NL7605549A - Werkwijze voor het maken van een smalle opening in een oppervlak van een materiaal. - Google Patents
Werkwijze voor het maken van een smalle opening in een oppervlak van een materiaal.Info
- Publication number
- NL7605549A NL7605549A NL7605549A NL7605549A NL7605549A NL 7605549 A NL7605549 A NL 7605549A NL 7605549 A NL7605549 A NL 7605549A NL 7605549 A NL7605549 A NL 7605549A NL 7605549 A NL7605549 A NL 7605549A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- making
- narrow opening
- narrow
- opening
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/762—Charge transfer devices
- H01L29/765—Charge-coupled devices
- H01L29/768—Charge-coupled devices with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/76833—Buried channel CCD
- H01L29/7685—Three-Phase CCD
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
- H01L21/82—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components
- H01L21/822—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components the substrate being a semiconductor, using silicon technology
- H01L21/8232—Field-effect technology
- H01L21/8234—MIS technology, i.e. integration processes of field effect transistors of the conductor-insulator-semiconductor type
- H01L21/823406—Combination of charge coupled devices, i.e. CCD, or BBD
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/522—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/762—Charge transfer devices
- H01L29/765—Charge-coupled devices
- H01L29/768—Charge-coupled devices with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/76833—Buried channel CCD
- H01L29/76841—Two-Phase CCD
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Element Separation (AREA)
- Weting (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US58138975A | 1975-05-27 | 1975-05-27 | |
US05/619,735 US4063992A (en) | 1975-05-27 | 1975-10-06 | Edge etch method for producing narrow openings to the surface of materials |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL7605549A true NL7605549A (nl) | 1976-11-30 |
Family
ID=27078310
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL7605549A NL7605549A (nl) | 1975-05-27 | 1976-05-24 | Werkwijze voor het maken van een smalle opening in een oppervlak van een materiaal. |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS51145274A (nl) |
CA (1) | CA1076934A (nl) |
DE (1) | DE2622790A1 (nl) |
FR (1) | FR2312856A1 (nl) |
GB (1) | GB1543845A (nl) |
NL (1) | NL7605549A (nl) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS544570A (en) * | 1977-06-13 | 1979-01-13 | Nec Corp | Production of semiconductor devices |
JPS5533064A (en) * | 1978-08-29 | 1980-03-08 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Method of manufacturing semiconductor device |
FR2454698A1 (fr) * | 1979-04-20 | 1980-11-14 | Radiotechnique Compelec | Procede de realisation de circuits integres a l'aide d'un masque multicouche et dispositifs obtenus par ce procede |
DE2939456A1 (de) * | 1979-09-28 | 1981-04-16 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur herstellung von integrierten halbleiterschaltungen, insbesondere ccd-schaltungen, mit selbstjustierten, nichtueberlappenden poly-silizium-elektroden |
DE2939488A1 (de) * | 1979-09-28 | 1981-04-16 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur herstellung von integrierten halbleiterschaltungen, insbesondere ccd-schaltungen, mit selbstjustierten, nicht ueberlappenden poly-silizium-elektroden |
US4318759A (en) * | 1980-07-21 | 1982-03-09 | Data General Corporation | Retro-etch process for integrated circuits |
JPS581878A (ja) * | 1981-06-26 | 1983-01-07 | Fujitsu Ltd | 磁気バブルメモリ素子の製造方法 |
US5126811A (en) * | 1990-01-29 | 1992-06-30 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Charge transfer device with electrode structure of high transfer efficiency |
US6965165B2 (en) | 1998-12-21 | 2005-11-15 | Mou-Shiung Lin | Top layers of metal for high performance IC's |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL7005296A (nl) * | 1969-04-15 | 1970-10-19 | ||
JPS4874178A (nl) * | 1971-12-29 | 1973-10-05 | ||
FR2305022A1 (fr) * | 1975-03-21 | 1976-10-15 | Western Electric Co | Procede de fabrication de transistors |
-
1976
- 1976-05-04 GB GB1818676A patent/GB1543845A/en not_active Expired
- 1976-05-21 DE DE19762622790 patent/DE2622790A1/de not_active Withdrawn
- 1976-05-24 NL NL7605549A patent/NL7605549A/nl not_active Application Discontinuation
- 1976-05-25 FR FR7615774A patent/FR2312856A1/fr active Granted
- 1976-05-26 CA CA253,422A patent/CA1076934A/en not_active Expired
- 1976-05-27 JP JP6070876A patent/JPS51145274A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2312856A1 (fr) | 1976-12-24 |
GB1543845A (en) | 1979-04-11 |
FR2312856B1 (nl) | 1982-11-05 |
CA1076934A (en) | 1980-05-06 |
JPS5711505B2 (nl) | 1982-03-04 |
JPS51145274A (en) | 1976-12-14 |
AU1437576A (en) | 1977-12-01 |
DE2622790A1 (de) | 1976-12-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL176144B (nl) | Gevormd voortbrengsel met een kationogeen karakter alsmede werkwijzen voor het vervaardigen daarvan. | |
NL7602717A (nl) | Werkwijzen voor het bereiden en toepassen van een biologisch materiaal. | |
NL7602560A (nl) | Werkwijze voor het vormen van een ringvormige groef in een thermoplastische pijp. | |
NL172169C (nl) | Werkwijze voor het brandwerend maken van een materiaal. | |
NL7604935A (nl) | Plaatmateriaal en werkwijze voor het ver- vaardigen daarvan. | |
NL7612913A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een schijf met integrale schoepen. | |
NL7608300A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het op een materiaal opbrengen van een patroon. | |
NL7602566A (nl) | Werkwijze voor het vormen van een patroon in een laag. | |
NL7605617A (nl) | Kweekblok en een werkwijze voor het vervaardi- gen daarvan. | |
NL7605927A (nl) | Inrichting en werkwijze voor het behandelen van een oppervlak. | |
NL7902338A (nl) | Werkwijze voor het vormen van een klep en daarmede gevormde klep. | |
NL177832C (nl) | Werkwijze voor het plakken van textielmaterialen. | |
NL7604021A (nl) | Werkwijze voor het vaststellen van trombose en pretrombose. | |
NL7601483A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een wasmiddel- toevoegsel en een wasmiddel. | |
NL7612438A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een houder alsmede inrichting voor het toepassen van deze werkwijze. | |
NL7601485A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een wasmiddel- versterker en een wasmiddel. | |
NL7605549A (nl) | Werkwijze voor het maken van een smalle opening in een oppervlak van een materiaal. | |
NL183820C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een vuurvast mengsel en gevormd voorwerp. | |
NL7605616A (nl) | Parallellepipedumvormige verpakkingshouder en een werkwijze voor het vervaardigen daarvan. | |
NL7613127A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een titaanlege- ring en daaruit vervaardigde voorwerpen. | |
NL7611408A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het aanbrengen van een decoratie of versiering op een gevormd voorwerp. | |
NL7614177A (nl) | Werkwijze voor het vormen van een tunnel en daar- bij toegepaste tunnelvormmachine. | |
NL7711011A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een magnetisch materiaal. | |
NL7512888A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een met kunst- stof bekleed cementprodukt. | |
NL7513111A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het doorlopend ver- vaardigen van een schuimstofstreng. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
BA | A request for search or an international-type search has been filed | ||
BB | A search report has been drawn up | ||
BC | A request for examination has been filed | ||
BV | The patent application has lapsed |