NO152979B - Anordning ved forstoevningskatode og system for paafoering av belegg paa store substratarealer - Google Patents

Anordning ved forstoevningskatode og system for paafoering av belegg paa store substratarealer Download PDF

Info

Publication number
NO152979B
NO152979B NO794182A NO794182A NO152979B NO 152979 B NO152979 B NO 152979B NO 794182 A NO794182 A NO 794182A NO 794182 A NO794182 A NO 794182A NO 152979 B NO152979 B NO 152979B
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
boiler
boiling
gas
sulphate
hydrolysis
Prior art date
Application number
NO794182A
Other languages
English (en)
Other versions
NO152979C (no
NO794182L (no
Inventor
Douglas L Chambers
Chong T Wan
Original Assignee
Advanced Coating Tech
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Advanced Coating Tech filed Critical Advanced Coating Tech
Publication of NO794182L publication Critical patent/NO794182L/no
Publication of NO152979B publication Critical patent/NO152979B/no
Publication of NO152979C publication Critical patent/NO152979C/no

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/3244Gas supply means
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32733Means for moving the material to be treated
    • H01J37/32752Means for moving the material to be treated for moving the material across the discharge
    • H01J37/32761Continuous moving
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32733Means for moving the material to be treated
    • H01J37/32752Means for moving the material to be treated for moving the material across the discharge
    • H01J37/32761Continuous moving
    • H01J37/3277Continuous moving of continuous material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3402Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
    • H01J37/3405Magnetron sputtering
    • H01J37/3408Planar magnetron sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Soil Working Implements (AREA)
  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
  • Vending Machines For Individual Products (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)
  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
  • Medicines That Contain Protein Lipid Enzymes And Other Medicines (AREA)
  • Fodder In General (AREA)
  • Saccharide Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

Fremgangsmåte til forhydrolyse-sulfatkokning.
Den foreliggende oppfinnelse går ut
på en fremgangsmåte til å gjennomføre forhydrolyse-sulfatkokning av treflis eller lignende celluloseholdig materiale og tar særlig sikte på muligheten av å utføre en slik fremgangsmåte i en enkel kontinuerlig koker. Tidligere konstruksjoner bygger på det prinsipp å utføre de to koketrinn i særskilte kokere, innbyrdes forbundet en-ten ved en trykksluse eller ved et åpent rør. I det sistnevnte tilfelle utføres begge koketrinn ved samme trykk, og ved å sørge for en luftpute øverst i kokerne kan man holde et vilkårlig overtrykk over vanndamptrykket, noe som er vesentlig når det gjelder å vedlikeholde uforstyrret sirkulasjon av kokevæsken. I de to nevnte konstruksjoner har forhydrolysøren bestått av en oppstrømskoker, hvor flissøylens beve-gelse bevirkes av en løftende sirkulasjon, jfr. svensk patent nr. 155 076. En innven-ding mot dette er bl. a. risikoen for til-stopning av sirkulasjonssilene, noe som ved visse tresorter har vist seg å være en alvorlig ulempe. Fordelen ved arrangemen-tet er imidlertid at det gir en veldefinert overgang fra første til annet koketrinn, noe som er nødvendig for at man skal få en jevn massekvalitet. Man ville ellers kunne tenke seg å utføre forhydrolysen i den øvre del av en kontinuerlig nedstrøms-sulfatkoker av konvensjonell type, men ulempene med en udefinert blanding av forhydrolysat og hvitlut ved driftsforstyr-relser er betydelige.
Det er nu funnet at ulempene ved de
eldre fremgangsmåter blir ryddet av veien
i vesentlig grad hvis man utfører hydrolysetrinnet i dampfase. Den foreliggende fremgangsmåte ved sulfatkokning av celluloseholdig materiale med en sulfatkokevæske og med et hydrolysetrinn før den egentlige sulfatkokning går således ut på at hydrolysebehandlingen utføres med vanndamp som hovedsakelig opphetningsmiddel og med materialstykkene (f. eks. flisbitene) adskilt av en gass-dampfase. Det er klarlagt at forhydrolysen ved denne fremgangsmåte kan finne sted med vedens organiske syrer alene, ved ekstra tilsetning av fortynnet mineralsyre i et forimpregne-ringstrinn eller ved tilførsel av en sur gass, som svoveldioksyd til kokeren. Hydrolysebehandlingen utføres i den øvre del av en sulfatkoker som er innrettet for nedstrøms-kokning og kontinuerlig drift, og hvor sulfatkokevæskens overflate danner grense mellom hydrolysetrinnet og det egentlige sulfatkoketrinn. Der kan tenkes forskjel-lige måter til å oppnå den nødvendige temperatur ved hydrolysen, f. eks. kan opphet-ningsdamp tilføres hydrolysetrinnet nær det sted hvor cellulosematerialet forlater dette, hensiktsmessig like ovenfor sulfat-kokevæsken i en nedstrømskoker. Ved en foretrukken utførelsesform av oppfinnelsen kan en gass, hensiktsmessig luft, tilføres i °ass-dampfasen i hydrolysetrinnet, fortrinsvis i nærheten av det sted hvor cellulosematerialet forlater hydrolysetrinnet, samtidig som gass f. eks. for trykkregulering hensiktsmessig tas ut i stor avstand fra tilførselsstedet, fortrinsvis i den øvre del av en nedstrømskokers hydrolysedel.
Å gjennomføre hydrolysen i dampfase, dvs. uten annen tilstedeværende væske enn den som foreligger i flisen, krever riktignok en annen innmatning enn den som er vanlig ved kontinuerlig sulfatkokning, og som bygger på innmatning i væskefase, men der er kjent anordninger til innmatning av flis med andre midler enn væske, jfr. f. eks. de svenske patenter nr. 139 607 og 165 680. Det er også tenkelig å bibeholde innmatningen i væskefase og bevege flisen raskt til dampfase med et spesielt arrange-ment. Videre er det ønskelig for kokesir-kulasjonen i sulfatkokningen å holde et visst overtrykk over vanndamptrykket. Dette skjer ved normal kontinuerlig sulfatkokning med pumpetrykk til «stum», altså helt væskefylt koker. Ved dampfase i den øvre del av en nedstrømskoker kan man imidlertid basere seg på det ovennevn-te luftputeprinsipp.
Det er funnet at karbondioksyd, som utvikles under forhydrolysen, lett absor-beres av hvitluten hvis det får anledning til det, men at man ved å tilføre trykkluft like over sulfatkokesonen kan forhindre dette og i stedet tvinge karbondioksydet til å gå ut i toppen.
Forhydrolyse-sulfatkokningen gjen-nomføres således ifølge oppfinnelsen i en nedstrømskoker forsynt med innmatnings-organer som ikke krever væske, og der opp-rettholdes et væskenivå i kokeren i en høy-de hvor man ønsker at sulfatkokningen skal begynne, så forhydrolysen blir gjen-nomført i dampfase med et visst bestemt gass- og lufttrykk, som på egnet måte re-guleres ved lufttilførsel og gassavgang, mens hvitlut tilføres og fordeles på konvensjonell måte, f. eks. med en kokesirku-lasjon som også regulerer koketemperaturen. Utmatning av den ferdigkokte masse skjer på vanlig måte, f. eks. ved bunnsir-kulasjon og blåsning.
Oppfinnelsen vil nu bli beskrevet nærmere under henvisning til tegningen.
Fig, 1 anskueliggjør skjematisk opp-finnelsens prinsipp, og
fig. 2 viser skjematisk et kokeranlegg i henhold til oppfinnelsen.
Som vist på fig. 1, er kokeren oppdelt i en øvre forhydrolysesone og en nedre sul-fatkokesone. Grensen mellom disse soner dannes av væskenivået. Oventil innføres flis og damp. Dampen kan dels være bas-ningsdamp, dels innmatningsdamp. Hvitlut innføres nær sonegrensen, hvor der også innføres damp og fortrinnsvis tillike gass for trykkregulering. Ved bunnen uttas fer-digkokt masse og svartlut.
Fig. 2 viser et utførelseseksempel på
det prinsipp som er antydet på fig. 1. Fra en ilislomme 1 mates treflis via et måle-hjul 2 og en lavtrykksmater 3 til basnings-oeholderen 4, hvor flisen utsettes for en kort dampbehandling ved forholdsvis lav temperatur og lavt trykk, det sistnevnte regulert ved hjelp av en ventil i damptilfør-selsledningen (PRC). Denne basning er ikke nødvendig for forhydrolyse-sulfatpro-sessen, men medfører fordelen av at flisen kan forvarmes med lavverdig damp fra f. eks. blåsetanken 14 for materiale som er
ferdigbehandlet i kokeren, og er videre
gunstig hvis apparaturen fra tid til annen anvendes for ett-trinns sulfatkokning (når
væskenivået bringes på høyde med flisni-vået). Flisen faller derefter ned i kammeret i en høytrykksinnmater 5, hvorfra en dampstrøm tømmer kammeret til en høy-trykksdampblander 6, hvor flisen bringes
opp til koketemperaturen. Flisen transpor-teres hensiktsmessig med en skrue i bas-ningsbeholderen og høytrykksblanderen. I visse tilfeller er en damptilførsel direkte til den øvre del av kokeren tilstrekkelig, isåfall kan dampblanderen sløyfes og flisen falle direkte fra høytrykksinnmateren 5 ned i kokeren 7. Denne er i sin øvre del forsynt med impulsorganer for temperatur-kontroll og trykkontroll (TRC og PRC), an-ordnet for å virke henholdsvis på en ventil for høytrykksdamp og på en toppgassven-til 21 på kokeren. I den øvre del av kokeren utsettes flisen for hydrolyse under virk-ningen av vanndamp og de fra veden fri-gjorte organiske syrer samt eventuelt til-satte syrer mens den synker nedover inntil den når nivået for kokevæsken i kokerens nedre parti. Dette nivå holdes konstant ved hjelp av et reguleringsorgan (LRC) som virker på en ventil 18 for en bunntil-setning av svartlut. Hvitlut i regulert mengde (QRC) tilsettes kokeren via et rør som her utgjøres av det indre av et par konsentriske rør 8, og som munner ut like under væskenivået og i sentrum av koker-tverrsnittet. I det ytre rør, som munner ut ovenfor væskenivået, tilføres luft til damprommet for å gi et kokertrykk som overstiger det vanndamptrykk som svarer til temperaturen. Denne luft slippes ut gjennom den trykkregulerende toppgass-ventil 21 og tar samtidig med seg karbondioksyd som er dannet under forhydrolysen. For å fordele den tilførte hvitlut jevnt er der noe under væskenivået innbygget en kokersil 9 hvorfra kokevæske resirkuleres til røret 8 med en pumpe 10, hensiktsmessig gjennom varmeveksleren 11, som juste-rer temperaturen til ønsket verdi for sulfatkokningen (TRC). Den forhydrolyserte
flis synker derefter gjennom kokerens nedre parti under sulfatkoknng, og den ferdige masse mates ut av kokeren via bunnskra-pen 12 og blåseventilen 13 til blåsetanken 14, hvorfra damp avgår f. eks. til basnings-beholderen 4 og masse og svartlut til en massevask. Por å avveie de utmatede masse- og svartlutstrømmer på passende måte er der på trykksiden av blåseventilen an-ordnet en konsistensregulerende sil 15 i til-slutning til en sirkulasjonspumpe 16 for tilbakeføring av væske til kokeren. Dess-uten blir der, hvis det ønskes, ved hjelp av høytrykkspumpen 17 innmatet en ekstra mengde svartlut til kokerbunnen, bl. a. for regulering av væskenivået. Kokeren utføres hensiktsmessig med en utvidelse i høyde med røret 8 for å minske risikoen for at flissøylen skal bli hengende på dette rør. Selvsagt er det også mulig på kjent måte å gjennomføre motstrømskokning i sulfat-trinnet, med tilførsel av hvitlut via en sær-skilt sirkulasjon nærmere kokerbunnen og avtapning av svartluten fra sulfatkokeso-nens øvre del, i dette tilfelle like under grenseflaten mellom damp- og væskefase.
Organene til innmatning av flis i kokeren og utmatning av kokt masse fra denne styres slik at oppholdstiden i dampso-nen blir ca. iy2 time og i lutsonen omtrent like lang. Temperaturen i kokerens øvre del holdes på ca. 165°C, og de naturlig fore-kommende syrer i veden strekker da til for å gi den surhetsgrad som kreves for gjen-nomførelse av den ønskede hydrolysering. Senkes temperaturen i gassfasen til f. eks. 120°C, er det nødvendig å tilsette mineralsyre, f. eks. svovelsyre, for at hydrolyse skal finne sted. Det er tilstrekkelig med et par vektprosent syre, som hensiktsmessig tilsettes i dampblanderen 6. Sulfatkokningen i kokerens nedre del gjennomføres ved en temperatur av ca. 170°C og med en lut-styrke svarende til en vekt av NaOH som andrar til ca. 24 pst. av vekten av tørr flis. En mindre del av luten går med til å nøy-tralisere de sure produkter som flisen in-neholder når den efter gjennomført hydrolysering i gassfasen dykker ned i væskefyl-lingen. Trykket i kokeren kan være ca. 10 ato.

Claims (5)

1. Fremgangsmåte ved sulfatkokning av celluloseholdig materiale i en sulfatkoker innrettet for kontinuerlig nedstrøms-kokning, og med en sulfatkokevæske som utfyller kokeren (7) delvis så der i dennes øvre del dannes en gass-dampfase, karakterisert ved at materialet uten medfølgende sulfatkokevæske innføres i den nevnte øvre del i form av stykker, hensiktsmessig i baset tilstand, og der under-kastes hydrolysebehandling ved vanndamp som hovedsakelig opphetningsmiddel, hvorunder sulfatkokevæskens overflate danner grense mellom hydrolysetrinnet og det egentlige sulfatkoketrinn.
2. Fremgangsmåte som angitt i på-stand 1, karakterisert ved at opp-hetningsdamp tilføres kokerens øvre del (for hydrolysetrinnet) nær det sted hvor cellulosematerialet forlater hydrolysetrinnet, hensiktsmessig like ovenfor sulfatko-ke væsken.
3. Fremgangsmåte som angitt i en av de foregående påstander, karakterisert ved at en gass, hensiktsmessig luft, tilføres i gass-dampfasen i den øvre del av kokeren, fortrinsvis i nærheten av det sted hvor cellulosematerialet forlater den, hvorunder gass for f. eks. trykkregulering hensiktsmessig tas ut i stor avstand fra til-førselsstedet, fortrinsvis ved toppen av nedstrømskokeren.
4. Fremgangsmåte som angitt i en av de foregående påstander, karakterisert ved at en sur gass, f. eks. svoveldioksyd, tilføres den øvre del av kokeren for hydrolysetrinnet.
5. Fremgangsmåte som angitt i en av de foregående påstander, karakterisert ved at kokevæske fjernes fra kokeren nær væskeoverflaten i liten avstand fra stedet for tilførsel av sulfatkokevæske og føres gjennom en varmeveksler for opp-hetning og tilbake til kokeren.
NO794182A 1978-12-20 1979-12-19 Anordning ved forstoevningskatode og system for paafoering av belegg paa store substratarealer. NO152979C (no)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US05/971,196 US4194962A (en) 1978-12-20 1978-12-20 Cathode for sputtering

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NO794182L NO794182L (no) 1980-06-23
NO152979B true NO152979B (no) 1985-09-16
NO152979C NO152979C (no) 1985-12-27

Family

ID=25518049

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO794182A NO152979C (no) 1978-12-20 1979-12-19 Anordning ved forstoevningskatode og system for paafoering av belegg paa store substratarealer.

Country Status (12)

Country Link
US (1) US4194962A (no)
EP (1) EP0014819B1 (no)
JP (1) JPS5585673A (no)
AT (1) ATE3228T1 (no)
BR (1) BR7908323A (no)
CA (1) CA1133424A (no)
DE (1) DE2965330D1 (no)
DK (1) DK157563C (no)
ES (1) ES8101129A1 (no)
FI (1) FI63600C (no)
IE (1) IE49129B1 (no)
NO (1) NO152979C (no)

Families Citing this family (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4265729A (en) * 1978-09-27 1981-05-05 Vac-Tec Systems, Inc. Magnetically enhanced sputtering device
US4309261A (en) * 1980-07-03 1982-01-05 University Of Sydney Method of and apparatus for reactively sputtering a graded surface coating onto a substrate
US4290877A (en) * 1980-09-08 1981-09-22 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Interior Sputtering apparatus for coating elongated tubes and strips
US4361472A (en) * 1980-09-15 1982-11-30 Vac-Tec Systems, Inc. Sputtering method and apparatus utilizing improved ion source
JPS57190320A (en) * 1981-05-20 1982-11-22 Toshiba Corp Dry etching method
US4422896A (en) * 1982-01-26 1983-12-27 Materials Research Corporation Magnetically enhanced plasma process and apparatus
US4525262A (en) * 1982-01-26 1985-06-25 Materials Research Corporation Magnetron reactive bias sputtering method and apparatus
US4486289A (en) * 1982-02-05 1984-12-04 University Of British Columbia, Canada Planar magnetron sputtering device
US4415427A (en) * 1982-09-30 1983-11-15 Gte Products Corporation Thin film deposition by sputtering
US4437966A (en) * 1982-09-30 1984-03-20 Gte Products Corporation Sputtering cathode apparatus
US4581118A (en) * 1983-01-26 1986-04-08 Materials Research Corporation Shaped field magnetron electrode
US4597847A (en) * 1984-10-09 1986-07-01 Iodep, Inc. Non-magnetic sputtering target
US5215639A (en) * 1984-10-09 1993-06-01 Genus, Inc. Composite sputtering target structures and process for producing such structures
US4828668A (en) * 1986-03-10 1989-05-09 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Sputtering system for deposition on parallel substrates
FR2596920A1 (fr) * 1986-04-03 1987-10-09 Saint Roch Sa Glaceries Cathode de pulverisation
US4812217A (en) * 1987-04-27 1989-03-14 American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories Method and apparatus for feeding and coating articles in a controlled atmosphere
JPH0351971Y2 (no) * 1988-05-12 1991-11-08
US4915805A (en) * 1988-11-21 1990-04-10 At&T Bell Laboratories Hollow cathode type magnetron apparatus construction
DE3938267C2 (de) * 1989-11-17 1997-03-27 Leybold Ag Vorrichtung zum Heizen von Substraten
DE4135939A1 (de) * 1991-10-31 1993-05-06 Leybold Ag, 6450 Hanau, De Zerstaeubungskathode
US5322606A (en) * 1991-12-26 1994-06-21 Xerox Corporation Use of rotary solenoid as a shutter actuator on a rotating arm
KR100327716B1 (ko) * 1994-01-11 2002-06-27 노만 에이취. 폰드 진공처리시스템및진공처리시스템내에서의기판조작방법
JPH07316810A (ja) * 1994-05-27 1995-12-05 Fuji Xerox Co Ltd スパッタリング装置
DE4428136A1 (de) * 1994-08-09 1996-02-15 Leybold Ag Vakuum-Beschichtungsanlage
IL127236A0 (en) * 1997-11-26 1999-09-22 Vapor Technologies Inc Apparatus for sputtering or arc evaporation
US5997705A (en) * 1999-04-14 1999-12-07 Vapor Technologies, Inc. Rectangular filtered arc plasma source
US6309516B1 (en) 1999-05-07 2001-10-30 Seagate Technology Llc Method and apparatus for metal allot sputtering
US7678198B2 (en) * 2004-08-12 2010-03-16 Cardinal Cg Company Vertical-offset coater
EP2253732A2 (en) * 2004-09-03 2010-11-24 Cardinal CG Company Coater having interrupted conveyor system
US7498587B2 (en) * 2006-05-01 2009-03-03 Vapor Technologies, Inc. Bi-directional filtered arc plasma source
CN101636521B (zh) * 2007-03-16 2013-07-24 国立大学法人东北大学 磁控溅射装置
DE112008000765T5 (de) * 2007-03-30 2010-04-29 National University Corporation Tohoku University, Sendai Drehmagnet-Sputter-Vorrichtung
DE102007052524B4 (de) * 2007-11-01 2012-05-31 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Transportmittel und Vakuumbeschichtungsanlage für Substrate unterschiedlicher Größe
US8842357B2 (en) 2008-12-31 2014-09-23 View, Inc. Electrochromic device and method for making electrochromic device
US8432603B2 (en) 2009-03-31 2013-04-30 View, Inc. Electrochromic devices
US9966242B2 (en) * 2014-09-29 2018-05-08 Xinsheng Guo High throughput vacuum deposition sources and system

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
LU45647A1 (no) * 1964-03-12 1965-09-13
FR2132033B1 (no) * 1971-04-02 1975-10-24 Delog Detag Flachglas Ag
GB1391842A (en) * 1971-08-04 1975-04-23 Elektromat Veb Apparatus for coating substrates by cathode sputtering and for cleaning by ion bombardment in the same vacuum vessel
US4041353A (en) * 1971-09-07 1977-08-09 Telic Corporation Glow discharge method and apparatus
US3878085A (en) * 1973-07-05 1975-04-15 Sloan Technology Corp Cathode sputtering apparatus
US3956093A (en) * 1974-12-16 1976-05-11 Airco, Inc. Planar magnetron sputtering method and apparatus
US4013532A (en) * 1975-03-03 1977-03-22 Airco, Inc. Method for coating a substrate
DE2655942A1 (de) * 1976-12-10 1978-06-15 Tokuda Seisakusho Kawasaki Kk Zerstaeubungsvorrichtung
US4126530A (en) * 1977-08-04 1978-11-21 Telic Corporation Method and apparatus for sputter cleaning and bias sputtering
US4116806A (en) * 1977-12-08 1978-09-26 Battelle Development Corporation Two-sided planar magnetron sputtering apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
ES487573A0 (es) 1980-12-16
EP0014819B1 (en) 1983-05-04
DK157563B (da) 1990-01-22
DE2965330D1 (en) 1983-06-09
FI63600B (fi) 1983-03-31
DK157563C (da) 1990-06-18
ES8101129A1 (es) 1980-12-16
IE49129B1 (en) 1985-08-07
ATE3228T1 (de) 1983-05-15
CA1133424A (en) 1982-10-12
NO152979C (no) 1985-12-27
NO794182L (no) 1980-06-23
DK543679A (da) 1980-06-21
US4194962A (en) 1980-03-25
EP0014819A1 (en) 1980-09-03
IE792464L (en) 1980-06-20
FI63600C (fi) 1983-07-11
FI793982A (fi) 1980-06-21
BR7908323A (pt) 1980-09-16
JPS5585673A (en) 1980-06-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NO152979B (no) Anordning ved forstoevningskatode og system for paafoering av belegg paa store substratarealer
RU2465384C2 (ru) Двухколонная реакторная система и способ гидролиза и вываривания древесной щепы с помощью химически усиленного способа промывки
US20190241984A1 (en) Method for treating lignocellulosic biomass by impregnation and steam explosion
US3097987A (en) Continuous pulping process
NO151093B (no) Fremgangsmaate ved fremstilling av fibermasse, samt anordning for utfoerelse av fremgangsmaaten
NO173398B (no) Fremgangsmaate ved kontinuerlig kokning av celluloseholdigfibermateriale
SE521994C2 (sv) Kokning av cellulosamaterial med användning av hög alkalikoncentration i slutet av koket
NO146333B (no) Fremgangsmaate til kontinuerlig koking av fibermateriale
US2876098A (en) Process of and apparatus for the continuous manufacture of cellulose or hemicellulose from cellulosic fibrous materials
US2474862A (en) Process and apparatus for continuous digestion of fibrous materials
JP4292148B2 (ja) チップを含浸するための方法及び装置
NO179016B (no) Framgangsmåte og anordning for behandling av celluloseholdig treflis
CA2218670C (en) Method and apparatus for feeding multiple digesters
SE502039C2 (sv) Sätt och anordning för kontinuerlig kokning av massa
NO145592B (no) Tetningshode.
CN103409564B (zh) 一种制糖中的蒸发、加热、煮糖的热力系统及工艺
US10329713B2 (en) Method and arrangement for generating steam at a digester plant of a chemical pulp mill
JP2021517215A (ja) 溶解パルプの製造方法
NO129991B (no)
US3619348A (en) Process for continuous cellulose cooking
NO150499B (no) Roterende elektrisk utladningsskriver
JPH0214474B2 (no)
NO118203B (no)
NO764019L (no)
US3188267A (en) Apparatus for continuously pulping cellulose matter