NL7605549A - Werkwijze voor het maken van een smalle opening in een oppervlak van een materiaal. - Google Patents
Werkwijze voor het maken van een smalle opening in een oppervlak van een materiaal.Info
- Publication number
- NL7605549A NL7605549A NL7605549A NL7605549A NL7605549A NL 7605549 A NL7605549 A NL 7605549A NL 7605549 A NL7605549 A NL 7605549A NL 7605549 A NL7605549 A NL 7605549A NL 7605549 A NL7605549 A NL 7605549A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- making
- narrow opening
- narrow
- opening
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D44/00—Charge transfer devices
- H10D44/40—Charge-coupled devices [CCD]
- H10D44/45—Charge-coupled devices [CCD] having field effect produced by insulated gate electrodes
- H10D44/462—Buried-channel CCD
- H10D44/466—Three-phase CCD
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D44/00—Charge transfer devices
- H10D44/40—Charge-coupled devices [CCD]
- H10D44/45—Charge-coupled devices [CCD] having field effect produced by insulated gate electrodes
- H10D44/462—Buried-channel CCD
- H10D44/464—Two-phase CCD
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/01—Manufacture or treatment
- H10D84/0198—Integrating together multiple components covered by H10D44/00, e.g. integrating charge coupled devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/01—Manufacture or treatment
- H10D84/02—Manufacture or treatment characterised by using material-based technologies
- H10D84/03—Manufacture or treatment characterised by using material-based technologies using Group IV technology, e.g. silicon technology or silicon-carbide [SiC] technology
- H10D84/038—Manufacture or treatment characterised by using material-based technologies using Group IV technology, e.g. silicon technology or silicon-carbide [SiC] technology using silicon technology, e.g. SiGe
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W20/00—Interconnections in chips, wafers or substrates
- H10W20/40—Interconnections external to wafers or substrates, e.g. back-end-of-line [BEOL] metallisations or vias connecting to gate electrodes
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US58138975A | 1975-05-27 | 1975-05-27 | |
| US05/619,735 US4063992A (en) | 1975-05-27 | 1975-10-06 | Edge etch method for producing narrow openings to the surface of materials |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL7605549A true NL7605549A (nl) | 1976-11-30 |
Family
ID=27078310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL7605549A NL7605549A (nl) | 1975-05-27 | 1976-05-24 | Werkwijze voor het maken van een smalle opening in een oppervlak van een materiaal. |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS51145274A (enExample) |
| CA (1) | CA1076934A (enExample) |
| DE (1) | DE2622790A1 (enExample) |
| FR (1) | FR2312856A1 (enExample) |
| GB (1) | GB1543845A (enExample) |
| NL (1) | NL7605549A (enExample) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS544570A (en) * | 1977-06-13 | 1979-01-13 | Nec Corp | Production of semiconductor devices |
| JPS5533064A (en) * | 1978-08-29 | 1980-03-08 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Method of manufacturing semiconductor device |
| FR2454698A1 (fr) * | 1979-04-20 | 1980-11-14 | Radiotechnique Compelec | Procede de realisation de circuits integres a l'aide d'un masque multicouche et dispositifs obtenus par ce procede |
| DE2939488A1 (de) * | 1979-09-28 | 1981-04-16 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur herstellung von integrierten halbleiterschaltungen, insbesondere ccd-schaltungen, mit selbstjustierten, nicht ueberlappenden poly-silizium-elektroden |
| DE2939456A1 (de) * | 1979-09-28 | 1981-04-16 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur herstellung von integrierten halbleiterschaltungen, insbesondere ccd-schaltungen, mit selbstjustierten, nichtueberlappenden poly-silizium-elektroden |
| US4317690A (en) | 1980-06-18 | 1982-03-02 | Signetics Corporation | Self-aligned double polysilicon MOS fabrication |
| US4318759A (en) * | 1980-07-21 | 1982-03-09 | Data General Corporation | Retro-etch process for integrated circuits |
| JPS581878A (ja) * | 1981-06-26 | 1983-01-07 | Fujitsu Ltd | 磁気バブルメモリ素子の製造方法 |
| US5126811A (en) * | 1990-01-29 | 1992-06-30 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Charge transfer device with electrode structure of high transfer efficiency |
| RU2112300C1 (ru) * | 1995-03-10 | 1998-05-27 | Институт физики полупроводников СО РАН | Способ изготовления защитной маски для нанолитографии |
| US6965165B2 (en) | 1998-12-21 | 2005-11-15 | Mou-Shiung Lin | Top layers of metal for high performance IC's |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL7005296A (enExample) * | 1969-04-15 | 1970-10-19 | ||
| JPS4874178A (enExample) * | 1971-12-29 | 1973-10-05 | ||
| NL7602917A (nl) * | 1975-03-21 | 1976-09-23 | Western Electric Co | Werkwijze voor het vervaardigen van een transis- tor. |
-
1976
- 1976-05-04 GB GB18186/76A patent/GB1543845A/en not_active Expired
- 1976-05-21 DE DE19762622790 patent/DE2622790A1/de not_active Withdrawn
- 1976-05-24 NL NL7605549A patent/NL7605549A/xx not_active Application Discontinuation
- 1976-05-25 FR FR7615774A patent/FR2312856A1/fr active Granted
- 1976-05-26 CA CA253,422A patent/CA1076934A/en not_active Expired
- 1976-05-27 JP JP51060708A patent/JPS51145274A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS51145274A (en) | 1976-12-14 |
| CA1076934A (en) | 1980-05-06 |
| AU1437576A (en) | 1977-12-01 |
| DE2622790A1 (de) | 1976-12-09 |
| FR2312856B1 (enExample) | 1982-11-05 |
| GB1543845A (en) | 1979-04-11 |
| FR2312856A1 (fr) | 1976-12-24 |
| JPS5711505B2 (enExample) | 1982-03-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| NL176144B (nl) | Gevormd voortbrengsel met een kationogeen karakter alsmede werkwijzen voor het vervaardigen daarvan. | |
| NL7602717A (nl) | Werkwijzen voor het bereiden en toepassen van een biologisch materiaal. | |
| NL7602560A (nl) | Werkwijze voor het vormen van een ringvormige groef in een thermoplastische pijp. | |
| NL172169C (nl) | Werkwijze voor het brandwerend maken van een materiaal. | |
| NL7608300A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het op een materiaal opbrengen van een patroon. | |
| NL172788B (nl) | Proefstrookmateriaal en werkwijze voor het aantonen of bepalen van een bepaalde component van een monster. | |
| NL7602566A (nl) | Werkwijze voor het vormen van een patroon in een laag. | |
| NL7605617A (nl) | Kweekblok en een werkwijze voor het vervaardi- gen daarvan. | |
| NL7902338A (nl) | Werkwijze voor het vormen van een klep en daarmede gevormde klep. | |
| NL177832C (nl) | Werkwijze voor het plakken van textielmaterialen. | |
| NL7604021A (nl) | Werkwijze voor het vaststellen van trombose en pretrombose. | |
| NL7601483A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een wasmiddel- toevoegsel en een wasmiddel. | |
| NL7605549A (nl) | Werkwijze voor het maken van een smalle opening in een oppervlak van een materiaal. | |
| NL7612438A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een houder alsmede inrichting voor het toepassen van deze werkwijze. | |
| NL7601485A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een wasmiddel- versterker en een wasmiddel. | |
| NL183820C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een vuurvast mengsel en gevormd voorwerp. | |
| NL7605616A (nl) | Parallellepipedumvormige verpakkingshouder en een werkwijze voor het vervaardigen daarvan. | |
| NL7512888A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een met kunst- stof bekleed cementprodukt. | |
| NL7611408A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het aanbrengen van een decoratie of versiering op een gevormd voorwerp. | |
| NL7613127A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een titaanlege- ring en daaruit vervaardigde voorwerpen. | |
| NL7614177A (nl) | Werkwijze voor het vormen van een tunnel en daar- bij toegepaste tunnelvormmachine. | |
| NL7711011A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een magnetisch materiaal. | |
| NL7513111A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het doorlopend ver- vaardigen van een schuimstofstreng. | |
| NL7613588A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een gede- caffeiniseerd plantaardig materiaal. | |
| NL183368C (nl) | Werkwijze voor het testen van een betonprodukt. |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| BA | A request for search or an international-type search has been filed | ||
| BB | A search report has been drawn up | ||
| BC | A request for examination has been filed | ||
| BV | The patent application has lapsed |