顶部设置有与所述主框架空腔连通的软质出水管；所述电极与所述主框架的一侧面电性连接。

优选的，在上述一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置中，所述真空箱体顶部设置有外接电极，以及与所述真空箱体内腔连通的抽真空管和软质工艺气管；所述软质工艺气管一端伸出至所述真空箱体顶部外，另一端固定在所述阴极移动滑板上；所述外接电极通过导线与所述电极电性连接；所述软质进水管和所述软质出水管均伸出至所述真空箱体顶部外。

所述软质工艺气管在所述真空箱体内的一端固定在所述阴极移动滑板上，与所述溅射阴极一起移动，通过所述软质工艺气管同时将Ar气体和反应气体O2或N2气体，充入所述真空箱体内，Ar气体是溅射镀膜的介质气体，不发生反应，而O2或N2气体是反应气体。抽真空管用于对所述真空箱体抽真空处理。

优选的，在上述一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置中，所述夹持滑轨为方管，所述上夹持件包括上滑套和上卡件，所述上滑套套设在位于所述夹持架顶部的所述夹持滑轨上，所述上滑套上设置有定位孔，通过定位螺钉能够定位在所述夹持滑轨上；所述上卡件为中间设置条形孔且一端设置玻璃卡口的矩形板，通过螺钉穿过条形孔将所述上卡件紧固在所述上滑套一侧，并能够进行上下调节，以便安放和取下被镀件；所述下夹持件包括下滑套和下卡件，所述下滑套套设在位于所述夹持架底部的所述夹持滑轨上，所述下滑套上设置有定位孔，通过定位螺钉能够定位在所述夹持滑轨上；所述下卡件为一端设置玻璃卡口的矩形板，通过螺钉将所述下卡件固定在所述下滑套一侧。通过调整所述上滑套和所述下滑套的位置，以及调节上卡件的位置，从而适应被镀件的形状要求和被镀件的安装和拆卸。

优选的，在上述一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置中，所述固定架滑轨为倒T形滑轨，所述固定架滑块为与倒T形滑轨匹配的倒U形滑块，所述固定架滑轨与所述固定架滑块上设置有滚珠槽，在所述滚珠槽内设置有滚珠；所述固定架滚珠丝杠机构两端通过轴承座固定在所述真空箱体底面上，并且所述固定架滚珠丝杠机构的丝杠一端伸出至所述真空箱体外与所述第一电机的传动轴传动连接。

优选的，在上述一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置中，所述阴极移动滑轨的两端分别设置有止停块，并且所述阴极移动滑轨的两端通过滑轨连杆固定连接在所述真空箱体内顶部；所述阴极滚珠丝杠机构的丝杆两端均设置有轴承座，轴承座通过阴极滚珠丝杠机构连杆固定在所述真空箱体内顶部；所述第二电机设置在所述真空箱体顶部外，所述第二电机的旋转轴伸出至所述真空箱体内，并且旋转轴端部安装有第一锥齿轮，所述阴极滚珠丝杠机构的丝杆一端设置有与所述第一锥齿轮啮合的第二锥齿轮；所述阴极移动滑轨为倒T形滑轨，所述阴极移动滑板的两侧设置与倒T形滑轨匹配的倒U形滑块；所述阴极移动滑板的底部通过滑板连杆与所述阴极支架固定连接。

优选的，在上述一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置中，所述磁铁座为采用导磁材料制成的板状结构，所述磁铁座局部焊接在所述主框架空腔内；若干长条形所述磁铁沿着所述磁铁座的正面、上面、反面、下面排列形成S极环路磁铁和N极环路磁铁，并且采用S极环路磁铁和N极环路磁铁交替排列的布置方式，从而形成多个环状封闭磁铁环路跑道，电离子在电场作用下，沿着环状封闭环路跑道运动，在所述磁铁座正面和反面同时进行磁控溅射，与平面溅射阴极相比显著扩大了溅射面积。

优选的，在上述一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置中，所述主框架为前、后、上、下面开口的四周分别开设有一圈密封胶圈槽，所述密封胶圈槽内设置有密封胶圈；所述密封胶圈槽外侧开设有多个用于固定所述靶材的螺钉孔，所述靶材通过螺钉固定到所述主框架上。

优选的，在上述一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置中，所述阴极支架与所述主框架之间、所述软质出水管与所述主框架之间、所述软质进水管与所述主框架之间均设置有绝缘垫，进行绝缘处理，防止发生漏电导电的危险。

优选的，在上述一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置中，所述主框架采用不锈钢材质制成。

优选的，在上述一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置中，所述真空箱体与电源的正极电性连接，所述外接电极与电源阴极电性连接。

经由上述的技术方案可知，与现有技术相比，本发明公开提供了一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置，本发明相比于传统的平面镀膜装置，是两个零件两个表面同时进行磁控溅射镀膜，根据溅射基板的尺寸，可以增加环路磁铁数量，即增加电离子环状封闭跑道数，进而扩大溅射面积，提高生产效率。而且与传统平面溅射阴极相比，同等情况下阴极结构的体积缩小了。磁铁座上下面布置磁铁是为了形成环状封闭跑道，因此主要是在正反面上进行溅射工作。

溅射阴极在开始和移动过程中始终保持处于两个被镀件中间位置，以保证镀膜厚度均匀，因此溅射阴极移动的速度和距离要根据被镀件的形状和尺寸确定。两个被镀件的形状和尺寸需要一致。阴极往返移动一次，两个被镀件正好从头至尾经过阴极一次，即完成一次溅射镀膜。被镀件还可反向移动，溅射阴极同样往返运动，这样被镀件从尾至头又经过阴极一次，即完成第二次镀膜，根据镀膜工艺要求，这个过程可以反复进行。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本发明结构示意图；

图2为真空箱体内部结构示意图；

图3为被镀件固定架结构示意图；

图4为上夹持件结构示意图；

图5为下夹持件结构示意图；

图6为被镀件移动机构示意图；

图7为固定架滚珠丝杠机构和固定架滑轨安装示意图；

图8为固定架滑轨与固定架滑块安装示意图；

图9为溅射阴极结构示意图；

图10为溅射阴极内部结构示意图；

图11磁铁与磁铁座配合示意图；

图12阴极运动机构示意图①；

图13阴极运动机构示意图②；

图14被镀件、溅射阴极运动路线示意图①；

图15被镀件、溅射阴极运动路线示意图②；

图16被镀件、溅射阴极运动路线示意图③；

图17为N极环路磁铁示意图；

图18为S极环路磁铁示意图。

具体实施方式

下面对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例公开了一种大型曲面玻璃表面镀膜装置，本发明磁控溅射阴极体积小，并安装在真空箱体内部，占用空间小，安装使用方便，能够实现两个产品的内和外表面的镀膜，本发明能够灵活的完成各种不同曲面产品的内、外面的同时镀膜，而且不局限于玻璃产品。

结合附图1-16，本发明公开了一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置，包括：真空箱体1和位于真空箱体1内的被镀件固定架2、被镀件移动机构3、溅射阴极4、阴极运动机构5；

被镀件固定架2包括底架21和夹持架22，底架21和夹持架22均由不锈钢方管焊接而成；其中夹持架22设置有两个，分别垂直连接在底架21两侧，并且两个夹持架22之间留有溅射阴极4移动空间；夹持架22顶部和底部分别设置有多个夹持滑轨23，位于夹持架22顶部的夹持滑轨23上滑动设置有上夹持件24，位于夹持架22底部的夹持滑轨23上滑动设置有下夹持件25；

被镀件移动机构3包括安装在真空箱体1底部的固定架滚珠丝杠机构31和固定架滑轨32，以及设置在固定架滑轨32上的固定架滑块33；固定架滑轨32平行设置有两个，固定架滚珠丝杠机构31位于两个固定架滑轨32之间；固定架滑块33和固定架滚珠丝杠机构31的螺母均与底架21的底部固定连接；固定架滚珠丝杠机构31的丝杆传动连接有第一电机34，在第一电机34的驱动下，可实现被镀件固定架2的往复移动；

阴极运动机构5包括安装在真空箱体1内顶部的阴极滚珠丝杠机构51和阴极移动滑轨52，以及滑动设置阴极移动滑轨52上的阴极移动滑板53；阴极移动滑轨52设置有两个，阴极滚珠丝杠机构51安装在两个阴极移动滑轨52之间；阴极移动滑板53与阴极滚珠丝杠机构51的螺母固定连接；阴极滚珠丝杠机构51的丝杆传动连接有第二电机54，在第二电机54的驱动下可实现溅射阴极4的往复移动；

溅射阴极4包括阴极支架41、主框架42、靶材43、电极44、磁铁座45以及设置在磁铁座45上的磁铁46；主框架42为前、后、上、下面开口且设置空腔的长方体结构，磁铁座45位于主框架42的空腔内，在主框架42前、后、上、下面开口上安装靶材43，将主框架42的空腔进行封闭；主框架42左右两侧面的顶部与阴极支架41连接，阴极支架41与阴极移动滑板53固定连接；主框架42的一侧面底部设置有与主框架42空腔连通的软质进水管47，主框架42的另一侧面顶部设置有与主框架42空腔连通的软质出水管48，软质进水管47和软质出水管48外接循环装置，用于溅射阴极4冷却；电极44与主框架42的一侧面电性连接。

为了进一步优化上述技术方案，真空箱体1顶部设置有外接电极11，以及与真空箱体1内腔连通的抽真空管12和软质工艺气管13；软质工艺气管13一端伸出至真空箱体1顶部外，另一端固定在阴极移动滑板53上；外接电极11通过导线与电极44电性连接；软质进水管47和软质出水管48均伸出至真空箱体1顶部外。

软质工艺气管13在真空箱体1内的一端固定在阴极移动滑板53上，与溅射阴极4一起移动，通过软质工艺气管13同时将Ar气体和反应气体O2或N2气体，充入真空箱体1内，Ar气体是溅射镀膜的介质气体，不发生反应，而O2或N2气体是反应气体。抽真空管12用于对真空箱体1抽真空处理。

为了进一步优化上述技术方案，夹持滑轨23为方管，上夹持件24包括上滑套241和上卡件242，上滑套241套设在位于夹持架22顶部的夹持滑轨23上，上滑套241上设置有定位孔，通过定位螺钉能够定位在夹持滑轨23上；上卡件242为中间设置条形孔243且一端设置玻璃卡口26的矩形板，通过螺钉穿过条形孔243将上卡件242紧固在上滑套241一侧，并能够进行上下调节，以便安放和取下被镀件；下夹持件25包括下滑套251和下卡件252，下滑套251套设在位于夹持架22底部的夹持滑轨23上，下滑套251上设置有定位孔，通过定位螺钉能够定位在夹持滑轨23上；下卡件252为一端设置玻璃卡口26的矩形板，通过螺钉将下卡件252固定在下滑套251一侧。通过调整上滑套241和下滑套251的位置，以及调节上卡件242的位置，从而适应被镀件的形状要求和被镀件的安装和拆卸。

为了进一步优化上述技术方案，固定架滑轨32为倒T形滑轨，固定架滑块33为与倒T形滑轨匹配的倒U形滑块，固定架滑轨32与固定架滑块33上设置有滚珠槽，在滚珠槽内设置有滚珠35；固定架滚珠丝杠机构31两端通过轴承座固定在真空箱体1底面上，并且固定架滚珠丝杠机构31的丝杠一端伸出至真空箱体1外与第一电机34的传动轴传动连接。

为了进一步优化上述技术方案，阴极移动滑轨52的两端分别设置有止停块521，并且阴极移动滑轨52的两端通过滑轨连杆522固定连接在真空箱体1内顶部；阴极滚珠丝杠机构51的丝杆两端均设置有轴承座，轴承座通过阴极滚珠丝杠机构连杆523固定在真空箱体1内顶部；第二电机54设置在真空箱体1顶部外，第二电机54的旋转轴伸出至真空箱体1内，并且旋转轴端部安装有第一锥齿轮，阴极滚珠丝杠机构51的丝杆一端设置有与第一锥齿轮啮合的第二锥齿轮；阴极移动滑轨52为倒T形滑轨，阴极移动滑板53的两侧设置与倒T形滑轨匹配的倒U形滑块；阴极移动滑板53的底部通过滑板连杆531与阴极支架41固定连接。

为了进一步优化上述技术方案，磁铁座45为采用导磁材料制成的板状结构，磁铁座45局部焊接在主框架42空腔内；若干长条形磁铁46沿着磁铁座45的正面、上面、反面、下面排列形成S极环路磁铁和N极环路磁铁，并且采用S极环路磁铁和N极环路磁铁交替排列的布置方式，从而形成多个环状封闭磁铁环路跑道，电离子在电场作用下，沿着环状封闭环路跑道运动，在磁铁座45正面和反面同时进行磁控溅射，与平面溅射阴极4相比显著扩大了溅射面积；磁铁46采用永磁铁。

为了进一步优化上述技术方案，S极环路磁铁由若干个长条形磁铁46拼接而成，磁铁46具有N极和S极，N极作为粘接部，粘接在磁铁座45上，使S极朝向外侧，若干个长条形磁铁46进行拼接形成环路，形成的S极环路磁铁外沿为S极，内沿为N极。

为了进一步优化上述技术方案，N极环路磁铁由若干个长条形磁铁46拼接而成，磁铁46具有N极和S极，S极作为粘接部，粘接在磁铁座45上，使N极朝向外侧，若干个长条形磁铁46进行拼接形成环路，形成的N极环路磁铁外沿为N极，内沿为S极。

为了进一步优化上述技术方案，主框架42为前、后、上、下面开口的四周分别开设有一圈密封胶圈槽421，密封胶圈槽421内设置有密封胶圈；密封胶圈槽421外侧开设有多个用于固定靶材43的螺钉孔，靶材43通过螺钉固定到主框架42上。

为了进一步优化上述技术方案，阴极支架41与主框架42之间、软质出水管48与主框架42之间、软质进水管47与主框架42之间均设置有绝缘垫，进行绝缘处理，防止发生漏电导电的危险。

为了进一步优化上述技术方案，主框架42采用不锈钢材质制成。

为了进一步优化上述技术方案，真空箱体1与电源的正极电性连接，外接电极11与电源阴极电性连接。

为了进一步优化上述技术方案，软质进水管47和软质出水管48均采用绝缘材质制作而成。

为了进一步优化上述技术方案，所述磁铁座45采用导磁材料制作而成，可以采用纯铁材料制作。

以大型柱面玻璃真空溅射镀膜为例，将整个装置安装完毕后就可以进行磁控溅射镀膜。磁控溅射镀膜过程大致如下：整个过程在真空箱体1内进行。真空箱体1连接电源的正极，电源的负极与溅射阴极4连接。使用抽真空管12对真空箱体1抽真空处理，软质工艺气管13在真空箱体1内的一端固定在阴极移动滑板53上，与溅射阴极4一起移动，通过软质工艺气管13同时将Ar气体和反应气体O2或N2气体，充入真空箱体1内，Ar气体是溅射镀膜的介质气体，不发生反应，而O2或N2气体是反应气体。如图14所示，溅射阴极4开始位于被镀件6的最前端，被镀件固定架2沿固定架滑轨32匀速向前(+Y向)移动，同时溅射阴极4匀速向左(-X向)移动；当溅射阴极4移动一个弦长H距离时，如图15所示，被镀件6正好移动到全长一半的距离，即L/2；然后被镀件6继续向前移动，而溅射阴极4结构改变方向向右(+X向)移动，再移动一个H的距离，如图16所示，这时被镀件6正好移动一个全长距离，即L，而溅射阴极4共移动了两个H的距离，此时正好位于被镀件6的末端，完成一次镀膜工作。

在被镀件6和溅射阴极4移动过程中，离子在电场的作用下沿着垂直于磁力线的圆周轨迹，并沿环路封闭跑道一直不停运动，并向溅射阴极4的靶材43运动，而且速度越来越快，逐渐溅射出靶材43离子，从而对位于溅射阴极4两侧的被镀件6进行溅射镀膜。被镀件6可以往返运动，因此这个过程可以反复进行。

被镀件固定架2的底架21和夹持架22采用50x50mm的不锈钢方管焊接制成，夹持滑轨23采用尺寸为30x30mm的不锈钢方管制成。被镀件固定架2长2500mm(Y向)，高1800mm(Z向)，宽1300mm(X向)。两个夹持架22之间距离500mm，溅射阴极4结构置于其中间位置，并位于被镀玻璃的最前端，第二电机54驱动溅射阴极4沿X方向往返运动，往返距离等于被镀玻璃被XOY平面截取的断面曲线的弦长的2倍，如图2所示，这样，当溅射阴极4往返移动一次，同时在第一电机34驱动下被镀件固定架2带动被镀玻璃向Y向移动，正好末端抵达溅射阴极4位置，两个玻璃的一次镀膜完成。这个过程可以反复进行。

磁铁座45为厚20毫米的铁板，局部焊接在主框架42空腔内用来放置磁铁46，磁铁46粘接在磁铁座45上。正反面上的单个磁铁46尺寸12X28X50毫米，上面和下面的单个磁铁46尺寸是12X28X40毫米。

与常规平面镀膜装置比较，本发明可以对大型曲面玻璃进行真空溅射镀膜，而且可以通过调整夹持架22对不同曲面的玻璃进行溅射镀膜，因为溅射阴极4的正面和反面可以同时进行溅射工作，而且溅射阴极4的体积也减小了，简化了操作过程。因此，本发明可以极大提高生产工作效率。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置，其特征在于，包括：真空箱体和位于所述真空箱体内的被镀件固定架、被镀件移动机构、溅射阴极、阴极运动机构；

所述被镀件固定架包括底架和夹持架，其中所述夹持架设置有两个，分别垂直连接在所述底架两侧，并且两个所述夹持架之间留有所述溅射阴极移动空间；所述夹持架顶部和底部分别设置有多个夹持滑轨，位于所述夹持架顶部的所述夹持滑轨上滑动设置有上夹持件，位于所述夹持架底部的所述夹持滑轨上滑动设置有下夹持件；

所述被镀件移动机构包括安装在所述真空箱体底部的固定架滚珠丝杠机构和固定架滑轨，以及设置在所述固定架滑轨上的固定架滑块；所述固定架滑轨平行设置有两个，所述固定架滚珠丝杠机构位于两个所述固定架滑轨之间；所述固定架滑块和所述固定架滚珠丝杠机构的螺母均与所述底架的底部固定连接；所述固定架滚珠丝杠机构的丝杆传动连接有第一电机；

所述阴极运动机构包括安装在所述真空箱体内顶部的阴极滚珠丝杠机构和阴极移动滑轨，以及滑动设置所述阴极移动滑轨上的阴极移动滑板；所述阴极移动滑轨设置有两个，所述阴极滚珠丝杠机构安装在两个所述阴极移动滑轨之间；所述阴极移动滑板与所述阴极滚珠丝杠机构的螺母固定连接；所述阴极滚珠丝杠机构的丝杆传动连接有第二电机；

所述溅射阴极包括阴极支架、主框架、靶材、电极、磁铁座以及设置在所述磁铁座上的磁铁；所述主框架为前、后、上、下面开口且设置空腔的长方体结构，所述磁铁座位于所述主框架的空腔内，在所述主框架前、后、上、下面开口上安装所述靶材，将所述主框架的空腔进行封闭；所述主框架左右两侧面的顶部与所述阴极支架连接，所述阴极支架与所述阴极移动滑板固定连接；所述主框架的一侧面底部设置有与所述主框架空腔连通的软质进水管，所述主框架的另一侧面顶部设置有与所述主框架空腔连通的软质出水管；所述电极与所述主框架的一侧面电性连接。

2.根据权利要求1所述的一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置，其特征在于，所述真空箱体顶部设置有外接电极，以及与所述真空箱体内腔连通的抽真空管和软质工艺气管；所述软质工艺气管一端伸出至所述真空箱体顶部外，另一端固定在所述阴极移动滑板上；所述外接电极通过导线与所述电极电性连接；所述软质进水管和所述软质出水管均伸出至所述真空箱体顶部外。

3.根据权利要求2所述的一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置，其特征在于，所述夹持滑轨为方管，所述上夹持件包括上滑套和上卡件，所述上滑套套设在位于所述夹持架顶部的所述夹持滑轨上，所述上滑套上设置有定位孔，通过定位螺钉能够定位在所述夹持滑轨上；所述上卡件为中间设置条形孔且一端设置玻璃卡口的矩形板，通过螺钉穿过条形孔将所述上卡件紧固在所述上滑套一侧，并能够进行上下调节；所述下夹持件包括下滑套和下卡件，所述下滑套套设在位于所述夹持架底部的所述夹持滑轨上，所述下滑套上设置有定位孔，通过定位螺钉能够定位在所述夹持滑轨上；所述下卡件为一端设置玻璃卡口的矩形板，通过螺钉将所述下卡件固定在所述下滑套一侧。

4.根据权利要求3所述的一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置，其特征在于，所述固定架滑轨为倒T形滑轨，所述固定架滑块为与倒T形滑轨匹配的倒U形滑块，所述固定架滑轨与所述固定架滑块上设置有滚珠槽，在所述滚珠槽内设置有滚珠；所述固定架滚珠丝杠机构两端通过轴承座固定在所述真空箱体底面上，并且所述固定架滚珠丝杠机构的丝杠一端伸出至所述真空箱体外与所述第一电机的传动轴传动连接。

5.根据权利要求4所述的一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置，其特征在于，所述阴极移动滑轨的两端分别设置有止停块，并且所述阴极移动滑轨的两端通过滑轨连杆固定连接在所述真空箱体内顶部；所述阴极滚珠丝杠机构的丝杆两端均设置有轴承座，轴承座通过阴极滚珠丝杠机构连杆固定在所述真空箱体内顶部；所述第二电机设置在所述真空箱体顶部外，所述第二电机的旋转轴伸出至所述真空箱体内，并且旋转轴端部安装有第一锥齿轮，所述阴极滚珠丝杠机构的丝杆一端设置有与所述第一锥齿轮啮合的第二锥齿轮；所述阴极移动滑轨为倒T形滑轨，所述阴极移动滑板的两侧设置与倒T形滑轨匹配的倒U形滑块；所述阴极移动滑板的底部通过滑板连杆与所述阴极支架固定连接。

6.根据权利要求1所述的一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置，其特征在于，所述磁铁座为采用导磁材料制成的板状结构，所述磁铁座局部焊接在所述主框架空腔内；若干长条形所述磁铁沿着所述磁铁座的正面、上面、反面、下面排列形成S极环路磁铁和N极环路磁铁，并且采用S极环路磁铁和N极环路磁铁交替排列的布置方式，从而形成多个环状封闭磁铁环路跑道。

7.根据权利要求6所述的一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置，其特征在于，所述主框架为前、后、上、下面开口的四周分别开设有一圈密封胶圈槽，所述密封胶圈槽内设置有密封胶圈；所述密封胶圈槽外侧开设有多个用于固定所述靶材的螺钉孔，所述靶材通过螺钉固定到所述主框架上。

8.根据权利要求1所述的一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置，其特征在于，所述阴极支架与所述主框架之间、所述软质出水管与所述主框架之间、所述软质进水管与所述主框架之间均设置有绝缘垫，进行绝缘处理。

9.根据权利要求1所述的一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置，其特征在于，所述主框架采用不锈钢材质制成。

10.根据权利要求2所述的一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置，其特征在于，所述真空箱体与电源的正极电性连接，所述外接电极与电源阴极电性连接。