NL8602759A - Werkwijze en inrichting voor het behandelen van een langwerpig substraat, dat van een deklaag voorzien is; alsmede volgens die werkwijze behandelde substraten en met deze substraten versterkte voorwerpen uit polymeermateriaal. - Google Patents
Werkwijze en inrichting voor het behandelen van een langwerpig substraat, dat van een deklaag voorzien is; alsmede volgens die werkwijze behandelde substraten en met deze substraten versterkte voorwerpen uit polymeermateriaal. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8602759A NL8602759A NL8602759A NL8602759A NL8602759A NL 8602759 A NL8602759 A NL 8602759A NL 8602759 A NL8602759 A NL 8602759A NL 8602759 A NL8602759 A NL 8602759A NL 8602759 A NL8602759 A NL 8602759A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- coating
- substrate
- elongated substrate
- cathode
- elongated
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Reinforced Plastic Materials (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
-1-
86,5137/Ba/vL
Korte aanduiding: Werkwijze en inrichting voor het behandelen van een langwerpig substraat, dat van een deklaag voorzien is; alsmede volgens die werkwijze behandelde substraten en met deze substraten versterkte voorwerpen uit polymeer-materiaal
De uitvinding betreft in de eerste plaats een werkwijze voor het behandelen van een langwerpig substraat, zoals een draad, een band, een koord, enz., waarbij dit substraat reeds van een deklaag is voorzien.
5 Het aanbrengen van een deklaag op een langwerpig substraat, zoals een stalen draad, is algemeen bekend. Het aanbrengen van deze deklaag kan gebeuren door middel van elektrolytisch bedekken, onderdompelen in een bad van het gesmolten metaal, enz.
Er zijn tal van bedekkingstechnieken bekend, die toelaten om 10 snel betrekkelijk dikke deklagen aan te brengen. Zo is het bijvoorbeeld bekend om metalen deklagen van messing (legering van koper en zink) of zink aan te brengen op stalen draden, banden, enz. en deze draden, banden, enz. daarna nog verder te behandelen om de gewenste eindprodukten te verkrijgen. Het is bijvoor-15 beeld bekend om deze reeds bedekte draden, banden, enz. of deze tussenprodukten verder te trekken, te walsen, enz. en daarna deze draden, banden, enz. samen te bundelen om bijvoorbeeld koorden als eindprodukten te vervaardigen.
Het aanwezig zijn van deze deklaag van messing, zink, enz.
20 op deze langwerpige substraten heeft meestal tot hoofddoel dat de daaruit vervaardigde eindprodukten bepaalde eigenschappen zouden bezitten, bijvoorbeeld een voldoende weerstand tegen korro-sie, een voldoende hechting met rubber of kunststof wanneer deze eindprodukten benut worden als versterkingsmateriaal. Het 25 aanwezig zijn van deze eerste deklaag van messing, zink, op deze langwerpige substraten als tussenprodukten, zoals staaldraad, heeft echter ook andere doeleinden; bijvoorbeeld het ge-makkelijker trekken, walsen, enz. van de tussenprodukten tijdens de tussenbehandelingen voor het vervaardigen van de ge-30 wenste eindprodukten.
0602769 * -2-
Er werd nu vastgesteld, dat het aanbrengen van deze deklaag met de gewenste eigenschappen, bijvoorbeeld de dikte van de deklaag, de samenstelling van de deklaag, enz. op deze tus-senprodukten redelijk goed kan worden uitgevoerd of met andere 5 woorden tussenprodukten met deklagen met bepaalde gewenste eigenschappen kunnen worden verkregen. Anderzijds werd vastgesteld, dat tijdens de tussenbehandelingen v66r het vervaardigen van de gewenste eindprodukten, bijvoorbeeld tijdens het trekken, walsen, kableren, enz. de eigenschappen van deze 10 eerste deklaag soms aanzienlijk worden gewijzigd, waardoor de eigenschappen van de daaruit vervaardigde eindprodukten niet altijd voldoen aan de gewenste eigenschappen van deze eindprodukten.
De uitvinding heeft tot doel een werkwijze te verschaffen 15 voor het behandelen van een langwerpig substraat, zoals een draad, een band, een koord, enz., dat reeds voorzien is van een deklaag, om aldus een eindprodukt te verkrijgen, dat voorzien is van een deklaag met de gewenste eigenschappen voor het toepassen van dit eindprodukt.
20 De werkwijze volgens de uitvinding voor het behandelen van een langwerpig substraat, dat van een deklaag is voorzien, wordt hierdoor gekenmerkt, dat de behandeling omvat het door kathodeverstuiven aanbrengen van een tenminste één bestanddeel omvattend materiaal waarvan de samenstelling gekozen is in over-25 eenstemming met het verschil tussen de gemeten samenstelling van de deklaag dan wel de oppervlaktelaag van de deklaag en de gewenste samenstelling van de deklaag dan wel de oppervlaktelaag van de deklaag.
Een belangrijk voordeel van de werkwijze volgens de uit-30 vinding is, dat het nu mogelijk is om op snelle en efficiënte wijze een eindprodukt met een deklaag dan wel de oppervlaktelaag van de deklaag met de gewenste samenstelling te verkrijgen.
Een ander belangrijk voordeel van de werkwijze volgens de uitvinding is, dat het nu mogelijk is om tussenprodukten met 35 een deklaag met bepaalde samenstelling of basissamenstelling te verschaffen; maar dat de uiteindelijke eigenschappen van de deklaag van het eindprodukt snel en gemakkelijk kunnen worden 8602758 — — ---a_—— ...
* -3- verkregen, en zulks in functie van de uiteindelijke toepassing van het eindprodukt. Het vervaardigen van deze tussenprodukten met een deklaag met bepaalde basissamenstelling kan met andere, bekende bedekkingstechnieken worden uitgevoerd.
5 Bij de werkwijze volgens de uitvinding, wordt bij voor keur het inerte verstuivingsgas gedeeltelijk vervangen door een reactief gas, zoals stikstof of een zwavelhoudend gas, zoals R2S. Het voordeel van het gebruik van een mengsel van een reac-tief-inert gas is, dat het nu ook mogelijk is om typische dek-10 lagen op het reeds vooraf bedekte substraat aan te brengen.
Deze typische bijkomende deklaag bestaat dan uit reactieproduk-ten of verbindingen van het materiaal van de kathode en het reactief gas, bijvoorbeeld sulfiden van molybdeën, kobalt, nikkel, enz. in het geval van een kathode uit molybdeen, kobalt, 15 nikkel, enz. en een reactief gas, als ^S; of titaannitride in het geval van een kathode uit titaan en een reactief gas, als stikstof.
Bij de werkwijze volgens de uitvinding wordt de kathode bij voorkeur gevormd uit een langwerpige mantel, bijvoorbeeld 20 een cirkelvormig cilindrisch oppervlak, en wordt het langwerpig substraat in de langsrichting door de kathode geleid.
Het langwerpig substraat wordt bij voorkeur op aardpoten-tiaal geplaatst. Indien gewenst, wordt tussen de twee elektroden een wisselspanning aangelegd.
25 Het is van voordeel, dat het inerte verstuivingsgas en het te bedekken substraat in tegengestelde richting door de kathode worden geleid.
Het is bijzonder voordelig, dat het te bedekken substraat v66r de behandeling in de hoog vacuümkamer (plasma-bedekking 30 door kathodeverstuiven) eerst gereinigd wordt door plasma-rei-niging. Deze plasma-reiniging wordt bij voorkeur voorafgegaan door een reiniging met behulp van inductieverwarming onder vacuum.
De uitvinding betreft voorts een inrichting voor het be-35 handelen van een langwerpig substraat, dat van een deklaag is voorzien, tenminste omvattende een kamer met middelen voor het ^^8Üö 2 7 5 ë * -4- onder hoog vacuum brengen van deze kamer, een in deze hoog vacuümkamer opgestelde kathode, organen voor het toevoeren van een inert verstuivingsgas, zoals argon, in deze vacuümkamer.
De inrichting volgens de uitvinding is daardoor gekenmerkt, 5 dat de inrichting voorts voorzien is van middelen voor het geleiden van het langwerpig substraat door de hoog vacuümkamer, en van middelen voor het handhaven van een voldoend hoge spanning tussen het substraat als anode en de in deze vacuümkamer aanwezige kathode, zodat tussen de twee elektroden een elek-10 trische ontlading plaatsvindt. De kathode bestaat hierbij uit een tenminste éên bestanddeel omvattend materiaal van het door verstuiven op het substraat aan te brengen materiaal.
De kathode is bij voorkeur een langwerpige mantel, zoals een cirkelvormig cilindrisch oppervlak.
15 De uitvinding heeft eveneens betrekking op de volgens de werkwijze en met de inrichting volgens de uitvinding behandelde, langwerpige substraten. Een dergelijk substraat kan van metaal, in het bijzonder van staal zijn, en kan voorzien zijn van een deklaag van messing of zink. De dikte van deze messingdeklaag 20 bedraagt bij voorkeur 0,1 tot 0,35 ^u, in het bijzonder 0,15 yu tot 0,25 ^u. De dikte van deze zinkdeklaag bedraagt bij voorkeur 0,1 tot 3 ^u, in het bijzonder 0,2 ^u tot 2 /u·
Het langwerpig substraat volgens de uitvinding is na de behandeling door kathodeverstuiven bij voorkeur voorzien van 25 een tweede deklaag. Het door kathodeverstuiven aangebracht materiaal van deze deklaag is gekozen uit molybdeen, cobalt, koper, zink, nikkel, ijzer, aluminium, titaan of een legering daarvan.
Het door kathodeverstuiven aangebracht materiaal van deze 30 tweede deklaag kan ook bestaan uit een verbinding van molybdeen, cobalt, koper, zink, nikkel, ijzer, aluminium, titaan of een legering daarvan. In dit laatste geval is het inerte verstuivingsgas, zoals argon, gedeeltelijk vervangen door een reactief gas, zoals stikstof, ^S, enz.
35 De dikte van deze tweede deklaag, verkregen door kathode verstuiven, bedraagt bij voorkeur 20 £ tot 500 £, in het bij- 8 6 0 7 l· 9 t -5- zonder 50 £ tot 200 £. Het is ook mogelijk door bijkomende behandelingen deze tweede deklaag gedeeltelijk in de reeds aanwezige deklaag te doen diffunderen.
De uitvinding heeft tenslotte betrekking op voorwerpen 5 uit polymeermateriaal, waarbij deze voorwerpen versterkt zijn met tenminste één langwerpig substraat volgens de uitvinding.
De uitvinding zal nader worden toegelicht in de nu volgende beschrijving aan de hand van de bijbehorende tekening. In de tekening tonen: 10 Fig. 1 een blokschema van de totale lijn, waarbij de in richting volgens de uitvinding een deel van de lijn vormt? en
Fig. 2 een langsdoorsnede door een inrichting volgens de uitvinding.
In fig. 1 worden met verwijzingscijfers 1-10 delen van 15 een totale lijn weergegeven, waarbij de inrichting volgens de uitvinding met verwijzingscijfer 6 is weergegeven. Het te behandelen langwerpig substraat 12, zoals een draad, een band, een koord, enz., dat reeds voorzien is van een deklaag wordt in een station 1 afgerold van een spoel of dergelijk orgaan en 20 wordt via de kamers 2, 3 met klep 4, een hoog vacuum reinigings-inrichting 5 in de bedekkingsinrichting 6 gebracht om vervolgens via de kamers 31 met klep 4' en 2' terug opgerold te worden op een opneemspoel 7. Een dergelijke lijn is bijvoorbeeld weergegeven in het Britse octrooi 1.362.735 waarin de hoog va-25 cuumkamers 5 en 6 worden voorafgegaan en opgevolgd door steeds twee vacuümkamers 2, 3 respectievelijk 2', 3'. Een dergelijke lijn zonder de hoog vacuümkamer 6 of de inrichting 6 is ook beschreven in de Nederlandse aanvrage dossier no. 865136 welke gelijktijdig met de onderhavige aanvrage werd ingediend.
30 De vacuümkamers 2 en 2' zijn verbonden met een bekende rootspomp 8; terwijl de kamers 3 en 3* verbonden zijn met een roterende kleppenpomp 9. De hoog vacuumruimten 5 en 6 zijn verbonden met een turbomoleculaire pomp 10. Tussen de atmosfeer (af- en opwindstations 1, 7) en de kamers 2, 2', respectievelijk 35 tussen de kamers 2, 3 en 21, 3* zijn doorvoerorganen 11, 11' van geschikte type aanwezig. Tussen de kamers 3 en 5, respec- 8 G U 'i 7 & f \ -6- tievelijk 3' en 6 zijn hermetisch afsluitbare kleppen 4, respectievelijk 4' aanwezig.
De werking van de lijn is als volgt. Met behulp van de 3 rootspomp 8, bijvoorbeeld met een debiet van 500 m per uur, -1 -2 5 worden de kamers 2 en 2' op een vacuum van 10 tot 10 Torr gebracht. De kamers 3 en 3’ worden met behulp van de pomp 9, . 3 bijvoorbeeld met een debiet van 10 m per uur, op een nog la- _2 ger vacuum gebracht, bijvoorbeeld 10 T.orr of lager. De hoog vacuumruimten 5 en 6 worden met behulp van de turbomoleculaire -4 D pomp 10 op een hoog vacuum gebracht, bijvoorbeeld 10 tot -7 10 Torr. Bij het vacuumpompen van de ruimten 5 en 6 zijn de kleppen 4 en 4' volledig gesloten. Wanneer deze toestand bereikt is en de kleppen 4 en 4' geopend zijn, is de lijn klaar voor het starten van de werkwijze voor het behandelen van het lang-15 werpig substraat 12, dat reeds van een deklaag is voorzien.
Een typische uitvoeringsvorm van de vacuumruimte 6 is in fig. 2 in langsdoorsnede weergegeven. Deze vacuumruimte 6 bestaat uit twee met elkaar verbonden ruimten 13 en 14. Tussen de ruimten 13 en 14 zijn openingen 15 aanwezig. De eigenlijke in-20 richting 16 voor het behandelen van het langwerpig substraat 12 is opgenomen in de vacuumruimte 14. De ruimte 13 is voorzien van aansluitorganen 17 voor de turbomoleculaire pomp 10 en van aansluitorganen 18 voor de toevoer van een inert gas, zoals argon, stikstof enz.
25 De inrichting 16 bevat een cirkelvormig cilindrische katho de 19 met toevoerklemmen 20 voor het aanleggen van de spanning. Deze kathode is bijvoorbeeld een buis van koper. Deze kathode 19 is ondersteund door een buis 21, bijvoorbeeld van roestvast staal, en vervolgens door een buis 22 van isolatiemateriaal, 30 * bijvoorbeeld aluminiumoxt.de. De beide uiteinden van de buizen 21 en 22 zijn opgenomen in de isolerende steunorganen 23 en 24.
De buizen 21 en 22 kunnen theoretisch vervangen worden door één buis van isolerend materiaal, waarbij de wanddikte van de buis dan nagenoeg gelijk is aan de som van de wanddikten van de bui-35 zen 21 en 22. De uiteinden van de kathode 19 zijn opgenomen tussen de isolerende steunorganen 25 en 26. Tussen het uiteinde van 8 fc ü 2 7 5 8 -7- de kathode 19 en de isolator 25 is een veer 27 opgenomen.
De steunorganen 25 en 26 zijn opgenomen in klemorganen 28 en 29. Het klemorgaan 28 is met behulp van bevestigingsmiddelen vastgemaakt aan de wand tussen de ruimten 13 en 14; terwijl het 5 klemorgaan 29 kan worden vastgeschroefd aan het uiteinde van de ruimte 13. Het is duidelijk, dat door het losmaken van het klemorgaan 29, de veer 27 kan ontspannen, waardoor de kathode 19 naar buiten wordt geduwd en gemakkelijk kan worden vervangen door een andere buis 19. De vacuumruimte 5 is bovendien 10 voorzien van verbindingsorganen 30, zodat het ook mogelijk is de kathode 19 te verwijderen zonder de klemorganen 28 of 29 los te maken. Het deksel 31 van de ruimte 13 is eveneens voorzien van verbindingsorganen. De diameter van de buis 19 is bijvoorbeeld ongeveer 20 mm, terwijl de lengte bijvoorbeeld onge-15 veer 500 mm bedraagt.
De werkwijze voor het behandelen van een langwerpig substraat dat reeds van een deklaag is voorzien, is als volgt. Wanneer de lijn klaar is voor het starten van de werkwijze, wordt het te behandelen substraat volgens de pijl 32 door de 20 inrichting 16 geleid. De pomp wordt stopgezet en een inert ver-stuivingsgas, zoals argon, wordt in de vacuumruimte 6 of in de ruimten 13 en 14 constant toegevoerd tot een druk tussen 0,1 en 0,5 Torr, bijvoorbeeld 0,2 Torr, wordt bereikt. Tussen de kathode 19 en het substraat 12 als anode wordt een voldoend 25 hoge spanning gehandhaafd, zodat tussen deze twee elektroden een elektrische ontlading plaats vindt en plasma wordt gevormd; bijvoorbeeld bij gebruik van een spanning van 200 tot 300 Volt, en een stroom tussen 300 en 600 mA, bijvoorbeeld 450 mA. Het substraat 12 wordt door kathodeverstuiven tijdens zijn doorgang 30 door de kathode 19 bedekt met materiaal van de kathode 19.
Het is nu soms nuttig om het inerte verstuivingsgas, zoals ar- ée gon, gedeeltelijk*vervangen door een reactief gas, zoals stikstof of een zwavelhoudend gas, zoals ^S. De inerte gasionen zorgen dan vooral voor de verstuiving van het kathodemateriaal 35 19, terwijl de actieve gasionen reageren met het kathodemateriaal 19. Bij voorkeur zal het substraat 12 op aardpotentiaal 8G.ÖP7S0 t * -8- worden geplaatst. Het is ook mogelijk om tussen de kathode 19 en het substraat 12 als anode een wisselspanning aan te leggen, om de zogenaamde RF-toestand te verkrijgen. Ook het triode-sputtfirtH is met de inrichting volgens de uitvinding mogelijk.
5 Een belangrijk kenmerk van de werkwijze volgens de uitvin ding bestaat hierin, dat het inerte verstuivingsgas en het eventueel aanwezige, reactieve gas, in de richting van de pijl 33 door de kathode 19 wordt geleid of dit betekent, dat het substraat 12 en het verstuivingsgas binnen de vacuumruim-10 te 13, en het bijzonder binnen de kathode 19, in tegengestelde richting worden geleid. Dit kan bijvoorbeeld bereikt worden door er voor te zorgen dat de druk in de kamer 3 lager is dan in de kamer 3'.
De werkwijze volgens de uitvinding wordt in het bijzonder 15 toegepast op metalen substraten, zoals staaldraden, staalkoor-den, enz. die voorzien zijn van een deklaag van zink, messing, enz. Bij voorkeur bedraagt de messingdeklaag 0,1 ^,u tot 0,3 ^u, in het bijzonder 0,15 ^u tot 0,25 u en de zinkdeklaag 0,1 ^u tot 3 ^u, in het bijzonder 0,2 ^u tot 2 ^u. Het materiaal van de 20 kathode 19 wordt bij voorkeur gekozen uit molybdeen, cobalt, koper, zink, nikkel, ijzer, aluminium, titaan of een legering daarvan. Er werd nu vastgesteld, dat bij de werkwijze volgens de uitvinding op hoge snelheden, 20 meter per minuut of meer, deklagen met een dikte van 20 2 tot 500 2, in het bijzonder 25 50 2 tot 200 2, werden aangebracht op het langwerpig substraat 12.
De werkwijze volgens de uitvinding is voorts gekenmerkt doordat het te behandelen substraat 12 vóór de behandeling in de hoog vacuümkamer 6 of vóór de bedekking door kathodeverstui-30 ven, eerst gereinigd wordt in de hoog vacuümkamer 5 (zie fig.1) door plasma-reiniging. Bij voorkeur wordt het langwerpig substraat 12 vóór de plasma-reiniging eerst gereinigd door induc-tieverwarming onder vacuum, bijvoorbeeld in de kamer 2.
Binnen het kader van de uitvinding, zowel wat de werkwij-35 ze als de inrichting betreft, kunnen nog verbeteringen worden aangebracht. Het is bijvoorbeeld mogelijk om in de ruimte 14 8602758 -9- »« * rond de kathode 19 een spoel aan te brengen om aldus een magnetisch veld tussen kathode en substraat 12 te doen ontstaan, waardoor de kwaliteit van het behandelde substraat 12 nog verbeterd wordt.
8002758
Claims (31)
1. Werkwijze voor het behandelen van een langwerpig substraat dat van een deklaag voorzien is, met het kenmerk dat de behandeling omvat het door kathodeverstuiven aanbrengen van een tenminste één bestanddeel omvattend materiaal waarvan 5 de samenstelling gekozen is in overeenstemming met het verschil tussen de gemeten samenstelling van de deklaag dan wel de op-pervlaktelaag van de deklaag en de gewenste samenstelling van de deklaag dan wel de oppervlaktelaag van de deklaag.
2. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk 10 dat het inerte verstuivingsgas gedeeltelijk wordt vervangen door een reactief gas.
3. Werkwijze volgens conclusie 1 of conclusie 2, met het kenmerk dat de kathode gevormd wordt door een langwerpige mantel (19) en dat het langwerpig substraat (12) in 15 de langsrichting door de kathode (1.9) wordt geleid.
4. Werkwijze volgens conclusie 3, met het kenmerk dat de langwerpige mantel (19) een cirkelvormig cilindrisch oppervlak bezit,
5. Werkwijze volgens één of meer der voorgaande conclusies 20 1-4, met het kenmerk dat het langwerpig substraat (12) op aardpotentiaal wordt geplaatst.
6. Werkwijze volgens één of meer der voorgaande conclusies 1-5, met het kenmerk dat tussen de twee elektro den een wisselspanning wordt aangelegd.
7. Werkwijze volgens één of meer der voorgaande conclusies 1-6, met het kenmerk dat het inerte verstuivings gas en het te bedekken substraat in tegengestelde richting door de kathode worden geleid.
8. Werkwijze volgens één of meer der voorgaande conclusies 1-7, 30 met het kenmerk dat het te behandelen langwerpig substraat van metaal, in het bijzonder van staal is.
9. Werkwijze volgens één of meer der voorgaande conclusies 1-8, met het kenmerk dat de deklaag van het langwerpig substraat van messing is. £75ê 3 V -11-
10. Werkwijze volgens één of meer der voorgaande conclusies 1-8, met het kenmerk dat de deklaag van het langwerpig substraat van zink is.
11. Werkwijze volgens één of meer der voorgaande conclusies 5 1-10, met het kenmerk dat het materiaal van de kathode gekozen wordt uit molybdeen, cobalt, koper, zink, nikkel, ijzer, aluminium, titaan of legeringen daarvan.
12. Werkwijze volgens één of meer der voorgaande conclusies 1-11, met het kenmerk dat het inerte verstuivings- 10 gas gedeeltelijk vervangen wordt door een zwavelhoudend gas, zoals H2S.
13. Werkwijze volgens één of meer der voorgaande conclusies 1-11, met het kenmerk dat het inerte verstuivings- gas gedeeltelijk vervangen wordt door stikstof.
14. Werkwijze volgens één of meer der voorgaande conclusies 1-13, met het kenmerk dat het te behandelen lang werpig substraat vóór de behandeling in de hoog vacuümkamer (plasma-bedekking door kathodeverstuiven) eerst gereinigd wordt door plasma-reiniging.
15. Werkwijze volgens conclusie 14, met het kenmerk dat het langwerpig substraat vóór de plasma-reiniging eerst gereinigd wordt door inductieverwarming onder vacuum.
16. Inrichting voor het behandelen van een langwerpig substraat dat van een deklaag is voorzien; tenminste omvattende een kamer 25 met middelen voor het onder hoog vacuum brengen van deze kamer, een in deze hoog vacuümkamer opgestelde kathode, organen voor het toevoeren van een inert verstuivingsgas, zoals argon, in deze vacuümkamer, met het kenmerk dat de inrichting voorts voorzien is van middelen voor het geleiden van het 30 langwerpig substraat (12) door de hoog vacuümkamer (13, 14) en van middelen voor het handhaven van een voldoend hoge spanning tussen het substraat (12) als anode en de in deze vacuümkamer aanwezige kathode (19) bestaande uit tenminste één bestanddeel omvattend materiaal van het door verstuiven aan te brengen ma-35 teriaal op het substraat (12), zodat tussen de twee elektroden een elektrische ontlading plaats vindt. 8 6 Ü 2 7 5 8 9 V -12-
17. Inrichting volgens conclusie 16, met het kenmerk dat de kathode een langwerpige mantel (19) is.
18. Inrichting volgens conclusie 17, met het kenmerk dat de langwerpige mantel (19) een cirkelvormig cilin- 5 drisch oppervlak is.
19. Inrichting volgens één of meer der voorgaande conclusies 16-18, met het kenmerk dat de hoog vacuümkamer bestaat uit twee met elkaar verbonden ruimten (13; 14), waarbij tussen de ruimten openingen (15) aanwezig zijn.
20. Inrichting volgens één of meer der voorgaande conclusies 16-19, met het kenmerk dat de uiteinden van de cilindrische kathode opgenomen zijn tussen isolerende steunor-ganen (23, 24) in de wanden van één vacuumruimte (14) van de hoog vacuümkamer, en dat de andere vacuumruimte (13) van de 15 hoog vacuümkamer voorzien is van een toevoer (18) voor inert gas.
21. Inrichting volgens conclusie 20, met het kenmerk dat tussen één uiteinde van de cilindrische kathode (19) en het daarbij behorende isolerende steunorgaan een 20 veer (27) aanwezig is.
22. Inrichting volgens één of meer der voorgaande conclusies 16-21, met het kenmerk dat middelen voorzien zijn om het inerte verstuivingsgas en het te behandelen substraat in tegengestelde richting door de cilindrische kathode te leiden.
23. Langwerpig substraat, met het kenmerk dat het substraat behandeld is volgens de werkwijze van één of meer der voorgaande conclusies 1-15.
24. Langwerpig substraat, volgens conclusie 23, met het kenmerk dat het substraat van metaal, in het bijzonder 30 van staal is.
25. Langwerpig substraat, volgens conclusie 23 of conclusie 24, met het kenmerk dat de deklaag van messing is.
26. Langwerpig substraat, volgens conclusie 25, met het kenmerk dat de dikte van de messingdeklaag 0,1 ^u tot 35 0,35 yU bedraagt.
27. Langwerpig substraat, volgens conclusie 23 of conclusie 24, 8 6 0 2 7 h 9 -13- met het kenmerk dat de deklaag van zink is.
28. Langwerpig substraat volgens conclusie 27, met het kenmerk dat de dikte van de zinkdeklaag 0,1 ju tot 3 bedraagt.
29. Langwerpig substraat volgens één of meer der voorgaande conclusies 23-28, met het kenmerk dat het door kathodeverstuiven aangebracht materiaal gekozen is uit molyb-deen, cobalt, koper, zink, nikkel, ijzer, aluminium, titaan of een legering daarvan.
30. Langwerpig substraat volgens één of meer der voorgaande conclusies 23-28, met het kenmerk dat het door kathodeverstuiven aangebracht materiaal gekozen is uit een verbinding van molybdeen, cobalt, koper, zink, nikkel, ijzer, aluminium, titaan of een legering daarvan.
31. Voorwerpen uit polymeermateriaal, met het kenmerk dat deze voorwerpen versterkt zijn met tenminste één langwerpig substraat volgens één of meer der voorgaande conclusies 23-30. β V u 'l / w 9
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8602759A NL8602759A (nl) | 1986-10-31 | 1986-10-31 | Werkwijze en inrichting voor het behandelen van een langwerpig substraat, dat van een deklaag voorzien is; alsmede volgens die werkwijze behandelde substraten en met deze substraten versterkte voorwerpen uit polymeermateriaal. |
| AT87201958T ATE79653T1 (de) | 1986-10-31 | 1987-10-12 | Verfahren und vorrichtung zum behandeln eines langgestreckten beschichteten substrats, so behandelte substrate und artikel aus polymerischen materialien, verstaerkt mit diesen substraten. |
| DE8787201958T DE3781245T2 (de) | 1986-10-31 | 1987-10-12 | Verfahren und vorrichtung zum behandeln eines langgestreckten beschichteten substrats, so behandelte substrate und artikel aus polymerischen materialien, verstaerkt mit diesen substraten. |
| EP87201958A EP0269144B1 (en) | 1986-10-31 | 1987-10-12 | Process and apparatus for the treatment of coated, elongated substrate, as well as substrates thus treated and articles of polymeric material reinforced with these substrates |
| CA000549763A CA1322987C (en) | 1986-10-31 | 1987-10-20 | Process and apparatus for treating a coated, elongated substrate, as well as substrates thus treated and articles of polymeric material reinforced with these substrates |
| JP62271974A JPS63157865A (ja) | 1986-10-31 | 1987-10-29 | コーティングされた細長い基材の処理方法及びその装置 |
| US07/401,766 US5219668A (en) | 1986-10-31 | 1989-09-01 | Process and apparatus for the treatment of coated, elongated substrate, as well as substrates thus treated and articles of polymeric material reinforced with these substrates |
| US07/418,996 US5057199A (en) | 1986-10-31 | 1989-10-10 | Process and apparatus for the treatment of coated, elongated substrate, as well as substrates thus treated and articles of polymeric material reinforced with these substrates |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8602759 | 1986-10-31 | ||
| NL8602759A NL8602759A (nl) | 1986-10-31 | 1986-10-31 | Werkwijze en inrichting voor het behandelen van een langwerpig substraat, dat van een deklaag voorzien is; alsmede volgens die werkwijze behandelde substraten en met deze substraten versterkte voorwerpen uit polymeermateriaal. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL8602759A true NL8602759A (nl) | 1988-05-16 |
Family
ID=19848762
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL8602759A NL8602759A (nl) | 1986-10-31 | 1986-10-31 | Werkwijze en inrichting voor het behandelen van een langwerpig substraat, dat van een deklaag voorzien is; alsmede volgens die werkwijze behandelde substraten en met deze substraten versterkte voorwerpen uit polymeermateriaal. |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5057199A (nl) |
| EP (1) | EP0269144B1 (nl) |
| JP (1) | JPS63157865A (nl) |
| AT (1) | ATE79653T1 (nl) |
| CA (1) | CA1322987C (nl) |
| DE (1) | DE3781245T2 (nl) |
| NL (1) | NL8602759A (nl) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5437778A (en) * | 1990-07-10 | 1995-08-01 | Telic Technologies Corporation | Slotted cylindrical hollow cathode/magnetron sputtering device |
| JPH04297560A (ja) * | 1991-03-26 | 1992-10-21 | Nisshin Steel Co Ltd | 鋼帯の連続溶融めっき方法及び装置 |
| US5322055B1 (en) | 1993-01-27 | 1997-10-14 | Ultracision Inc | Clamp coagulator/cutting system for ultrasonic surgical instruments |
| FR2708290B1 (fr) * | 1993-07-27 | 1995-10-20 | Lorraine Laminage | Traitement de surface d'une tôle d'acier galvanisée à chaud avant sa mise en peinture. |
| US5928771A (en) * | 1995-05-12 | 1999-07-27 | Diamond Black Technologies, Inc. | Disordered coating with cubic boron nitride dispersed therein |
| US7361172B2 (en) * | 2002-06-04 | 2008-04-22 | Sound Surgical Technologies Llc | Ultrasonic device and method for tissue coagulation |
| US7737382B2 (en) * | 2004-04-01 | 2010-06-15 | Lincoln Global, Inc. | Device for processing welding wire |
| EP2354145A1 (de) | 2010-02-03 | 2011-08-10 | Schill + Seilacher "Struktol" GmbH | Verwendung von Polyorganosiloxanen bei der Verarbeitung und Vulkanisation von Kautschuk |
| EP2909355B1 (en) * | 2012-10-22 | 2018-09-26 | Proportional Technologies, Inc. | Method and apparatus for coating thin foil with a boron coating |
Family Cites Families (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE142966C (nl) * | ||||
| DE599565C (de) * | 1931-06-17 | 1934-07-05 | Max Knoll Dr Ing | Verfahren zur Erzeugung von Niederschlaegen durch Kathodenzerstaeubung |
| US3256468A (en) * | 1962-04-17 | 1966-06-14 | Gen Electric | Electrode for electrical capacitors and method of making the same |
| US3278331A (en) * | 1965-07-26 | 1966-10-11 | Pennsalt Chemicals Corp | Process for coating steel with zinc |
| FR1545284A (fr) * | 1967-11-24 | 1968-11-08 | Hochvakuum Dresden Veb | Dispositif de projection par vaporisation sur des bandes |
| US3627663A (en) * | 1968-03-25 | 1971-12-14 | Ibm | Method and apparatus for coating a substrate by utilizing the hollow cathode effect with rf sputtering |
| US3968018A (en) * | 1969-09-29 | 1976-07-06 | Warner-Lambert Company | Sputter coating method |
| US3652443A (en) * | 1970-08-25 | 1972-03-28 | Gillette Co | Deposition apparatus |
| CH531940A (de) * | 1970-11-18 | 1972-12-31 | Battelle Memorial Institute | Procédé pour augmenter l'adhésivité superficielle d'un corps métallique à l'égard du caoutchouc |
| BE766319A (nl) * | 1971-04-27 | 1971-09-16 | Bekaert Sa Nv | Van trechtervormige geleidingselementen voorziene inrichting voor het geleiden en doorhalen van langwerpige substraten door deze inrichting. |
| US4031424A (en) * | 1971-09-07 | 1977-06-21 | Telic Corporation | Electrode type glow discharge apparatus |
| US4013539A (en) * | 1973-01-12 | 1977-03-22 | Coulter Information Systems, Inc. | Thin film deposition apparatus |
| US3884787A (en) * | 1973-01-12 | 1975-05-20 | Coulter Information Systems | Sputtering method for thin film deposition on a substrate |
| JPS5537590B2 (nl) * | 1973-06-11 | 1980-09-29 | ||
| US3855110A (en) * | 1973-11-15 | 1974-12-17 | United Aircraft Corp | Cylindrical rf sputtering apparatus |
| US3976555A (en) * | 1975-03-20 | 1976-08-24 | Coulter Information Systems, Inc. | Method and apparatus for supplying background gas in a sputtering chamber |
| JPS52119691A (en) * | 1976-03-03 | 1977-10-07 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | Adhesion of steel cords to rubber |
| US4151064A (en) * | 1977-12-27 | 1979-04-24 | Coulter Stork U.S.A., Inc. | Apparatus for sputtering cylinders |
| US4183797A (en) * | 1978-12-22 | 1980-01-15 | International Business Machines Corporation | Two-sided bias sputter deposition method and apparatus |
| DD142966A1 (de) * | 1979-05-07 | 1980-07-23 | Reinhard Voigt | Verfahren zur in situ-vorbehandlung und zur beschichtungvon substraten mit duennen schichten |
| US4309261A (en) * | 1980-07-03 | 1982-01-05 | University Of Sydney | Method of and apparatus for reactively sputtering a graded surface coating onto a substrate |
| US4405435A (en) * | 1980-08-27 | 1983-09-20 | Hitachi, Ltd. | Apparatus for performing continuous treatment in vacuum |
| US4530750A (en) * | 1981-03-20 | 1985-07-23 | A. S. Laboratories, Inc. | Apparatus for coating optical fibers |
| FR2508599B1 (fr) * | 1981-06-26 | 1986-03-28 | Marchal Equip Auto | Procede de fabrication d'une surface metallique reflechissante, reflecteur obtenu par ledit procede et son utilisation pour un projecteur d'eclairage |
| US4376025A (en) * | 1982-06-14 | 1983-03-08 | Battelle Development Corporation | Cylindrical cathode for magnetically-enhanced sputtering |
| US4446197A (en) * | 1982-07-23 | 1984-05-01 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Ion beam deposition or etching re rubber-metal adhesion |
| JPS6047905A (ja) * | 1983-08-26 | 1985-03-15 | Masahito Okuda | 測長器 |
| DE3405596A1 (de) * | 1984-02-16 | 1985-08-22 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur kontrolle und regelung der legierungszusammensetzung von elektrisch leitenden metallischen schichten waehrend ihrer herstellung |
| NL8401721A (nl) * | 1984-05-29 | 1985-12-16 | Leer Koninklijke Emballage | Werkwijze en stelsel voor het produceren van een reactief gesputterde geleidende transparante metaaloxidefilm op een doorlopende materiaalbaan. |
| BE1001029A3 (nl) * | 1987-10-22 | 1989-06-13 | Bekaert Sa Nv | Staalsubstraat met metaaldeklagen ter versterking van vulkaniseerbare elastomeren. |
-
1986
- 1986-10-31 NL NL8602759A patent/NL8602759A/nl not_active Application Discontinuation
-
1987
- 1987-10-12 EP EP87201958A patent/EP0269144B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-10-12 AT AT87201958T patent/ATE79653T1/de not_active IP Right Cessation
- 1987-10-12 DE DE8787201958T patent/DE3781245T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-10-20 CA CA000549763A patent/CA1322987C/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-10-29 JP JP62271974A patent/JPS63157865A/ja active Pending
-
1989
- 1989-10-10 US US07/418,996 patent/US5057199A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3781245T2 (de) | 1993-03-04 |
| US5057199A (en) | 1991-10-15 |
| JPS63157865A (ja) | 1988-06-30 |
| CA1322987C (en) | 1993-10-12 |
| DE3781245D1 (de) | 1992-09-24 |
| EP0269144A1 (en) | 1988-06-01 |
| EP0269144B1 (en) | 1992-08-19 |
| ATE79653T1 (de) | 1992-09-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| AU605081B2 (en) | Medical electrical lead and method of manufacture | |
| NL8602759A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het behandelen van een langwerpig substraat, dat van een deklaag voorzien is; alsmede volgens die werkwijze behandelde substraten en met deze substraten versterkte voorwerpen uit polymeermateriaal. | |
| US5040544A (en) | Medical electrical lead and method of manufacture | |
| JP3330143B2 (ja) | 低温プラズマおよび電着を使用した金属被覆方法 | |
| EP0958195B1 (de) | Verfahren zur sputterbeschichtung von oberflächen | |
| GB2338716A (en) | RF plasma enhanced CVD where the substrate acts as a cathode | |
| JP2002512656A (ja) | スパッタリング装置 | |
| AU692332B2 (en) | Process and apparatus for forming thin films of metallic compounds | |
| EP0270144A1 (en) | Process and apparatus for continuously cleaning elongated substrates, and objects thus cleaned | |
| US5219668A (en) | Process and apparatus for the treatment of coated, elongated substrate, as well as substrates thus treated and articles of polymeric material reinforced with these substrates | |
| US5262033A (en) | Apparatus for the continuous etchings and aluminum plating of stainless steel strips | |
| EP1040210B1 (en) | Plasma polymerization on surface of material | |
| JPH10306379A (ja) | 内部錫メッキ銅管および銅管の被覆方法 | |
| JPH07188902A (ja) | 金属物品の被覆方法および装置とそれによって得られる製品 | |
| JP2002535825A (ja) | プラズマ励起方法及びその使用 | |
| JPS59153880A (ja) | 帯状金属体の連続蒸着法 | |
| JPH0735564B2 (ja) | 耐食性と密着性とに優れた金属表面薄膜の形成方法 | |
| EP0461011A1 (fr) | Procédé de coloration d'une bande d'un matériau métallique en défilement par plasma basse température | |
| US2699426A (en) | Cataphoretic application of coatings | |
| NL8401160A (nl) | Inrichting voor het behandelen van de binnenwand van een buis. | |
| JPH1034809A (ja) | インキ易密着フィルムの製造方法 | |
| EP0695814A1 (en) | Thin film sputtering | |
| JPS63103061A (ja) | プラスチツクフイルム表面への金属薄膜被着形成方法 | |
| JPH05302165A (ja) | スパッタリング装置の陰極体及びスパッタリング方法 | |
| JPH0477074B2 (nl) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| BV | The patent application has lapsed |