NL8004427A - Glansmiddel voor zink-elektroplatteeroplossingen en werkwijze voor het elektroplatteren daarmede. - Google Patents
Glansmiddel voor zink-elektroplatteeroplossingen en werkwijze voor het elektroplatteren daarmede. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8004427A NL8004427A NL8004427A NL8004427A NL8004427A NL 8004427 A NL8004427 A NL 8004427A NL 8004427 A NL8004427 A NL 8004427A NL 8004427 A NL8004427 A NL 8004427A NL 8004427 A NL8004427 A NL 8004427A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- zinc
- electroplating solution
- zinc electroplating
- solution according
- amount
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/22—Electroplating: Baths therefor from solutions of zinc
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
l VO 796
Glansmiddel voor zink-elektroplatteeroplossingen en werkwijze voor het elektroplatteren daarmede.
De uitvinding heeft ruim betrekking op waterigzure of alkalische zink-elektroplatteeroplossingen en op een werkwijze voor het gebruiken van dergelijke oplossingen voor het afzetten van een corrosiebestendige en decoratieve zinkelektroplattering op een 5 variëteit van substraten, zoals ijzeren voorwerpen zoals ijzer en staal. Een gevarieerdheid van dergelijke zinkelektroplatteer-oplossingen is tot dusver voorgesteld of toegepast waarbij verschillende toevoegsels betrokken waren voor het verbeteren van de glans, de rek, de hechting en/of vloeivermogen van de elektrisch afgez'ette IQ laag. Gewoonlijk worden dergelijke toevoegsels gemengd gebruikt waarbij elk van de meerdere glansmiddelen bijdraagt tot het gewenste eindresultaat.
De onderhavige uitvinding heeft betrekking op een verbeterde waterige zinkelektroplatteeroplossing, die enkele der problemen 15 en nadelen verbonden met de bekende samenstellingen overwint, en een primair glansmiddel bevat, dat doelmatig is voor het verschaffen van glanzende, rekbare en hechtende zinkelektroplatterin-gen en dat veelzijdig kan worden toegepast in zinkelektroplatteer-oplossingen van zowel het zure chloride als sulfaat-type alsmede 20 in cyanide- en niet-cyanidezinkelektraplatteeroplossingen van het alkalische type. Het verbeterde waterige zinkelektroplatteerbad is geschikt voor gebruik over een groot pH-gebied alsmede over een ruim gebied van stroomdichtheden.
De voordelen van de uitvinding worden verkregen door een 25 waterige zinkelektroplatteeroplossing bevattend zinkionen en een werkzame hoeveelheid voldoende voor het verschaffen van een glanzende, hechtende en rekbare zinkelektro-afzetting op een geleidend substraat van een bad-oplosbaar glansmiddel en mengsels van glansmiddelen voorgesteld door de formule van het formuleblad, waarin 8004427 - 2 - R is H of Cg-C^Q aryl, of Cg-C2Q alKylaryl, waarin de alKylgroep is C^-C^; Ci~C22 ^2^10 ^ei:erocyc^^sc^ stikstofverbin dingen met tenminste één tertiair of quaternair in de ring aanwezige stikstof; alsmede de mono-, di- of trigesubstitueerde derivaten 5 daarvan omvattend -OH, -SO^H of -COOHj de groep I en II en NH^- zouten daarvan en de aldehyde, keton en etherderivaten daarvan;
X is R of -OR’ of -NR’j, waarin R’ is H of een C-^-C^-alifatisch radicaal; en Y is H of S03H
10 alsmede de verdraagzame- bad-oplosbare zouten daarvan.
Dedbad-oplosbare zouten van het glansmiddel bevatten gewoonlijk metalen van de groep IA en IIA alsmede ammonia.
Het primaire glansmiddel kan worden toegepast in hoeveelhe- 3 den van ongeveer 0,001 tot ongeveer 10 g/dm , waarbij hoeveelheden 3 15 van ongeveer 0,01 - 5 g/dm .geprefereerd zijn.Behalve het primaire glansmiddel kan de elektroplatteeroplossing verder een of meerdere aanvullende of secundaire glansmiddelen van de verschillende welbekende typen bevatten en die geschikt zijn voor gebruik in de specifieke zure chloriden, zure sulfaat of alkalische zinkpLatteeroplos-20 sing.
Volgens de wérkwijzeaspecten van de onderhavige uitvinding worden glanzende, rekbare en hechtende zinkelektroplatteringen afgezet op geleidende substraten onder toepassing van de bovenvermelde waterige zinkelektroplatteeroplossing die wordt ingesteld op een 25 temperatuur van ongeveer 15 - 82°C en die kan worden bedreven bij 2 stroomdichtheden variërend van ongeveer 1 tot ongeveer 300 A/voet (ASF) afhankelijk van het specifieke type en de samenstelling van de elektroplatteeroplossing.
30 Voorbeelden van verbindingen die kunnen worden toegepast als primair glansmiddel overeenkomstig de formule van het formuleblad, zijn de volgende: 3- sulfopropanol, natriumzout 4- fenyl-4-sulfobutaan-2-on, natriumzout 35 4-fenyl-4-sulfobuteen-2-on, natriumzout 8004427 -3- 4-fenyl-4.4-disulfobutaan-2-on, dinatriumzout 4-sulfo-4-C3.4-dimethoxyfanyl3butaan-2-an, natriumzout 4-C3.4-methyleendioxyfenyl3-4-sulfobutaan-2-onJ, natriumzout 3-sulfo-3—Fenylpropanal, natriumzout 5 3-sulfo-3—Fenylpropanzuur, mononatriumzout 1.3- difenyl-3-sulfopropaan-l-on, natriumzout 3-sulfobutanal, natriumzout 3-(2-furyl3-3-sulfopropanal, natriumzout 3- (3-indolyl3-3-sulfopropaanzuur, mononatriumzout 10 3-(5-bicyclo/~2.2.1 J^hepteen)-3-sulfopropaanzuur, mononatriumzout 4- sulfobutaan-2-on, natriumzout 3.3- difenyl-3-sulfopropanal, natriumzout 3-fenyl-2-sulfopropenal, natriumzout 3-fenyl-3.3-disulfopropanal, dinatriumzout 15 l-C4-piperidylJ-3-sulfo-5-t3.4-methyleendiaxyfenyl)-4-penteen-l-on, natriumzout ,
l-C4-piperidyl3-5-sulfo-5-(3.4-methyleendioxyfenyl3-2-penteen-l-onJ
natriumzout l-C4-piperidyl3-3.5-disulfo-5-[3.4-methyleendioxyfenyl3-l-pentanonJ 20 dinatriumzout 3-(3-pyridyl3-3-sulfopropaanzuur, mononatriumzout 3- (4-imidazyl)-3-sulfopropaanzuur, mononatriumzout 4- fenyl-2-sulfo-4-oxobutaanzuur, mononatriumzout 4-fenyl-3-sulfo-4-axobutaanzuur, mononatriumzout 25 1.7-di-C3-methoxy-4-hydroxyfenyl)-7-sulfo-l-hepteen-3.5-dion, natriumzout 1.7-di-(3-methoxy-4-hydroxyfenyl3-1«7-disulfohepta-3.5-dion, dinatriumzout 4-(2-furyl)-4-sulfobutaan-2-on, natriumzout 30 4-fenyl“4-sulfobuteen-2-on, natriumzout 4—fenyl-4.4-disulfobutaan-2-on, dinatriumzout 3—fenyl-3-sulfopropenal, natriumzout 3- fenyl-3.3-disulfopropanal, dinatriumzout 4- sulfobuteen-2-on, natriumzout 35 4.4-disulfobutaan-2-on, dinatriumzout.
8004427 - 4 -
Het glansmiddel volgens de uitvinding Kan geschikt worden bereid door het laten reageren van in hoofdzaak gelijke molaire hoeveelheden van een «./3 -onverzadigde carboxylverbinding met een alkalimetaal- of ammoniumbisulfiet of metabisulfiet in een waterig 5 of waterig-organisch oplosmiddelmedium bij temperaturen tot de refluxtemperatuur gedurende een tijdsperiode om in hoofdzaak een volledige reactie tot stand te brengen. Het reactieprodukt kan worden geïsoleerd door kristalliseren uit het:reactiemedium en kan verder worden gezuiverd door herkristallisatiel 1G B.v. kan 4-fenyl-4-sulfobutaan-2-on, natriumzout worden be reid volgens onderstaande methode:
Aan een oplossing van 26,15 g (0,25 mol] natriummetabisul-fiet in 50 cm^ H^O verwarmd tot 45°C, werden toegevoegd 40,2 g (0,275 mol] vloeibaar gemaakte benzalaceton. De oplossing werd ge-15 raerd en verhit tat reflux C105aC] op welk punt de reactie exotherm werd. Dei warmte werd afgevoerd en de reflux onderhield zichzelf gedurende 5-10 minuten waarna het reactiemengsel helder was en slechts één laag zichtbaar was. Het reactiemengsel werd langzaam afgekoeld en een kleine hoeveelheid ether werd toegevoegd voor ex- 3 20 tractie. Daar de oplossing begon vast te worden werd 175 cm water toegevoegd en daarna nam het water langzaam in volume af tot de kristallisatie juist begon. Herkristallisatie uit aceton gevolgd door drogen in een verwarmde (70°C) vacuumexsiccator leverde 45 g 4-fenyl-4-sulfobutaan-2-on, natriumzout (73% opbrengst).
25 Overeenkomstig de samenstellingsaspecten van de onderhavige uitvinding kan het primaire glansmiddel zoals de boven opgesomde verbindingen of de mengsels daarvan, worden toegepast in de waterige zink-elektroplatteeroplossing in geregelde werkzame hoeveelheden ter verkrijging van een glanzende, rekbare en hechtende zinkafzet-30 ting. In het algemeen worden hoeveelheden variërend van 0,001 tot 3 10 g/dm gebruikt terwijl hoeveelheden van ongeveer 0,01 tot onge- 3 veer 5 g/dm gewoonlijk geprefereerd zijn.
Het primaire glansmiddel kan worden toegepast in waterige zure zinkchloride-elektroplatteeroplossingen, waterige zure zink-35 sulfaat-elektroplatteeroplossingen alsmede in waterige alkalische 800 44 27 - 5 - cyanide- en niet-cyanide-zinkelektroplatteeroplossingen. Het primaire glansmiddel kan bijzonder worden toegepast op elektroplatteer- oplossingen van het niet-cyanidetype. De concentratie van zinkionen 3 in dergelijke oplossingen kan ruim variëren van ongeveer 5 g/dm 5 tot verzadiging in de oplossing bij de speciale werkzame badtempe- 2 Q.....
ratuur, b.v. 300 g/dm en hoger bij badtemperaturen van 38 C en hoger. Typisch wordt in zure chlorideoplossingen de zinkionconcentra-tie gewoonlijk geregeld binnen een gebied van ongeveer 7 tot onge- 3 veer 50 g/dm . In zure sulfaatelektroplatteeroplassingen wordt de 10 zinkionconcentratie gewoonlijk geregeld in een gebied van ongeveer 3 30 tot ongeveer 110 g/dm terwijl in waterige alkalische niet-cyani-dezinkoplossingen de zinkionconcentratie gewoonlijk wordt geregeld 3 in een gebied van ongeveer 5 tot ongeveer 25 g/dm . Het zal uit het bovenstaande duidelijk zijn dat de zinkionconcentratie voor de ver-15 schillende niet-cyanide-elektroplatteéroplossingen ruim kan worden toegepast in een hoeveelheid variërend van ongeveer 5 tot verzadi- ' 3 3 ging en bij voorkeur van ongeveer 5 g/dm tot ongeveer 110 g/dm .
In de elektroplatteeroplossingen van het zure chloridetype is het gebruikelijk inerte zouten op te nemen om het geleidingsver-20 mogen van de oplossing te vergroten, welke zouten gewoonlijk kun nen worden toegepast in hoeveelheden van ongeveer 20 tot ongeveer 3 4-50 g/dm . Dergelijke inerte zouten omvatten gewoonlijk alkalime-taalchloriden waarin de term "alkalimetaal” wordt toegepast in zijn breedste zin om ook ammoniumchloride te omvatten alsmede de speci-25 fieke alkalimetalên zoals natrium, kalium en lithium.
Het is ook een gebruikelijke praktijk geschikte buffermid-delen toe te passen in elektroplatteeroplossingen van het zure chloride- en zure sulfaat-type. Typisch kan boorzuur worden toegepast voor dit doel en het wordt gebruikt in hoeveelheden variërend van 3 30 ongeveer 1 tot ongeveer 40 g/dm . In de platteringsbaden van het zure type kan de pH variëren van ongeveer 1,0 tot ongeveer 6,5.
In de zure chloride-elektroplatteeroplossing wordt de waterstof-ionconcentratie gewoonlijk geregeld voor het verschaffen van een bad-werkzame pH van ongeveer 4,5 tot ongeveer 6,2 terwijl·in de 35 zure sulfaatelektroplatteeroplossing de waterstofionconcentratie .
van het werkzame bad bij voorkeur wordt geregeld binnen een pH van o η n /. L 0 7 - 6 - ongeveer 3,5 tot ongeveer 5,2. In de elektroplatteerbaden van het alkalische cyanide en niet-cyanidetype is de pH boven ongeveer 8,0. In baden van het niet-cyanidetype worden geschikte alkalimetaal-hydroxyden zoals natriumhydroxyde of kaliumhydroxyde toegepast om 5 geleidingsvermogen aan het bad te verschaffen en voorts een hydro- xylionconcsntratie te verschaffen voor het verkrijgen van een bad-werkzame pH gewoonlijk boven ongeveer 12.
Behalve de zinkionen kan de waterige zinkelektroplatteerop-lossing voorts aanvullende af secundaire glansmiddelen bevatten van 10 het type gewëönlijk toegepast*in zure chloride-, zure sulfaat- en alkalicyanide- en niet-cyanide-zinkelektroplatteeroplossingen. Dergelijke aanvullende glansmiddelen kunnen van elk der bekende typen zijn en worden gewoonlijk toegepast in hoeveelheden tot ongeveer 3 3 10 g/dm terwijl hoeveelheden van ongeveer 0,2 tot ongeveer 5 g/dm 15 gewoonlijk geprefereerd zijn. Als voorbeelden van dergelijke secun daire of ondersteunende glansmiddelen die gewoonlijk worden toegepast in zure zinkchloride-elektroplatteeroplossingen kunnen worden genoemd polyethers, aromatische carbonzuren en zouten daarvan, nicotinaat-quaternaire verbindingen of dergelijke. Voor alkalische 20 zinkelektroplatteeroplossingen kunnen typische ondersteunende glans middelen zijn van de klasse omvattend polyaminen.en polyethyleen-imine-quaternaire verbindingen, aromatische aldehyden, polyvinyl-alcoholen en dergelijke. Voor zure zinksulfaatelektroplatteeroplos-singen omvatten typische ondersteunende glansmiddelen polyacryl-25 aminen, thiourea, nicotinaat-quaternaire verbindingen en dergelijke.
Dergelijke ondersteunende glansmiddelen worden toegepast in de vorm van een mengsel van twee of meer in combinatie met het primaire glansmiddel van het verbeterde zinkplatteringsbad volgens de uitvinding.
30 Volgens de werkwijzeaspecten van de onderhavige uitvinding kan de waterige zinkelektroplatteeroplossing waaraan het primaire glansmiddel is toegevoegd, worden bedreven bij ongeveer kamertemperatuur C15°C) tot ongeveer 49°C terwijl temperaturen variërend van ongeveer 18 tot 32°C typischer zijn. De stroomdichtheid waarbij 35 dergelijke oplossingen kunnen worden bedreven, variëren afhankelijk 800 4 4 27 - 7 - van het speciale badtype. Zo kunnen alkalische zink- en zure chlo-ride-elektroplatteeroplossingen worden bedreven bij stroomdicht-1-heden van ongeveer 1 tot ongeveer 30 ASF terwijl zure sulfaatbaden kunnen worden bedreven bij stroomdichtheden van ongeveer 20 tot 5 ongeveer 300 ASF. De specifiek toegepaste stroomdichtheid zal vari ëren afhankelijk van de toegepaste platteringstechniek, het type te pletteren voorwerp en de speciale werkzame badsamenstelling en concentratie.
De uitvinding wordt nader toegelicht aan de hand van onderlij staande voorbeelden.
Voorbeeld I
Een zink-elektroplatteeroplossing van het zure chloride- ' 3 type wordt bereid bevattend ongeveer 30 g/dm zinkionen, een totaal 3 chloride-iongehalte van ongeveer 300 g/dm , boarzuur in een hoe- 3 3 15 veelheid van ongeveer 27 g/dm , 0,5 g/dm van een drager of onder steunend glansmiddel omvattend 2.3.7.9-tetramethyl-5-decyne~4.7-gediolethoxyleerd acetyleenglycol Cin de handel onder de handels-naam Surfynol 485 van Airco] en 0,3 g/dm van het primaire glans-, middel 3-sulfopropanal, natriumzout. Overeenkomstig de structuur 20 formule van het formuleblad correspondeert dit primaire glansmid del met een verbinding waarin R is Η, X is H en Y is H.
Onderdelen in deze oplossing geplatteerd bij een kathode-stroomdichtheid van ongeveer 40 SAF vertoonden een goede totaal-glans van een rekbare en hechtende zinkelekt'roafzetting.
25 Voorbeeld II
Een elektroplatteeroplossing van het zure chloridetype wordt 3 bereid, bevattend 25 g/dm zinkionen, een totaal chloride-iongehal-3 3 3 te van 280 g/dm , 27 g/dm boarzuur, 3 g/dm benzoëzuur als onder-
Q
steunend dragerglansmiddel, 0,4 g/dm van een ondersteunend glans-30 middel Surfynol 485 als toegepast in voorbeeld I, en als het pri maire glansmiddel 4-fenyl-4-sulfobutaan-2-on, natriumzout in een '' 3 concentratie van 0,05 g/dm . Het primaire glansmiddel correspondeert met de structuurformule waarin R een fenylgroep is, X is methyl en Y is H.
35 Onderdelen geplatteerd in deze elektroplatteeroplossing bij 800 44 27
-fleer? kathodische stroomdichtheid van 50 ASF vertoonden een goede to-taalhelderheid van de rekbare en hechtende zinkelektroafzetting. Voorbeeld III
Een zinkelektroplatteeroplossing van het zure chloridetype 3 3 5 wordt bereid, bevattend 35 g/dm ::zinkionen, 320 g/dm totaal chlo- 3 3 ride-ionen, 27 g/dm boorzuur, 2 g/dm salicylzuur als een aanvul- 3 lend dragerglansmiddel, 0,25 g/dm geëthoxyleerd /3-naftol als een 3 ondersteunend dragerglansmiddel en 0,06 g/dm 3-sulfo-3-fenylpropa-nal, natriumzout als het primaire glansmiddel. Het bad bevindt zich 10 op een pH van ongeveer 5,5.
Het primaire glansmiddel correspondeert met een verbinding van de algemene formule, waarin R is fenyl, X is Η, Y is H.
Onderdelen geplatteerd in deze elektroplatteeroplossing bij een kathodestroomdichtheid van 30 ASF vertoonden een goede totaal-15 glans van de hechtende en rekbare zinkelektroafzetting.
Voorbeeld IV
Een alkalische zinkelektroplatteeroplossing wordt bereid, 3 3 3 bevattend 8 g/dm zinkionen, 80 g/dm natriumhydroxyde, 1 g/dm polyethyleenimine-quaternaire verbinding,als een ondersteunend dra- 3 20 gerglansmiddel en 0,5 g/dm 4-sulfo-4-C3.4-dimethoxyfenyl3butaan-2- on, natriumzout als het primaire glansmiddel. Dit .primaire glansmiddel komt overeen met een verbinding van de algemene structuur-formule, waarin R een gesubstitueerde fenylgroep met 2 ethergroepen omvat, X een methylgroep en Y is H.
25 . 0e pH van het bad is 14. Een Hull-Cell paneel, geplatteerd in deze oplossing bij een stroomdichtheid van 1 Ampère stroom toonde een goede glans bij stroomdichtheden beneden ongeveer 50-60 ASF.
Voorbeeld V
30 Een zinkelektroplatteeroplossing van het zure sulfaattype 3 3 wordt bereid bevattend 180 g/dm zinksulfaatmonohydraat, 30 g/dm 3 3 boorzuur, 15 g/dm ammoniumsulfaat en 0,5 g/dm 4-fenyl-4-sulfobu-taan-2-οπ, natriumzout als hefcprimaire glansmiddel. De elektroplatteeroplossing had een pH van ongeveer 4,2.
35 Testpanelen geplatteerd in deze oplossing bij een stroom- 800 4 4 27 -½ - 9 - dichtheid van ongeveer 20 tot ongeveer 90 ASF vertoonden zeer goede halfglanzende zinkelektroafzettingen.
Voorbeeld VI
Een zinkelektroplatteeroplossing van het zure chloridetype 3 3 5 wordt bereid bevattend 35 g/dm zinkionen, 210 g/dm totaal chlo- 3 ride-ionen, 1 g/dm geëthoxyleerd °^-naftol als ondersteunend dra** 3 gerglansmiddel en 0,5 g/dm 3-sulfo-3-fenylpropaanzuur, mononatrium-zout als het. primaire glansmicfdel. Dit primaire glansmiddel beantwoordt aan de structuurformule, waarin X is OH, R is fenyl en Y is 10 H. De elektroplatteeroplossing is op een pH van ongeveer 5,0.
In deze oplossing geplatteerde onderdelen bij een kathodestroom-dichtheid van ongeveer 40 ‘ASF vertoonden een goede tataalglans. Voorbeeld VII
Een zinkelektroplatteeroplossing van het zuurchloridetype 3 3 ' 15 Wordt bereid bevattend 30 g/dm zinkionen, 260 g/dm totaal chlori- 3 3 derrionen, 30 g/dm boorzuur, 0,75 g/dm Surfynol 485 (als omschre-ven in voorbeeld I) als een ondersteunend dragerglansmiddel en 3 0,05 g/dm van 4-fenyl-4-sulfobuteen-2-on, natriumzout.
Testpanelen geplatteerd in deze oplossing bij een tempera-20 tuur van ongeveer 24°C bij aanwezigheid van luchtroering bij een pH van 5,3 en een stroomdichtheid van 35 ASF vertoonden een in hoofdzaak gelijkmatige glans over het gehele oppervlaktegebied daarvan.
Voorbeeld VIII
25 · Een zinkelektroplatteerbad van het zure chloridetype wordt 3 3 bereid bevattend 35 g/dm zinkionen, 300 g/dm totaal chloride-3 3 ionen, 20 g/dm boorzuur, 0,5 g/dm Surfynol 485 (zoals beschreven in voorbeeld IJ als een ondersteunend dragerglansmiddel, 0,025 g 3 per dm 4~fenyl-3-butyn-2-on, als een tweede ondersteunend drager- 3 30 glansmiddel, en 0,03 g/dm van een mengsel van 4-fenyl-4-sulfobu- teen-2-οπ, natriumzout en 4-fenyl-4-disulfobutaan-2-on, natriumzout.
De elektroplatteeroplossing bezit een pH van ongeveer 5,5.
Testpanelen geplatteerd in deze oplossing bij een stroomdichtheid van ongeveer 45 ASF onder luchtroering en bij een badtem-35 peratuur van ongeveer 24°C, vertoonden een zeer goede heldere kleur en glans.
o Λ A /. A O 7
Claims (13)
1. Waterige zinkelektroplatteeroplossing omvattend zinkionen en een werkzame hoeveelheid voldoende voor het verschaffen van een glanzende, hechtende en rekbare zinkelektroafzetting op een geleidend substraat van een badoplosbaar glansmiddel, omvattend een 5 mengsel van verbindingen voorgesteld door de algemene formule van het formuleblad, waarin R is H of Cg’^g* aryl, of alkylaryl^waarin de alkylgroep is C^-Cp of Cj-C^-alkyl, of C^-C^g heterocyclische stikstofverbindingen met tenminste één tertiair of quaternair in de ring aanwezige 10 stikstof: alsmede de mono-, di- of trigesubstitueerde derivaten daarvan omvattend -OH, -SOgH of -CQOH; de groep I en II en IMH^-zou-ten daarvan, en de aldehyde-, keton- en etherderivaten daarvan; X is R of -0R' of -NR’2> waarin R’ is H of een C^-C^ alifatisch radicaal; en 15. is H of S03H, alsmede de verdraagzame badoplosbare zouten daarvan.
2. Zinkelektroplatteeroplossing volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het glan srnddel aanwezig is in een hoeveelheid van 3 ongeveer 0,001 tot ongeveer 10 g/dm .
3. Zinkelektroplatteeroplossing volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het glansmiddel aanwezig is in een hoeveelheid van on- g geveer 0,01 tot ongeveer 5 g/dm .
4. Zinkelektroplatteeroplossing volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat genoemde zinkionen aanwezig zijn in een hoeveelheid 3 25 van ongeveer 5 tot ongeveer 110 g/dm .
5. Zinkelektroplatteeroplossing volgens conclusie 1, omvattend een zure chlorideoplossing bevattend zinkionen in een hoeveelheid 3 van ongeveer 7 tot ongeveer 50 g/dm waterstofionen voor het verschaffen van een pH van ongeveer 4,5 tot ongeveer 6,2.
6. Zinkelektroplatteeroplossing volgens conclusie 1, omvattend een zure sulfaatoplossing bevattend genoemde zinkionen in een hoe- 3 veelheid van ongeveer 30 tot ongeveer 11Q g/dm en waterstofionen 800 44 27 - 11 - voor het verschaffen van een pH van ongeveer 3,5 tot ongeveer 5,2.
7. Zinkelektroplatteeroplossing volgens conclusies 5-6, met 3 het kenmerk, dat zij voorts bevat 1 tot ongeveer 40 g/dm boorzuur als buffer.
8. Zinkelektroplatteeroplossing volgens conclusies 5, met het 3 kenmerk, dat zij verder bevat ongeveer 20 tot ongeveer 450 g/dm alkalimetaalchloridezouten.
9. Zinkelektroplatteeroplossing volgens conclusie 1, bevattend een alkalische oplossing bevattend genoemde zinkinnen in een hoe- 3 10 veelheid van ongeveer 5 tot ongeveer 25 g/dm en. een alkalimetaal- hydroxyde voor het verschaffen van een pH van ongeveer 12 - 14.
10. · Zinkelektroplatteeroplossing volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat zij verder omvat met de oplossing verdraagzame secun- 3 daire glansmiddelen in een hoeveelheid tot ongeveer 10 g/dm .
11. Zinkelektroplatteeroplossing volgens conclusie 10, met het kenmerk, dat genoemde secundaire glansmiddelen aanwezig zijn in een 3 hoeveelheid van ongeveer 0,2 tot ongeveer 5 g/dm . .
12. Werkwijze voor het elektrisch afzetten van zink op een substraat, met het kenmerk, dat men als waterige zinkelektroplatteer- 20 oplossing de oplossing omschreven in conclusie 1 - 3, 4 of 5, 6 of 8 of 9 - 11 toepast.
13. Werkwijze voor het elektrisch afzetten van zink op een substraat, met het kenmerk, dat men een waterige zinkelektroplatteer-oplossing als omschreven in conclusie 7 toepast. 8004427
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/087,909 US4252619A (en) | 1979-10-24 | 1979-10-24 | Brightener for zinc electroplating solutions and process |
| US8790979 | 1979-10-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL8004427A true NL8004427A (nl) | 1981-04-28 |
Family
ID=22207985
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL8004427A NL8004427A (nl) | 1979-10-24 | 1980-08-01 | Glansmiddel voor zink-elektroplatteeroplossingen en werkwijze voor het elektroplatteren daarmede. |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4252619A (nl) |
| JP (1) | JPS5662982A (nl) |
| AU (1) | AU536003B2 (nl) |
| BE (1) | BE884748A (nl) |
| BR (1) | BR8005737A (nl) |
| CA (1) | CA1162507A (nl) |
| DE (1) | DE3031363C2 (nl) |
| ES (1) | ES496211A0 (nl) |
| FR (1) | FR2467892A1 (nl) |
| GB (1) | GB2065637B (nl) |
| IT (1) | IT1146196B (nl) |
| NL (1) | NL8004427A (nl) |
| SE (1) | SE8006515L (nl) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4397718A (en) * | 1982-05-24 | 1983-08-09 | Occidental Chemical Corporation | Zinc plating baths with condensating polymer brighteners |
| US4515663A (en) * | 1984-01-09 | 1985-05-07 | Omi International Corporation | Acid zinc and zinc alloy electroplating solution and process |
| US4541906A (en) * | 1984-05-21 | 1985-09-17 | Omi International Corporation | Zinc electroplating and baths therefore containing carrier brighteners |
| US4543166A (en) * | 1984-10-01 | 1985-09-24 | Omi International Corporation | Zinc-alloy electrolyte and process |
| FR2578556B1 (fr) * | 1985-03-05 | 1989-12-22 | Popescu Francine | Bain galvanique pour l'electrodeposition d'alliage zinc-cobalt brillant |
| US4597838A (en) * | 1985-08-29 | 1986-07-01 | Omi International Corporation | Additive agent for zinc alloy electrolyte and process |
| IT1206252B (it) * | 1986-03-03 | 1989-04-14 | Omi Int Corp | Elettrolita per l'elettrodeposizione di leghe di zinco |
| US6143160A (en) * | 1998-09-18 | 2000-11-07 | Pavco, Inc. | Method for improving the macro throwing power for chloride zinc electroplating baths |
| US6524723B2 (en) * | 2000-04-28 | 2003-02-25 | Fukuda Metal Foil & Powder Co., Ltd. | Copper foil for printed circuit boards and its surface treatment method |
| CN104789998B (zh) * | 2015-05-05 | 2017-02-22 | 广东达志环保科技股份有限公司 | 一种光亮型碱性无氰镀锌电镀液及制备方法 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2389135A (en) * | 1941-02-21 | 1945-11-20 | Udylite Corp | Electrodeposition of metals |
| US2389179A (en) * | 1941-02-21 | 1945-11-20 | Udylite Corp | Electrodeposition of metals |
| US2389180A (en) * | 1941-03-03 | 1945-11-20 | Udylite Corp | Electrodeposition of metals |
| GB614039A (en) * | 1945-07-09 | 1948-12-08 | Udylite Corp | Improvements in the electrodeposition of metals |
| DE1004009B (de) * | 1953-08-13 | 1957-03-07 | Dehydag Gmbh | Galvanische Baeder zur Herstellung von Metallueberzuegen |
| US3758386A (en) * | 1966-11-02 | 1973-09-11 | M & T Chemicals Inc | Novel zinc plating process |
| US3697391A (en) * | 1970-07-17 | 1972-10-10 | M & T Chemicals Inc | Electroplating processes and compositions |
| JPS513298B2 (nl) * | 1971-11-16 | 1976-02-02 | ||
| US4137133A (en) * | 1977-12-15 | 1979-01-30 | M&T Chemicals Inc. | Acid zinc electroplating process and composition |
| US4176017A (en) * | 1979-01-31 | 1979-11-27 | Oxy Metal Industries Corporation | Brightening composition for acid zinc electroplating bath and process |
-
1979
- 1979-10-24 US US06/087,909 patent/US4252619A/en not_active Expired - Lifetime
-
1980
- 1980-07-16 CA CA000356311A patent/CA1162507A/en not_active Expired
- 1980-07-22 AU AU60682/80A patent/AU536003B2/en not_active Ceased
- 1980-08-01 NL NL8004427A patent/NL8004427A/nl not_active Application Discontinuation
- 1980-08-12 BE BE0/201734A patent/BE884748A/fr not_active IP Right Cessation
- 1980-08-12 FR FR8017760A patent/FR2467892A1/fr active Granted
- 1980-08-20 DE DE3031363A patent/DE3031363C2/de not_active Expired
- 1980-09-09 BR BR8005737A patent/BR8005737A/pt unknown
- 1980-09-17 SE SE8006515A patent/SE8006515L/ not_active Application Discontinuation
- 1980-10-09 GB GB8032645A patent/GB2065637B/en not_active Expired
- 1980-10-15 JP JP14423580A patent/JPS5662982A/ja active Pending
- 1980-10-22 IT IT49965/80A patent/IT1146196B/it active
- 1980-10-23 ES ES496211A patent/ES496211A0/es active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU536003B2 (en) | 1984-04-12 |
| AU6068280A (en) | 1981-04-30 |
| BE884748A (fr) | 1981-02-12 |
| DE3031363A1 (de) | 1981-05-07 |
| GB2065637A (en) | 1981-07-01 |
| IT1146196B (it) | 1986-11-12 |
| FR2467892B1 (nl) | 1984-12-28 |
| ES8202068A1 (es) | 1982-01-16 |
| CA1162507A (en) | 1984-02-21 |
| DE3031363C2 (de) | 1986-07-03 |
| JPS5662982A (en) | 1981-05-29 |
| BR8005737A (pt) | 1981-05-19 |
| GB2065637B (en) | 1984-01-18 |
| US4252619A (en) | 1981-02-24 |
| SE8006515L (sv) | 1981-04-25 |
| FR2467892A1 (fr) | 1981-04-30 |
| ES496211A0 (es) | 1982-01-16 |
| IT8049965A0 (it) | 1980-10-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3023150A (en) | Bath for the production of metal electroplates | |
| CA2342219C (en) | Aqueous alkaline cyanide-free bath for the galvanic deposition of zinc or zinc alloy coatings | |
| JP2009541580A (ja) | 亜鉛および亜鉛合金被覆の電気的析出のための、シアン化物を含有しない水性アルカリ性浴 | |
| ITTO950840A1 (it) | Bagni alcalini elettrolitici e procedimenti per zinco e leghe di zinco | |
| NL8004427A (nl) | Glansmiddel voor zink-elektroplatteeroplossingen en werkwijze voor het elektroplatteren daarmede. | |
| US5169514A (en) | Plating compositions and processes | |
| NO131468B (nl) | ||
| US4401526A (en) | Zinc alloy plating baths with condensation polymer brighteners | |
| JPS60169588A (ja) | 亜鉛用または亜鉛合金用酸性電着浴 | |
| US3755096A (en) | Bright acid tin plating | |
| US4170526A (en) | Electroplating bath and process | |
| TWI648437B (zh) | ＳｎＡｇ合金鍍敷液 | |
| US3960677A (en) | Acid zinc electroplating | |
| US4496439A (en) | Acidic zinc-plating bath | |
| US5951841A (en) | Electroplating baths salts of aromatic hydroxy compounds and their use as brighteners | |
| US5445724A (en) | Phosphonium salts and use thereof as brighteners for aqueous acidic electronickelization baths | |
| US3580821A (en) | Bright silver electroplating | |
| CA1183858A (en) | Additive and alkaline zinc electroplating bath and process | |
| US4397718A (en) | Zinc plating baths with condensating polymer brighteners | |
| US2885330A (en) | Production of bright zinc or bright cadmium deposits | |
| US5438140A (en) | Production of nickelized shaped articles | |
| JPS5815553B2 (ja) | 錫の光沢被覆を電着するための酸性の錫浴 | |
| US2552920A (en) | Electrolytic tin plating bath | |
| US4045305A (en) | Cadmium electroplating bath and process | |
| NO810448L (no) | Glansmiddel for sink-elektropletteringsopploesninger |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| BA | A request for search or an international-type search has been filed | ||
| BB | A search report has been drawn up | ||
| BC | A request for examination has been filed | ||
| A85 | Still pending on 85-01-01 | ||
| CNR | Transfer of rights (patent application after its laying open for public inspection) |
Free format text: HOOKER CHEMICALS & PLASTICS CORP. TE WARREN |
|
| DNT | Communications of changes of names of applicants whose applications have been laid open to public inspection |
Free format text: OCCIDENTAL CHEMICAL CORPORATION TE WARREN |
|
| CNR | Transfer of rights (patent application after its laying open for public inspection) |
Free format text: OMI INTERNATIONAL CORPORATION |
|
| BV | The patent application has lapsed |