NL9001751A - Geladen deeltjesbundelsysteem alsmede een koelinrichting, een spoel voorzien van een koelorgaan en een koelorgaan voor toepassing in een dergelijk geladen deeltjesbundelsysteem. - Google Patents

Geladen deeltjesbundelsysteem alsmede een koelinrichting, een spoel voorzien van een koelorgaan en een koelorgaan voor toepassing in een dergelijk geladen deeltjesbundelsysteem. Download PDF

Info

Publication number
NL9001751A
NL9001751A NL9001751A NL9001751A NL9001751A NL 9001751 A NL9001751 A NL 9001751A NL 9001751 A NL9001751 A NL 9001751A NL 9001751 A NL9001751 A NL 9001751A NL 9001751 A NL9001751 A NL 9001751A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
cooling
charged particle
particle beam
coil
beam system
Prior art date
Application number
NL9001751A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Original Assignee
Philips Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Nv filed Critical Philips Nv
Priority to NL9001751A priority Critical patent/NL9001751A/nl
Priority to DE1991625221 priority patent/DE69125221T2/de
Priority to EP19910201961 priority patent/EP0469679B1/de
Priority to JP21661691A priority patent/JPH04233147A/ja
Publication of NL9001751A publication Critical patent/NL9001751A/nl
Priority to US08/061,332 priority patent/US5289009A/en

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
    • H01J37/1472—Deflecting along given lines
    • H01J37/1474—Scanning means
    • H01J37/1475—Scanning means magnetic
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/10—Lenses
    • H01J37/14—Lenses magnetic
    • H01J37/141—Electromagnetic lenses

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
NL9001751A 1990-08-02 1990-08-02 Geladen deeltjesbundelsysteem alsmede een koelinrichting, een spoel voorzien van een koelorgaan en een koelorgaan voor toepassing in een dergelijk geladen deeltjesbundelsysteem. NL9001751A (nl)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL9001751A NL9001751A (nl) 1990-08-02 1990-08-02 Geladen deeltjesbundelsysteem alsmede een koelinrichting, een spoel voorzien van een koelorgaan en een koelorgaan voor toepassing in een dergelijk geladen deeltjesbundelsysteem.
DE1991625221 DE69125221T2 (de) 1990-08-02 1991-07-26 Ladungspartikelstrahlanlage, Kühlelement, eine Spule mit solch einem Kühlelement und ein Kühlvorrichtung, die ein derartiges Kühlelement aufweist
EP19910201961 EP0469679B1 (de) 1990-08-02 1991-07-26 Ladungspartikelstrahlanlage, Kühlelement, eine Spule mit solch einem Kühlelement und ein Kühlvorrichtung, die ein derartiges Kühlelement aufweist
JP21661691A JPH04233147A (ja) 1990-08-02 1991-08-02 荷電粒子ビームシステム
US08/061,332 US5289009A (en) 1990-08-02 1993-05-13 Charged particle beam system and cooling device, a coil comprising a cooling member and a cooling member for use in such a charged particle beam system

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL9001751A NL9001751A (nl) 1990-08-02 1990-08-02 Geladen deeltjesbundelsysteem alsmede een koelinrichting, een spoel voorzien van een koelorgaan en een koelorgaan voor toepassing in een dergelijk geladen deeltjesbundelsysteem.
NL9001751 1990-08-02

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL9001751A true NL9001751A (nl) 1992-03-02

Family

ID=19857505

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL9001751A NL9001751A (nl) 1990-08-02 1990-08-02 Geladen deeltjesbundelsysteem alsmede een koelinrichting, een spoel voorzien van een koelorgaan en een koelorgaan voor toepassing in een dergelijk geladen deeltjesbundelsysteem.

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP0469679B1 (de)
JP (1) JPH04233147A (de)
DE (1) DE69125221T2 (de)
NL (1) NL9001751A (de)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6266471B2 (ja) * 2014-08-22 2018-01-24 日本電子株式会社 流体循環装置および荷電粒子線装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1614407B1 (de) * 1967-01-13 1972-08-03 Siemens Ag Anordnung zur erzeugung eines den korpuskularstrahl in einem korpuskulargeraet, insbesondere elektronenmikroskop, beeinflussenden elektromagnetischen feldes
DE3339131A1 (de) * 1983-10-28 1985-05-09 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Elektronenstrahlverdampfer mit mindestens zwei magnetischen ablenksystemen
GB2175134B (en) * 1985-03-25 1989-06-21 Sumskoe Proizv Ob Elektron Electromagnetic lens and electronic microscope using this electromagnetic lens

Also Published As

Publication number Publication date
EP0469679A1 (de) 1992-02-05
DE69125221T2 (de) 1997-08-28
JPH04233147A (ja) 1992-08-21
DE69125221D1 (de) 1997-04-24
EP0469679B1 (de) 1997-03-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10345710B2 (en) Microlithographic projection exposure apparatus and measuring device for a projection lens
US9591735B2 (en) High voltage isolation of an inductively coupled plasma ion source with a liquid that is not actively pumped
KR101861210B1 (ko) 전자 렌즈 및 전자빔 장치
US10606179B2 (en) Projection exposure apparatus for semiconductor lithography with reduce thermal deformation
US20100220302A1 (en) Projection exposure apparatus for semiconductor lithography comprising a cooling device
JP2016200316A (ja) 熱交換装置、冷却装置及びプロジェクター
US5289009A (en) Charged particle beam system and cooling device, a coil comprising a cooling member and a cooling member for use in such a charged particle beam system
KR101877633B1 (ko) 하전 입자 빔 렌즈 장치, 하전 입자 빔 컬럼 및 하전 입자 빔 노광 장치
NL9001751A (nl) Geladen deeltjesbundelsysteem alsmede een koelinrichting, een spoel voorzien van een koelorgaan en een koelorgaan voor toepassing in een dergelijk geladen deeltjesbundelsysteem.
EP1548503B1 (de) Lithographischer Apparat
JP6161430B2 (ja) 電子レンズ及び荷電粒子線装置
TWI771629B (zh) 冷卻帶電粒子束系統之物鏡的線軸及相關聯電腦可讀儲存媒體
US11036143B2 (en) Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method
US6188071B1 (en) Feedback method for increasing stability of electron beams
KR101204606B1 (ko) 마이크로 리소그래픽 투영 노광 장치 및 그 투영 렌즈를 위한 측정 장치
TW202320117A (zh) 用於電磁線圈之均勻冷卻之系統及方法
JPS5873119A (ja) 電子ビ−ム描画装置
JPH118098A (ja) 加速管の温度調節システム
JPH09147775A (ja) 走査電子顕微鏡用対物レンズ
JPS6151737A (ja) 電子レンズ
JPH09238449A (ja) リニアモータ
JPS61269839A (ja) 電磁レンズおよび該電磁レンズを用いる電子顕微鏡
JPH1064463A (ja) 電磁レンズ

Legal Events

Date Code Title Description
A1B A search report has been drawn up
BV The patent application has lapsed