NL7804517A - Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde keten. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde keten.

Info

Publication number
NL7804517A
NL7804517A NL7804517A NL7804517A NL7804517A NL 7804517 A NL7804517 A NL 7804517A NL 7804517 A NL7804517 A NL 7804517A NL 7804517 A NL7804517 A NL 7804517A NL 7804517 A NL7804517 A NL 7804517A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
manufacture
integrated chain
chain
integrated
Prior art date
Application number
NL7804517A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Original Assignee
Ibm
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ibm filed Critical Ibm
Publication of NL7804517A publication Critical patent/NL7804517A/xx

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B12/00—Dynamic random access memory [DRAM] devices
    • H10B12/01—Manufacture or treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
    • H10D84/01—Manufacture or treatment
    • H10D84/0123—Integrating together multiple components covered by H10D12/00 or H10D30/00, e.g. integrating multiple IGBTs
    • H10D84/0126—Integrating together multiple components covered by H10D12/00 or H10D30/00, e.g. integrating multiple IGBTs the components including insulated gates, e.g. IGFETs
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
    • H10D84/01—Manufacture or treatment
    • H10D84/02—Manufacture or treatment characterised by using material-based technologies
    • H10D84/03—Manufacture or treatment characterised by using material-based technologies using Group IV technology, e.g. silicon technology or silicon-carbide [SiC] technology
    • H10D84/038—Manufacture or treatment characterised by using material-based technologies using Group IV technology, e.g. silicon technology or silicon-carbide [SiC] technology using silicon technology, e.g. SiGe
    • H10W20/01—

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
  • Weting (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
NL7804517A 1977-05-02 1978-04-27 Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde keten. NL7804517A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US05/793,217 US4123300A (en) 1977-05-02 1977-05-02 Integrated circuit process utilizing lift-off techniques

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7804517A true NL7804517A (nl) 1978-11-06

Family

ID=25159410

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7804517A NL7804517A (nl) 1977-05-02 1978-04-27 Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde keten.

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4123300A (enExample)
JP (1) JPS5856267B2 (enExample)
DE (1) DE2818525A1 (enExample)
FR (1) FR2390007B1 (enExample)
GB (1) GB1600048A (enExample)
IT (1) IT1112624B (enExample)
NL (1) NL7804517A (enExample)
SE (1) SE7804921L (enExample)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4305760A (en) * 1978-12-22 1981-12-15 Ncr Corporation Polysilicon-to-substrate contact processing
JPS6043656B2 (ja) * 1979-06-06 1985-09-30 株式会社東芝 半導体装置の製造方法
US4240845A (en) * 1980-02-04 1980-12-23 International Business Machines Corporation Method of fabricating random access memory device
JPS56116670A (en) * 1980-02-20 1981-09-12 Hitachi Ltd Semiconductor integrated circuit device and manufacture thereof
JPS5736844A (en) * 1980-08-15 1982-02-27 Hitachi Ltd Semiconductor device
US4358326A (en) * 1980-11-03 1982-11-09 International Business Machines Corporation Epitaxially extended polycrystalline structures utilizing a predeposit of amorphous silicon with subsequent annealing
US4814285A (en) * 1985-09-23 1989-03-21 Harris Corp. Method for forming planarized interconnect level using selective deposition and ion implantation
US5075817A (en) * 1990-06-22 1991-12-24 Ramtron Corporation Trench capacitor for large scale integrated memory
US5104822A (en) * 1990-07-30 1992-04-14 Ramtron Corporation Method for creating self-aligned, non-patterned contact areas and stacked capacitors using the method

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3847687A (en) * 1972-11-15 1974-11-12 Motorola Inc Methods of forming self aligned transistor structure having polycrystalline contacts
GB1444047A (en) * 1973-02-28 1976-07-28 Hitachi Ltd Charge transfer semiconductor devices and methods of fabricating such devices
US4055885A (en) * 1973-02-28 1977-11-01 Hitachi, Ltd. Charge transfer semiconductor device with electrodes separated by oxide region therebetween and method for fabricating the same

Also Published As

Publication number Publication date
FR2390007B1 (enExample) 1982-05-14
IT7822794A0 (it) 1978-04-28
FR2390007A1 (enExample) 1978-12-01
DE2818525A1 (de) 1978-11-09
GB1600048A (en) 1981-10-14
JPS5856267B2 (ja) 1983-12-14
SE7804921L (sv) 1978-11-03
IT1112624B (it) 1986-01-20
JPS53136494A (en) 1978-11-29
US4123300A (en) 1978-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7800457A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een induc- tieve keten alsmede inductieve keten verkregen onder toepassing van deze werkwijze.
NL7708875A (nl) Werkwijze voor het identificeren van een geinte- greerde keten.
NL7804260A (nl) Werkwijze voor het controleren van de positionering van patienten.
NL7808613A (nl) Micro-bollen en werkwijze voor het vervaardigen van de- ze micro-bollen.
NL188800C (nl) Werkwijze voor het bereiden van adiponitril.
NL7712764A (nl) Werkwijze voor de bereiding van een tumorwerend preparaat.
NL7807768A (nl) Werkwijze voor het vergemakkelijken van het koud ver- vormen van metalen.
NL7801119A (nl) Werkwijze voor het katalytisch epoxyderen van alkenen.
NL189708C (nl) Werkwijze voor het bereiden van canthaxanthine en werkwijze voor het bereiden van een daarvoor geschikt tussenprodukt.
NL7800101A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van verpakkingen.
NL7704871A (nl) Werkwijze voor de bereiding van glycolesters.
NL7804425A (nl) Werkwijze voor het denitroseren van n-nitrosoverbindin- gen.
NL7805119A (nl) Werkwijze voor het bereiden van alkenen.
NL169150C (nl) Werkwijze voor het eletroslaklassen van metalen.
NL7802721A (nl) Werkwijze voor het uitlogen van metaalsulfiden.
NL7804517A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde keten.
NL7809713A (nl) Werkwijze voor het bereiden van 7-azabenzimidazolen.
NL7810755A (nl) Werkwijze voor het bepalen van ferritine.
NL7808398A (nl) Werkwijze voor het isomeriseren van alkenen.
NL182264C (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van halfgeleiderinrichtingen.
NL7802277A (nl) Werkwijze voor het produceren van fosforen.
NL7800356A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een pantserbrekend projectiel.
NL189914C (nl) Werkwijze voor het polymeriseren van alkenen.
NL7805561A (nl) Werkwijze voor het bereiden van ethanol.
NL7710612A (nl) Werkwijze voor de bereiding van aldehyden.

Legal Events

Date Code Title Description
BV The patent application has lapsed