JPH04233147A - 荷電粒子ビームシステム - Google Patents

荷電粒子ビームシステム

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JPH04233147A
JPH04233147A JP21661691A JP21661691A JPH04233147A JP H04233147 A JPH04233147 A JP H04233147A JP 21661691 A JP21661691 A JP 21661691A JP 21661691 A JP21661691 A JP 21661691A JP H04233147 A JPH04233147 A JP H04233147A
Authority
JP
Japan
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cooling
charged particle
particle beam
beam system
coil
Prior art date
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Pending
Application number
JP21661691A
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English (en)
Inventor
Johan G Bakker
ヨハン グスタフ バッカー
Peter E S J Asselbergs
ピーター エミル ステファン ジョセフ アッセルバーグス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
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Filing date
Publication date
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
Publication of JPH04233147A publication Critical patent/JPH04233147A/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/147Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
    • H01J37/1472Deflecting along given lines
    • H01J37/1474Scanning means
    • H01J37/1475Scanning means magnetic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/10Lenses
    • H01J37/14Lenses magnetic
    • H01J37/141Electromagnetic lenses

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は荷電粒子ビーム放出源と
、この荷電粒子ビームを反射する少なくとも1つのコイ
ルを具える集束装置とを具え、この少なくとも1つのコ
イルはこれを囲む冷却部材を有するとともに冷却媒体を
移送する冷却ダクトを有する冷却部材を具える荷電粒子
ビームシステムに関するものである。
【0002】また、本発明は荷電粒子ビームシステムに
用いるに好適な冷却装置、冷却部材を設けたコイル、お
よび冷却部材にも関するものである。
【0003】
【従来の技術】この種の荷電粒子ビームシステムは米国
特許第3,394,254号明細書から既知である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記米国特許明細書に
は、樹脂絶縁ワイヤが卷装された銅チューブにより形成
された電子ビーム集束用のコイルが記載されている。こ
のコイルの外側には銅層を設けて、前記コイルを冷却部
材の円筒形開口に嵌合させ、前記コイルの外側の銅層は
これも銅製の冷却部材の内壁と係合させるようにする。 この冷却部材には前記コイルと同軸で水を圧送する冷却
ダクトを設ける。従って、コイルに発生した熱は、まず
最初、銅成の冷却部材により伝達されて冷却ダクトに移
送され、次いで伝達(対流)により荷電粒子ビームシス
テムから放出されるようになる。コイルで30〜40W
の電力消費が行われる場合には、コイルは70℃の温度
まで加熱されるようになる。従って、熱のほぼ70%が
冷却水によって消失されるようになる。
【0005】本発明の目的は、効率良く冷却されたコイ
ルを具える荷電粒子ビームシステムを提供せんとするに
ある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は荷電粒子ビーム
放出源と、この荷電粒子ビームを反射する少なくとも1
つのコイルを具える集束装置とを具え、この少なくとも
1つのコイルはこれを囲む冷却部材を有するとともに冷
却媒体を移送する冷却ダクトを有する冷却部材を具える
荷電粒子ビームシステムにおいて、前記冷却部材は入口
開口および出口開口を有するチャンバを形成するジャケ
ットを具え、前記コイルは前記チャンバ内に収容し、前
記冷却ダクトは前記コイルおよびジャケット間にスペー
スを具えることを特徴とする。
【0007】水はコイルの周りを循環するため、効率の
良い熱交換を行うことができ、コイルに発生した熱は対
流によって移送されるようになる。かかる冷却部材を用
いる場合にはコイルに発生した熱のほぼ99%を冷却水
により消失させることができる。本発明による冷却部材
を用いる場合には周囲に対する熱の対流を低減させるこ
とができる。
【0008】本発明荷電粒子ビームシステムの1例では
、前記ジャケットは2つの同心円筒壁部と、これら壁部
に連結された底部と、前記壁部と共働する着脱自在の蓋
体とを具えるようにする。
【0009】通常荷電粒子ビームシステムに用いられる
レンズは環状であり、電子ビームは円環体の中心開口を
通過する。2つの同心状壁部と、底部と、着脱自在の蓋
体とによって、内部にコイルを位置させる環状ドラムを
形成する。
【0010】本発明荷電粒子ビームシステムの1例では
、前記蓋体には入口凹部および出口凹部を設け、これら
凹部は前記蓋体の周縁方向に延在し、かつ、前記コイル
と共働する肩部によって互いに分離し、前記入口開口お
よび出口開口は前記肩部の各側に1つずつ配置し得るよ
うにする。この肩部は例えばコイルと係合するとともに
冷却ダクトを2部分に分割し、冷却媒体が冷却ダクトの
片側で入口開口を経て導入されるようにする。
【0011】本発明荷電粒子ビームシステムの好適な1
例では、前記肩部は前記底部と対向して位置する端面に
おいて前記入口凹部および出口凹部を囲む環状閉成部材
と共働し、前記環状閉成部材は前記肩部の両側に位置す
る複数の入口開口および出口開口を具えるとともに前記
入口開口および出口開口間に位置し、前記コイルと係合
する他の肩部を具えるようにする。
【0012】前記蓋体およびコイル間に緊締された閉成
部材を用いることによって冷却ダクトを好適に封止する
ことができる。閉成部材の多数の入口開口および出口開
口は、冷却媒体の入口および出口間で乱流となるのを防
止し、従ってコイルが騒乱によって振動されるのを防止
する。。
【0013】本発明荷電粒子ビームシステムの他の例で
は、前記冷却部材は前記コイルおよび前記ジャケット間
に位置し、前記冷却ダクトの1部分を構成する軸線方向
の流れスペースを具え、この流れスペースを前記ジャケ
ットの周縁方向において前記冷却ダクトからほぼ完全に
分離し得るようにする。
【0014】冷却水は、ジャケットの底部の入口開口を
経てコイルおよびジャケット間のスペースにおいてコイ
ルに沿って上流に流れることができ、その後、流れのス
ペースを経て軸方向にチャンバを出、ジャケットの底部
に設けられた出口開口を経て導出する。この流れのスペ
ースは前記ジャケットおよびコイル間に設けられたチュ
ーブと、2つの軸方向肩部とによって形成し、これら軸
方向肩部はこれらの間に位置するジャケットの1部分お
よび前記コイルと相俟て流れのスペースを囲むようにす
る。
【0015】本発明荷電粒子ビームシステムの他の例で
は、前記冷却部材はプラスチック材料で造るようにする
【0016】冷却部材の壁部および底部は、既知の冷却
部材とは逆に、殆ど伝熱的ではない。これがため、前記
壁部、底部および蓋体はプラスチックのような熱伝達係
数の低い材料で造ることができる。従って、前記壁部お
よび底部は単一成型製品として形成するのが好適である
【0017】本発明荷電粒子ビームシステムの更に他の
例では、荷電粒子ビームシステムは閉回路を有する冷却
装置を具え、この閉回路は冷却液リザーバと、冷却部材
と、熱交換素子とを具え、この熱交換素子は流れの方向
に見て前記冷却液リザーバおよび前記冷却部材間に位置
させて前記冷却液が前記冷却部材を通過する前に冷却さ
れるようにする。水は20℃から30℃に加熱されると
、酸素の溶解度は13.810−4moll−1から1
0.310−4moll−1に減少し、窒素の溶解度は
6.8810−4moll−1から5.2710−4m
oll−1に減少する。冷却ダクト内で加熱された水は
加熱により脱ガスされ、従って気泡は冷却ダクト内に形
成されるようになる。これがため、流れのパターンに不
所望な乱れが生じ、撮像品質に悪影響を与える振動がコ
イルに発生するようになる。この減少を解消するために
は、熱交換素子の冷却液を空気を存在させることなく、
27℃から20℃に冷却する。これがため、冷却媒体は
空気を一層排除することができる。その理由は、熱交換
素子内に空気が存在しないからであり、従って冷却液は
飽和不足となる。コイル内の水を冷却媒体リザーバの温
度(27℃)以上に加熱しない場合には、冷却媒体内で
脱ガスは生じない。また、冷却部材がまず最初作動開始
時にこの冷却部材に空気が存在するものとする場合には
この飽和不足の冷却液が空気を吸収するため、かように
存在する空気は除去することができる。
【0018】本発明荷電粒子ビームシステムの更に他の
例では、前記冷却装置は、流れの方向に見て、前記冷却
部材および冷却液リザーバ間に位置させ、かつ、弁を経
てバイパスし得る他の熱交換素子を具えるようにする。
【0019】コイルが附勢されない場合には、前記リザ
ーバに対し冷却された冷却液は冷却ダクト内で加熱され
ない。また、コイルが附勢されない場合に、冷却液のリ
ザーバと冷却媒体との間に位置する熱交換素子によって
抽出された熱は他の熱交換素子を経て再び冷却液に供給
されるようになる。コイルが附勢される場合にはこの他
の熱交換素子は弁を経てバイパスされるようになる。こ
の熱交換素子は他の閉回路に含まれる熱交換素子と相俟
って2つの熱交換器を構成するのが好適である。この他
の閉回路は例えば冷却媒体のフレオンを含むとともに例
えば他の閉回路の熱を放出する熱交換器を含む。
【0020】
【実施例】図面につき本発明の実施例を説明する。図1
に示す本発明荷電粒子ビームシステム1は通常電子顕微
鏡とするとともに電子ビーム源3と、光軸2に沿って配
列されたコイル7、9、13、15、17、21、23
および25によって構成された集束装置とを具える。電
子ビーム源3によって放出された電子は陽極5によって
加速され、投影レンズ系7、9を経て対物レンズ13、
15に位置する試料11上に投影する。
【0021】試料11の回折像は回折レンズを附勢する
ことによってターゲット19上に撮像することができる
。電子顕微鏡の倍率は中間レンズ21を附勢することに
より投影レンズ系23、25によってレンズ15、17
および21により形成された像をターゲット19上に投
影する。また電子ビーム源に整列されたコイル27およ
びビーム傾斜コイル29をも列に沿って配列する。ポン
プ連結部31および32を介して、真空ポンプ系によっ
て電子顕微鏡内の圧力を例えば10−8トルまで減少さ
せるようにする。本例では、16000アンペア−ター
ンによる例えば500Wの電力(200kV、2.5m
A)を消費するレンズを通常のように冷却する。レンズ
を囲む金属による伝導によって冷却ダクトに伝達された
熱は冷却ダクト40を経てのみ部分的に消費される。こ
の熱の1部分、例えば30%は対流または伝導によって
レンズの周囲の加熱に寄与するようになる。検査すべき
試料11の熱ドリフトを中和してレンズの高解像密度の
ものを用いて球面収差を減少し得るようにする場合には
、これらレンズ79、13、15、17、21および2
3を例えば22℃に冷却する。
【0022】図2はレンズ33を示し、この際、その1
部分のみが光軸2の片側に位置するようになる。このレ
ンズ33は環状コイル35と、軟鉄磁極37とを具える
。コイル35の巻線はプラスチックジャケット39によ
って囲むようにする。ジャケット39は蓋体41と、ジ
ャケット39およびコイル35間に配列された冷却ダク
ト43と、コイル35とを具える。コイル35はカム(
図示せず)を介してジャケット39の底部42に当接さ
せるようにするため、冷却媒体はこのコイル35内を循
環し得るようになる。蓋体41の入口凹部47を経て供
給される冷却媒体は入口開口45を経て冷却ダクト43
内に入り、出口凹部48を経て冷却ダクト43から出る
ため、蓋体41に設けた出口凹部50を経て放出される
ようになる。ジャケット39によって囲まれたチャンバ
の端面51に位置する閉成部材55は前記蓋体41によ
ってコイル35に抗して押圧されるようになる。肩部4
9はコイル35に当接し、Oリング53を介して冷却ダ
クト43を封止する。
【0023】閉成部材55の上側にはスロットを設け、
これを蓋体の肩部56によって係合し、この肩部によっ
て前記入口凹部47および前記蓋体41に設けた出口凹
部49とを分離し得るようにする。
【0024】図3は前記冷却部材のジャケット39と、
前記端面51に位置し固定部材57および59によって
ジャケット39の壁部に連結された閉成部材55とを示
す。前記壁部および前記ジャケット39の底部は単一成
型製品によって構成する。壁部部材55にはその内側お
よび外側周縁部に入口開口45および出口開口48をそ
れぞれ設ける。蓋体41はブッシュ61を用いることに
よって閉成部材55に螺着することができる。
【0025】コイルの両端の電圧が200kVの場合に
かかる冷却部材を用いる場合には、レンズを冷却する既
知の方法の場合のような4Amm−2の電流密度とは逆
に5Amm−2の電流密度を用いることができる。
【0026】図4aおよび4bはかかる冷却部材のジャ
ケット39を示し、このジャケットには内側に2つの軸
線方向肩部90および92を設ける。冷却媒体は肩部9
0および92に隣接して位置する入口開口94を経て冷
却ダクト43に入る。図4あにはコイル35は示さない
。冷却媒体はコイル35で加熱された後、加熱された9
0および92間に位置する出口開口96に向かって流れ
る。肩部90および92の代わりに、コイル35および
ジャケット39間に配列されたチューブによって流れの
スペースを形成することもできる。
【0027】図5は冷却部材72によって囲まれたコイ
ルを冷却する冷却装置70を示す。冷却媒体、例えば、
水が加熱されると、冷却部材72の冷却ダクト43に空
気が放出されるようになる。この際の気泡は冷却媒体の
流れを妨害するとともにレンズ33の振動を生ぜしめる
騒乱を発生し得るようになる。これがため、荷電粒子ビ
ームの偏向が妨害され、従って電子ビームにより照射さ
れる物体の不正確な撮像が電子顕微鏡の場合に発生する
ようになる。
【0028】冷却媒体から空気が拆出されるのを防止す
るためには、空気に対して未飽和の冷却液を冷却部材7
2に流すようにする。冷却装置70は第1熱交換素子7
6にポンプPを介して連結された冷却液リザーバ74を
具える。熱交換素子76は冷却媒体72に連結し、連結
し、部材72の出口開口は第2熱交換素子78に連結す
る。第2熱交換素子78は冷却液リザーバ74に連結す
るとともに可制御弁(弁)80を経てバイパスし得るよ
うにする。他の閉回路81は熱交換素子82、84およ
び86並びにコンプレッサCによって構成し、この際熱
交換素子82および84は熱交換素子76および78と
それぞれ共働し、熱交換素子86は閉回路81から熱を
放出する熱交換器88の1部を構成する。リザーバ74
内の冷却液の温度を例えば27℃とする。
【0029】熱交換素子76では、冷却液を空気が存在
しない場合に20℃の温度まで冷却して、冷却液が未飽
和となるようにする。冷却部材72において、冷却液を
27℃以下の温度に加熱する場合には冷却液から空気は
放出されない。冷却部材72の冷却ダクト43に存在す
る空気はこの未飽和冷却液によって吸収されるようにな
る。冷却液は熱交換素子78のバイパスを経て前記リザ
ーバ74に戻るようになる。閉回路81で吸収された熱
は熱交換素子86を経て放出される。コイルで電力を消
費しない場合には、冷却液は熱交換素子78を経てリザ
ーバに戻り、従って、熱交換素子76から取出された熱
は熱交換素子84を経て再び閉回路71に供給されるよ
うになる。この目的のため、閉回路71の温度が過度に
降下する際に、可制御弁80を温度センサーTを経て作
動させるため、冷却液は熱交換素子84を経て加熱され
るようになる。
【0030】図4aおよび4bに示すような冷却部材を
用いる場合には、空気蓄熱の問題は発生しないか、また
は極めて僅かに生じるだけであるため、この場合には熱
交換素子76は省略することができる。
【0031】本発明によってカバーされる荷電粒子ビー
ムシステムは、走査電子型顕微鏡、透過電子型顕微鏡、
半導体装置製造用の電子ビーム描画兼テスト装置、電子
またはイオンビーム食刻装置およびイオンビーム注入装
置等である。
【図面の簡単な説明】
【図1】荷電粒子ビームシステムの構成を示す横断面図
である。
【図2】本発明による冷却部材が設けられたコイルの構
成を示す横断面図である。
【図3】本発明による冷却部材の1部分の構成を示す斜
視図である。
【図4】(a)は2つの軸方向肩部を設けた冷却部材を
示す斜視図であり、 (b)は図4aに示す冷却部材を設けたコイルの構成を
示す断面図である。
【図5】本発明荷電粒子ビームシステムに用いる冷却装
置の構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
1  荷電粒子ビームシステム 2  光軸 3  放射ビーム源 5  陽極 7、9、13、15、17、21、23、25  コイ
ル(レンズ)11  試料 19  ターゲット 27  電子ビーム源整列コイル 29  ビーム傾斜コイル 31  ポンプ連結部 32  ポンプ連結部 33  レンズ 35  環状コイル 37  軟鉄磁極 39  プラスチックジャケット 40  冷却ダクト 41  蓋体 42  底部 43  冷却ダクト 45  入口開口 47  入口凹部 48  出口開口 49  肩部 50  出口凹部 51  端面 53  Oリング 55  閉成部材 56  肩部 57  固定手段 59  固定手段 61  ブッシュ 70  冷却装置 72  冷却部材 74  冷却液リザーバ 76、78  熱交換素子 80  可制御弁 81  閉回路 82  熱交換素子 84  熱交換素子 86  熱交換素子 88  熱交換器 90  肩部 92  肩部 96  出口開口 97  流れのスペース

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  荷電粒子ビーム放出源と、この荷電粒
    子ビームを反射する少なくとも1つのコイルを具える集
    束装置とを具え、この少なくとも1つのコイルはこれを
    囲む冷却部材を有するとともに冷却媒体を移送する冷却
    ダクトを有する冷却部材を具える荷電粒子ビームシステ
    ムにおいて、前記冷却部材は入口開口および出口開口を
    有するチャンバを形成するジャケットを具え、前記コイ
    ルは前記チャンバ内に収容し、前記冷却ダクトは前記コ
    イルおよびジャケット間にスペースを具えることを特徴
    とする荷電粒子ビームシステム。
  2. 【請求項2】  前記ジャケットは2つの同心円筒壁部
    と、これら壁部に連結された底部と、前記壁部と共働す
    る着脱自在の蓋体とを具えることを特徴とする請求項1
    に記載の荷電粒ビームシステム。
  3. 【請求項3】  前記蓋体には入口凹部および出口凹部
    を設け、これら凹部は前記蓋体の周縁方向に延在し、か
    つ、前記コイルと共働する肩部によって互いに分離し、
    前記入口開口および出口開口は前記肩部の各側に1つず
    つ配置するようにしたことを特徴とする請求項2に記載
    の荷電粒子ビームシステム。
  4. 【請求項4】  前記肩部は前記底部と対向して位置す
    る端面において前記入口凹部および出口凹部を囲む環状
    閉成部材と共働し、前記環状閉成部材は前記肩部の両側
    に位置する複数の入口開口および出口開口を具えるとと
    もに前記入口開口および出口開口間に位置し、前記コイ
    ルと係合する他の肩部を具えることを特徴とする請求項
    3に記載の荷電粒子ビームシステム。
  5. 【請求項5】  前記冷却部材は前記コイルおよび前記
    ジャケット間に位置し、前記冷却ダクトの1部分を構成
    する軸線方向の流れスペースを具え、この流れスペース
    を前記ジャケットの周縁方向において前記冷却ダクトか
    らほぼ完全に分離するようにしたことを特徴とする請求
    項1または2に記載の荷電粒子ビームシステム。
  6. 【請求項6】  前記ジャケットの内側に前記コイルと
    係合する2つの軸線方向に隣接する肩部を設け、前記流
    れスペースは前記肩部によって囲み、これら肩部間に位
    置する前記ジャケットの1部分を前記肩部および前記コ
    イル間に位置させるようにしたことを特徴とする請求項
    5に記載の荷電粒子ビームシステム。
  7. 【請求項7】  前記肩部は前記ジャケットの底部にで
    きるだけ遠くに位置させ、前記入口開口は前記肩部に隣
    接して位置するジャケット部分に位置させるようにした
    ことを特徴とする請求項6に記載の荷電粒子ビームシス
    テム。
  8. 【請求項8】  前記冷却部材はプラスチック材料で造
    るようにしたことを特徴とする請求項1〜7の何れかの
    項に記載の荷電粒子ビームシステム。
  9. 【請求項9】  前記壁部および底部は単一成型製品と
    して形成するようにしたことを特徴とする請求項8に記
    載の荷電粒子ビームシステム。
  10. 【請求項10】  荷電粒子ビームシステムは閉回路を
    有する冷却装置を具え、この閉回路は冷却液リザーバと
    、冷却部材と、熱交換素子とを具え、この熱交換素子は
    流れの方向に見て前記冷却液リザーバおよび前記冷却部
    材間に位置させて前記冷却液が前記冷却部材を通過する
    前に冷却されるようにしたことを特徴とする請求項1〜
    9の何れかの項に記載の荷電粒子ビームシステム。
  11. 【請求項11】  前記冷却装置は、流れの方向に見て
    、前記冷却部材および冷却液リザーバ間に位置させ、か
    つ、弁を経てバイパスし得る他の熱交換素子を具えるこ
    とを特徴とする請求項10に記載の荷電粒子ビームシス
    テム。
  12. 【請求項12】  前記冷却装置は、前記閉回路の熱交
    換素子と共働する熱交換素子を含む他の閉回路を具える
    とともにこの他の閉回路の熱を放出する熱交換器を具え
    ることを特徴とする請求項11に記載の荷電粒子ビーム
    システム。
  13. 【請求項13】  請求項1〜12の何れかの項に記載
    の荷電粒子ビームシステムに用いるに好適な冷却装置。
  14. 【請求項14】  請求項1〜5の何れかの項に記載の
    荷電粒子ビームシステムに用いるに好適な冷却部材を具
    えるコイル。
  15. 【請求項15】  請求項1〜5の何れかの項に記載の
    荷電粒子ビームシステムに用いるに好適な冷却部材。
JP21661691A 1990-08-02 1991-08-02 荷電粒子ビームシステム Pending JPH04233147A (ja)

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NL9001751A NL9001751A (nl) 1990-08-02 1990-08-02 Geladen deeltjesbundelsysteem alsmede een koelinrichting, een spoel voorzien van een koelorgaan en een koelorgaan voor toepassing in een dergelijk geladen deeltjesbundelsysteem.
NL9001751 1990-08-02

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JP21661691A Pending JPH04233147A (ja) 1990-08-02 1991-08-02 荷電粒子ビームシステム

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016044876A (ja) * 2014-08-22 2016-04-04 日本電子株式会社 流体循環装置および荷電粒子線装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1614407B1 (de) * 1967-01-13 1972-08-03 Siemens Ag Anordnung zur erzeugung eines den korpuskularstrahl in einem korpuskulargeraet, insbesondere elektronenmikroskop, beeinflussenden elektromagnetischen feldes
DE3339131A1 (de) * 1983-10-28 1985-05-09 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Elektronenstrahlverdampfer mit mindestens zwei magnetischen ablenksystemen
GB2175134B (en) * 1985-03-25 1989-06-21 Sumskoe Proizv Ob Elektron Electromagnetic lens and electronic microscope using this electromagnetic lens

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016044876A (ja) * 2014-08-22 2016-04-04 日本電子株式会社 流体循環装置および荷電粒子線装置

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