CN112647052B - 一种进口过渡真空腔体和磁控溅射镀膜生产线 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种进口过渡真空腔体和磁控溅射镀膜生产线，包括：底座，所述底座与壳体焊接固定，所述壳体一侧开设有若干玻璃插片架通道，所述玻璃插片架通道内螺栓固定安装有玻璃插片架，所述进架通道和出架通道分别与镀膜舱和转运舱开设的相应通道相连通；转运架，所述转运架活动安装在底座上，插片机械手，所述插片机械手用于夹取玻璃并将玻璃插片架上的玻璃转运至玻璃插架上，本发明通过在过渡真空腔体内设置插片装置，使过渡真空腔体内的真空度保持与镀膜腔体相近或一致的状态，大大减少了过渡真空腔体的过渡时间，有效提高了镀膜效率，克服了人工无法在低真空度的条件下工作的障碍，减轻了人工负担。

Description

一种进口过渡真空腔体和磁控溅射镀膜生产线
技术领域
本发明涉及导电膜玻璃连续式磁控溅射镀膜设备技术领域，具体为一种进口过渡真空腔体和磁控溅射镀膜生产线。
背景技术
现有技术中申请号为“CN201210543911.X”的一种多功能连续式磁控溅射镀膜装置，包括至少一个镀膜室，镀膜室内壁上具有用于磁控溅射镀膜的可交替使用的立式靶和倾斜靶，对应立式靶在镀膜室内设置移动式的立式基材承载架，对应倾斜靶在镀膜室内设置移动式的倾斜式基材承载架，通过在镀膜室的靶位口处设置可交替使用的立式靶和倾斜靶，并对应设置立式基材承载架和倾斜式基材承载架，使得镀膜基材在不同要求时可以选用不同的靶材进行镀膜，并且立式靶和倾斜靶的可交替使用，还可以使得镀膜室能适应更多规格的产品镀膜，提高镀膜装置的通用性。
但是上述该多功能连续式磁控溅射镀膜装置在使用过程中仍然存在较为明显的缺陷：1、上述装置在镀膜装置的前后端需要进行人工装片和卸片，由于磁控溅射室内部要求达到较高要求的真空度，因此玻璃插架在进入真空腔体内部需要在过渡真空腔体内进行中转，过渡真空腔体内的真空泵需要将其内部的真空度降低到与镀膜腔体一致后方可进行玻璃插架的转运，因此玻璃在进入镀膜真空腔体之前需要耗费大量的时间去降低过渡真空腔体内部的真空度，此种插片方式是目前几乎所有导电膜玻璃镀膜使用的常规手段，不仅耗费了大量的时间，同时由于过渡舱室需要在真空环境和正常气压下进行频繁转换，对装置的气密性产生较大的影响，长期以往会影响镀膜所需的真空度，进而影响膜层的均匀性和厚度；2、上述装置由于采用人工转运方式进行玻璃的插片，与机器相比，插片效率较低且玻璃插片需要在无尘条件下进行，人工活动难以保证绝对的无尘要求，长期重复性工作容易增大员工工作负担，降低玻璃质量。
发明内容
本发明的目的在于提供一种进口过渡真空腔体和磁控溅射镀膜生产线，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种进口过渡真空腔体，包括：
底座，所述底座与壳体焊接固定，所述壳体一侧开设有若干玻璃插片架通道，所述玻璃插片架通道内螺栓固定安装有玻璃插片架，所述壳体一侧分别开设有进架通道和出架通道，所述进架通道和出架通道分别与镀膜舱和转运舱开设的相应通道相连通；
转运架，所述转运架活动安装在底座上，所述转运架通过平移机构沿底座进行纵向平移，所述转运架上活动连接有玻璃插架；
插片机械手，所述插片机械手用于夹取玻璃并将玻璃插片架上的玻璃转运至玻璃插架上；
所述转运架包括转运台，所述转运台两端通过支撑架与顶部的插架吸附板固定连接，所述转运台上间隔均匀设置有若干转运辊轮。
优选的，所述镀膜舱、转运舱及壳体顶部均安装有真空泵。
优选的，所述转运台两侧沿转运架平移方向开设有贯穿的螺纹通孔，所述平移机构包括平移电机和平移丝杆，所述平移丝杆固定连接在平移电机的驱动轴上，所述平移丝杆与螺纹通孔螺纹连接。
优选的，所述转运台底部两侧均固定安装有滑块，所述滑块分别活动安装在滑槽内，所述滑槽开设在底座内。
优选的，所述转运辊轮通过转运电机驱动。
优选的，其特征在于：所述玻璃插架上间隔均匀设置有若干插片间隔，若干所述插片间隔上下两端的玻璃插架上均固定安装有一一对应的玻璃固定弹片。
优选的，所述玻璃插架顶部开设有磁铁安装槽，所述磁铁安装槽内均匀排列有吸附磁铁，所述吸附磁铁与插架吸附板底部安装的磁铁异级吸附式排列。
一种磁控溅射镀膜生产线，包括用于玻璃插架移动的真空腔体，该磁控溅射镀膜生产线采用上述的进口过渡真空腔体。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1、本发明通过在过渡真空腔体内设置插片装置，使过渡真空腔体内的真空度保持与镀膜腔体相近或一致的状态，玻璃在完成插片后即可迅速转运至镀膜腔体内部，大大减少了过渡真空腔体的过渡时间，有效提高了镀膜效率，同时过渡真空腔体内部无需进行真空和常压的气压转换，有效保证了镀膜腔体内的真空度，提高了镀膜质量；
2、本发明利用插片机械手代替人工进行插片，克服了人工无法在低真空度的条件下工作的障碍，减轻了人工负担的同时，提高了玻璃的镀膜质量。
本发明通过在过渡真空腔体内设置插片装置，使过渡真空腔体内的真空度保持与镀膜腔体相近或一致的状态，大大减少了过渡真空腔体的过渡时间，有效提高了镀膜效率，克服了人工无法在低真空度的条件下工作的障碍，减轻了人工负担。
附图说明
图1为本发明的插片机械手插片工作示意图；
图2为本发明的底座连接结构示意图；
图3为本发明的整体结构示意图；
图4为本发明的转运架结构示意图。
图中：1底座、2壳体、3玻璃插片架通道、4玻璃插片架、5进架通道、6出架通道、7镀膜舱、8转运舱、9转运架、10平移机构、11玻璃插架、12插片机械手、13真空泵、14转运台、15支撑架、16插架吸附板、17转运辊轮、18螺纹通孔、19平移电机、20平移丝杆、21滑块、22滑槽、23插片间隔、24玻璃固定弹片、25磁铁安装槽、26吸附磁铁。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例：
请参阅图1-4，本发明提供一种技术方案：
一种进口过渡真空腔体，包括：
底座1，底座1与壳体2焊接固定，底座1和壳体2内部形成过渡真空腔体，壳体2一侧开设有若干玻璃插片架通道3，玻璃插片架通道3内螺栓固定安装有玻璃插片架4，壳体2一侧分别开设有进架通道5和出架通道6，进架通道5和出架通道6分别与镀膜舱7和转运舱8开设的相应通道相连通；
玻璃插片架4内部用于插放待镀膜的玻璃，通过人工将待镀膜的玻璃按照浮法正反方向整齐插设在玻璃插片架4上，并通过螺栓安装在玻璃插片架通道3内，从而完成玻璃插片架4的安装，由于玻璃插片架4一次可以进行大量玻璃的插片，因此玻璃在插片过程中能够保证过渡真空腔体内部的真空度，无需频繁进行真空环境和正常气压间的转换，大大减少了真空泵的工作时间，进而保证玻璃的镀膜质量。
转运架9，转运架9活动安装在底座1上，转运架9通过平移机构10沿底座1进行纵向平移，转运架9上活动连接有玻璃插架11；
通过转运架9进行纵向平移，从而将从转运舱8回收的玻璃插架11进行承载，并通过平移使得玻璃插架11移动至镀膜舱7的进架通道5内，从而完成玻璃插架11的内部循环流程。
插片机械手12，插片机械手12用于夹取玻璃并将玻璃插片架4上的玻璃转运至玻璃插架11上，通过插片机械手12进行玻璃的拾取和插架，本实施例中的插片机械手12采用市面上应用较为广泛的三自由度机械臂。
转运架9包括转运台14，转运台14两端通过支撑架15与顶部的插架吸附板16固定连接，转运台14上间隔均匀设置有若干转运辊轮17，通过插架吸附板16对玻璃插架11上部进行吸附，通过转运辊轮17方便玻璃插架11移动。
作为一个优选，镀膜舱7、转运舱8及壳体2顶部均安装有真空泵13。
作为一个优选，转运台14两侧沿转运架9平移方向开设有贯穿的螺纹通孔18，平移机构10包括平移电机19和平移丝杆20，平移丝杆20固定连接在平移电机19的驱动轴上，平移丝杆20与螺纹通孔18螺纹连接，本实施例中的平移机构10采用丝杆传动，通过平移丝杆20的转动带动转运架9进行纵向平移。
作为一个优选，转运台14底部两侧均固定安装有滑块21，滑块21分别活动安装在滑槽22内，滑槽22开设在底座1内，本实施例中通过滑槽22与滑块21的配合从而保证转运台14移动的稳定性。
作为一个优选，转运辊轮17通过转运电机驱动。
作为一个优选，其特征在于：玻璃插架11上间隔均匀设置有若干插片间隔23，若干插片间隔23上下两端的玻璃插架11上均固定安装有一一对应的玻璃固定弹片24，通过玻璃固定弹片24对镀膜进行夹持固定。
作为一个优选，玻璃插架11顶部开设有磁铁安装槽25，磁铁安装槽25内均匀排列有吸附磁铁26，吸附磁铁26与插架吸附板16底部安装的磁铁异级吸附式排列。
一种磁控溅射镀膜生产线，包括用于玻璃插架11移动的真空腔体，该磁控溅射镀膜生产线采用上述的进口过渡真空腔体。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (8)

1.一种进口过渡真空腔体，其特征在于，包括：
底座(1)，所述底座(1)与壳体(2)焊接固定，所述壳体(2)一侧开设有若干玻璃插片架通道(3)，所述玻璃插片架通道(3)内螺栓固定安装有玻璃插片架(4)，所述壳体(2)一侧分别开设有进架通道(5)和出架通道(6)，所述进架通道(5)和出架通道(6)分别与镀膜舱(7)和转运舱(8)开设的相应通道相连通；
转运架(9)，所述转运架(9)活动安装在底座(1)上，所述转运架(9)通过平移机构(10)沿底座(1)进行纵向平移，所述转运架(9)上活动连接有玻璃插架(11)；
插片机械手(12)，所述插片机械手(12)用于夹取玻璃并将玻璃插片架(4)上的玻璃转运至玻璃插架(11)上；
所述转运架(9)包括转运台(14)，所述转运台(14)两端通过支撑架(15)与顶部的插架吸附板(16)固定连接，所述转运台(14)上间隔均匀设置有若干转运辊轮(17)。
2.根据权利要求1所述的一种进口过渡真空腔体，其特征在于：所述镀膜舱(7)、转运舱(8)及壳体(2)顶部均安装有真空泵(13)。
3.根据权利要求1所述的一种进口过渡真空腔体，其特征在于：所述转运台(14)两侧沿转运架(9)平移方向开设有贯穿的螺纹通孔(18)，所述平移机构(10)包括平移电机(19)和平移丝杆(20)，所述平移丝杆(20)固定连接在平移电机(19)的驱动轴上，所述平移丝杆(20)与螺纹通孔(18)螺纹连接。
4.根据权利要求3所述的一种进口过渡真空腔体，其特征在于：所述转运台(14)底部两侧均固定安装有滑块(21)，所述滑块(21)分别活动安装在滑槽(22)内，所述滑槽(22)开设在底座(1)内。
5.根据权利要求1所述的一种进口过渡真空腔体，其特征在于：所述转运辊轮(17)通过转运电机驱动。
6.根据权利要求1所述的一种进口过渡真空腔体，其特征在于：所述玻璃插架(11)上间隔均匀设置有若干插片间隔(23)，若干所述插片间隔(23)上下两端的玻璃插架(11)上均固定安装有一一对应的玻璃固定弹片(24)。
7.根据权利要求6所述的一种进口过渡真空腔体，其特征在于：所述玻璃插架(11)顶部开设有磁铁安装槽(25)，所述磁铁安装槽(25)内均匀排列有吸附磁铁(26)，所述吸附磁铁(26)与插架吸附板(16)底部安装的磁铁异级吸附式排列。
8.一种磁控溅射镀膜生产线，包括用于玻璃插架(11)移动的真空腔体，其特征在于：该磁控溅射镀膜生产线采用权利要求1-7任意一项所述的进口过渡真空腔体。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114481061B (zh) * 2021-12-26 2023-10-27 凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司 一种玻璃连续ito镀膜设备

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101353782B (zh) * 2008-09-05 2011-08-31 郭爱云 大面积抗反射导电膜连续磁控溅射镀膜生产线
JP5657948B2 (ja) * 2009-09-02 2015-01-21 キヤノンアネルバ株式会社 真空処理装置及び基板移載方法
CN201908131U (zh) * 2010-09-17 2011-07-27 中微半导体设备(上海)有限公司 一种用于mocvd处理系统的预装片子系统
CN104752275B (zh) * 2013-12-29 2018-01-09 北京北方华创微电子装备有限公司 工艺腔室以及半导体加工设备
CN104213086B (zh) * 2014-09-12 2017-03-22 光驰科技(上海)有限公司 一种双臂自动装片式溅射镀膜方法及其装置
CN104805410B (zh) * 2015-04-21 2017-04-12 爱发科豪威光电薄膜科技(深圳)有限公司 磁控溅射镀膜机
CN109912233A (zh) * 2017-12-13 2019-06-21 湘潭宏大真空技术股份有限公司 三银low-e玻璃真空镀膜生产线
CN109957769A (zh) * 2017-12-14 2019-07-02 湘潭宏大真空技术股份有限公司 弧形玻璃真空磁控溅射镀膜生产线
CN108085654B (zh) * 2017-12-21 2019-11-08 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 一种倾斜式连续真空磁控溅射镀膜装置及镀膜生产线
CN110128022B (zh) * 2019-05-10 2024-02-20 吉林大学 一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置

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