NL7701559A - Het maken van schuine hellingen aan metaal- patronen, alsmede substraat voor een geinte- greerde schakeling voorzien van een dergelijk patroon. - Google Patents
Het maken van schuine hellingen aan metaal- patronen, alsmede substraat voor een geinte- greerde schakeling voorzien van een dergelijk patroon.Info
- Publication number
- NL7701559A NL7701559A NL7701559A NL7701559A NL7701559A NL 7701559 A NL7701559 A NL 7701559A NL 7701559 A NL7701559 A NL 7701559A NL 7701559 A NL7701559 A NL 7701559A NL 7701559 A NL7701559 A NL 7701559A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- pattern
- substrate
- well
- integrated circuit
- circuit provided
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/32—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying conductive, insulating or magnetic material on a magnetic film, specially adapted for a thin magnetic film
- H01F41/34—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying conductive, insulating or magnetic material on a magnetic film, specially adapted for a thin magnetic film in patterns, e.g. by lithography
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/31—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
- H01L21/3105—After-treatment
- H01L21/311—Etching the insulating layers by chemical or physical means
- H01L21/31105—Etching inorganic layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/31—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
- H01L21/3205—Deposition of non-insulating-, e.g. conductive- or resistive-, layers on insulating layers; After-treatment of these layers
- H01L21/321—After treatment
- H01L21/3213—Physical or chemical etching of the layers, e.g. to produce a patterned layer from a pre-deposited extensive layer
- H01L21/32131—Physical or chemical etching of the layers, e.g. to produce a patterned layer from a pre-deposited extensive layer by physical means only
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/71—Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
- H01L21/768—Applying interconnections to be used for carrying current between separate components within a device comprising conductors and dielectrics
- H01L21/76801—Applying interconnections to be used for carrying current between separate components within a device comprising conductors and dielectrics characterised by the formation and the after-treatment of the dielectrics, e.g. smoothing
- H01L21/76829—Applying interconnections to be used for carrying current between separate components within a device comprising conductors and dielectrics characterised by the formation and the after-treatment of the dielectrics, e.g. smoothing characterised by the formation of thin functional dielectric layers, e.g. dielectric etch-stop, barrier, capping or liner layers
- H01L21/76834—Applying interconnections to be used for carrying current between separate components within a device comprising conductors and dielectrics characterised by the formation and the after-treatment of the dielectrics, e.g. smoothing characterised by the formation of thin functional dielectric layers, e.g. dielectric etch-stop, barrier, capping or liner layers formation of thin insulating films on the sidewalls or on top of conductors
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL7701559A NL7701559A (nl) | 1977-02-15 | 1977-02-15 | Het maken van schuine hellingen aan metaal- patronen, alsmede substraat voor een geinte- greerde schakeling voorzien van een dergelijk patroon. |
DE2804602A DE2804602C2 (de) | 1977-02-15 | 1978-02-03 | Verfahren zum Aufbringen einer elektrisch isolierenden Schicht auf ein Substrat für eine integrierte Schaltung |
CA296,501A CA1102922A (en) | 1977-02-15 | 1978-02-08 | Forming electrically insulating layers |
GB5435/78A GB1553181A (en) | 1977-02-15 | 1978-02-10 | Forming electrically insulating layers |
FR7803999A FR2380636B1 (fr) | 1977-02-15 | 1978-02-13 | Procede pour former une couche electriquement isolante sur un substrat |
JP1420278A JPS53100785A (en) | 1977-02-15 | 1978-02-13 | Device and method of producing same |
US05/877,167 US4176016A (en) | 1977-02-15 | 1978-02-13 | Forming electrically insulating layers by sputter deposition |
HK88/80A HK8880A (en) | 1977-02-15 | 1980-03-06 | Forming electrically insulating layers |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL7701559A NL7701559A (nl) | 1977-02-15 | 1977-02-15 | Het maken van schuine hellingen aan metaal- patronen, alsmede substraat voor een geinte- greerde schakeling voorzien van een dergelijk patroon. |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL7701559A true NL7701559A (nl) | 1978-08-17 |
Family
ID=19827979
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL7701559A NL7701559A (nl) | 1977-02-15 | 1977-02-15 | Het maken van schuine hellingen aan metaal- patronen, alsmede substraat voor een geinte- greerde schakeling voorzien van een dergelijk patroon. |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4176016A (nl) |
JP (1) | JPS53100785A (nl) |
CA (1) | CA1102922A (nl) |
DE (1) | DE2804602C2 (nl) |
FR (1) | FR2380636B1 (nl) |
GB (1) | GB1553181A (nl) |
HK (1) | HK8880A (nl) |
NL (1) | NL7701559A (nl) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3032708C2 (de) * | 1980-08-30 | 1987-01-22 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Verfahren zur Herstellung eines Dünnschicht-Magnetfeld-Sensors |
JPS5759355A (en) * | 1980-09-26 | 1982-04-09 | Fujitsu Ltd | Manufacture of semiconductor device |
JPH0697660B2 (ja) * | 1985-03-23 | 1994-11-30 | 日本電信電話株式会社 | 薄膜形成方法 |
FR2619457B1 (fr) * | 1987-08-14 | 1989-11-17 | Commissariat Energie Atomique | Procede d'obtention d'un motif notamment en materiau ferromagnetique ayant des flancs de pente differente et tete magnetique comportant un tel motif |
DE4400032C1 (de) * | 1994-01-03 | 1995-08-31 | Gold Star Electronics | Halbleitereinrichtung und Verfahren zu deren Herstellung |
US5756397A (en) * | 1993-12-28 | 1998-05-26 | Lg Semicon Co., Ltd. | Method of fabricating a wiring in a semiconductor device |
JP2016219452A (ja) * | 2015-05-14 | 2016-12-22 | 富士通株式会社 | 多層基板及び多層基板の製造方法 |
CN114080088B (zh) * | 2020-08-10 | 2024-05-31 | 鹏鼎控股(深圳)股份有限公司 | 电路板及其制备方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE758160A (fr) * | 1969-10-31 | 1971-04-01 | Fairchild Camera Instr Co | Structure metallique a couches multiples et procede de fabrication d'une telle structure |
US3666548A (en) * | 1970-01-06 | 1972-05-30 | Ibm | Monocrystalline semiconductor body having dielectrically isolated regions and method of forming |
DE2123630A1 (en) * | 1970-05-12 | 1971-12-02 | Texas Instruments Inc | Semiconductor with multilayer interconnections - using - successive masking and photo etching |
US3700508A (en) * | 1970-06-25 | 1972-10-24 | Gen Instrument Corp | Fabrication of integrated microcircuit devices |
FR2119930B1 (nl) * | 1970-12-31 | 1974-08-19 | Ibm | |
US3755123A (en) * | 1971-03-30 | 1973-08-28 | Method for sputtering a film on an irregular surface | |
JPS5217995B2 (nl) * | 1972-02-18 | 1977-05-19 | ||
US3804738A (en) * | 1973-06-29 | 1974-04-16 | Ibm | Partial planarization of electrically insulative films by resputtering |
US3868723A (en) * | 1973-06-29 | 1975-02-25 | Ibm | Integrated circuit structure accommodating via holes |
US3839111A (en) * | 1973-08-20 | 1974-10-01 | Rca Corp | Method of etching silicon oxide to produce a tapered edge thereon |
US4022930A (en) * | 1975-05-30 | 1977-05-10 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Multilevel metallization for integrated circuits |
-
1977
- 1977-02-15 NL NL7701559A patent/NL7701559A/nl not_active Application Discontinuation
-
1978
- 1978-02-03 DE DE2804602A patent/DE2804602C2/de not_active Expired
- 1978-02-08 CA CA296,501A patent/CA1102922A/en not_active Expired
- 1978-02-10 GB GB5435/78A patent/GB1553181A/en not_active Expired
- 1978-02-13 JP JP1420278A patent/JPS53100785A/ja active Granted
- 1978-02-13 US US05/877,167 patent/US4176016A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-02-13 FR FR7803999A patent/FR2380636B1/fr not_active Expired
-
1980
- 1980-03-06 HK HK88/80A patent/HK8880A/xx unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4176016A (en) | 1979-11-27 |
JPS53100785A (en) | 1978-09-02 |
CA1102922A (en) | 1981-06-09 |
FR2380636A1 (fr) | 1978-09-08 |
DE2804602A1 (de) | 1978-08-17 |
DE2804602C2 (de) | 1985-01-17 |
FR2380636B1 (fr) | 1985-06-14 |
JPS638613B2 (nl) | 1988-02-23 |
GB1553181A (en) | 1979-09-19 |
HK8880A (en) | 1980-03-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL7903043A (nl) | Werkwijze voor het monteren van ketenelementen op een gedrukte schakelingenplaat, alsmede inrichting voor het uitvoeren ervan. | |
NL7811195A (nl) | Printplaat, voorzien van weerstandelementen, alsmede werkwijze voor het vervaardigen van de printplaat. | |
NL7705460A (nl) | Werkwijze voor het aanbrengen van patronen met behulp van een computer-gestuurde patroonverf- inrichting. | |
NL184136C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een geleiderpatroon op een halfgeleiderlichaam. | |
NL185972C (nl) | Plaat voor gedrukte bedrading en werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke plaat. | |
NL7802676A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van gedrukte circuits door stroomloos bekleden met een metaal. | |
NL7702431A (nl) | Werkwijze voor het afzetten van een metaal op een oppervlak. | |
NL187313C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van halogeen bevattende, aan het stikstofatoom gesubstitueerde 2-pyrrolidinon verbindingen met herbicide werking. | |
NL181057C (nl) | Cassette, in het bijzonder voor het aanbrengen van aankondigingsborden. | |
NL7710140A (nl) | Werkwijze voor het ontzwavelen van gesmolten ijzer. | |
NL187385B (nl) | Inrichting voor het versieren van voorwerpen. | |
NL7807768A (nl) | Werkwijze voor het vergemakkelijken van het koud ver- vormen van metalen. | |
NL183682C (nl) | Inrichting voor het vervaardigen van geintegreerde circuits. | |
NL7811340A (nl) | Vetpatroon. | |
NL7701599A (nl) | Werkwijze voor het chloreren van etheen- polymeren. | |
NL175150B (nl) | Inrichting voor het vervaardigen van gerasterde drukvormen. | |
NL180372C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van gedrukte bedradingen. | |
NL7810656A (nl) | Werkwijze voor het solderen van glasachtige componen- ten. | |
NL189523C (nl) | Werkwijze voor het stroomloos afzetten van koper op een ontvankelijk substraat. | |
NL7701559A (nl) | Het maken van schuine hellingen aan metaal- patronen, alsmede substraat voor een geinte- greerde schakeling voorzien van een dergelijk patroon. | |
NL7806147A (nl) | Werkwijze voor het elektroslak-lassen van metalen. | |
NL7802721A (nl) | Werkwijze voor het uitlogen van metaalsulfiden. | |
NL7805753A (nl) | Werkwijze voor het nitreren van een ijzerbasiscompo- nent. | |
NL7900764A (nl) | Werkwijze voor het verkrijgen van metalen decoratie- patronen op metaaloppervlakken. | |
NL7803546A (nl) | Plaat voor gedrukte bedrading en werkwijze voor het vervaardigen daarvan. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
BV | The patent application has lapsed |